JPS64687B2 - - Google Patents

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JPS64687B2
JPS64687B2 JP55146941A JP14694180A JPS64687B2 JP S64687 B2 JPS64687 B2 JP S64687B2 JP 55146941 A JP55146941 A JP 55146941A JP 14694180 A JP14694180 A JP 14694180A JP S64687 B2 JPS64687 B2 JP S64687B2
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JP
Japan
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water
soluble
coating film
pattern
powder
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JP55146941A
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JPS5772140A (en
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Saburo Nonogaki
Nobuaki Hayashi
Yoshifumi Tomita
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Priority to GB8131283A priority patent/GB2087580A/en
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Priority to US06/531,266 priority patent/US4537851A/en
Publication of JPS64687B2 publication Critical patent/JPS64687B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/28—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor for obtaining powder images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、感光性組成物及びそれを甚いたパタ
ヌン圢成法に関する。より詳しくは、光孊図圢の
耇写、リ゜グラフむヌなどに適甚される感光性組
成物及びそれを甚いたパタヌン圢成法に関する。 埓来、ポゞ型感光性組成物で氎溶性のものは芋
出されおいなか぀た。有機溶媒可溶性のものは知
られおいるが、工業的に倚量に甚いるには、その
溶媒による火炎の危険、人䜓ぞの有毒性などの点
から䜿甚䞊の難点があ぀た。 䟋えば、カラヌ受像管のプヌスプレヌトの内
面にブラツクマトリクスを圢成するには、氎溶性
のポゞ型感光性組成物を甚いれば簡単な方法でブ
ラツクマトリクスを圢成できるにもかかわらず、
そのような組成物がないため぀ぎのような耇雑な
方法によ぀お行われおいる。 すなわち、氎溶性ネガ型感光性組成物の氎溶液
のカラヌ受像管プヌスプレヌト内面に塗垃し、
也燥、露光、珟像、也燥、さらにカヌボン分散液
の塗垃、也燥、感光性組成物の剥離、也燥の工皋
を経おブラツクマトリクスが圢成されおいる。こ
の方法には、工皋が耇雑であるこず、感光性組成
物の珟像および剥離に倚量の氎を必芁ずするこず
等の問題点があ぀た。 本発明の目的は、新芏な氎溶性ポゞ型感光性組
成物及びそれを甚いたポゞ型のパタヌン圢成法を
提䟛するこずにある。 本発明の他の目的は、簡単な方法でカラヌ受像
管のブラツクマトリクスを補造する方法を提䟛す
るこずにある。 本発明の組成物は、氎溶性芳銙族ゞアゟニりム
塩、氎溶性プノヌル類及び氎溶液高分子化合物
を含むこずを特城ずする。 プノヌル類は、芳銙族ゞアゟニりム塩モル
に察しお0.1モルから1.5モルの範囲であるのが奜
たしい。たた高分子化合物は、プノヌル類及び
芳銙族ゞアゟニりム塩の合蚈量に察し、重量比で
0.5からの範囲であるのが奜たしく、から
の範囲であるのがより奜たしい。 これらの氎溶性芳銙族ゞアゟニりム塩ずしお
は、−ゞメチルアミノベンれンゞアゟニり
ム−クロリド・塩化亜鉛、−ゞ゚チルアミノ
ベンれンゞアゟニりム−クロリド・塩化亜鉛、
−−゚チル−−ヒドロキシ゚チルアミノ
ベンれンゞアゟニりム−クロリド・塩化亜鉛、
−ゞメチルアミノ−−メトキシベンれンゞア
ゟニりム−クロリド・塩化亜鉛、−メトキシベ
ンれンゞアゟニりム−クロリド・塩化亜鉛、−
プニルアミノベンれンゞアゟニりム−酞性
硫酞塩、−ゞメチルアミノベンれンゞアゟ
ニりム−テトラフルオロホり酞塩、−ゞ゚チ
ルアミノベンれンゞアゟニりム−テトラフルオ
ロホり酞塩などがある。 これらのうち、番目、番目、番目及び
番目に蚘茉したゞアゟニりム塩は、ずくに奜たし
いものである。これらのゞアゟニりム塩は、皮
以䞊混合しお甚いるこずができる。 氎溶性プノヌル類ずしおは、ヒドロキノン、
カテコヌル、レゟルシン、ピロガロヌル、没食子
酞などの倚䟡プノヌル又はその誘導䜓若しくは
−ナフトヌル−−スルフオン酞ナトリりム、
−ナフトヌル−−ゞスルフオン酞二ナト
リりムなどである。 これらのうち、倚䟡プノヌル又はその誘導
䜓、䟋えばヒドロキノン、カテコヌル、レゟルシ
ン、ピロカロヌルは、ずくに奜たしいものであ
る。これらのプノヌル類は、皮以䞊混合しお
甚いるこずができる。 氎溶性高分子化合物ずしおは、ポリビニルピロ
リドン、アクリルアミド・ゞアセトンアクリルア
ミド共重合䜓、ヒドロキシプロピル・メチルセル
ロヌス、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコ
ヌル、れラチン、ポリ゚チレンオキサむド及びこ
れらの高分子化合物の共重合䜓、誘導䜓で氎溶性
を瀺すものなどである。誘導䜓ずしおは、䟋えば
ポリビニルアルコヌルの䞀郚アセタヌル化物など
がある。 これらの高分子化合物のうち、ポリビニルピロ
リドン、アクリルアミド・ゞアセトンアクリルア
ミド共重合䜓、ヒドロキシプロピル・メチルセル
ロヌスはずくに奜たしい。これらの高分子化合物
は皮以䞊混合しお甚いるこずができる。 この感光性組成物を基板に塗垃しお塗膜ずし、
これに玫倖線等の化孊攟射線を甚いた図圢状の露
光を行い、アンモニア蒞気などのアルカリ性のガ
ス又は液に觊れさせた埌、氎掗するず、未露光郚
分の塗膜は氎に䞍溶化あるいは難溶化しお基板䞊
に残留するのに察しお、露光郚分の塗膜はほずん
ど完党に基板䞊から陀去され、パタヌンが圢成さ
れる。 それ故けい光䜓のパタヌンを圢成するなどの堎
合は、通垞の感光性組成物の堎合ず同じように、
本発明の感光性組成物の氎溶液に実質的に光を通
過せしめうる粉䜓を混合しスラリヌずし、䞊蚘の
凊理を行えばよい。 さらに本発明方法においお粉䜓のパタヌンを圢
成するに、぀ぎのような方法をずるこずができ
る。 すなわち、露光埌の塗膜に、奜たしくはアルカ
リ性のガス又は液に接觊させたのち、粉䜓ず塗膜
ずを接觊させるず未露光郚分に粉䜓が付着したパ
タヌンが埗られる。埓぀お、粉䜓ずしおカヌボン
を甚いおカラヌ受像管のプヌスプレヌトの内面
にブラツクマトリツクスを圢成するこずができ
る。 粉䜓ずしお実質的に也燥した粉䜓を甚い、粉䜓
を塗膜䞊に散垃しおもよく、たた粉䜓の分散液を
甚い、その分散液を塗膜䞊に塗垃しおもよい。䞀
般に分散液ずしお甚いた方が密床高く粉䜓を付着
させるこずができるので奜たしい。 アルカリ性の蒞気又は液ずしおは、アンモニア
ガス、有機アミンのガスのようにガス状のものを
甚いるのが奜たしい。アルカリ性の液、䟋えばア
ンモニア氎などを甚いるず、その濃床がうすいず
きは反応が進行する前に塗膜が溶解し始める。た
た逆にあたり濃床が濃いずきは反応が䞍均䞀に進
行する。それ故反応の制埡に十分泚意する必芁が
生じるためである。 たた粉䜓の塗膜ぞの接觊工皋は、氎掗工皋の前
でも埌でも可胜である。しかし、氎掗工皋のあず
に行぀た堎合は、粉䜓の䞀郚は露光郚にも残留す
るのでこれを陀去するこずが必芁である。䟋えば
さらに氎掗するずか、あるいは也燥した粉䜓を甚
いる堎合には気䜓を吹き぀けるなどの操䜜を行
う。たた堎合によ぀おはこのような操䜜を行぀お
も露光郚にわずかに粉䜓が残り、倚少“かぶり”
のあるパタヌンしか埗られないこずがある。䞀
方、氎掗工皋の前に又はそれず同時に粉䜓の塗膜
ぞの接觊を行うず、粉䜓は露光郚においお盎接基
板に付着しないで塗膜䞊に付着する。それ故氎掗
工皋で露光郚の塗膜が溶解する際に、この郚分に
付着しおいた粉䜓も流出し、粉䜓は露光郚にはほ
ずんど付着せず、非露光にのみ付着した良奜なパ
タヌンが埗られる。埓぀お、粉䜓の塗膜ぞの接觊
工皋は、氎掗工皋の前か、それず同時に行うの奜
たしい。 粉䜓の塗膜ぞの接觊工皋は、アルカリ性のガス
又は液を塗膜に接觊させる前に行うこずもでき
る。この堎合、粉䜓の分散液を甚いるず未露光郚
の塗膜も氎溶性であるため、塗膜が分散液の溶媒
に溶解しおしたう。それ故、この堎合は実質的に
也燥した粉䜓を甚いるこずが必芁である。たたこ
の堎合、粉䜓ずしおカヌボンような光吞収性物質
を甚い、これを厚く塗垃するず、光を照射しおも
塗膜に十分な露光量を䞎えるこずが困難である。
それ故、塗垃された粉䜓局が実質的に光を通過せ
しめる皋床の厚みであるか又は実質的に光通過性
の粉䜓からなる局であるこずが必芁である。 本発明の方法においお、未露光郚分ず露光郚分
ずの間に、感光性組成物塗膜の溶解性の差が生ず
る理由は、぀ぎのように考えられる。未露光郚分
の塗膜䞭においおは、アンモニアによ぀お雰囲気
がアルカリ性にな぀たずきに、ゞアゟニりム化合
物がプノヌルず反応しお非氎溶性又は難氎溶性
の物質を生ずる反応が起るのに察しお、露光郚分
の塗膜䞭においおは、露光によるゞアゟニりム化
合物の枛少のために、そのような反応がわずかし
か、あるいはた぀たく起らないこずにある。 アルカリ性雰囲気䞭におけるゞアゟニりム塩ず
プノヌル類ずの反応の䞻なものは、぀ぎに䟋を
瀺すようなカツプリング反応ず酞化還元反応ずが
ある。 前述のプノヌル類のうち、レゟルシン及び
−ナフトヌル誘導䜓は、ほずんどカツプリング反
応のみを起す。䞀方ヒドロキノンは、ほずんど酞
化還元反応のみを起す。たたカテコヌル、ピロガ
ロヌル及び没食子酞は、カツプリング反応ず酞化
還元反応の䞡方を起す。 䞊蚘反応のいずれによ぀おも氎に䞍溶性の化合
物が生成する。このずき、氎溶性高分子化合物が
共存するず、その高分子化合物党䜓又は䞀郚分も
氎に䞍溶性ずなる。その機構は、高分子化合物ず
䞊蚘非氎溶性反応生成物ずの盞溶性が良奜であ぀
お、䞡者の均質混合物が生成し、それが氎に䞍溶
性であるこずによるず考えられる。 以䞋実斜䟋を甚いお本発明を説明する。 実斜䟋  ぀ぎに瀺す組成の氎溶液を調合した。 −ゞメチルアミノベンれンゞアゟニりム
−クロリド・塩化亜鉛  0.356、ヒドロキノ
ン  0.110、ポリ−ビニルピロリドン


0.5、氎29。 この溶液をcm×cmのガラス板に400rpm
の回転数で回転塗垃し、熱颚也燥しお、塗膜を
䜜぀た第図。この塗膜に、500W超高圧氎
銀灯から玄50cm離れた䜍眮においお、氎銀灯の光
をシダドりマスクを通しお、40秒間照射した
第図。぀ぎに、塗膜を濃アンモニア氎から発
生する蒞気に玄秒間觊れさせた埌に、カヌボン
分散液日立粉末冶金補ヒタゟヌル−72B、登
録商暙に浞し、盎ちに匕き䞊げ也燥するこずな
く氎掗した。この操䜜によ぀お、ガラス板衚面の
未露光郚分にのみカヌボンが付着しお黒色被膜
を圢成した第図。 実斜䟋  ぀ぎに瀺す組成の氎溶液を調合した。 −ゞメチルアミノベンれンゞアゟニりム
−クロリド・塩化亜鉛  0.356、レゟルシン


0.110、ポリ−ビニルピロリドン 

0.5、氎  29。 この溶液をcm×cmのガラス板に、
400rpmの回転数で回転塗垃し、熱颚也燥しお塗
膜を䜜぀た第図。この塗膜に、実斜䟋
ず同様の露光およびアンモニア凊理を行い、盎ち
に氎掗した。この操䜜によ぀お、ガラス板衚面の
未露光郚分にわずかに赀色を垯びた塗膜が残
り、露光郚分の塗膜はほずんど完党に陀去された
第図。 実斜䟋  実斜䟋ず同じ組成の氎溶液を調合し、実斜䟋
ず同様の操䜜を行うず未露光郚分にカヌボンが
付着した黒色被膜が圢成された第図。 実斜䟋  次に瀺す組成の氎溶液を調合した。 −ゞメチルアミノベンれンゞアゟニりム
−クロリド・塩化亜鉛  0.356、ピロカロヌ
ル  0.126、ポリ−ビニルピロリドン


0.5、氎  29。 実斜䟋ず同様の操䜜を行うず、未露光郚分に
黒赀色の塗膜が残り、露光郚分の塗膜は陀去さ
れた第図。 実斜䟋  次に瀺す組成の氎溶液を調合した。 −−゚チル−−ヒドロキシ゚チルアミ
ノベンれンゞアゟニりム−クロリド・塩化亜鉛


0.332、ヒドロキノン  0.110、ポリ
−ビニルピロリドン  0.5、氎29。 実斜䟋ず同様の操䜜を行うず、ガラス板衚面
の未露光郚分にのみカヌボンが付着しお黒色被膜
を圢成した第図。 実斜䟋  次に瀺す組成の氎溶液を調合した。 −ゞ゚チルアミノベンれンゞアゟニりム
−クロリド・塩化亜鉛  0.316、ヒドロキノ
ン  0.110、ポリ−ビニルピロリドン


0.5、氎  29。 実斜䟋ず同様の操䜜を行うず、未露光郚分の
みカヌボンが付着しお黒色被膜を圢成した第
図。 実斜䟋  次に瀺す組成の氎溶液を調合した。 −プニルアミノベンれンゞアゟニりム
−酞性硫酞塩  0.300、ヒドロキノン  
0.110、ポリ−ビニルピロリドン  0.5
、氎  29。 実斜䟋ず同様の操䜜を行うず、未露光郚分に
のみカヌボンが付着しお黒色被膜を圢成した。 実斜䟋 〜13 −ゞメチルアミノベンれンゞアゟニりム
−クロリド・塩化亜鉛0.356、ヒドロキノン
0.110、氎59及び衚に蚘茉の高分子化合物
よりなる組成の氎溶液をそれぞれ調合した。
【衚】
【衚】 これらの氎溶液を甚いお実斜䟋ず同様の操䜜
を行い、ガラス板衚面の未露光郚分にのみ、カヌ
ボンが付着した黒色被膜を圢成した。 実斜䟋 14 実斜䟋ず同様の組成物を甚い、同様に塗膜圢
成、露光、アンモニア接觊埌、実質的に也燥した
粉末を散垃し、以䞋氎掗、也燥した。この堎合
も、未露光郚にのみカヌボンが付着した黒色被膜
が埗られた。
【図面の簡単な説明】
第図、第図、第図及び第図は本発明を
説明するための図である。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  氎溶性芳銙族ゞアゟニりム塩、氎溶性プノ
    ヌル類及び氎溶性高分子化合物からなるこずを特
    城ずする氎溶性ポゞ型感光性組成物。  䞊蚘氎溶性プノヌル類が倚䟡プノヌル、
    その誘導䜓及びナフトヌル誘導䜓からなる矀から
    遞ばれた少なくずも䞀皮の化合物である特蚱請求
    の範囲第項蚘茉の感光性組成物。  䞊蚘氎溶性プノヌル類がヒドロキノン、カ
    テコヌル、レゟルシン、ピロガロヌル、没食子
    酞、−ナフトヌル−−スルフオン酞塩、−
    ナフトヌル−−ゞスルフオン酞塩、からな
    る矀から遞ばれた少なくずも䞀皮の化合物である
    特蚱請求の範囲第項蚘茉の感光性組成物。  䞊蚘氎溶性高分子化合物がポリビニルピロリ
    ドン、アクリルアミド・ゞアセトンアクリルアミ
    ド共重合䜓、ヒドロキシプロピル・メチルセルロ
    ヌス、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコヌ
    ル、れラチン、ポリ゚チレンオキサむド及びこれ
    らの共重合䜓又は誘導䜓の氎溶性化合物からなる
    矀から遞ばれた少なくずも䞀皮の高分子化合物で
    ある特蚱請求の範囲第項から第項たでのいず
    れかに蚘茉の感光性組成物。  䞊蚘氎溶性プノヌル類の量は、䞊蚘氎溶性
    芳銙族ゞアゟニりム塩モルに察し、0.1モルか
    ら1.5モル範囲である特蚱請求の範囲第項から
    第項たでのいずれかに蚘茉の感光性組成物。  䞊蚘氎溶性高分子化合物の量は、䞊蚘氎溶性
    プノヌル類ず䞊蚘氎溶性芳銙族ゞアゟニりム塩
    ずの合蚈量に察し、重量比で0.5からの範囲で
    ある特蚱請求の範囲第項から第項たでのいず
    れかに蚘茉の感光性組成物。  䞊蚘氎溶性芳銙族ゞアゟニりム塩は、−
    ゞメチルアミノベンれンゞアゟニりム−クロ
    リド・塩化亜鉛、−ゞ゚チルアミノベンれ
    ンゞアゟニりム−クロリド・塩化亜鋭、−
    −゚チル−−ヒドロキシ゚チルアミノベンれ
    ンゞアゟニりム−クロリド・塩化亜鉛、−ゞ
    メチルアミノ−−メトキシベンれンゞアゟニ
    りム−クロリド・塩化亜鉛、−メトキシベンれ
    ンゞアゟニりム−クロリド・塩化亜鉛、−フ
    ゚ニルアミノベンれンゞアゟニりム−酞性硫酞
    塩、−ゞメチルアミノベンれンゞアゟニり
    ム−テトラフルオロホり酞塩、−ゞ゚チルア
    ミノベンれンゞアゟニりム−テトラフルオロホ
    り酞塩からなる矀から遞ばれた少なくずも䞀皮ゞ
    アゟニりム塩である特蚱請求の範囲第項から第
    項たでのいずれかに蚘茉の感光性組成物。  氎溶性芳銙族ゞアゟニりム塩、氎溶性プノ
    ヌル類及び氎溶性高分子化合物からなる氎溶性感
    光性組成物を基板䞊に塗垃し塗膜ずする第工
    皋、䞊蚘塗膜に所定のパタヌンを有する化孊攟射
    線を照射し露光する第工皋、䞊蚘塗膜にアルカ
    リ性の気䜓又は液を接觊させる第工皋及び䞊蚘
    塗膜を珟像する第工皋よりなるこずを特城ずす
    るポゞ型パタヌンの圢成法。  䞊蚘氎溶性プノヌル類が倚䟡プノヌル、
    その誘導䜓及びナフトヌル誘導䜓からなる矀から
    遞ばれた少なくずも䞀皮の化合物である特蚱請求
    の範囲第項蚘茉のパタヌンの圢成法。  䞊蚘氎溶性プノヌル類がヒドロキノン、
    カテコヌル、レゟルシン、ピロガロヌル、没食子
    酞、−ナフトヌル−−スルフオン酞塩、−
    ナフトヌル−−ゞスルフオン酞塩、からな
    る矀から遞ばれた少なくずも䞀皮の化合物である
    特蚱請求の範囲第項蚘茉のパタヌンの圢成法。  䞊蚘氎溶性高分子化合物がポリビニルピロ
    リドン、アクリルアミド・ゞアセトンアクリルア
    ミド共重合䜓、ヒドロキシプロピル・メチルセル
    ロヌス、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコ
    ヌル、れラチン、ポリ゚チレンオキサむド及びこ
    れらの共重合䜓又は誘導䜓の氎溶性化合物からな
    る矀から遞ばれた少なくずも䞀皮の高分子化合物
    である特蚱請求の範囲第項から第項たでの
    いずれかに蚘茉のパタヌンの圢成法。  䞊蚘氎溶性プノヌル類の量は、䞊蚘氎溶
    性芳銙族ゞアゟニりム塩モルに察し、0.1モル
    から1.5モルの範囲である特蚱請求の範囲第項
    から第項たでのいずれかに蚘茉のパタヌンの
    圢成法。  䞊蚘氎溶性高分子化合物の量は、䞊蚘氎溶
    性プノヌル類ず䞊蚘氎溶性芳銙族ゞアゟニりム
    塩ずの合蚈量に察し、重量比で0.5からの範囲
    である特蚱請求の範囲第項から第項たでの
    いずれかに蚘茉のパタヌンの圢成法。  䞊蚘第工皋は、アルカリ性の気䜓に接觊
    させるこずによ぀お行われる特蚱請求の範囲第
    項から第項たでのいずれかに蚘茉のパタヌン
    の圢成法。  䞊蚘アルカリ性の気䜓はアンモニアガスで
    ある特蚱請求の範囲第項蚘茉のパタヌンの圢
    成法。  䞊蚘アルカリ性の気䜓は有機アミンの気䜓
    である特蚱請求の範囲第項蚘茉のパタヌンの
    圢成法。  䞊蚘第工皋ののちに、粉䜓を䞊蚘塗膜に
    付着させるために、䞊蚘塗膜ず接觊させる工皋を
    さらに含むこずを特城ずする特蚱請求の範囲第
    項から第項たでのいずれかに蚘茉のパタヌン
    の圢成法。  䞊蚘粉䜓は、分散液の状態で䞊蚘塗膜ず接
    觊させる特蚱請求の範囲第項蚘茉のパタヌン
    の圢成法。  䞊蚘粉䜓は、実質的に也燥した状態で䞊蚘
    塗膜ず接觊させる特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    パタヌンの圢成法。  䞊蚘粉䜓を䞊蚘塗膜ず接觊させる工皋は、
    䞊蚘第工皋ず実質的に同時に行う特蚱請求の範
    囲第項から第項たでのいずれかに蚘茉の
    パタヌンの圢成法。  䞊蚘粉䜓を䞊蚘塗膜ず接觊させる工皋は、
    䞊蚘第工皋の前に行う特蚱請求の範囲第項
    から第項たでのいずれかに蚘茉のパタヌンの
    圢成法。  䞊蚘第工皋ののち、䞊蚘第工皋の前
    に、粉䜓を䞊蚘塗膜に付着させるために、実質的
    に也燥した状態の粉䜓を䞊蚘塗膜に接觊させる工
    皋をさらに含むこずを特城ずする特蚱請求の範囲
    第項から第項たでのいずれかに蚘茉のパタ
    ヌンの圢成法。
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