NL8400565A

NL8400565A - Magnetisch registratiemedium.

Info

Publication number: NL8400565A
Application number: NL8400565A
Authority: NL
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date: 1983-02-24
Filing date: 1984-02-23
Publication date: 1984-09-17
Also published as: NL189885B; US4873138A; JPS59154643A; DE3406587A1; DE3406587C2; NL189885C; JPH0479067B2

Description

„ VO 6125

Magnetisch registratiemedium.

De uitvinding heeft betrekking op een magnetisch registratiemedium met een dunne magnetische film als een magnetische registratie-laag. Meer in het bijzonder heeft de uitvinding betrekking op een magnetisch registratiemedium van het dunne metaalfilmtype, dat een 5 betere corrosiebestendigheid, elektromagnetische eigenschappen, loop —.eigenschappen en slijtage-bestendigheid heeft.

Een magnetische registratiemedium van het zogenaamde bekle-dingstype voorzien van een bindmiddel met daarin gedispergeerd ferro-magnetisch poeder, dat als een bekleding op een niet-magnetische 10 ondersteuning is aangebracht, wordt reeds op grote schaal toegepast.

De laatste tijd evenwel bij de steeds strenger wordende eisen, die aan een registratie met grote dichtheid worden gesteld, is aan een magnetisch registratiemedium van het dunne metaalfilmtype, voorzien van een ferromagnetische dunne metaalfilm als magnetische registratie-15 laag, welke ferromagnetische dunne metaalfilm wordt verkregen door een dampneerslagmethode, zoals neerslag in vacuo, spetteren en ionen-galvaniseren, of een galvaniseermethode, zoals elektrisch galvaniseren en niet-elektrisch galvaniseren, meer aandacht geschonken en is deze in de praktijk toegepast.

20 Dit magnetische registratiemedium van het dunne metaalfilm- type is zeer gunstig wat betreft de elektromagnetische eigenschappen aangezien een ferromagnetisch metaal met grote verzadigingsmagnetisa-tie tot een zeer dunne laag kan worden gevormd zonder dat gebruik wordt gemaakt van een niet-magnetisch materiaal, zoals een bindmiddel, 25 waardoor het geheel derhalve geschikt is voor een registratie met grote dichtheid.

Het magnetische registratiemedium van het dunne metaalfilm-type vertoont evenwel het ernstige probleem, dat het metallische oppervlak na verloop van tijd na de vervaardiging daarvan wordt gecorro-30 deerd, hetgeen leidt tot een verslechtering van de elektromagnetische eigenschappen.

Er zijn versdUlerde methoden voorgesteld om dit probleem op te lossen. Eén methode is het aanbrengen van een beschermende laag op het metallische oppervlak door dit te bekleden met thermoplastische 8400555 ï 1 . -2- of thermohardende polymeren zoals beschreven In de Duitse octrooiaanvragen 220964 en 322006, de Britse octrooiaanvrage 2106011A en de Japanse octrooiaanvragen 50128/83 en 158037/82. Deze methode verschaft evenwel geen voldoende corrosiebestendigheid aangezien de dikte van de 5 beschermende laag niet kan worden vergroot in verband met de afstands-demping tussen een kop en de magnetische laag (zie fig. 2). Bovendien is een werkwij ze voor- het nitreren van het oppervlak van de magnetische laag, (zie Japanse octrooiaanvrage 33806/75) en een werkwijze voor het oxyderen van. het oppervlak (zie Japanse.octrooiaanvrage 20025/67) 10 bekend. De voor deze methoden vereiste tijd bedraagt evenwel 10 minuten tot 2 uur; indien de behandelingstijd wordt verkort, kan geen voldoend: anti-corrosieëffect worden verkregen.

Een ander ernstig probleem, dat zich bij het magnetische registratiemedium van het dunne metaalfilmtype voordoet is, dat de 15 loopeigenschappen en de duurzaamheid slecht zijn; het magnetische registratiemedium, hecht zich tijdens de loop aan de baan, waardoor een gelijkmatige loop wordt belet en soms de beweging wordt beëindigd, terwijl de duurzaamheid bij stilstand slecht is.

Als een methode voor het oplossen van het bovenstaande probleem 20 heeft men de dunne ferromagnetische metaalfilm bekleed met thermoplastische of thermohardende polymeren, of smeermiddelen, zoals ali-fatische zuren en esters van alifatische zuren, zoals beschreven in de Japanse octrooiaanvragen 68930/81 en 80827/81. Zelfs wanneer deze methode wordt toegepast, worden de loopeigenschappen soms slechts op 25 een onvoldoende wijze verbeterd, of wordt ook de duurzaamheid soms onvoldoende verbeterd. Om voldoend bevredigende loopeigenschappen en een bevredigende duurzaamheid te verzekeren, is het onvermijdelijk noodzakelijk om de dikte van de bekledingslaag te vergroten. Dit leidt tot de afstandsdemping en tenslotte tot een verslechtering van 30 de elektromagnetische eigenschappen. Het is ook nodig de dikte van de bekledingslaag te vergroten opdat een voldoend bevredigende corrosie-beveiliging kan worden verkregen. Ook hieraan wordt voor de elektromagnetische eigenschappen niet de voorkeur gegeven.

Een oogmerk van de uitvinding is het verschaffen van een 35 magnetisch registratiemedium van het dunne metaalfilmtype met een beschermende laag, waarvan de dikte sterk is gereduceerd, zodat de 8400565 r « -3- afstandsdemping tussen een kop en de magnetische laag tot een minimum kan worden teruggebracht, en welk medium bovendien zeer goed is wat betreft corrosiebeveiliging, loopeigenschappen en duurzaamheid.

Het doel kan worden verkregen door gebruik te maken van een 5 beschermende laag, die een plasmapolymerisatielaag met een dikte van 20 tot 270 A en een smeermiddellaag op de plasmapolymerisatielaag omvat, waarbij de smeermiddellaag bestaat uit ten minste één verbinding, gekozen uit de groep bestaande uit verbindingen met een onverzadigde koolstof-koolstofbinding aan het eind en welke ten minste 8 koolstof-10 atomen bevat.

De uitvinding heeft betrekking op een magnetisch registratiemedium voorzien van een polymers ondersteuning, een dunne ferromag— netische metaalfilm op de polymeerondersteuning, een plasmapolymerisatielaag met een dikte van 20 tot 270 Λ op de dunne film, en een 15 smeerlaag op de plasmapolymerisatielaag, welke smeerlaag bestaat uit ten minste één verbinding met een onverzadigde koolstof-koolstofbinding aan het eind en welke ten minste 8 koolstofatomen bevat.

Pig. 1 toont schematisch een plasmapolymerisatielnrichting van het inwendige-elektrodetype.

20 Pig. 2 toont de relatie tussen de afstand tussen de kop en de magnetische laag en de afstandsdemping.

De plasmapolymerisatielaag volgens de uitvinding heeft een dichte verknopingsstructuur; dat wil zeggen, dat de laag op de dunne metaalfilm wordt gevormd als een laag, welke zeer dicht is en een 25 uniforme dikte heeft. In dit opzicht verschilt de plasmapolymerisatielaag volgens de uitvinding van de gebruikelijke polymere lagen.

In verband met deze structuur belet de plasmapolymerisatielaag op een doeltreffende wijze, dat zuurstof, water, enz., die verantwoordelijk zijn voor corrosie, in aanraking komen met de dunne metaalfilm, of 30 dat deze stoffen de dunne film passeren, en derhalve geeft de laag een betere corrosiebeveiliging. Bovendien kan aangezien de plasmapolymerisatielaag als een zeer dunne laag kan worden uitgevoerd, de afstandsdemping tussen de kop en de magnetische laag tot een minimum worden teruggebracht. Dit maakt de vervaardiging van een magne-35 tisch registratiemedium met goede elektromagnetische eigenschappen mogelijk. Door het aanbrengen van de plasmapolymerisatielaag alleen 8400565 Λ i -4- is het. echter niet mogelijk een magnetisch registratiemedium met voldoend bevredigende loopeigenschappen en een voldoend bevredigende duurzaamheid te verkrijgen.

Het is verrassenderwijze gebleken, dat een magnetisch registxa-5 tiemedium met goede elektromagnetische eigenschappen en uitstekend is wat betreft corrosiebeveiliging, loopeigenschappen en duurzaamheid kan worden verkregen door op de plasmapolymerisatielaag een smeermiddel-laag bestaande- uit een bepaald type verbinding aan te brengen.

Geschikte verbindingen blijken die te zijn, welke aan het eind een 10 onverzadigde koolstof-koolstofbinding hebben en ten minste 8 koolstof-atomen bevatten (deze verbindingen worden hierna soms uitsluitend betiteld als "monomeren")► Het ontstaan van dergelijke uitstekende magnetische registratiemedia wordt beschouwd als een gevolg van de vorming van de smeermiddellaag, die op een sterke wijze met de plasma-15 polymerisatielaag is gebonden door de· reactie van radicaal-actieve plaatsen, die door de plasmapolymerisatie en de onverzadigde koolstof-koolstofbindingen worden verschaft.

Een voordeel van de uitvinding is, dat na de vorming van de plasmapolymerisatielaag de smeermiddellaag daarop kan worden aange-20 bracht door de eerstgenoemde laag door een monomere gasatmosfeer te voeren of daarop een monomeer gas te verstuiven; dat wil zeggen, dat de smeermiddellaag kan worden aangebracht zonder dat een oplosmiddel wordt gebruikt. Overeenkomstig deze methoden worden de handelingen vereenvoudigd en zijn geen extra uitrustingen, zoals een droog-25 inrichting nodig. Bovendien kunnen indien de methode wordt uitgevoerd in combinatie met de dampneerslagmethode, waarbij de dunne metaalfilm bijvoorbeeld in vacuo door neerslaan uit de dampfase wordt gevormd,, de dunne metaalfilm en de beschermende laag achtereenvolgens langs dezelfde lijn worden gevormd zonder dat het vacuüm wordt onder-30 broken. Dit is wat betreft de uitrusting en de economie van voordeel.

verbindingen (hierna betiteld als "verbindingen met laag moleculair gewicht"), die bij de vorming van de plasmapolymerisatielaag kunnen worden gebruikt, omvatten die, welke een dampdruk bij -4 20°C van 10 Ttorr. hebben. Voorkeursverbindingen bezitten een kook-35 punt van 200°C of minder, bij voorkeur 100°C of minder en nog liever 0°C of minder.

8400565 s i -5«

Voorbeelden waaraan de voorkeur wordt gegeven, vindt men hieronder ofschoon het niet de bedoeling is, dat de uitvinding daartoe is beperkt.

(i) Alifatische verzadigde koolwaterstoffen, zoals methaan, 5 ethaan, propaan, butaan, pentaan, hexaan en octaan? (ii) alifatische onverzadigde koolwaterstoffen, zoals etheen, propeen, buteen en hexeen? (iii) aromatische koolwaterstoffen, zoals benzeen, tolueen, xyleen, styreen en ethylbenzeen? 10 ' (iv) verzadigde of onverzadigde halogeenverbindingen, zoals fluormethaan, difluormethaan, trifluormethaan, tetrafluormethaan, difluorethaan, tetrafluoretheen, hexafluorpropeen, tetrafluorsilaan, dichlooretheen en tetrachloorethaan ?

Cv) alcoholen zoals methanol, ethanol, en trifluormethanol; 15 (vi) ketonen zoals aceton en methylethylketon? (vii) ethers, zoals dimethylether, methylethylether en di-ethylether? en (viii) alifatische zuren zoals mierezuur.

Uit deze verbindingen wordt meer in het bijzonder de voorkeur 20 gegeven aan de verbindingen (i) - (iv). Deze verbindingen kunnen alleen of in combinatie met elkaar worden gebruikt.

De inrichting ten gebruike bij plasmapolymerisatie (glim-ontladingspolymerisatie) kan van het niet-elektrode-ontladingstype of van het elektrode-ontladingstype zijn. Bovendien kan gebruik worden 25 gemaakt van een inrichting van het inwendige elektrodetype, waarbij de elektroden in het reactievat zijn opgesteld, en een inrichting van het uitwendige elektrodetype, waarbij de elektroden buiten het reactieveld aanwezig zijn. Bovendien kan gebruik worden gemaakt van een methode om een verbindingsgas met laag moleculairgewicht aan een 30 nagloeiinrichting'toe te voeren (zie Thompson e.a., u. Appln.. Poly.

Sci., 16, 2291 (1972). Meer in het bijzonder wordt de voorkeur gegeven aan de werkwijze waarbij een verbindingsgas met laag moleculairgewicht aan de nagloeiinrichting wordt toegevoerd onder gebruik van de inrichting van het inwendige elektrodetype (zoals aangegeven in fig. 1) 35 aangezien dan op een eenvoudige wijze een stabiel plasma kan worden verkregen.

8400565 » * -6-

In fig. 1 vindt men een plasmapolymerisatielnrichting van het inwendige elektrodetype, welke geschikt is om te worden toegepast bij de vorming van de plasmapolymerisatielaag volgens de uitvinding.

Deze polymerisatieïnrichting omvat een vacuuminrichting (polymerisa-5 tievat), een filmtoevoereenheid 1 en een filmopwikkeleenheid 2, welke in da- vacuuminrichting zijn ondergebracht, en een paar ^.ektrodeplaten 3, welke zodanig zijn opgesteld, dat op een film 4, welke een polymeer-ondersteuning en een daarop aanwezige ferromagnetische dunne- metaal-film omvat,, een plasmapolymerisatielaag kan worden gevormd wanneer de 10 film continu tussen de platen wordt voortbewogen. Koelorganen zoals (niet afgeheelde) koelrollen kunnen in de polymerisatieïnrichting aanwezig zijn om een deformatie van de band tengevolge van een tempe— ratuurverhoging tijdens de plasmapolymerisatie te beletten. De temperatuur in de polymerisatieïnrichting- is gelijk aan de kamertemperatuur 15 (10 tot 50eC). De afstand tussen de elektrodeplaten 3 is niet op een bepaalde wijze begrensd doch varieert in het algemeen van 10 tot 50 mm. Eerst wordt de vacuüminrichting tot een geschikte vacuümgraad leeggepompt door middel van een (niet afgeheelde) vacuümpomp via een uitlaat 5.. Vervolgens wordt aan de vacuuminrichting een verbindingsgas A 20 met laag moleculair gewicht onder een geschikte druk via een gastoevoer 5 toegevoerd nadat het gas een stroommeter 8 en een klep 7 heeft gepasseerd. Indien nodig kan bijvoorbeeld in het verbindingsgas A met laag moleculairgewicht een inert gas B via de stroommeter 8 en de klep 7 gecombineerd worden toegevoerd.

25 De druk van het verbindingsgas met laag moleculairgewicht in -4 het polymerisatievat ligt bij voorkeur tussen 1 en 1 x 10 Torr. en -1 ' -3 liever nog tussen 1 x 10 en 5 x 10 Torr. Indien de druk groter is dan de bovenst genoemde bovengrens, wordt de plasmapolymerisatielaag in de vorm van poeder gevormd of wordt de binnenzijde van het poly-30 merisatievat verontreinigd. Indien daarentegen de druk lager is dan de ondergrens, is- voor de vorming van de plasmapolymerisatielaag een ongewenst lange periode nodig. Indien noodzakelijk, kan in het polymerisatievat een inert gas, zoals stikstof en argon worden gevoerd.

De mengverhouding van het verbindingsgas met laag moleculairgewicht 35 en het inerte gas bedraagt bij voorkeur 1% of meer, liever nog 5% of meer.

8400585 -7-

De oscillatiefrequentie van het plasma is niet kritisch en varieert in het algemeen van 100 Hz tot 20 MHz, en bedraagt bij voorkeur 13,56 MHz. Voorts varieert het elektrisch vermogen voor de plasma-polymerisatie in het algemeen van 10 tot 500 watt. Indien het vermogen 5 te groot is, heeft de resulterende polymerisatielaag de neiging om korrelvormig te worden en indien het vermogen te groot is, neemt het polymerisatierendement af.

He dikte van de plasmapolymerisatielaag varieert bij voorkeur van 20 tot 270 & en liever nog 50 tot 200 A.- Indien de dikte van de 10 plasmapolymerisatielaag voorbij de genoemde bovengrens wordt verhoogd, neemt de afstandsdemping tussen de kop en de magnetische laag op een ongewenste wijze toe. Indien daarentegen de dikte kleiner is dan de ondergrens, wordt de corrosiebescherming gereduceerd en worden de tolerantiegrenzen voor de plasmapolymerisatie-omstandigheden vernauwd. 15 De plasmapolymerisatielaag volgens de uitvinding heeft bij voorkeur een dichtheid van ten minste 1,1, liever 1,4 of meer, ofschoon de uitvinding daartoe niet is beperkt. De hier gebruikte dichtheid wordt bepaald door een dichtheidsgradiêntbuis met n-hexaan en tetrachloormethaan onder gebruik van een poeder van de plasmapolymeri-20 satielaag, welke bijvoorbeeld wordt verkregen door afschrapen van de laag. De dichtheidsgradiênt-buismethode is beschreven in Bemhard Wunderlich, Macromolecular Physics 1, Academic Press pag. 382-383 (1973).

Monomeren ten gebruike bij de vorming van de smeermiddellaag 25 volgens de uitvinding hebben een onverzadigde koolstof-koolstofbinding aan het eind daarvan, en bevatten 8 tot 30 koolstof atomen bij voorkeur 10 tot 24 koolstofatomen. Deze monomeren kunnen afzonderlijk of in combinatie met elkaar worden toegepast. Monomeren waaraan meer de voorkeur wordt gegeven, zijn die met een onverzadigde koolstof-kool-30 stofbinding aan het eind daarvan, die 12 tot 18 koolstof atomen bevatten.

Tot deze voorkeursverbindingen behoren alifatische onverzadigde koolwaterstoffen, die aan het eind daarvan een onverzadigde koolstof-koolstofbinding bevatten, of verbindingen, die een gevolg zijn 35 van een partiële substitutie van de waterstof van de alifatische onverzadigde koolwaterstoffen door fluor? esters van onverzadigde alifatische alcoholen, die aan het eind daarvan een onverzadigde koolstof- 8400565 -8- * fc koolstofbinding bevatten en vetzuren, of verbindingen,. die een gevolg zijn van een partiële· substitutie van de waterstof van de esters door fluor; en esters van onverzadigde vetzuren, die aan het eind daarvan een onverzadigde koolstof-koolstofbinding bevatten en alifatische 5 alcoholen, of verbindingen, die een gevolg zijn van een partiële substitutie van de waterstof van de esters door fluor, mits het aantal koolstof atomen in elke molecuul ten minste 8 bedraagt. Voorkeurs— voorbeelden zijn 1-octeen, 1-deceen, t-dodeceen, 1-tetradeceen, 1-pentadeceen, 1-octadeceen, 1-eicoseen, 2,4-dimethy 1-1-hepteen, 10 vinylcaprylaat, vinyllauraat, vinylmyristaat, vinylpalmitaat, vinyl- stearaat, allyllauraat, allyloleaat, decylacrylaat, dodecylacrylaat, tetradecylacrylaat, octadecylacrylaat,· tetradecylmethacrylaat, hexyl— 4-pentenaat, en verbindingen, verkregen door alle of sommige van de waterstofatomen van de bovenstaande verbindingen door fluor te ver— 15 vangen.. Hiertoe behoren 1-dodeceen, vinyllauraat, vinylcaprylaat, decylacrylaat en die, verkregen door alle of sommige van. de waterstofatomen door fluor te vervangen.

Na de vorming van de plasmapolymerisatielaag wordt de smeer— middellaag daarop aangebracht bijvoorbeeld door de onderstaande 20 methoden: (1) een werkwijze waarbij de monomeer in gasvormige toestand (gasvormige monomeerooncentratie: bij voorkeur 0,1 tot 10%) onder atmosferische druk wordt gesproeid; (2) een werkwijze waarbij de plasmapolymerisatielaag in aan-25 raking wordt gebracht met een monomeergas (gasdruk: bij voorkeur 0,01 tot 10 Torr.) onder gereduceerde druk, waarbij een inert gas, zoals stikstof en argon tezamen kunnen worden toegevoerd en de con-tacttijd bij voorkeur 1 tot 30 seconden per punt van de plasmapolymerisatielaag bedraagt ; 30 (3) een werkwijze waarbij de monomeer als zodanig als bekleding wordt opgebracht of nadat deze is verdund met organische oplosmiddelen met een kookpunt van 120®C of minder (bijvoorbeeld aceton, methyl-ethylketon, hexaan, ethylacetaat, enz.) bij voorkeur in een concentratie van 0,01 tot 10 gew.%, waarbij de hoeveelheid bekledingsmate- 2 35 riaal bij voorkeur 0,5 tot 50 mg/m (monomeer) bedraagt.

8400565 * *· -9-

Van deze methoden is de bovenstaande methode (2) het meest gunstig en wordt voorzien in een smeermiddellaag, die zeer dun is en goede loopeigenschappen bezit. De dikte van de smeermiddellaag varieert van 1 tot 100 A en bij voorkeur 5 tot 30 A.

i 5 Het is niet steeds nodig, dat de smeermiddellaag volgens de uitvinding een uniforme laagstructuur heeft, meer in het bijzonder bij de werkwijze- (3).

Polymeerondersteuningen, welke kunnen worden toegepast, omvatten celluloseacetaat, cellulosenitraat, ethylcellulose, methyl-10 cellulose, polyamiden, polymethylmethacrylaat, polytetrafluoretheen, polytrifluoretheen, homo- en copolymeren van α-olefinen, zoals etheen en propeen, homo— en copolymeren van vinylchloride, polyvinylideen— chloride, polycarbonaten, polyimiden, polyamidoimiden, en polyesters, zoals polyetheentereftalaat en polyetheennaftalaat. Van deze stoffen 15 worden polyamiden, polyimiden, polyetheentereftalaat en polyetheennaftalaat bij voorkeur toegepast. De ferromagnetische dunne metaal-film volgens de uitvinding wordt gevormd door neerslaan uit de damp— fase of door galvaniseren. De dampneerslagmethode is een procedure, waarbij een stof of verbinding, die tot een dunne film moet worden 20 gevormd, als een damp of geïoniseerde damp in een atmosfeer van een inert, gas of inerte gassen, zoals zuurstof, of een vacuüm, wordt gevormd of geïntroduceerd, en daarna als een film op een geschikte ondersteuning wordt neergeslagen. De dampneerslagmethode omvat een vacuum— neerslagmethode, een spettermethode, een ionenplatteermethode, een 25 ionenbundelneerslagmethode en een chemische gasfaseplatteermethode.

De pïatteermethode is een procedure, waarin de stof als een dunne film op de ondersteuning wordt gevormd uit een vloeistof fase, zoals een elektrische galvaniseermethode en een niet-elektrolytische galvaniseer-methode. Deze methoden zijn beschreven in de Amerikaanse octrooi-30 schriften 4.287.225, 3.438.885 en 3.843.420.

Materialen, welke kunnen worden gebruikt bij de vorming van de ferromagnetische dunne metaalfilms omvatten ferromagnetische metalen, zoals Fe, Co en Ni en de legeringen’ daarvan, en Fe-Si,

Fe-Rh, Fe-V, Fe-Ti, Co-P, Co-B, Co-Si, Co-V, Co-Y, Co-Sm, Co-Mn, 35 Co-Ni-P, Co-Ni-B, Co-Cr, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Ag, Co-Ni-Pd, Co-Ni-Zn, Cö-Cu, Co-Ni-Cu, Co-W, Co-Ni-W, Co-Mn-P, Co-Sm-Cu, Co-Ni-Zn-P,

Co-V-Cr, enz. Meer in het bijzonder bevatten de ferromagnetische dunne 8400565 -10- metaalfilms bij voorkeur ten minste 50 gew.% aan Co.

De dikte van de ferromagnetische dunne film voor het magnetische registratiemedium volgens de uitvinding varieert in het algemeen van 0,02 tot 5 ym en bij voorkeur van 0,05 tot 2 ym. De dikte 5 van de polymeer-ondersteuning varieert bij voorkeur van 4 tot 50 ym.

Om de hechting van. de ferromagnetische dunne metaalfilm te vergroten en de magnetische· eigenschappen daarvan te verbeteren, kan op de polymeerondersteuning een onderliggende bekledingslaag worden- aangebracht. Op de polymeerondersteuning kan aan de zijde tegenover de 10 magnetische laag een achterste bekledingslaag worden aangebracht.

Hét magnetische registratiemedium volgens de uitvinding kan elke willekeurige vorm hebben, bijvoorbeeld de vorm van een band, een vel, een kaart, en een schijf. Het verdient meer in het bijzonder de voorkeur wanneer het magnetische registratiemedium de vorm van een 15 band heeft.

De uitvinding zal thans meer gedetailleerd worden beschreven onder verwijzing naar de hierna volgende voorbeelden en vergelijkende-voorbeelden ofschoon het niet de bedoeling is dat de uitvinding daartoe is beperkt. Alle delen zijn gewichtsdelen.

20 Een. filmonderdeel met een polyetheentereftalaatfilm met een dikte van 12 ym en een magnetische Co-Ni-film (Ni: 20 gew.%: film- O .

dikte: 1000 A) aangebracht op de polyetheentereftalaatfilm door een schuine vacuumneerslag, werd bij de volgend proef gebruikt.

Op het filmonderdeel werd door de volgende methoden een plas-25 mapolymerisatielaag aangebracht: (1) In. de in fig. 1 afgeheelde inrichting vond een plasma-polymer isatie onder zodanige omstandigheden plaats, dat de verhouding van het CH. gas tot het N„ gas 1/10 bedroeg, de druk van het CH. gas -44 λ -2 9,1 x 10 Torr. bedroeg, de druk in het polymerisatievat 1 x 10 Torr.

30 bedroeg en de verblijftijd tussen de elektroden bij 50 watt 10 seconden bedroeg. De dikte van de plasmapolymerisatielaag bedroeg 100 A. Dit wordt aangeduid als "Monster· No. 1".

(2) In de in fig. 1 afgeheelde inrichting vond de plasma-polymerisatie onder zodanige omstandigheden plaats, dat de verhouding 35 van CF =CF- gas tot N gas 1/10 bedroeg, de druk van CF =CF gas ^ -4^ ^ ^ * 3 4,5 x 10 Torr. bedroeg, de druk in het polymerisatievat 5 x 10 Torr.

8400565 ♦ -11- bedroeg en de verblijftijd tussen de elektroden bij 50 watt 10 seconden bedroeg, De dikte van de plasmapolymerisatielaag bedroeg 100 A.

Dit wordt aangeduid als "Monster No. 2".

VOORBEELD I

5 Na de vorming van de plasmapolymerisatielaag voor Monster No. 1, werd de plasmaontlading beëindigd. De druk in het polymerisatievat werd ingesteld op 1 Torr. onder gebruik van 1-dodeceen en het monster werd opnieuw gewikkeld. De tijd gedurende welke het monster aan 1-dodeceen tijdens het hernieuwd wikkelen werd blootgesteld, werd in-10 gesteld op 10 seconden.

VOORBEELD II

Monster No. 1 werd bij atmosferische druk gebracht en opnieuw opgewikkeld, waarbij door middel van een luchtstroom vinyllauraat werd gesproeid. Dit wordt aangeduid met "Monster No. 4".

15 VOORBEELD III

Monster Nb. 1 werd in de lucht gebracht. Daarna werd het monster opnieuw in de in fig. 1 afgeheelde inrichting geplaats en opnieuw gewikkeld'in een atmosfeer van CH^CHC^ (CF^) gCF^ bij een druk van 0,5 Torr. en wel op een zodanige wijze, dat de blootstellingstijd 20 10 seconden bedroeg. Dit wordt aangeduid met "Monster No. 5".

VOORBEELD IV

Monster Nb. 2 werd bij atmosferische druk gebracht en daarna bekleed met een 0,1% oplossing van 1-tetradeceen in methylethylketon.

Dit wordt aangeduid als "Monster Nb, 6".

25 VERGELIJKENDE VOORBEELDEN 1 en 2

Monsters No. 1 en 2 werden als zodanig geëvalueerd.

VERGELIJKEND VOORBEELD 3

Een 0,1% oplossing van palmetinezuur in methylethylketon werd op Monster No. 1 als een bekleding aangebracht voor het verkrijgen van 30 Monster No. 7.

VERGELIJKEND VOORBEELD 4

Een 0,1% oplossing van een vinylchloride-vinylacetaatcopoly-meer in methylethylketon werd als een bekleding op het filmonderdeel aangebracht en gedroogd zonder toepassing van plasmapolymerisatie voor 35 het verkrijgen van Monster No. 8.

8400565 ·*

« V

-12- VERGELIJKEND VOORBEELD 5

Het filmonderdeel werd voor het toepassen van de plasma-polymerisatie geëvalueerd. Dit wordt aangeduid als "Monster No. 9". VERGELIJKEND VOORBEELD 6 5 Monster No. 8 werd gedurende 10 seconden bij een druk van 1 Torr. blootgesteld aan 1-dodeceen voor het verkrijgen van Monster No. 10.

VOORBEELD V

De Monsters No. 11 tot 15 werden op dezelfde wijze als bij 10 voorbeeld I bereid behalve, dat filmonderdelen, gereed gemaakt onder gebruik van verschillende verblijftijden tussen de elektroden, als hierna aangegeven, werden toegepast.

Verblijftijd (seconden) Monster Nb.

50 11 15 25 12 5 13 .

2 14 1. 15

De Monsters No. 1 tot 15 werden aan proeven onderworpen, 20 welke hierna zullen worden beschreven. De resultaten zijn aangegeven 'in tabel 1.

1. Corrosiebeveiliging

Men liet elk monster gedurende 7 dagen bij 60°C en 80% RH verblijven. Aan het eind van deze tijd werd de corrosie met het blote 25 oog onderzocht.

2. Loopeigenschappen

Elk monster werd op een breedte van 13 mm gesneden en gemonteerd in een videobandregistratielnrichting voor huisgebruik ("NV 8310", vervaardigd door Matsushita Denki Sangyo Co., Ltd.). De spanning, , 30 aan de toevoer zij de van de roteerbare cilinder en de spanning aan de afvoerzijde werden gemeten bij 23°C en 65% RH.

μ werd berekend uit de onderstaande vergelijking: l^/T^e x ρ(μτΟ 3. Duurzaamheid

35 De duurzaamheid bij stilstand (minuten) werd bepaald bij 23°C

en 65% RH onder gebruik van een videobandregistratie voor huisgebruik ("Model 3600", vervaardigd door Victor Co., Ltd.).

8400565 Λ -13- 4. Meting van dikte

De dikte werd gemeten onder gebruik van een kwartskristal-oscillator. In het geval van die monsters met een te geringe dikte

O

werd de bandsnelheid verminderd om de dikte tot ten minste 1000 A S te vergroten en werd de verblijftijd tussen de elektroden berekend.

De totale dikte van de beschermende en smeerlagen van de dunne magnetische metaallaag is aangegeven in tabel 1. Het symbool (+) geeft aan, dat de waarde uit de plasmapolymerisatietijd is berekend.

8400565 -14-TABEL 1

Monster Corrosie— Loop- Duurzaamheid Dikte

No._beveiliging eigenschappen_(min)_(A) 1 geen verandering 0,5 of meer 30 of meer 100 2 I» 1* 1» 11 3 " 0,15 " 120 4 0,14· " 130 5 " 0,15 ,r 120 6 " 0,17 " 130 7 " 0,18 10 8 Er wordt lokaal 0,45 5 500 een witte troebe- ling gevormd (het witte troebele oppervlak bedraagt 50% van het totale oppervlak) .

9 Het gehele opper- 0,5 of meer 1 of minder 0 vlak wordt wit troebel .10 Er wordt lokaal 0,45 5 500 een witte troebe-ling gevormd (het witte troebele oppervlak bedraagt 40% van het totale oppervlak) .

11 geen verandering 0,15 of meer j 30 of meer 500 12 " 0,14 " 300 13 ” 0,14 " 50* 14 " 0,13 " 20* 15 Er wordt lokaal. 0,14 10 10*· een witte troebe- ling gevormd (het witte troebele oppervlak bedraagt 30% van het totale oppervlak) .

8400565 -15- ... ^ m üit de resultaten, aangegeven in tabel 1,· blijkt, dat de magnetische registratiemedia volgens de uitvinding beter zijn wat betreft corrosiebeveiliging, loopeigenschappen en duurzaamheid, slechts een gereduceerde afstandsdemping veroorzaken en goede elektromagnetische 5 eigenschappen bezitten. Bovendien blijkt, dat de bij de voorbeelden I en V beschreven methoden gunstige methoden zijn, welke het mogelijk maken de .vorming van de dunne magnetische metaallaag en de vorming van de plasmapolymerisatielaag. langs eenzelfde lijn uit te voeren.

8400565

Claims

1. Magnetisch registratiemedium gekenmerkt door een polymeer-ondersteuningsbasis, een ferromagnetische dunne metaalfilm op de polymeerondersteuningsbasis, een plasmapolymerisatielaag met een dikte van 20 tot 270 A, die op de ferromagnetische dunne metaalfilm ? is aangebracht, en een. smeermiddellaag op de plasmapolymerisatielaag, welke- smeermiddellaag een verbinding met een onverzadigde koolstof-koolstofbinding bij een eindpositie daarvan bezit en ten minste 8 koolstofatomen bevat.

2. Magnetisch registratiemedium volgens conclusie 1, met het 10 kenmerk, dat. de plasmapolymerisatielaag bestaat uit een verbinding met een kookpunt van 200°C of minder.

3. Magnetisch:registratiemedium volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de plasmapolymerisatielaag een dikte in het gebied van 50 tot 200 A heeft.

4. Magnetisch registratiemedium volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat de plasmapolymerisatielaag een dichtheid van 1,4 of meer heeft.

5. Magnetisch registratiemedium volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de smeermiddellaag bestaat uit een verbinding met 20 8-tot 30 koolstofatomen.

6. Magnetisch registratiemedium volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat de smeermiddellaag een dikte in het gebied 1 tot 100 A heeft. 4

7. Magnetisch registratiemedium volgens conclusie 1, met het 25 kenmerk, dat de ferromagnetische dunne metaalfilm 50 gew.% of meer kobalt omvat.

8. Magnetisch registratiemedium volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat de. ferromagnetische dunne metaalfilm een dikte in het gebied van 0,02 tot 5 ym heeft.

9. Magnetisch registratiemedium volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat de dunne metaalfilm een dikte in het gebied van 0,05 tot 2 ym heeft. 8400565