JPS638201A - エタノ−ルの光脱水素方法 - Google Patents

エタノ−ルの光脱水素方法

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JPS638201A
JPS638201A JP61149252A JP14925286A JPS638201A JP S638201 A JPS638201 A JP S638201A JP 61149252 A JP61149252 A JP 61149252A JP 14925286 A JP14925286 A JP 14925286A JP S638201 A JPS638201 A JP S638201A
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ethanol
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裕則 荒川
Kazuhiko Takeuchi
和彦 竹内
Takehiko Matsuzaki
松崎 武彦
Yoshihiro Sugi
義弘 杉
Hiroki Watanabe
広樹 渡辺
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Agency of Industrial Science and Technology
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • B01J19/123Ultraviolet light
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はエタノールの新規な脱水素方法に関するもので
ある。
(従来の技術) 近年、太陽エネルギーの有効利用という立場から光触媒
反応か注目されている。このような反応の例として木の
接触光分解、オレフィンの酸化および水素化、アルコー
ルの光鋭水素反応などが挙げられる。
一方、バイオマスエネルギーも太陽エネルギー利用の方
法として注目されており、バイオマス原料を発酵法など
により処理して得られるアルコールの新規な利用性か探
索されている。
本発明者らは、先に、ウィルキンソン触媒やロジウム化
合物か空気雰囲気下および光!y11射Fて2−プロバ
ノールに対し非常に高い脱水素活性を示すことを見出し
、2−プロパツールの光鋭水素反応触媒を開発した(特
公昭60−44972号および4+j公昭60−329
号)。
(発明か解決しようとする問題点) しかしなから、エタノールの光脱水本反応触媒およびそ
れを使用した脱水素方法の例はまた報告されていない。
従って、本発明はエタノールの脱水素方法を提供するこ
とを[1的とする。
(問題点を解決するための手段) 木発明者らはエタノールの光鋭水素方法について鋭意探
索研究を重ねた結果、ロジウム、ルテニラム、オスミウ
ムおよび白金からなる群から選ばれた少なくとも1種の
金属の化合物がアセトンとの共存下てエタノールの光照
射において非常に高い脱水素活性を示すことを見出し、
この知見に基づいて本発明をなすに至った。
すなわち、本発明はエタノールをロジウム、ルテニウム
、オスミウムおよび白金からなる群から選ばれた少なく
とも1種の金属の化合物とアセトンの存在下において光
照射により脱水素反応させることを特徴とするエタノー
ルの脱水套方法を提供するものである。
本発明方法において用いられるロジウム化合物としては
少なくとも光照射中にエタノールおよびアセトンに対し
溶解性を示すものであれば任意である。例えばRhCu
  ・3H20、コ Rh2(OCOCH3)4、[RhC文(1,5−シク
ロオクタジエン)]2 およびRh4(CO)1□、R
h (Co)、6などの使用が好ましい。また、ルテニ
ウム、オスミウムおよび白金の化合物としてはそれぞれ
の塩素化合物か好ましい。本発明においては金属化合物
としては錯体もしくは錯化合物か好ましく用いられる。
本発明を好まし〈実施するためには、エタノール、アセ
トンおよび金属化合物を内部照射型光反応容器に仕込み
、一定時間攪拌した後、光照射を行う。この場合、攪拌
時間は特に制限はないか、15分程度で十分である。
本発明方法による脱水素反応はO′C〜56.5°Cの
温度範囲て回走であるか、室温下て十分である。
本発明方法において反応時間には、特に制限はなくエタ
ノール、アセトンおよび金属化合物の量など反応条件に
応じて適宜に定めることかできる。
本発明方法において、エタノールとアセトンの割合は金
属化合物か少なくとも光照射中に溶解する限り任意であ
るが、エタノール/アセトン比(モル比)は0.5〜1
0か好ましい。
本発明方法において金属化合物は反応条件に応じ任意の
割合で用いることかできるか、エタノール1モルに対し
て1xlO’ミリモルの割合か好ましい。
本発明方法において照射光源としては高圧水銀灯か適用
されるか、400n+n以下の波長光を発生する光源て
あれば特に制限なく用いることかてきる。
本発明方法は、通常、空気雰囲気下で実施されるか、不
活性ガス雰囲気下においても実施し得る。
(発明の効果) 本発明方法によれば常湿、常圧下におけるエタノールへ
の光照射により容易に水素を発生させることかてき、エ
タノールを利用するクリーンなエネルギーとして利用で
きる水素の経済的な製造法として意義が大きい。
(実施例) 次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
実施例1 ガスビューレットを接続した内部照射型反応容器に、エ
タノール200揃、アセトン100m1およびRhC文
 ・3H306,6x 10−2ミリモルを仕込み、空
気雰囲気下で15分纜拌し。
光照射を開始した。攪拌はマグネチウクスターラーて行
った。反応温度は恒温槽で20°Cに制御した。光源と
して高圧水銀灯400Wを用いた。このようにして6時
間光照射をしたところ、2837dの水素か発生した。
この結果を後記表に示した。   ” 実施例2〜4 RhC文 ・3H206,6xlO’ミリモルの代りに
同モルのRh  (OCOCH3)4(実施例2)、[
RhC文(1,5−シクロオクタジエン)](実施例3
)、又はRh (Co)1.(実施例4)をそれぞれ用
いた以外は実施例1と同様にして反応させ(たたし、実
施例4のみ10時間光照射)水素発生量を測定した。結
果をまとめて後記表に示す。
実施例5〜7 エタノール250mM、アセトン50mJ1を川い、か
つRhC文 ・3H206,6x 10ミリモルの代り
にRuC見 ・3H206,6xlO’ミリモル(実施
例5)、 Os Cl 313 、3 x 10−2ミリモル(実
施例6)、HPtC文66.6xlO−2ミリモル(実
施例7)をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様にして
反応させた(たたし、実施例6のみ4蒔間光照射)。結
果をまとめて後記衣に示す。
比較例1 ガスビューレットを接続した内部照射型反応容器にエタ
ノール300m1およびRhC文3 ・3H206,6
x l O’ミリモルを仕込み、空気雰囲気下て15分
間攪拌し、光照射を開始した。攪拌はマグネチウクスタ
ーラーて行った。反応温度は恒温槽て20°Cに制御し
た。光源として高圧水銀灯400Wを用いた。このよう
にして6時間光照射をしても水素は発生しなかった。
比較例2 ガスビューレットを接続した内部照射型反応容器にエタ
ノール200稽、アセトン100m1を仕込み、空気雰
囲気下て15分間攪拌し、光照射を開始した。攪拌はマ
グネチウクスターラーて行った。反応温度は恒温槽て2
0°Cに制御した。光源として高圧水銀灯400Wを用
いた。このようにして6時間光照射をしても水素は発生
しなかった。
比較例3 ガスビューレットを接続した内部照射型反応容器にエタ
ノール2001、アセトン100摺およびRhC文 ・
3H206,6xlO’ミリモルな仕込み、空気雰囲気
下て1時間攪拌した。攪拌はマグネチックスターラーて
行った。反応温度は恒温槽て20℃に制御した。光源と
して高圧水銀灯400Wを用いた。このようにして6時
間光照射をしても水素は発生しなかった。
これらの比較例1〜3の結果を下記表に示した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. エタノールをロジウム、ルテニウム、オスミウムおよび
    白金からなる群から選ばれた少なくとも1種の金属の化
    合物とアセトンの存在下において光照射して脱水素反応
    させることを特徴とするエタノールの脱水素方法。
JP61149252A 1986-06-25 1986-06-25 エタノ−ルの光脱水素方法 Granted JPS638201A (ja)

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JP61149252A JPS638201A (ja) 1986-06-25 1986-06-25 エタノ−ルの光脱水素方法

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JPS638201A true JPS638201A (ja) 1988-01-14
JPH0438683B2 JPH0438683B2 (ja) 1992-06-25

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