JPWO2024253203A5

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Publication number: JPWO2024253203A5
Application number: JP2025526173A
Authority: JP
Filing date: 2024-06-07
Publication date: 2025-11-05

Description

すなわち、本発明は、以下の態様を含む。
［１］下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）のいずれかで表される少なくとも１つ以上の化合物と、ポリイソシアネート化合物と、を含有するポリイソシアネート組成物。
（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、１価の有機基である。Ｒ^１及びＲ^２は互いに独立して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。Ｒ^３は脂肪族炭化水素基又は芳香族基を有する炭化水素基である。）
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ^２１０は１価の有機基であり、Ｒ^２２０、Ｒ^２３０、Ｒ^２４０及びＲ^２５０はそれぞれ独立に、１価の有機基又は水素である。Ｒ^２１０及びＲ^２２０は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。）
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^３１０は（ｎ＋ｍ）価の有機基であり、ｎは０以上１２以下の整数であり、ｍは１以上１２以下の整数であり、ｎ＋ｍが１３以下の整数であり、Ｒ^３２０及びＲ^３３０はそれぞれ独立に、１価の有機基である。Ｒ^３２０及びＲ^３３０は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。Ｒ^３２０及びＲ^３３０のうち少なくとも１つは芳香族基を有する。）
［２］前記ポリイソシアネート化合物の全質量を基準として、１．０質量ｐｐｍ以上１．０×１０^４質量ｐｐｍ以下の前記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）のいずれかで表される少なくとも１つ以上の化合物を含有する、［１］に記載のポリイソシアネート組成物。
［３］下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）のいずれか一方又は両方で表される構造を有する化合物の存在下で、ブロックイソシアネート化合物を熱処理によって、ブロック剤とイソシアネート化合物とに分解し、イソシアネート化合物を得る反応工程を含む、イソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、１価の有機基である。Ｒ^１及びＲ^２は互いに独立して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。Ｒ^３は脂肪族炭化水素基又は芳香族基を有する炭化水素基である。）
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ^２１０は１価の有機基であり、Ｒ^２２０、Ｒ^２３０、Ｒ^２４０及びＲ^２５０はそれぞれ独立に、１価の有機基又は水素である。Ｒ^２１０及びＲ^２２０は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。）
［４］前記ブロック剤が、ヒドロキシ化合物、アミン化合物及びアンモニアからなる群より選ばれる１種類以上の化合物を含む、［３］に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
［５］前記イソシアネート化合物が、下記一般式（ＩＶ）で表されるイソシアネート化合物である、［３］又は［４］に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（ＩＶ）中、Ｒ^２１は、ｎ２１価の有機基である。ｎ２１は１以上１２以下の整数である。）
［６］前記ブロック剤が、下記一般式（Ｖ）で表される芳香族ヒドロキシ化合物である、［３］又は［４］に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（Ｖ）中、環Ａ^３１は、炭素数６以上２０以下の芳香族炭化水素環である。Ｒ^３１は水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素数１以上２０以下のアルキルオキシカルボニル基、炭素数１以上２０以下のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６以上２０以下のアリール基、炭素数６以上２０以下のアリールオキシ基、炭素数７以上２０以下のアラルキル基、又は炭素数７以上２０以下のアラルキルオキシ基である。Ｒ^３１は、環Ａ^３１と結合して環構造を形成してもよい。また、ｎ３１は１以上１０以下の整数である。）
［７］前記ブロック剤が、下記一般式（ＶＩ）で表される脂肪族ヒドロキシ化合物である、［３］又は［４］に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（ＶＩ）中、Ｒ^４１は、置換又は無置換の、エーテル基、カルボニル基又はエステル基を有してもよい、炭素数１以上２４以下の脂肪族炭化水素基である。）
［８］前記ブロック剤が、下記一般式（ＶＩＩ）で表される第二級アミン化合物である、［３］又は［４］に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ^５１及びＲ^５２はそれぞれ独立に、１価の有機基である。Ｒ^５１及びＲ^５２は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。）
［９］前記反応工程において、前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）のいずれか一方又は両方で表される構造を有する化合物の存在量が前記ブロックイソシアネート化合物に対して１質量ｐｐｍ以上である、［３］又は［４］に記載のイソシアネート化合物の製造方法。

（一般式（ＩＩ）中、Ｒ^２１０は１価の有機基であり、Ｒ^２２０、Ｒ^２３０、Ｒ^２４０及びＲ^２５０はそれぞれ独立に、１価の有機基又は水素である。Ｒ^２１０及びＲ^２２０は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。）

Claims

下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）のいずれかで表される少なくとも１つ以上の化合物と、ポリイソシアネート化合物と、を含有するポリイソシアネート組成物。
（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、１価の有機基である。Ｒ^１及びＲ^２は互いに独立して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。Ｒ^３は脂肪族炭化水素基又は芳香族基を有する炭化水素基である。）
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ^２１０は１価の有機基であり、Ｒ^２２０、Ｒ^２３０、Ｒ^２４０及びＲ^２５０はそれぞれ独立に、１価の有機基又は水素である。Ｒ^２１０及びＲ^２２０は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。）
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^３１０は（ｎ＋ｍ）価の有機基であり、ｎは０以上１２以下の整数であり、ｍは１以上１２以下の整数であり、ｎ＋ｍが１３以下の整数であり、Ｒ^３２０及びＲ^３３０はそれぞれ独立に、１価の有機基である。Ｒ^３２０及びＲ^３３０は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。Ｒ^３２０及びＲ^３３０のうち少なくとも１つは芳香族基を有する。）
前記ポリイソシアネート化合物の全質量を基準として、１．０質量ｐｐｍ以上１．０×１０^４質量ｐｐｍ以下の前記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）のいずれかで表される少なくとも１つ以上の化合物を含有する、請求項１に記載のポリイソシアネート組成物。
下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）のいずれか一方又は両方で表される構造を有する化合物の存在下で、ブロックイソシアネート化合物を熱処理によって、ブロック剤とイソシアネート化合物とに分解し、イソシアネート化合物を得る反応工程を含む、イソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、１価の有機基である。Ｒ^１及びＲ^２は互いに独立して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。Ｒ^３は脂肪族炭化水素基又は芳香族基を有する炭化水素基である。）
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ^２１０は１価の有機基であり、Ｒ^２２０、Ｒ^２３０、Ｒ^２４０及びＲ^２５０はそれぞれ独立に、１価の有機基又は水素である。Ｒ^２１０及びＲ^２２０は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。）
前記ブロック剤が、ヒドロキシ化合物、アミン化合物及びアンモニアからなる群より選ばれる１種類以上の化合物を含む、請求項３に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
前記イソシアネート化合物が、下記一般式（ＩＶ）で表されるイソシアネート化合物である、請求項３又は４に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（ＩＶ）中、Ｒ^２１は、ｎ２１価の有機基である。ｎ２１は１以上１２以下の整数である。）
前記ブロック剤が、下記一般式（Ｖ）で表される芳香族ヒドロキシ化合物である、請求項３又は４に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（Ｖ）中、環Ａ^３１は、炭素数６以上２０以下の芳香族炭化水素環である。Ｒ^３１は水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素数１以上２０以下のアルキルオキシカルボニル基、炭素数１以上２０以下のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６以上２０以下のアリール基、炭素数６以上２０以下のアリールオキシ基、炭素数７以上２０以下のアラルキル基、又は炭素数７以上２０以下のアラルキルオキシ基である。Ｒ^３１は、環Ａ^３１と結合して環構造を形成してもよい。また、ｎ３１は１以上１０以下の整数である。）
前記ブロック剤が、下記一般式（ＶＩ）で表される脂肪族ヒドロキシ化合物である、請求項３又は４に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（ＶＩ）中、Ｒ^４１は、置換又は無置換の、エーテル基、カルボニル基又はエステル基を有してもよい、炭素数１以上２４以下の脂肪族炭化水素基である。）
前記ブロック剤が、下記一般式（ＶＩＩ）で表される第二級アミン化合物である、請求項３又は４に記載のイソシアネート化合物の製造方法。
（一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ^５１及びＲ^５２はそれぞれ独立に、１価の有機基である。Ｒ^５１及びＲ^５２は互いに結合して、炭素－炭素結合、炭素－酸素－炭素結合又は炭素－窒素－炭素結合により環構造を形成していてもよい。）
前記反応工程において、前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）のいずれか一方又は両方で表される構造を有する化合物の存在量が前記ブロックイソシアネート化合物に対して１質量ｐｐｍ以上である、請求項３又は４に記載のイソシアネート化合物の製造方法。