JPS645527B2 - - Google Patents

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JPS645527B2
JPS645527B2 JP6967981A JP6967981A JPS645527B2 JP S645527 B2 JPS645527 B2 JP S645527B2 JP 6967981 A JP6967981 A JP 6967981A JP 6967981 A JP6967981 A JP 6967981A JP S645527 B2 JPS645527 B2 JP S645527B2
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JP
Japan
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gas
clamp ring
steam
baffle plate
supply port
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JP6967981A
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Yasuo Nishida
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Sumitomo Rubber Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Rubber Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPS57185134A publication Critical patent/JPS57185134A/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D30/00Producing pneumatic or solid tyres or parts thereof
    • B29D30/06Pneumatic tyres or parts thereof (e.g. produced by casting, moulding, compression moulding, injection moulding, centrifugal casting)
    • B29D30/0601Vulcanising tyres; Vulcanising presses for tyres
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B29C35/00Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
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    • B29D2030/0667Circulating the fluids, e.g. introducing and removing them into and from the moulds; devices therefor
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  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はタイヤ加硫装置の改良に関するもの
である。
従来タイヤの加硫は第1図に断面図として示す
ような加硫装置で行なわれている。
この装置の概略を説明すると、1は上部クラン
プリング2と下部クランプリング3で支持された
ブラダーであり、加硫媒体の供給によつて膨張し
た状態を示している。
(なお、上下部クランプリング周辺のリング、
金型およびタイヤなどの図示は省略する。) そして上部クランプリング2はセンターポスト
4に支持されている。5はバグシリンダーであ
り、6はバグシリンダーヘツドである。下部クラ
ンプリング3はバグシリンダー5に支持されてい
る。7は下部クランプリング3に支持された邪魔
板であり、この邪魔板7と下部クランプリング3
の間にスチームやガスの供給管8の供給口9およ
びその対向位置に排出管10の排出口11が設け
られている。
なお12はタイマー(図示せず)に直結した電
磁弁から送られるエアー圧によつて作動するダイ
アフラム弁である。
そしてこのような装置による加硫室内のタイヤ
(図示せず)の加硫は、例えばシエーピング工程、
スチーム工程、ガス工程、排気工程のように公知
の操作ステツプを経て完了させるのである。
ところがこの方法では、スチームもガスも同じ
供給口9から供給されることが欠点となつてい
る。
即ち、スチーム工程に続くガスの供給が、この
ように加硫室13の下方に位置する供給口9から
行なわれると、ガスの比重がスチームより大きい
ために、加硫室13内の下部14にたまる傾向が
強くて、該室内に充満しているスチームと均一な
混合が行なわれにくいのである。
従つて逆に加硫室上部15にはスチームがたま
ることになり、結局加硫室の基準温度に比べて上
部15は7〜8℃高く、そして下部14は逆に7
〜8℃低い状態となるのであり、タイヤサイドウ
オール部の上下部では15〜16℃の温度差が生ずる
ことによつて均一な加硫のタイヤが得られにくい
という欠点が指摘されている。
本発明者は、上記のような従来の加硫装置によ
るタイヤ加硫の欠点を解消して、常に均一な加硫
のできる加硫装置を見出すべく種々検討した結
果、この発明に至つたものである。
即ち、この発明は加硫室内にセツトしたタイヤ
に対するスチームの供給とガスの供給を別々の供
給口から行なうこと、特に新規構造の邪魔板を用
いてガスの供給噴射をスチームの供給口よりも高
い位置の供給口から行うことを第1の特徴とする
ものであり、さらに上記邪魔板を用いたガスの供
給噴射に方向性を与えるために邪魔板はその上面
周縁を厚いテーパーとし、上部クランプリングと
邪魔板上面との間隙を5〜10mmとなるように邪魔
板を設置することを第2の特徴とするものであ
る。
以下、この発明をその一実施例を示す第2図乃
至第5図に基づいて説明する。
第2図において、21は上部クランプリング2
2と下部クランプリング23とで支持されている
ブラダーである。(なお、上下クランプリング周
辺のリング、金型およびタイヤなどの図示は省略
する。) 24は邪魔板であつて、下部クランプリング2
3に支持されており、その形状は上面の周縁が厚
いテーパー状である。このテーパーにより、ガス
は黒矢印のように加硫室33の上部32附近に向
けて噴射されることになる。
そして該邪魔板24と下部クランプリング23
との間にバグシリンダー25内を貫通しているス
チーム供給管26の供給口27を配置し、これと
対向する位置の邪魔板24の上部に同じくバグシ
リンダー25内を貫通するガス供給管28の供給
口29が設けられている。このガス供給管28は
加硫工程における後半の排気やバキユームなどの
時の排出管をも兼ねるのである。30はダイアフ
ラム弁である。
このような構造の加硫装置にてタイヤ加硫を行
なうには、例えば、まずスチーム(2Kg/cm2)を
供給口27から加硫室33内に供給してシエーピ
ングし、次いでスチーム(15Kg/cm2)を同じく供
給口27から供給して加熱し、しかるのちガス供
給管28からのガスを供給口29から邪魔板24
上部と上部クランプリング22との間隙を通じて
供給するのである。
これによつてスチームの充満した加硫室33内
の上部附近32にガスが噴射されるので、スチー
ムとガスの混合が十分に行なわれるとともにガス
の下降沈澱速度を遅らせることができ、タイヤサ
イドウオール部上下部間の温度差を約5〜6℃に
まで縮めることができるのであり、タイヤサイド
ウオール部の過加硫や加硫不足が防止され、より
均一な加硫が行なわれるのである。
この邪魔板24の形状は第2図に示すように上
面周縁が厚いテーパー状であつて、上部クランプ
リング22と該邪魔板24の間隙は5〜10mmが適
当であり、その長さはブラダーの収縮時(バキユ
ーム時)にブラダーに当つてブラダーライフに悪
影響を与えない程度がよい。
上部クランプリング22と邪魔板24との間隙
を5〜10mmとするのは5mm未満ではガス噴出時の
方向性が小さいこと、また間隙がせますぎて詰り
やすいこと、10mmを超えるときはテーパー角をか
なりきつくしなければならないことのためであ
る。
なお、邪魔板24に代えて、ガスの供給口29
にルーズに連続し、黒の矢印方向に角度を与えた
パイプ(図示せず)を用いてもよい。
以上は第2図に基づいて、ガスの供給噴射を高
い位置から加硫室33の上部附近32に向けて行
なう実施例について説明したが、この新規なガス
の供給位置に加えて、スチームとガスの供給方式
を工夫することによつてタイヤサイドウオール部
上下部の温度差を縮小させることができる。
即ち、例えばまずスチーム(2Kg/cm2)を供給
してシエーピングし、次いでまたスチーム(5
Kg/cm2)を供給口27から30秒間供給して加熱
し、次いでガス(10Kg/cm2)を供給口29から30
秒間供給し、次いでまたスチーム(15Kg/cm2)を
供給口27から6分間供給し、次いでガス(21
Kg/cm2)を供給口29から供給し、次いで排出口
29から排気し、最後にバキユームして加硫工程
のワンサイクルを終る方式である。
また別の例では、上記のスチームとガスの交互
供給をガス(5Kg/cm2)の30秒間供給、次いでス
チーム(15Kg/cm2)の6分間供給、次いでガス
(21Kg/cm2)の7分間供給としてもよい。
このように、第2図に示すスチーム、ガスの供
給位置でもつて、かつスチーム、ガスを上記の交
互供給方式としてやれば、その効果はさらに顕著
となり、例えばタイヤサイドウオール部上下部間
の温度差を約2〜3℃に縮めることができる。
なおこの発明のスチーム供給口27の開口34
は第3図に示すように周方向に1ケ所設けてやれ
ばよく、またガスの供給口29の開口35は第4
図の如く周方向に径2〜6mmの孔を数ケ〜10数ケ
設ける。
次にこの発明の装置即ち第2図に示すようなス
チーム供給を邪魔板の下部の供給口から、ガス供
給を邪魔板上部のガス供給口から行なう場合と、
スチーム、ガスともに邪魔板下部の供給口から行
なう従来装置を用いた場合について実際にタイヤ
加硫テストを行ない、加硫時の加硫媒体をスチー
ムからガスへ切換えた直後から数分間のタイヤサ
イドウオール部上下部間の加硫温度差Rを調べた
ところ第5図A,Bの結果が得られた。
なおこのテストにおいて、この発明の装置によ
るもの第5図Aはスチーム15Kgを邪魔板下部のス
チーム供給口から供給したのち、ガス21Kgを邪魔
板上部のガス供給口から供給したものであり、従
来装置によるもの第5図Bはスチーム15Kg、ガス
15Kgをともに邪魔板下部の供給口から順次供給し
たものである。
第5図から、この発明によるAはスチームから
ガスへ切替えて1〜5分経過しても温度差R=4
〜8℃であり、特にガスに切替えて5分後でも温
度差は僅か4℃であつた。
これに対し、従来装置によるBは、温度差Rが
13〜17℃と非常に大きく、この発明の装置ではよ
り均一なタイヤ加硫状態が得られることが確認さ
れた。
【図面の簡単な説明】
第1図はタイヤ加硫に使用する従来装置の断面
図、第2図はこの発明のタイヤ加硫装置の断面
図、第3図はスチーム供給口の開口部断面図、第
4図はガス供給口開口部の断面図、第5図Aおよ
びBはこの発明と従来の装置によるタイヤのサイ
ドウオール上下部間の温度差を示す図表である。 21……ブラダー、22……上部クランプリン
グ、23……下部クランプリング、24……邪魔
板、27……スチーム供給口、29……ガス供給
口。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 生タイヤをセツトした金型内にスチーム、ガ
    スなどの加硫媒体を供給して生タイヤの加硫を行
    なう加硫装置において、センターポストに支持さ
    れた上部クランプリングとバグシリンダーに支持
    された下部クランプリングにてブラダーを支持
    し、前記上部クランプリングと下部クランプリン
    グの間に上部クランプリングと若干の間隙を有す
    る邪魔板を設置するとともにガスの供給口をガス
    以外の加硫媒体の供給口よりも高い位置に設け、
    前記間隙を通じてガスを噴射するようにしたこと
    を特徴とするタイヤ加硫装置。 2 邪魔板と上部クランプリングとの間隙を5〜
    10mmとすることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のタイヤ加硫装置。 3 邪魔板はその上面を周縁が厚いテーパー状と
    したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    のタイヤ加硫装置。
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