JPS645687B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は画像形成材料に関し、さらに詳しく
は透明支持体上に光重合性組成物層を有し、露光
後必要なら加熱したのち支持体を剥離することに
より画像を形成しうる画像形成材料に関する。

従来、プリント配線板の作製に当つて用いられ
てきたフオトレジストは、露光により架橋、分解
あるいは重合をおこす樹脂材料であつて、プリン
ト基板に適用して露光したのち、現像液による露
光部分と非露光部分との間での樹脂の溶解度の差
を利用して耐薬品性皮膜からなる画像を形成する
ものである。しかるに、このような溶液現像型の
画像形成材料は、有機溶剤やアルカリ水溶液など
の現像液を使用しなければならないため、作業が
煩雑で、また公衆衛生上の欠点を免れなかつた。

このため、近年、上記の如き材料に代わり、透
明支持体上に光重合性組成物層を設けてなる剥離
現像可能な画像形成材料が提案されている。すな
わち、この種の材料では、光重合性組成物層側を
基材、たとえばプリント基板の導体上に積層して
のち透明支持体側から露光することにより、露光
部分と非露光部分との間で透明支持体および基材
に対する接着力に差異を生じさせ、この差異を利
用して露光後透明支持体を剥離して基材上に画像
を形成するものである。この方法によれば画像形
成に当たつて現像液を必要としないから、溶液現
像型の画像形成材料にみられた前記欠点を回避で
きる。

このような剥離現像可能な画像形成材料におい
て、光重合性組成物層は本質的にエチレン性不飽
和重合性化合物、皮膜形成性高分子物質および光
重合開始剤からなつており、主に上記のエチレン
性不飽和重合性化合物および皮膜形成性高分子物
質が基材ないし透明支持体の材質との関係におい
ていかなる種類のものとされるかにより、剥離現
像性や画像特性などの良否が大きく左右される。
このことから、これらの特性上望ましいものとさ
れる各成分につき数多くのものが提案されてい
る。

このうち、皮膜形成性高分子物質のひとつとし
てアクリル酸アルキルエステルまたはメタクリル
酸アルキルエステル系ポリマーが知られている。
このポリマーは光透過性および皮膜の強じん性に
すぐれ、またレジスト材料として用いたときにエ
ツチング液やメツキ液に対して良好な耐性を有し
ており、しかもエチレン性不飽和重合性化合物の
多くと相溶しやすいなどの特徴がある。ところが
この種のポリマーを皮膜形成性高分子物質とした
光重合性組成物層は、透明支持体としてもつとも
汎用されているポリエチレンテレフタレートに対
する接着性が劣り、このため露光後上記支持体を
剥離する際に非露光部分までもが基材上に残りや
すく、剥離現像という所期の目的を達成できない
憾みがあつた。

このことから、この種のポリマーを用いた画像
形成材料にあつては、露光後さらに加熱工程を付
加したり、あるいは上記ポリマーとともに他種ポ
リマーを併用するなどの工夫がなされているが、
これらの方法で充分に満足できる結果が得られて
いるとはいえなかつた。

この発明者らは、上記の事情に照らして鋭意検
討した結果、透明支持体がポリエチレンテレフタ
レートで、皮膜形成性高分子物質としてアクリル
酸アルキルエステルまたはメタクリル酸アルキル
エステル系ポリマーを使用する場合に、上記支持
体と上記高分子物質を用いた光重合性組成物層と
の間に、両者の接着力を向上させるための特定の
層を介在させることにより、剥離現像性を大きく
向上させることができることを知り、この発明を
完成するに至つたものである。

すなわち、この発明は透明支持体上にエチレン
性不飽和重合性化合物、皮膜形成性高分子物質お
よび光重合開始剤を含む光重合性組成物層を設け
てなる剥離現像可能な画像形成材料において、上
記透明支持体がポリエチレンテレフタレートから
なり、かつ上記皮膜形成性高分子物質がアクリル
酸アルキルエステルまたはメタクリル酸アルキル
エステル系ポリマーを少なくとも含むものからな
つており、さらに上記透明支持体と上記光重合性
組成物層との間に、 ａ テレフタル酸とエチレングリコールとこれら
以外の二塩基性酸ないし二価アルコールとから
なる平均分子量が約３万以下でかつ分子両未端
にカルボキシル基ないし水酸基を有する線状飽
和ポリエステルと、 ｂ 含ハロゲン高分子化合物 との混合物を必須成分として含む0.1〜5μ厚みの
層を介在させたことを特徴とする画像形成材料に
係るものである。

この発明において透明支持体として用いられる
ポリエチレンテレフタレートは、耐薬品性、耐湿
性、耐熱性、寸法安定性、強度、透明性などにす
ぐれており、支持体としてもつとも良好に機能す
る。透明支持体の厚みは、一般的には10〜150μ、
好ましくは20〜50μ程度であるが、上記範囲外の
ものでも使用できる。

この発明において上記支持体と光重合性組成物
層との間に介在させる前記特定の層は、一般に上
記支持体上に下塗り層して形成されるものであ
る。この下塗り層形成のために必須成分として用
いられるａ成分およびｂ成分は以下のとおりであ
る。

まず、ａ成分はテレフタル酸とエチレングリコ
ールとこれら以外の二塩基性酸ないし二価アルコ
ールとからなる平均分子量が約３万以下、好まし
くは1000〜20000でかつ分子両未端にカルボキシ
ル基ないし水酸基を有する線状飽和ポリエステル
であり、このポリエステルは透明支持体としての
ポリエチレンテレフタレートに対して良好な接着
性を示し、光重合性組成物層の上記支持体に対す
る接着力を改善させるものである。

上記ａ成分の分子量が３万以下とされているの
は、これより大きな分子量になると一般の有機溶
剤に不溶となる傾向が現われ、他の配合成分との
相溶性が劣り均一な混合が困難となるからであ
る。また、上記ａ成分がその分子両未端にカルボ
キシル基ないしヒドロキシル基を有しているもの
とされているのは、これら基を有しない場合、前
記接着力の改善効果が充分に得られなくなるため
である。

ａ成分として有用な線状飽和ポリエステルの市
販品の具体例を挙げれば、東洋紡積(株)製の商品名
バイロン−200、−300、グツトイヤー(株)製の商品
名ビテルPE−200、PE−207、PE−222、デユポ
ン(株)製の商品名アドヘシブ−46950、−46960、−
46981、−49000、−49001、−49002、日立化成工業
(株)製の商品名エスペル−1510、−1311などが挙げ
られる。

また、ｂ成分としての含ハロゲン高分子化合物
は、ａ成分だけからなる下塗り層では皮膜形成性
高分子物質として（メタ）アクリル酸アルキルエ
ステル系ポリマーを用いた光重合性組成物層との
親和性に劣るため、この親和性を良好にして前記
ａ成分に基づく接着力改善効果を実効ならしめる
機能を主として有するものである。この具体例と
しては、たとえばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化
ゴム、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレ
ン、ポリクロルスルホン化エチレンなどを挙げる
ことができる。

下塗り層形成用の組成物は、上述したａ成分と
ｂ成分とを通常前者対後者が１：99〜99：１の範
囲で混合し、これに必要に応じて染料、顔料、充
填材、エチレン性不飽和重合性化合物などの任意
成分を配合することにより調製される。上記各任
意成分は後述する光重合性組成物層に用いられる
ものと本質的に変らない。かかる組成物を透明支
持体に塗着して下塗り層を形成するが、このとき
用いられる溶媒も光重合性組成物層の形成におけ
ると同様のものが用いられる。

このようにして形成される下塗り層の厚みは
0.1〜5μの範囲とする必要がある。0.1μより薄く
なると接着力改善効果を期待できず、また5μよ
り厚くなると剥離現像によつて得られる画像の精
度が低下してしまうからである。

この発明において光重合性組成物層を形成する
ための皮膜形成性高分子物質はアクリル酸アルキ
ルエステルまたはメタクリル酸アルキルエステル
系ポリマーを主体とするものであり、上記ポリマ
ーには、アクリル酸またはメタクリル酸のアルキ
ルエステルの重合体ないし共重合体のほか、上記
アルキルエステルとこれと共重合可能なビニル系
モノマーとの共重合体が含まれる。上記アルキル
エステルのアルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基などが有効である。こ
のようなアクリル酸アルキルエステルまたはメタ
クリル酸アルキルエステル系ポリマーの分子量と
しては少なくとも１万以上であることが好まし
い。種々のアクリル酸アルキルエステルまたはメ
タクリル酸アルキルエステル系ポリマーのなかで
もとくに好適なものはポリメチルメタクリレート
である。

皮膜形成性高分子物質として上記アクリル酸ア
ルキルエステルまたはメタクリル酸アルキルエス
テル系ポリマーとともに他の各種ポリマーを併用
することも可能である。しかし、アクリル酸アル
キルエステルまたはメタクリル酸アルキルエステ
ル系ポリマーの先に述べた特徴を損なわないよう
に、併用する他のポリマーは50重量％以下に抑え
られていることが望ましい。

併用できる他のポリマーの例を挙げれば、塩素
化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、塩化ゴ
ム、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニト
リルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニリデンとアクリロニトリルとの共重合体、ポリ
酢酸ビニル、酢酸ビニルと塩化ビニルとの共重合
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルと
スチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタ
ジエンとスチレンとの共重合体、ポリビニルアル
キルエーテル、ポリメチルビニルケトン、ポリエ
チルビニルケトン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブデン、ポリスチレン、ポリ−α−メチ
ルスチレン、ポリアミド（６−ナイロン、６，６
−ナイロンなど）、ポリ１，３−ブタジエン、ポ
リイソプレン、ポリウレタン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンイソフタレート、環化
ゴム、エチルセルローズ、アセチルセルローズ、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
スチレンブタジエンゴムなどがある。これらは一
種であつても二種以上を混合使用してもよい。

この発明において用いられるエチレン性不飽和
重合性化合物はエチレン性不飽和結合を１個ない
し２個以上有する公知の化合物を広く適用でき
る。エチレン性不飽和結合を１個有するものとし
ては、たとえばアクリル酸ないしアクリル酸エス
テル類、メタクリル酸ないしメタクリル酸エステ
ル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、
アリル化合物類、ビニルエーテル類、ビニルエス
テル類、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類、クロト
ン酸エステル類などがある。

ここで、アクリル酸エステル類の具体例として
は、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、ア
クリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、ア
クリル酸オクチルなどのアクリル酸アルキルエス
テルがあり、またメタクリル酸エステル類の具体
例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イ
ソプロピルなどのメタクリル酸アルキルエステル
が挙げられる。アクリルアミド類としては、アク
リルアミドのほか、Ｎ−メチルアクリルアミド、
Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリル
アミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−
ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−エチルヘキシル
アクリルアミドなどのＮ−アルキルアクリルアミ
ドなどがある。メタクリルアミド類としては、メ
タクリルアミドのほか、Ｎ−メチルメタクリルア
ミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−イソプ
ロピルメタクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルメタク
リルアミド、Ｎ−エチルヘキシルメタクリルアミ
ドなどのＮ−アルキルメタクリルアミドなどが挙
げられる。アリル化合物類としては、酢酸アリ
ル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウ
リン酸アリル、パルミチン酸アリルなどのアリル
エステルがあり、またビニルエーテル類として
は、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエ
ーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシル
ビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテルが
挙げられる。

また、ビニルエステル類としては、ビニルブチ
レート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチ
ルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニ
ルバレレート、ビニルカプロエートなどが挙げら
れ、スチレン類としては、スチレンのほか、メチ
ルスチレン、クロルメチル化スチレン、アルコキ
シスチレン、ハロゲン化スチレン、安息香酸スチ
レンなどがある。さらにクロトン酸エステル類と
しては、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、
クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、クロト
ン酸イソプロピルなどが挙げられる。

エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物
は、前記エチレン性不飽和結合を１個有する化合
物よりもより好ましく使用される。これに属する
ものとしては、多価アルコールとアクリル酸ない
しメタクリル酸とのエステル類があり、ジ（メ
タ）アクリレートないしそれ以上のポリ（メタ）
アクリレートが用いられる。上記多価アルコール
としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリブチレンオキシド、（β−
ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、グリセリン、ジ
グリセリン、ネオペンチルグリコール、トリメチ
ロールプロパン、トリエチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソ
ルビタン、ソルビトール、１，４−ブタンジオー
ル、１，２，４−ブタントリオール、２−ブテン
−１，４−ジオール、２−ブチル−２−エチル−
プロパンジオール、２−ブテン−１，４−ジオー
ル、１，３−プロパンジオール、トリエタノール
アミン、デカリンジオール、３−クロル−１，２
−プロパンジオールなどがある。その他、多価ア
ルコールと多塩基性酸とから合成される分子中に
１個以上の水酸基を有する比較的分子量の低いポ
リエステルの上記水酸基にアクリル酸ないしメタ
クリル酸を反応させてなるオリゴエステルアクリ
レートないしオリゴエステルメタクリレートなど
も使用できる。この市販品としては、たとえば東
亜合成(株)製の商品名アロニツクスＭ−5500、−
5700、−6100、−6300、−8030、−8060などが挙げら
れる。また上記のほかにアクリル化エポキシ樹脂
なども用いられる。

この発明において上記の如きエチレン性不飽和
重合性化合物は、一種であつても二種以上を併用
したものであつてもよいが、使用量としては、前
述した皮膜形成性高分子物質100重量部に対して
通常10〜500重量部、好ましくは30〜200重量部の
範囲で使用するのがよい。

この発明において用いられる光重合開始剤とし
ては、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過酸
化物、レドツクス系化合物、アゾおよびジアゾ化
合物、ハロゲン化合物光還元性色素などがある。

代表的な具体例を挙げれば、カルボニル化合物
として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケター
ル、ベンゾフエノン、アントラキノン、２−メチ
ルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノ
ン、９，10−フエナントレンキノン、ジアセチ
ル、ベンジルなどがある。また有機硫黄化合物と
しては、ジブチルジスルフイド、ジオクチルジス
ルフイド、ジベンジルジスルフイド、ジフエニル
ジスルフイド、ジベンゾイルジスルフイド、ジア
セチルジスルフイドなどがある。過酸化物として
は、過酸化水素、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、
過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンペルオキ
シドなどが挙げられる。さらにレドツクス系化合
物は、過酸化物と還元剤との組合せからなるもの
であり、第一鉄イオンと過酸化水素、第一鉄イオ
ンと過硫酸イオン、第二鉄イオンと過酸化物など
がある。

アゾおよびジアゾ化合物としては、α，α′−ア
ゾビスイソブチロニトリル、２−アゾビス−２−
メチルブチロニトリル、１−アゾビス−シクロヘ
キサンカルボニトリル、Ｐ−アミノジフエニルア
ミンのジアゾニウム塩などがある。ハワゲン化合
物としては、クロルメチルナフチルクロリド、フ
エナシルクロリド、クロルアセトン、β−ナフタ
レンスルホニルクロリド、キシレンスルホニルク
ロリドなどを挙げることができる。また光還元性
色素としては、ローズベンガル、エリスロシン、
エオシン、アクリフラビン、リボフラビン、チオ
ニンなどがある。

上述した光重合開始剤は一種であつても二種以
上を組み合せて使用してもよい。その使用量は、
エチレン性不飽和重合性化合物100重量部に対し
て通常0.1〜20重量部の範囲とするのが望ましい。

この発明において光重合性組成物層を形成する
ために用いられる光重合性組成物は、前記のエチ
レン性不飽和重合性化合物、皮膜形成性高分子物
質および光重合開始剤を必須成分とするが、これ
にさらに必要に応じて熱重合禁止剤、着色剤、可
塑剤、充填剤などの添加剤を配合させてもよい。

熱重合禁止剤としては、パラメトキシフエノー
ル、ヒドロキノン、アルキル基またはアリール基
置換ヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロ
ガロール、塩化第一銅、フエノチアジン、クロラ
ニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、２・
６−ジ−ｔ−ブチル−Ｐ−クレゾール、ピリジ
ン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、Ｐ−ト
ルイジン、メチレンブルー、酢酸銅の如き有機酸
銅などがある。これらの熱重合禁止剤はエチレン
性不飽和重合性化合物100重量部に対して通常
0.001〜５重量部の範囲で用いられる。

着色剤としては、たとえばカーボンブラツク、
酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料など
の顔料や、メチレンブルー、クリスタルバイオレ
ツト、ローダミンＢ、アクシン、オーラミン、ア
ゾ系染料、アントラキノン系染料などの染料があ
るが、光重合開始剤の吸収波長の光を吸収しない
ものが好ましい。着色剤の添加量は、顔料では皮
膜形成性高分子物質およびエチレン性不飽和重合
性化合物の合計量100重量部に対して通常0.01〜
30重量部、好ましくは0.1〜３重量部の範囲で用
いられ、また染料では通常0.01〜10重量部、好ま
しくは0.1〜３重量部の範囲で用いられる。

可塑剤としては、ジメチルフタレート、ジエチ
ルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチ
ルフタレート、ジオクチルフタレートなどのフタ
ル酸エステル類、ジメチルグリコールフタレー
ト、エチルフタリルエチルグリコレート、メチル
フタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブ
チルグリコレート、トリエチレングリコールジカ
プリル酸エステルなどのグリコールエステル類、
トリクレジルフオスフエート、トリフエニルフオ
スフエートなどの燐酸エステル類、クエン酸トリ
エチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウ
リン酸ブチルなどがある。これら可塑剤の添加量
は、皮膜形成性高分子物質およびエチレン性不飽
和重合性化合物の合計量100重量部に対して通常
10重量部以下で用いられる。

また、充填剤としては、炭酸カルシウム、クレ
ー、紛末シリカ、タルクなどが挙げられるが、と
くに白色度の高いものほど好ましい。添加量は、
組成物全体量の約50重量％以下とするのがよく、
あまり多くしすぎると皮膜性その他の特性に支障
をきたすから好ましくない。

この発明においては、このような光重合性組成
物を通常溶媒に溶解し、これを透明支持体に設け
られた前述の下塗り層上にキヤステイングしたの
ち、乾燥することにより、一般に５〜100μ厚み
程度の光重合性組成物層を形成する。

ここに、用いられる溶媒としては、たとえばア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン
の如きケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸
アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エチル、フタ
ル酸ジメチル、安息香酸エチルの如きエステル
類、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素類、四塩化炭素、トリ
クロルエチレン、クロロホルム、１，１，１−ト
リクロルエタン、モノクロルベンゼン、塩化メチ
レン、クロルナフタレンなどのハロゲン化炭化水
素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテートなど
のエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシドなどがある。

このようにして得られるこの発明の画像形成材
料は、光重合性組成物層が通常粘着性を有してい
ることから、透明支持体の背面にシリコン樹脂の
如き離形剤で離形処理を施こすか、あるいは離形
効果のある保護フイルム、たとえばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレ
ンなどのフイルムを用いて、ロール状に巻回しあ
るいは積み重ねて保存する。

この発明の画像形成材料を用いて各種基材上に
所定の画像を形成するには、従来公知の方法に準
じて行なえばよい。まず、保存された画像形成材
料を取り出して、保護フイルムを用いている場合
はこれを剥離し、画像を形成するべき基材たとえ
ばプラスチツクフイルム、紙、木材、金属板、金
属箔、ガラス板などに、粘着性を有する光重合性
組成物層を貼り合わせ、ラミネートロールなどに
より加熱加圧して完全に密着させて積層体とな
す。

この積層体の透明支持体側から原画を通して活
性光線を照射しパターン形成する。ここに、用い
られる活性光線としては、350〜450nｍの柴外線
ないし可視光線があり、これらに好適な光源とし
ては低圧、高圧、超高圧水銀ランプ、キセノンラ
ンプ、カーボンアーク燈、ハロゲンランプ、殺菌
燈などがある。その他、電子線、Ｘ線、レーザ光
線なども有効である。

活性光線による露光後、必要なら加熱工程を付
加してもよい。上記加熱工程を加えることによつ
て、剥離現像性や画像特性により好結果が得られ
る。

このようにして光重合性組成物層を所定のパタ
ーン形状で硬化させたのち、20〜100℃程度の一
定温度下において透明支持体を剥離すると、光硬
化して基材との接着力が増大しかつ透明支持体と
の接着力が減少した部分が画像として基材上に形
成される。

以上詳述したとおり、この発明においてはポリ
エチレンテレフタレートからなる透明支持体と皮
膜形成性高分子物質としてアクリル酸アルキルエ
ステルまたはメタクリル酸アルキルエステル系ポ
リマーを用いてなる光重合性組成物層との間に、
上記組成物の上記支持体に対する接着力を向上さ
せうる特定の下塗り層を介在させるようにしたも
のであるから、上記ポリマーの欠点とされた剥離
現像性を改善でき、また上記支持体および上記ポ
リマーの特徴が生かされた画像形成材料を提供で
きる。

なお、この発明の画像形成材料はプリント配線
基板作成用のレジストとして有利に適用できる
が、その他レリーフ型の製作、平版印刷、凸版印
刷などの刷版の作成などにも広く使用できるもの
である。

以下にこの発明の実施例を記載する。以下にお
いて部とあるは重量部を意味するものとする。

実施例 １ 〈下塗り層用組成物〉 線状飽和ポリエステル（東洋紡積(株)製バイロン
＃200） 50部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（群馬化学(株)
製電化ビニール1000−Ａ） 50部 メチルエチルケトン 1900部 〈光重合性組成物〉 ポリメタクリル酸メチル（三菱レーヨン(株)製ダ
イヤナールBR−83） 70部 塩素化ポリエチレン（山陽国策パルプ(株)製スー
パークロンCPE907LTA） 30部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 150部 ベンゾインイソプロピルエーテル 25部 エチルバイオレツト 0.3部 パラメトキシフエノール 0.15部 トルエン 400部 25μ厚のポリエチレンテレフタレートフイルム
上に、まず下塗り層用組成物を乾燥後の塗布厚が
0.5μになるようにアプリケータを用いて塗布し、
５分間風乾した。次いで光重合性組成物をその上
に乾燥後の厚みが20μになるようにアプリケータ
で塗布し、80℃で15分間乾燥を行なつた。

この画像形成材料の表面を清浄化したプリント
配線板用の銅一ガラスエポキシ積層板の銅面に35
℃に加熱されたラミネートロールにより光重合性
組成物層が密着するように貼合わせた。次いでこ
の積層物に対してポリエチレンテレフタレート側
より原画を通して3KWの超高圧水銀灯を用いて
60cmの距離より20秒間露光を行なつた。

次に25℃において支持体のポリエチレンテレフ
タレートフイルムを基板より剥離すると、銅基板
の銅層上に陰画原稿に対応する光硬化したポジ画
像が形成され、陰画原稿に対応する未硬化の部分
の光重合性組成物層はポリエチレンテレフタレー
トフイルムと共に除去された。このようにして得
られた銅基板上の画像は忠実に原画を再現してい
た。

実施例 ２ 実施例１の下塗り層用組成物を3μ厚みに塗る
以外は実施例１と同様にして画像形成材料を作成
し、実施例１と同様に評価した。結果は実施例１
と同様であつた。

比較例 １ 25μ厚のポリエチレンテレフタレートフイルム
に実施例１の光重合性組成物をそのまま20μ厚み
に塗布した。このものを実施例と同様にして評価
すると露光部分のみならず、未露光の部分も大部
分銅基板に残り、原画通りの画像を得ることがで
きなかつた。

比較例 ２ 実施例１の下塗り層用組成物を0.05μ厚に塗る
以外は実施例１と同様にして画像形成材料を作成
した。その評価結果は比較例１と同様であつた。

比較例 ３ 実施例１の下塗り層用組成物を10μ厚に塗る以
外は実施例１と同様に画像形成材料を作成した。
その評価結果は未露光の光重合性組成物層は支持
体と共に除去できたが、銅基板上に残るべき露光
部分も一部分はがれて支持体と共にとれ、銅基板
上に原画に忠実な画像を再現することができなか
つた。

実施例 ３ 〈下塗り層用組成物〉 線状飽和ポリエステル（前出のバイロン＃200）
10部 塩素化ポリエチレン（前出のスーパークロン
CPE90LTA） 90部 メチルエチルケトン 1900部 〈光重合性組成物〉 ポリメタクリル酸メチル（三菱レーヨン(株)製ダ
イヤナールBR−75） 100部 オリゴエステルアクリレート（東亜合成化学工
業(株)製アロニツクスＭ−6100） 180部 タルク 30部 ベンゾインイソプロピルエーテル 25部 エチルバイオレツト 0.3部 パラメトキシフエノール 0.15部 トルエン 400部 実施例１と同様にしてポリエチレンテレフタレ
ートフイルムにまず下塗り層用組成物を1μ厚に
塗布し、続いて光重合性組成物を50μ厚に塗布、
乾燥した。

この画像形成材料を実施例１と同様に銅張り基
板にラミネートし、原画を通して露光した後、80
℃のオーブンに30分間入れて加熱処理を行なつ
た。その後室温（25℃）まで冷却し、支持体を剥
離すると銅基板上に原画に対応する画像が忠実に
再現された。

比較例 ４ 実施例３の下塗り層用組成物を用いないで画像
材料を作成し、実施例３と同じ手法により剥離現
像を行なつたが、露光部分も未露光部分も銅基板
上に残り、画像が得られなかつた。

実施例 ４ 実施例１と同様にして、ポリエチレンテレフタ
レートフイルムに実施例３の下塗り層用組成物を
1μ厚み、実施例３の光重合性組成物を20μ厚みに
塗布し、画像形成材料を得た。この材料を用いて
実施例１と同様にして現像を行なつたところ、銅
基板上に原画に忠実な画像を得ることができた。

実施例 ５ 〈下塗り層用組成物〉 線状飽和ポリエステル（日立化成(株)製エスペル
1311） 30部 塩化ゴム（山陽国策パルプ(株)製スーパークロン
CR−５） 70部 メチルエチルケトン 900部 トルエン 1000部 実施例１と同様にして、ポリエチレンテレフタ
レートフイルム上に上記の下塗り層用組成物を
1μ厚みに、また実施例１の光重合性組成物を20μ
厚みに、それぞれ塗布して、画像形成材料を得
た。この材料の評価結果は実施例１と同様であつ
た。

実施例 ６ 実施例１と同様にして、実施例５の下塗り層用
組成物を1μ厚みに、また実施例３の光重合性組
成物を50μ厚みに、それぞれ塗布して、画像形成
材料を得た。この材料の評価結果は実施例３と同
様であつた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 透明支持体上にエチレン性不飽和重合性化合
   物、皮膜形成性高分子物質および光重合開始剤を
   含む光重合性組成物層を設けてなる剥離現像可能
   な画像形成材料において、上記透明支持体がポリ
   エチレンテレフタレートからなり、かつ上記皮膜
   形成性高分子物質がアクリル酸アルキルエステル
   またはメタクリル酸アルキルエステル系ポリマー
   を少なくとも含むものからなつており、さらに上
   記透明支持体と上記光重合性組成物層との間に、 ａ テレフタル酸とエチレングリコールとこれら
   以外の二塩基性酸ないし二価アルコールとから
   なる平均分子量が約３万以下でかつ分子両末端
   にカルボキシル基ないし水酸基を有する線状飽
   和ポリエステルと、 ｂ 含ハロゲン高分子化合物 との混合物を必須成分として含む0.1〜5μ厚みの
   層を介在させたことを特徴とする画像形成材料。