JPS645058B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS645058B2
JPS645058B2 JP19207984A JP19207984A JPS645058B2 JP S645058 B2 JPS645058 B2 JP S645058B2 JP 19207984 A JP19207984 A JP 19207984A JP 19207984 A JP19207984 A JP 19207984A JP S645058 B2 JPS645058 B2 JP S645058B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyamic acid
tetramethylbenzidine
diaminodiphenyl ether
molar ratio
same manner
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP19207984A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6169833A (ja
Inventor
Shuichi Matsura
Yasuo Myadera
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP19207984A priority Critical patent/JPS6169833A/ja
Publication of JPS6169833A publication Critical patent/JPS6169833A/ja
Publication of JPS645058B2 publication Critical patent/JPS645058B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は極めて耐熱性及び強度のすぐれたポリ
イミド成形品の製造法に関する。
〔従来の技術〕
従来、ポリイミド成形品に用いるポリイミドと
しては4.4′−ジアミノジフエニルエーテルとピロ
メリツト酸二無水物とからなる縮合物が知られて
いる。しかし、この縮合物は耐熱性の一つの目安
となるガラス転移温度が400℃以下と低く、また
引張強度もたかだか17Kg/mm2前後と低いものであ
る。そのため400℃以上で使用する場合や強度の
必要な場合には使用できないという欠点がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は上述の欠点を解消し耐熱性及び強度に
すぐれたポリイミド成形品の製造法を提供するも
のである。
〔問題点を解決するための手段〕
すなわち本発明は4.4′−ジアミノジフエニルエ
ーテルと3.3′,5.5′−テトラメチルベンジジンと
のモル比が90:10〜10:90からなるジアミン成分
とピロメリツト酸二無水物とを非プロトン性極性
溶媒中、−10℃〜100℃で反応させて得たポリアミ
ド酸ワニスを成形した後イミド化することを特徴
とするポリイミド成形品の製造法に関する。
本発明において4.4′−ジアミノジフエニルエー
テルと3.3′,5.5′−テトラメチルベンジジンのモ
ル比は90:10〜10:90とする。3.3′,5.5′−テト
ラメチルベンジジンのモル分率が0.1より少ない
とガラス転移温度および強度が低く、0.9より多
いとポリイミド成形品がもろく好ましくない。
また4.4′ジアミノジフエニルエーテルと3.3′,
5.5′−テトラメチルベンジジンのモル比は成形品
の特性の点から10:90〜50:50さらに好ましくは
10:90〜30:70とすることが好ましい。4.4′−ジ
アミノジフエニルエーテルのモル分率が0.5より
大きいと特性が低下する。
本発明に用いる3.3′,5.5′−テトラメチルベン
ジジンは、従来用いられているベンジジン、フエ
ニレンジアミンなどが発ガン性があつたり毒性が
強いものであるのに対し、発ガン性がない事が証
明されており(Cancer Lett.、1 39(1975)、
Tetrahedron 30 3299(1974))、ポリアミド酸
ワニス製造上の安全性が優れている事も本発明の
特徴の一つである。
本発明において用いる非プロトン性極性溶媒と
しては、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−
ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジエチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン、メチルスルホラ
ン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルア
ミド、ブチルラクトン等が好ましく、これらの溶
媒を単独あるいは2種以上を混合して用いてもよ
いし、さらにこれらにキシレン、トルエン、ベン
ゼン、フエノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、ジアセトンアルコール、セロソルブ、メチル
イソブチルケトン、クレゾール、ジオキサン、シ
クロヘキサノン等の溶媒をポリアミド酸が析出し
ない範囲で添加して使用してもよい。
ジアミン成分とピロメリツト酸二無水物とのモ
ル比はほぼ等量で用いるのが好ましいが、いずれ
か一方の成分か他の成分に対して10モル%以内、
好ましくは5モル%以内であればよい。
ポリアミド酸溶液の樹脂分は5〜25重量%が好
ましく15〜25%が特に望ましい。
反応温度は−10℃〜100℃が好ましく、特に望
ましくは0〜50℃である。反応温度が−10℃より
低いとピロメリツト酸二無水物の溶解性が悪く、
また温度が低すぎるために反応の完結までに長時
間を要する。また100℃より高いとイミド化が進
みすぎ樹脂が析出するために好ましくない。
上記方法によつて得たポリアミド酸ワニスは、
流延によつてフイルム化したり、導体をワニス中
に浸漬したり、あるいは基板上に塗布したりして
成形した後、100℃以上に加熱するかあるいは脱
水剤、例えば無水酢酸−ピリジンで処理すること
によつてイミド化し、耐熱性強度及び絶縁性に優
れたポリイミド成形品とする。
〔実施例〕
以下本発明を実施例を用いてさらに詳細に説明
するが、本発明の範囲は以下の実施例に限定され
るものではない。
実施例 1 温度計、撹拌機および塩化カルシウム管をつけ
た300ml4つ口フラスコに4.4′−ジアミノジフエ
ニルエーテル(以下DDFと略す)17.0g、3.3′,
5.5′−テトラメチルベンジジン(以下TMBと略
す)3.60gとN,N−ジメチルアセトアミド
229.1gを入れ撹拌し溶解する。この溶液を10℃
前後に保ちながらピロメリツト酸二無水物(以下
DMDAと略す)21.8gを徐々に添加した後3時
間撹拌して還元粘度2.10dl/g(溶媒ジメチルア
セトアミド、濃度0.1g/d、温度25.0℃)の
ポリアミド酸ワニスを得た。このワニスをガラス
板上に流延した後90℃で30分間乾燥してポリアミ
ド酸からなる丈夫なフイルムを得た。フイルムを
ガラス板上より剥離し金枠に固定し200℃10分更
に425℃で10分加熱してポリイミドフイルムを得
た。得られたポリイミドフイルムの引張り強さお
よび伸び率を測定したところそれぞれ19.8Kg/
mm2、80%であつた。ガラス転移温度は400℃であ
り、400℃で30分間加熱した後の収縮率は0.3%で
吸湿率(25℃、75%RHにおける飽和吸湿率)は
2.5%であつた。また耐屈曲性は15000回以上であ
つた。
比較例 1 DDE20.0gとPMDA21.8g、ジメチルアセトア
ミド236.9gを用いる以外は実施例1と同様にし
て還元粘度2.08dl/gのポリアミド酸ワニスを得
た。実施例1と同様にして得たポリイミドフイル
ムの引張強さは16.8Kg/mm2、伸び率は74%であつ
た。ガラス転移温度は390℃であり、400℃で30分
間加熱した後の収縮率は0.6%で吸湿率は3.0%で
あつた。また耐屈曲性は10000回以上であつた。
実施例 2 DDE14.0g、TMB7.2g、ジメチルホルムアミ
ド156.2g、PMDA21.8gを用いる以外は実施例
1と同様にして還元粘度2.22dl/gのポリアミド
酸ワニスを得た。実施例1と同様にして得たポリ
イミドフイルムの引張強さは21.2Kg/mm2、伸び率
は62%であつた。ガラス移転温度は415℃であり、
400℃で30分間加熱した後の収縮率は0.15%で吸
湿率は2.2%であつた。耐屈曲性は15000回以上で
あつた。
実施例 3 DDE10.0%、TMB12.0g、N−メチル−2−
ピロリドン211g、PMDA21.8gを用い、反応温
度を30℃とした以外は実施例1と同様にして還元
粘度2.12dl/gのポリアミド酸ワニスを得た。実
施例1と同様にして得たポリイミドフイルムの引
張強さは24.8Kg/mm2、伸び率は50%で、吸湿率は
1.8%であつた。
ガラス転移温度は430℃であり、400℃で30分間
加熱した後の収縮率は0.1%であつた。また耐屈
曲性は15000回以上であつた。
実施例 4 DDE5.0g、TMB18.0g、ジメチルアセトアミ
ド198g、PMDA21.8gを用い、反応温度40℃と
した以外は実施例1と同様にして還元粘度1.87
dl/gのポリアミド酸ワニスを得た。最終処理温
度を450℃とする以外は実施例1と同様にして得
たポリイミドフイルムの引張強さは27.2Kg/mm2、
伸び率は43%であつた。ガラス転移温度は450℃
であり、400℃で30分間加熱した後の収縮率は0.1
%で、吸湿率は1.4%であつた。また耐屈曲性は
15000回以上であつた。
比較例 2 DDE1.0g、TMB22.9g、ジメチルアセトアミ
ド242.4g、PMDA21.8gを用いる以外は実施例
1と同様にして還元粘度1.54dl/gのポリアミド
酸ワニスを得た。実施例4と同様にして得たポリ
イミドフイルムの引張強さは30.4Kg/mm2伸び率は
12%であつた。ガラス転移温度は460℃であり、
400℃で30分間加熱した後の収縮率は0.1%で、吸
湿率は1.2であつたが耐屈曲性は5700回であつた。
〔発明の効果〕
以上の実施例からわかる様に本発明により耐熱
性、強度の優れたポリイミド成形品が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 4.4′−ジアミノジフエニルエーテルと
    3.3′.5.5′−テトラメチルベンジジンとのモル比が
    90:10〜10:90からなるジアミン成分とピロメリ
    ツト酸二無水物とを非プロトン性溶媒中、−10℃
    〜100℃で反応させて得たポリアミド酸ワニスを
    形成した後イミド化することを特徴とするポリイ
    ミド成形品の製造法。 2 ジアミン成分の4.4′−ジアミノジフエニルエ
    ーテルと3.3′,5.5′−テトラメチルベンジジンの
    モル比が10:90〜50:50である特許請求の範囲第
    1項記載のポリイミド成形品の製造法。 3 ジアミン成分の4.4′−ジアミノジフエニルエ
    ーテルと3.3′,5.5′−テトラメチルベンジジンの
    モル比が10:90〜30:70である特許請求の範囲第
    1項記載のポリイミド成形品の製造法。
JP19207984A 1984-09-13 1984-09-13 ポリイミド成形品の製造法 Granted JPS6169833A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19207984A JPS6169833A (ja) 1984-09-13 1984-09-13 ポリイミド成形品の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19207984A JPS6169833A (ja) 1984-09-13 1984-09-13 ポリイミド成形品の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6169833A JPS6169833A (ja) 1986-04-10
JPS645058B2 true JPS645058B2 (ja) 1989-01-27

Family

ID=16285285

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19207984A Granted JPS6169833A (ja) 1984-09-13 1984-09-13 ポリイミド成形品の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6169833A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05118700A (ja) * 1991-10-31 1993-05-14 Hokkaido Electric Power Co Inc:The ヒートポンプ型空調設備

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05118700A (ja) * 1991-10-31 1993-05-14 Hokkaido Electric Power Co Inc:The ヒートポンプ型空調設備

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6169833A (ja) 1986-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4731287A (en) Process for producing polyimide/metallic foil composite film
JPH0134455B2 (ja)
JPS58145419A (ja) 芳香族ポリイミドフイルムの製造方法
US4996293A (en) Composition comprising polyimide resin from diphenyl sulfone -3,3',4,4'-tetracarboxylic acid dianhydride
US4959437A (en) Process for producing a low thermally expansive and highly adhesive silicon-containing polyimide and a precursor thereof
JP2004256418A (ja) パラフェニレンジアミン、その精製方法およびその用途
JPH01121A (ja) ポリイミド樹脂組成物並びにその製造方法
JPH0292535A (ja) 金属とポリイミドの複合成形体
JP2003335874A (ja) ポリイミドフィルム
KR101229180B1 (ko) 폴리이미드 필름
JPS61195130A (ja) 芳香族ポリイミドフイルムの製造方法
JPS6337821B2 (ja)
JPH04207094A (ja) フレキシブルプリント基板およびその製造方法
EP0358783A1 (en) Polyimide molecular weight enhancement by solvent extraction
JP2934478B2 (ja) ポリイミドとその製造方法
US5167985A (en) Process for producing flexible printed circuit board
JP2910796B2 (ja) ポリアミック酸共重合体及びそれからなるポリイミドフィルム並びにそれらの製造方法
JPH046431B2 (ja)
JP2831867B2 (ja) ポリアミック酸共重合体、それからなるポリイミド共重合体、ポリイミドフィルム、並びにそれらの製造方法
JPS63314241A (ja) ポリアミド酸共重合体の製造方法
JP3022625B2 (ja) ポリアミック酸共重合体、それからなるポリイミド共重合体、及びポリイミドフィルム、並びにそれらの製造方法
JPH04161437A (ja) ポリイミドフィルム
JPS6317092B2 (ja)
JPS63314242A (ja) ポリイミド共重合体膜の製造方法
JPH02678A (ja) ポリアミド酸ワニス