JPS6410514B2 - - Google Patents

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JPS6410514B2
JPS6410514B2 JP9209680A JP9209680A JPS6410514B2 JP S6410514 B2 JPS6410514 B2 JP S6410514B2 JP 9209680 A JP9209680 A JP 9209680A JP 9209680 A JP9209680 A JP 9209680A JP S6410514 B2 JPS6410514 B2 JP S6410514B2
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JP
Japan
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group
formula
general formula
chr
lower alkyl
Prior art date
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Expired
Application number
JP9209680A
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English (en)
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JPS5716882A (en
Inventor
Hiroshi Ishikawa
Masanobu Kano
Kazuyuki Nakagawa
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はベンゾヘテロ環誘導体、更に詳しくは
一般式 〔式中、R1及びR2は、水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アルカンスルホニル
オキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ
基、シアノ基、トリフルオロメチル基、アミノ
基、低級アルカノイルアミド基、トリフルオロア
セトアミド基、N,N−ジ低級アルキルアミノ基
又はフエニル環上に低級アルキル基、低級アルコ
キシ基もしくはニトロ基を有することのあるフエ
ニルスルホニルオキシ基を示す。またR1及びR2
は両者で隣接環位置に結合する低級アルキレンジ
オキシ基を示してもよい。基−A−は−CHR3
(CHR4n−CHR5−(R3、R4及びR5は水素原子、
低級アルキル基又はトリフルオロメチル基及びm
は0又は1を示す)を示すか又は
【式】を 示す。但し基−A−がCH2−(CH2n−CHR5′−
(R5′は水素原子又は低級アルキル基を示す、mは
上記に同じ)及びR1がハロゲン原子を示す場合、
R2は水素原子及びハロゲン原子であつてはなら
ない。〕で表わされるベンゾヘテロ環誘導体の新
規な製造法に関する。 上記一般式()で表わされるベンゾヘテロ環
誘導体は優れた抗菌作用を有し医薬品として重要
な化合物である。 本発明の目的は、上記一般式()で表わされ
るベンゾヘテロ環誘導体を、短かい工程で、多大
の労力及び時間を必要とすることなく、しかも好
収率で製造し得る新規な方法を提供することにあ
る。 即ち本発明は、一般式 〔式中R1、R2及び基−A−は前記に同じ〕 で表わされるN−シクロイソプロピリデニルマロ
ネート置換ベンゾヘテロ環化合物をポリリン酸と
共に加熱して一般式 〔式中、R1、R2及び基−A−は前記に同じ。〕 で表わされるベンゾヘテロ環誘導体を得ることを
特徴とするベンゾヘテロ環誘導体の製造法に係
る。 本明細書においてR1、R2及び基−A−で示さ
れる各基としては具体的には以下の基を例示でき
る。 Γ低級アルキル基…メチル、エチル、プロピル、
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基
等。 Γ低級アルコキシ基…メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基
等。 Γ低級アルカンスルホニルオキシ基…メタンスル
ホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、プロ
パンスルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキ
シ、tert−ブタンスルホニルオキシ、ペンタン
スルホニルオキシ、ヘキサンスルホニルオキシ
基等。 Γハロゲン原子…沃素、塩素、臭素、弗素原子
等。 Γ低級アルカノイルアミド基…ホルムアミド、ア
セトアミド、プロピオニルアミド、ブタノイル
アミド、ペンタノイルアミド、ヘキサノイルア
ミド、ヘプタノイルアミド基等。 ΓN,N−ジ低級アルキルアミノ基…N,N−ジ
メチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N,
N−ジプロピルアミノ、N,N−ジブチルアミ
ノ、N,N−ジペンチルアミノ、N,N−ジヘ
キシルアミノ基等。 Γフエニル環上に低級アルキル基、低級アルコキ
シ基もしくはニトロ基を有することのあるフエ
ニルスルホニルオキシ基…4−メチルフエニル
スルホニルオキシ、2−ヘキシルフエニルスル
ホニルオキシ、4−プロピルフエニルスルホニ
ルオキシ、4−ニトロフエニルスルホニルオキ
シ、2−メトキシフエニルスルホニルオキシ、
4−エトキシフエニルスルホニルオキシ、3−
プロポキシフエニルスルホニルオキシ、2−ヘ
キシルオキシフエニルスルホニルオキシ基等。 Γ低級アルキレンジオキシ基…メチレンジオキ
シ、エチレンジオキシ、トリメチレンジオキシ
基等。 本発明において出発原料として用いられる一般
式()で表わされるN−シクロイソプロピリデ
ニルマロネート置換ベンゾヘテロ環化合物は、本
発明者らが始めて見い出した文献未載の新規化合
物である。本発明は該化合物を単にポリリン酸と
共に加熱するという簡便な操作のみで目的とする
一般式()で表わされるベンゾヘテロ環誘導体
が一挙にしかも好収率で収得されるという事実の
発明に基づいて完成されている。 上記一般式()で表わされる化合物は、例え
ば一般式 〔式中R1、R2及び基−A−は前記に同じ〕 で表わされる公知のベンゾヘテロ環化合物と一般
〔式中R6は低級アルキル基を示す。〕 で表わされる公知のシクロイソプロピリデニル低
級アルコキシマロネートとを反応させることによ
り好収率で製造される。それ故本発明では入手容
易な公知化合物から僅か二工程で目的とする一般
式()で表わされるベンゾヘテロ環誘導体を極
めて容易に且つ好収率で製造し得る。 上記一般式()の化合物及び一般式()の
化合物の反応は、無溶媒下または適当な溶媒中に
て行なわれる。用いられる溶媒としては例えばメ
タノール、エタノール、イソプロパノール等のア
ルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸
アミド等を例示できる。上記反応は無溶媒下に行
なわれるのが好ましい。一般式()の化合物及
び一般式()の化合物の使用割合としては特に
限定がなく広い範囲内で適宜選択することができ
るが、通常前者に対して後者を等モル量程度以
上、好ましくは等モル〜1.5倍モル量用いるのが
よい。上記反応は通常室温〜150℃程度、好まし
くは60〜120℃にて行なわれ、一般に0.5〜3時間
程度で反応は終了する。斯くして一般式()で
表わされるN−シクロイソプロピリデニルマロネ
ート置換ベンゾヘテロ環化合物を収得できる。 本発明方法は、上記の如くして製造される一般
式()の化合物をポリリンと共に加熱反応させ
ることにより容易に実施され、該加熱により一般
式()の化合物が環化されて目的とする一般式
()の化合物が容易に好収率で生成する。殊に
一般式()で表わされる化合物を上述した方法
に従い製造後単離精製することなく反応混合物の
まま本発明反応に供給する時には、目的化合物で
ある一般式()で表わされるベンゾヘテロ環誘
導体を公知化合物より一層の好収率で得ることが
できる。 本発明の一般式()の化合物とポリリン酸と
の加熱反応において、ポリリン酸の使用量として
は、特に限定がなく広い範囲内で適宜選択するこ
とができるが、通常一般式()の化合物に対し
て等モル量〜大過剰量、好ましくは10〜20倍モル
量用いるのがよい。該反応は通常50〜200℃程度、
好ましくは100〜150℃にて行なわれ、一般式に
0.5〜6時間程度で反応は終了する。 斯くして生成する一般式()で表わされるベ
ンゾヘテロ環誘導体は慣用の単離手段、例えば
過、再結晶、カラムクロマトグラフイー、プレパ
ラテイブ薄層クロマトグラフイー等により反応混
合物から容易に単離精製される。 以下に実施例を挙げる。 実施例 1 (a) イソプロピリデニルメトキシメチレンマロネ
ート8gに6.6gの6−メチル−1,2,3,
4−テトラヒドロキナルジンを加えると室温に
て発泡が見られ、次に油浴上120℃にて5分間
撹拌することにより固化させて還式イソプロピ
リデニル N−(6−メチル−1,2,3,4
−テトラヒドロ−1−キナルジニル)−アミノ
メチレンマロネート12.0gを得る(収率93%)。
mp195〜198℃。 該化合物は、IRスペクトル、NMRスペクト
ル及び元素分析により同定される。 元素分析値 計算値(%) C68.57 H6.67 N4.44 実測値(%) C68.30 H6.81 N4.30 (b) 五酸化リン25gとリン酸25gから調製される
ポリリン酸を120℃に加温しておき、上記(a)で
得られた環式イソプロピリデニル N−(6−
メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−
キナルジニル)−アミノメチレンマロネート4.7
gを少量ずつ添加する。添加後120〜130℃にて
30分間加熱反応後冷却し、水200ml加えると白
濁する。次に10%水酸化ナトリウム水溶液を加
えPH10としたのち不溶物を過する。液を濃
塩酸にPH3とし析出する結晶を取し乾燥後、
ジメチルホルムアミドより再結晶し6,7−ジ
ヒドロ−9−メチル−5−メチル−1−オキソ
−1H,5H−ベンゾ〔ij〕キノリジン−2−カ
ルボン酸3.3gを得る(収率86%)。 mp 255〜257℃。 元素分析値 計算値(%) C70.04 H5.84 N5.45 実測値(%) C69.90 H5.95 N5.21 実施例 2 イソプロピリデニルメトキシメチレンマロネー
ト8gに6.6gの6−メチル−1,2,3,4−
テトラヒドロキナルジンを室温にて加える。続い
て油浴上110℃にて5分間撹拌すると固化する。
次にリン酸80gと五酸化リン80gより得られるポ
リリン酸中に先の固体を加える。油浴上130〜140
℃にて40分間加熱後、室温迄冷却し500mlの水に
投入する。20%苛性ソーダ水溶液を加えPH11とし
不溶物を過し、液に濃塩酸を加えPH3とする
と結晶が析出する。過、水洗し乾燥することに
よつて11.7gの9−メチル−5−メチル−1−オ
キソ−6,7−ジヒドロ−1H,5H−ベンゾ〔ij〕
キノリジン−2−カルボン酸を得る(収率92%)。 この化合物をさらにジメチルホルムアミドにて
再結晶して上記化合物9.2gを得る(収率87%)。 mp 255〜257℃ 元素分析値 計算値(%) C70.04 H5.84 N5.45 実測値(%) C70.25 H5.60 N5.28 適当な原料を用い、上記実施例1及び2と同様
にして下記第1表記載の各化合物を得る。第1表
には得られた各化合物を、下記(a)における
Ra〜Rfにて示し、また該化合物の融点(mp、
℃)を併記する。
【表】
【表】
【表】 実施例 3 (a) イソプロピリデニルメトキシメチレンマロネ
ート8gに7.1gの1,2,3,4,4a,9a−
ヘキサヒドロカルバゾールを加えると室温にて
発泡が見られる。次に油浴上120℃にて5分間
撹拌することにより固化させて環式イソプロピ
リデニル−N−(1,2,3,4−4a,9a−ヘ
キサヒドロカルバゾール−9−イル)−アミノ
メチレンマロネート12.2gを得る(収率91%)。
該化合物はIR分析、NMR分析及び元素分析よ
り同定される。 mp 175〜178℃。 元素分析値 計算値(%) C69.72 H6.42 N4.28 実測値(%) C69.58 H6.25 N4.45 (b) 五酸化リン25gとリン酸25gとから調製され
るポリリン酸を120℃に加温しておき、これに
上記(a)で得た環式イソプロピリデニル−N−
(1,2,3,4,4a,9a−ヘキサヒドロカル
バゾール−9−イル)−アミノメチレンマロネ
ート4.9gを少量づつ添加する。添加後120〜
130℃にて30分間加熱反応させ、冷却し、水200
mlを加えると白濁する。次に10%水酸化ナトリ
ウム水溶液を加えPH10とした後不溶物を過す
る。液を濃塩酸にてPH3として、析出する結
晶を取し乾燥後、クロロホルム−ヘキサンよ
り再結晶して、7a,8,9,10,11,11a−ヘ
キサハイドロ−4−オキソ−4H−ピリド〔3,
2,1−jk〕カルバゾール−5−カルボン酸
3.3gを得る(収率85%)。 mp 238〜241℃。 淡黄色無定形結晶。 元素分析値 計算値(%) C71.38 H5.58 N5.20 実測値(%) C71.15 H5.32 N5.42 実施例 4 イソプロピリデニルメトキシメチレンマロネー
ト8gに7.1gの1,2,3,4,4a,9a−ヘキ
サヒドロカルバゾールを室温下に添加する。続い
て油浴上110℃にて5分間撹拌すると固化する。
次にリン酸80gと五酸化リン80gとから得られる
ポリリン酸中に先の固体を加え、油浴上130〜140
℃にて40分間加熱後、室温まで冷却し、500mlの
水中に投入する。20%苛性ソーダ水溶液を加え、
PH10とした後不溶物を過する。液を濃塩酸に
てPH3とすると結晶が析出する。これを過水洗
乾燥し、クロロホルム−ヘキサンより再結晶し
て、7a,8,9,10,11,11a−ヘキサハイドロ
−4−オキソ−4H−ピリド〔3,2,1−jk〕
カルバゾール−5−カルボン酸9.3gを得る(収
率84%)。mp238〜241℃。 淡黄色無定形結晶 元素分析値 計算値(%) C71.38 H5.58 N5.20 実測値(%) C71.50 H5.30 N5.02 適当な原料を用い、上記実施例3及び4と同様
にして下記第2表の各化合物を得る。第2表には
得られた化合物を、下記一般式(b)における
Ra〜Rcにて示し、また該化合物の融点(mp、
℃)を併記する。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中R1及びR2は、水素原子、低級アルキル基、
    低級アルコキシ基、低級アルカンスルホニルオキ
    シ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、
    シアノ基、トリフルオロメチル基、アミノ基、低
    級アルカノイルアミド基、トリフルオロアセトア
    ミド基、N,N−ジ低級アルキルアミノ基又はフ
    エニル環上に低級アルキル基、低級アルコキシ基
    もしくはニトロ基を有することのあるフエニルス
    ルホニルオキシ基を示す。またR1及びR2は両者
    で隣接環位置に結合する低級アルキレンジオキシ
    基を示してもよい。基−A−は−CHR3
    (CHR4n−CHR5−(R3、R4及びR5は水素原子、
    低級アルキル基又はトリフルオロメチル基及びm
    は0又は1を示す)を示すか又は【式】を 示す。但し基−A−が−CH2−(CH2n
    CHR5′−(R5′は水素原子又は低級アルキル基を示
    す、mは上記に同じ)及びR1がハロゲン原子を
    示す場合、R2は水素原子及びハロゲン原子であ
    つてはならない。〕で表わされるN−シクロイソ
    プロピリデニルマロネート置換ベンゾヘテロ環化
    合物をポリリン酸と共に加熱して一般式 〔式中R1、R2及びAは前記に同じ〕 で表わされるベンゾヘテロ環誘導体を得ることを
    特徴とするベンゾヘテロ環誘導体の製造法。
JP9209680A 1980-07-04 1980-07-04 Production of benzo-heteroring derivative Granted JPS5716882A (en)

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JPS5716882A JPS5716882A (en) 1982-01-28
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS59137482A (ja) * 1983-01-26 1984-08-07 Otsuka Pharmaceut Co Ltd ピロロ〔3,2,1,−ij〕キノリン−5−カルボン酸誘導体
JPS60161987A (ja) * 1984-01-31 1985-08-23 Otsuka Pharmaceut Co Ltd ベンゾヘテロ環誘導体
DE102017218114A1 (de) * 2017-10-11 2019-04-11 Leuphana Universität Lüneburg Stiftung Öffentlichen Rechts Biologisch abbaubare Chinolon-Antibiotika

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