PL110048B1 - Method of coating the electrode for the electrolyser with coating composition - Google Patents

Method of coating the electrode for the electrolyser with coating composition Download PDF

Info

Publication number
PL110048B1
PL110048B1 PL1977196653A PL19665377A PL110048B1 PL 110048 B1 PL110048 B1 PL 110048B1 PL 1977196653 A PL1977196653 A PL 1977196653A PL 19665377 A PL19665377 A PL 19665377A PL 110048 B1 PL110048 B1 PL 110048B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
tin
coating
electrode
compound
substrate
Prior art date
Application number
PL1977196653A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL110048B1 publication Critical patent/PL110048B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/091Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/091Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
    • C25B11/093Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Inert Electrodes (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sfposób pokrywania kompozycja powlokowa elektrody do elektrolizera.Wynalazek ten przedstawia ogólnie pokrywanie materialami powlokowymi podloza elektrody, za¬ zwyczaj metalu zaworowego, przy uzyciu kompo- 5 zycji powlokowych zawierajacych zwiazki cyny, które nastepnie sa przeksztalcane do ich postaci tlenkowych w celu wytworzenia elelktrody o zna¬ cznie zwiekszonej odtwarzalnosci przy danym spo¬ sobie jej wytwarzania i zmniejszonym koszcie 10 produkcji dzieki pelniejszemu wykorzystaniu me¬ talicznej cyny i zmniejszeniu zanieczyszczenia atmosfery, powodowanego przez parowanie zwiaz¬ ków cyny w trakcie procesu wytwarzania powlo¬ ki. Wynalazek pozwala wytwarzac udoskonalone 15 elektrody, których podloze z metalu zaworowego, np. tytanu pokryte jesit kompozycja powlokowa majaca cyne jako skladnik, przy zastosowaniu kompozycji powlokowej zawierajacej siarczanowy zwiazekcyny. 20 Znaczenie procesów elektrochemicznych w prze¬ mysle chemicznym nieustannie rosnie dzieki te¬ mu, ze sa one mniej szkodliwe -dla srodowiska naturalnego, daja mozliwosc zaoszczedzenia ener¬ gii i powoduja zmniejszenie sumarycznych kosz- 25 tów produkcji. W zwiazku z tym procesom che¬ micznym i aparaturze do ich prowadzenia po¬ swieca sie wiele prac badawczych i rozwojowych.Jednym z glównych elementów aparatury jest sa¬ ma elektroda. Przedmiot poszukiwan stanowila 30 elektroda wykazujaca odpornosc na korodujace srodowisko wewnatrz elektrolizera, majaca mini¬ malne nadnapiecie dla zadanej reakcji elektroche¬ micznej i pozwalajaca na scisla kontrole jakoscio¬ wa podczas procesu produkcji tej elelktrody.Zaledwie kilka materialów nadaje sie do wy¬ twarzania z nich elektrod, zwlaszcza majacych pelnic role anod, gdyz wiekszosc materialów wy¬ kazuje wrazliwosc na warunki korodujace panu¬ jace w przestrzeni anodowej. Do odpowiednich materialów naleza grafit, nikiel, olów, stóp olo¬ wiu, platyna lub plaitynowany tytan. Elelktrody tego typu' maja ograniczone zastosowanie z po¬ wodu wielu zwiazanych z ich uzyciem niedogod¬ nosci np. bralku trwalosci wymiarów, wysokiego kosztu, szybkiego zuzywania sie, zanieczyszczania elektrolitu i osadu katodowego, wrazliwosci na zanieczyszczenia czy wysokich wartosci nadnapie- cia dla zadanej reakcji. Pod pojeciem nadnapie- cia rozumiana jest tu róznica miedzy przylozo¬ nym napieciem pradu elektrycznego a napieciem teoretycznym, przy którym zadana reakcja za¬ chodzi przy danej gestosci pradu.Próbowano przezwyciezyc niektóre trudnosci zwiazane z dzialaniem elelktrody w elektrolizerze, lecz zadne z tych usilowan nie zakonczylo sie pelna optymalizacja charakterystyk pracy takiej elektrody. Problem polega na znalezieniu elektro¬ dy nie wykazujacej wielu z wyzej wymienionych niepozadanych cech i majacej dodatkowo niskie 110 048110 048 wartosci nadnapiecia przy duzych wartosciach ge¬ stosci pradu. Je&t nip. wiadomo, ze platyna sta¬ nowi doskonaly material elektrodowy do produk¬ cji anod uzywanych w procesie elektrolitycznego otrzymywania metali i ze spelnia ona wiele z wyzej podanych warunków. Platyna jest jednak droga i dlatego nie mozna uznac jej za material nadajacy sie do nowoczesnych rozwiazan prze¬ myslowych. Na skale przemyslowa uzywa sie elektrod weglowych i ze stopów olowiu, jednak anody weglowe predko sie zuzywaja, co powoduje znaczne zanieczyszczenie elektrolitu oraz zwieksza .opór elektryczny i potencjal pólogniw. aW^sz? *i!cSttSHILlal pólogniwa powoduje, ze elek- trolizer zuzywa^ lriecej energii elektrycznej niz jest to pozadane.! Niedogodnosc stosowania anod ^«&fcopu;3c4^iuj»olega na tym, ze olów rozpusz¬ cza sie w"eliefetooiicie i osadzajac sie na katodzie zanieczyszczlTwIasciwy osad katodowy, a ponadto Pib02 przechodzi w Pba04, który jest zlym prze¬ wodnikiem. Pod te warstwe przenikac moze tlen, powodujac jej zluszczanie, w wyniku czego pzast- ki warstewki wylapywane* sa przez miedz osa¬ dzajaca sie na katodzie. Prowadzi to do rozpa¬ dania sie galwanicznej powloki miedzianej, co jest wysoce niepozadane. Proponowano aby platyna lub innymi metalami szlachetnymi pokrywac pod¬ loze z tytanu, zachowujac w ten sposób ich ko¬ rzystne charakterystyki elektryczne przy zmniej¬ szonym koszcie wytwarzania elektrody. Jednak tak ograniczone stasowanie metali szlachetnych jest kosztowne i jako takie niepozadane w wa¬ runkach przemyslowych. Proponowano równiez, by podloze z tytanu platerowac elektrycznie pla¬ tyna, a nastepnie na platyne nanosic elektroli¬ tycznie osad dwutlenku olowiu lub dwutlenku manganu.Elektrody pokryte dwutlenkiem olowiu sa nie¬ korzystne ze wzgledu na stosunkowo wysokie nadnapiecie tlenu, a oba rodzaje elektrolitycznie osadzonych powlok wy/kazuija znaczne naprezenia wewnetrzne i maja tendencje do odrywania sie od powierzchni elektrody w trakcie jej stosowa¬ nia w procesie przemyslowym, zanieczyszczajac elektrolit i prodiukt osadzajacy sie na powierzchni katody. W zwiazku z tym gestosc pradu na tego typu anodach jest ograniczona, a manipulowanie nimi odbywac sie miusi z niezwykla uwaga.Inna próba ulepszenia polegala na pokryciu dwutlenikiem manganu podloza tytanowego, kitóre jest stosunkowo porowate i nastepnie nalozenia jeszcze pewnej ilosci warstw dwutileinku manganu do uzyskania jednolitej powloki. W rezultacie otrzymywano wzglednie niskie wantosci nadnapie- cia dla gestosci pradu nie przekraczajacych 77,5 miiliamperów/cma lecz przy wzroscie gestosci pra¬ du do okolo 155 miiiamperów/cm2 nadnapiecie wzrastalo dosc gwaltownie, co powodowalo, iz taki typ elektrody byl niewygodny w uzyciu przy wyzszych wartosciach gestosci pradu.Stosuje sie tez powloki z dwutlenków tytanu, rutenu i cyny lub tlenków cyny i antymonu, których powloke zewneitorzna stanowila warsrtwa nalozonego metoda platerowania tlenku manganu lulb olowiu. Ten rodzaj powlok byl bardzo obie¬ cujacy jesli chodzi o obnizenie nadnapiecia i uzy¬ skanie dobrej zywotnosci w korodujacych warun¬ kach wewnatrz elektrolizera. Glówna wada tych materialów jest to, ze podczas tworzenia z nich 5 powloki, zwlaszcza z tlenków cyny, znaczna ilosc cyny odparowuje podczas procesu wypalania po¬ wloki, prowadzacego do powstania tych tlenków.Dzieje sie tak dlatego, ze wypalanie zwiazków cyny, np. pieciowodnego chlorku cynowego po- io woduje ich konwersje na wodorotlenek cynowy, a nastepnie na tlenek cynowy, bedacy zwiazkiem, który chce sie uzyskac w powloce elektrody. Pod¬ czas tego procesu duza ilosc cyny wyparowuje do atmosfery zamiast pozostac w powloce. Przy- 15 najmniej czesciowo dzieje sie tak dlatego, ze tem¬ peratury wrzenia chlorków cyny wynosza okolo 114°C, a poniewaz przeksztalcanie sie zwiazków cyny w ich odpowiednie tlenki przebiega w tem¬ peraturach znacznie wyzszych, wiekszosc tych ma- 20 terialów odparowuje do atmosfery.W rezultacie do utworzenia powloki zostaje uzy¬ te mniej niz 50% materialu zawierajacego cyne.Stanowi to powazne utrudnienie dla kontroli ja¬ kosci przy produkcji na duza skale elektrod wiel- 25 kowyrniarowych. Z powodu parowania cyny w obecnie stosowanych procesach nanoszenia powlok na materialy podloza uzyskanie odtwarzalnosci kompozycji powlokowej jest prawie niemozliwe.Tak wiec przy obliczaniu potencjalnego czasu zy- 30 cia danej elektrody opierac sie mozna tyliko na teoretycznych obliczeniach ilosci cyny, co stano¬ wi powazne utrudnienie. Jak dotad stosowanie cyny w kompozjecjach powlokowych nie ma po¬ wodzenia w zastosowaniach przemyslowych. Po- 35 wodem tego jest panowanie cyny, prowadzace do trudnosci z odtwarzalnoscia, zwiekszajace zanie¬ czyszczenie srodowiska naturalnego ponad poziom dopuszczalny scislymi, obowiazujacymi w tym za¬ kresie normami i podnoszace koszt produkcji da- 40 nej elektrody w wyniku strat cyny.Przedmiotem niniejszego wynalazku jest sposób wytwarzania kompozycji powlokowych na elektro¬ dzie, które to kompozycje maja pozadane charak¬ terystyki jakosciowe i których koszt wytwarzania 45 miesci sie w granicach dopuszczalnych kosztów produkcji przemyslowej.Wynalazek obejmuje sjposób wytwarzania kom¬ pozycji powlokowych do elektrod, powodujacy znaczne obnizenie parowania cyny, zmniejszajacy 50 tym samym problemy zanieczyszczenia atmosfery zwiazane z tym sposobem wytwarzania.Stwierdzono, ze kompozycje powlokowe wytwa¬ rzac mozna sposobem polegajacym na dobraniu podloza, nalozeniu na co najmniej czesc powierzch- 55 ni tego podloza materialu powlokowego, zawiera¬ jacego zwiazek siarczanowy cyny, wysuszeniu ma¬ terialu powlokowego i wypaleniu tego materialu powlokowego w atmosferze utleniajacej dla uzy¬ skania konwersji zwiazku cyny na jego postac oo tlenkowa. Stwierdzono równiez, ze nowa elektro¬ de do uzycia w elektrolizerze wytwarzac mozna z metalu stanowiacego podloze, nakladajac na po¬ wierzchnie podloza material powlokowy, zawie¬ rajacy siarczanowy zwiazek cyny przeksztalcany 65 w tlenek cyny oraz powloke zewnetrzna ze zwiaz-110 048 6 k6w takich jak dwutlenek manganu i dwutlenek olowiu.Ulepszony sposób wytwarzania kompozycji po¬ wlokowych do elektrod wedlug niniejszego wyna¬ lazku stosowac mozna w celu wytwarzania kazdej 5 powloki, zawierajacej jako skladnik kazdy zwia¬ zek cyny, z uzyciem którego w obecnie znanych sposobach wiaza sie problemy z parowaniem cy¬ ny. Dawniej do wytwarzania kompozycji powlo¬ kowych do elektrod stosowano ulegajace rozkla- w dowi termicznemu postacie chlorkowe zwiazków cyny, majace niska temperature wrzenia, a wiec stwarzajace problem zwiazany z parowaniem.Zgodnie z niniejszym wynalazkiem stosuje sie siarczanowa postac zwiazku cyny lub zwiazki 15 chlorkowe w polaczeniu z kwasem siarkowymi, co daje w rezultacie siarczanowa postac zwiazku cy¬ ny. Postac te charakteryzuje prosty mechanizm rozkladu, prowadzacego do powstania postaci tlen¬ kowej w koncowej formie kompozycji powloko- 20 wej do elektrod, dzieki czemu parowanie cyny podczas wypalania gwaltownie sie zmniejsza. Ma¬ terialem stanowiacym podloze dla takiej kompo¬ zycji powlokowej moze byc kazdy metal przewo¬ dzacy prad o wystarczajacej wyltrzymalosci me- 25 chanicznej, pozwalajacej sluzyc mu jako nolsnik powlok. Typowymi metalami sa glin, molibden, niob, tantal, tytan, wolfram, cyrkon, nikiel, stal, stal nierdzewna i* ich stopy. Korzystnym meta¬ lem zaworowym, ze wzgledu na koszt, dostepnosc 30 oraz wlasciwosci elektryczne i chemiczne jest ty¬ tan. Istnieje wiele postaci, pod którymi tytan moze sluzyc jako podloze w procesie wytwarzania elektrody, np. blacha o zwartej strukturze, poro¬ waty material metaliczny o znacznym udziale 35 procentowym powierzchni otwartej i porowaty ty¬ tan o gestosci czystego tytanu wynoszacej od 30 do 70%, otrzymany przez sciskanie na zimno sproszkowanego tytanu.Jednym z typów powloki stosowanej w sposo- 40 bie wedlug wynalazku jest powloka, w której material podloza powyzej opisanego typu pokry¬ wa sie pólprzewodnikowa powloka posrednia z tlenków cyny i antymonu. Kompozycje takie sa zazwyczaj mieszaninami dwutlenku cyny z mala 45 „domieszka" antymonu, którego ilosc wynosi od 0,1 do 30°/o wagowych w przeliczeniu na calko¬ wita wage Sn02 i Sb^D3. Korzystna zawartosc trójtlenku antymonu wynosi w wiekszosci przy¬ padków od 3 do 15% wagowych. Dotychczas do *° otrzymywania takich powlok posrednich uzywano zazwyczaj pieciowodnego chlorku cyny, jako jed¬ nego ze skladników mieszaniny nanoszonej na material podloza pedzlem lub inna metoda.Zgodnie z niniejszym wynalazkiem stosuje sie M zwiazek siarczanowy cyny lub pieciowodny chlo¬ rek cyny z kwasem siarkowym, dajace w rezulta¬ cie siarczanowa postac zwiazku cyny. Postac te charakteryzuje prosty mechanizm rozkladu w tem¬ peraturze okolo 320°C, dzieki czemu temperatury, 60 w których odbywa sie wypalanie prowadzace do przeksztalcenia uzytych materialów w ich posta¬ cie tlenkowe wywoluje bardzo niewielkie odpa¬ rowanie cyny do atmosfery. Pozwala to na.uzy¬ skanie pólprzewodnikowej powloki posredniej po 65 bardzo niewielu nalozeniach, podczas gdy w do¬ tychczasowych metodach dla otrzymania zadanej ilosci cyny w powloce trzeba bylo stosowac wie¬ lowarstwowe nakladanie materialu. Na po¬ wierzchnie pólprzewodnikowej powloki posredniej mozna nakladac zewnetrzna powloke z dwutlen¬ ków manganu lub olowiu dla uzyskania elektrod o dobrych wydajnosciach pradowych i dlugiej zy¬ wotnosci.Istnieje . wiele innych przykladów sposobów przygotowywania kompozycji powlokowych do elektrod, zawierajacych zwiazki cyny. Fachowcy moga przykladowo stosowac pokrywanie wstepne wieloma róznymi kompozycjami materialu podlo¬ za przed nalozeniem na to podloze kompozycji powlokowej, zawierajacej siarczanowy zwiazek cyny.Innym przykladem- jest jednowarstwowa kom¬ pozycja powlokowa, zawierajaca dwutlenki tyta¬ nu, rutenu i cyny nalozone sposobem podobnym do opisanego powyzej Ten typ kompozycji powlo¬ kowej opisany jest bardziej szczególowo w pa¬ tencie Stanów Zjednoczonych Am. Nr 3 855 092.Trzecim typem kompozycji powlokowej, zawiera¬ jacej zwiazki cyny jest mieszanina tlenków cyny, antymonu, metalu z grupy platynowców oraz me¬ talu zaworowego. Ten typ kompozycji powloko¬ wych opisany jest bardziej szczególowo w paten¬ cie Stanów Zjednoczonych Am. Nr 3 875 043. Dla umozliwienia fachowcom lepszego zrozumienia ni¬ niejszego wynalazku i pewnych jego korzystnych aspektów podano nastepujace szczególowe przy¬ klady.Przyklad I. Wytworzono serie elektrod po¬ krywajac metal stanowiacy podloze, w tym przy¬ padku tytan, roztworem zawierajacym trójchlorek aintymionu, trójchlorek rutenu i rózne zwiazki, za¬ wierajace cyne, wszystkie uzyte w ilosciach po¬ zwalajacych na obliczenie poczatkowej wartosci stosunku cyna/ruten i porównanie go z wynika¬ mi analizy koncowej wantosci tego stosunku. Po¬ zwolilo to na stwierdzenie w kazdym przypadku ilosci odparowanej cyny. Poczatkowa wartosc sto¬ sunku cyna/ruten okreslono na podstawie wagi materialów wyjsciowych w roztworze powlekaja¬ cym.Poniewaz zwiazek rutenu absorbuje w pewnym stopniu wode, tworzac hydraty, obliczenie po¬ czatkowej iloisci rutenu obarczone jest pewnym bledem wynoszacym w przyiblizeniiu 5°/o. Po na¬ lozeniu tych róznych materialów na metal stano¬ wiacy podloze wypalano je w atmosferze utle¬ niajacej w temperaturach od 475° do 625°C i w ciagu 5—10 minut dla uzyskania konwersji zwiaz¬ ków na odpowiednie tlenki. Proces ten powtó¬ rzono kilkakrotnie dla otrzymania warstwy o za¬ danym ciezarze.Nie stwierdzono wplywu ilosci materialu w po¬ wloce na koncowe wartosci stosunku cyna/ruten a wiec material ten stosowac mozna w kazdej dogodnej ilosci. Po zaskoczeniu procesu warstwe katalityczna Usunieto z podloza za pomoca sto¬ pionych soli, które nastepnie rozpuszczono w wo¬ dzie dla stracenia metali. Otrzymany roztwór pod-110 048 dano analizie metoda absorpcji atomowej dla ustalenia koncowej wartosci stosunku cyna/inuten w materiale powloki. Wantosci tych stosunków w powiazaniu z rodzajem uzytych zwiazków cyny przedstawiono w Tablicy I.Tablica I 8 Tablica II Uzyty zwiazek cyny SnCl4-5H20 " * n \.:: ¦ ll .... l ^ M Sn(C4H9)4 SnCl4-5HaO/ '/HaS04 ¦ " ¦ " » " 1 " Procentowa wartosc sto¬ sunku Sn/Ru 21,8 10,9 10,9 4,3 4,36 4,36 4,36 4,3 5,7 7,6 7,6 7,6 7,6 7,6 Koncowa wartosc sto¬ sunku Sn/Ru 3,3 1,7 1,98 0,5 1,2 1,8 1,7' 0,6' 6,4 6,7 7,5 7,7 7,8 7,7 Jak widac straty cyny w wyniku parowania wynosza w ' przypadku uzycia pieciowodnego chlorku cynowego od 1 do 10, natomiast przy uzyciu pieciowodnego chlorku cynowego lacznie z kwasem siarkowym straty te sa pomijalne.W pewnych przypadkach przy uzyciu postaci siarczanowej wartosc koncowa stosunku jest na¬ wet wieksza od wartosci poczatkowej. Wydaje sie, ze jest spowodowane bledem doswiadczenia wynikajacymi z absorbowaniem wody przez zwia¬ zek riutenu Jak równiez ewenituailnie talkze pew¬ nymi stratami materialu podczas usuwaina po¬ wloki.Przyklad II. Przeprowadzono drugi ekspe¬ ryment dla pokazania znacznego wzrostu ilosci cyny pozostajacej w powloce. Znana ilosc roztwo¬ ru mieszaniny jak w przykladzie I, zawierajacej rózne zwiazki cyny, spalono w tyglu i pozosta¬ losc poddano analizie meitoda absorpcji atomo¬ wej.Temperatura i czas spalania byly podobne do uzytych w przykladzie I. Wyniki eksperymentu w postaci procentowych ilosci danego pierwiast¬ ka, zachowanych w materiale powloki po spale¬ niu podano w Tablicy II.Jak wynika z Tablicy II uzycie siarczanowej postaci zwiazku cyny powoduje znaczny wzrost procentowej pozostalosci cyny, co nie ma miejsca przy uzyciu postaci chlorkowej.Przyklad III. Wykonano serie elektrod dla dokonania oceny potencjalów pólogniiw i czasów zycia tych elektrod w porównaniu z elektrodami przy wytwarzaniu których uzyto chlorkowych po¬ staci zwiazków w tak duzych ilosciach, by kon¬ cowa zawartosc cyny w powloce byla równo za¬ wartosci cyny w powloce otrzymanej przy uzy- 10 15 20 25 30 35 40 45 50 60 65 Uzyty zwiazek cyny SnCl4-5H20/ /H2S04 SnS04 SnCl4-5H20 SnCl4 gotowa¬ nej pod chlod¬ nica zwrotna w alkoholu amy- lowym ^ % za¬ chowa¬ nej Sn 81 94 9 19 % za¬ chowa¬ nej Ru 90 95 97 94 °/o za-. chowa¬ nego Sb 43 61 23 15 ciu siarczanowych postaci zwiazków. Stwierdzo¬ no, ze 25,1 g pieciowodnego chlorku cynowego daje w przyblizeniu taka sama ilosc cyny, jaka daje mieszanina zawierajaca 5,48 g pieciowodne¬ go chlorku cynowego uzytego lacznie z kwasem siarkowym.Stwierdzic mozna, ze gidy nie stosuje sie siar¬ czanowego zwiazku cyny w powloce, ilosc innego zwiazku cyny mtusi byc w przyblizeniu piecio¬ krotnie wieksza. Przekonano sie, ze przy nakla¬ daniu tych dwóch materialów w takich ilosciach by ilosc gramów ruitenu przypadajaca na 929,03 cm2 powierzchni podloza tytanpwego byla w obu przypadkach jednakowa, otrzymane elektrody da¬ ja w przyblizeniu jednakowe potencjaly pólogniw i posiadaja czasy zycia podane w Tablicy III.Tablica III Ilosc g Ru na 929,03 cm2 M 0,2 0,3 Czas zycia w godzinach (postac chlorkowa) 17 50 79 Czas zycia w go¬ dzinach (postac siarczanowa) 14 68 108 Jak widac, w celu uzyskania jednakowych cza¬ sów zycia otrzymanych elektrod w przypadku uzycia obu postaci zwiazków cyny, ilosc postaci chlorkowej musi byc w przyblizeniu pieciokrot¬ nie wyzsza od ilosci postaci siarczanowej. Ozna¬ cza to, ze mozliwosc zastosowania znacznie mniejszej ilosci siarczanowej postaci zwiazku cy¬ ny pozwala osiagnac dany czas zycia elektrody przy oszczednosciach na kosztach wytwarzania tej elektrody. Jak wynika z Tablicy I odtwarzalnosc zawartosci cyny w powloce przed i po wypaleniu jest w przypadku siarczanowej postaci zwiazków cyny znacznie wyzsza niz w przypadku chlorko¬ wej postaci zwiazków cyny,' co sprawia, ze po¬ stac siarczanowa nadaje sie o^wiele lepiej do wy¬ twarzania elektrod na duza skale. Zastosowanie postaci siarczanowej powoduje takze, ze znacznie mniej cyny odparowuje do atmosfery, co pociaga za soba wyeliminowanie jednego z czynników za¬ nieczyszczania srodowiska naturalnego zwiazanych z dotychczasowymi metodami wytwarzania.110 048 9 10 Zastrzezenia patentowe 1. Sposób pokrywania kompozycja powlokowa elektrody do eletotrodizera z podstawowego me¬ talu takiego jak glin, molibden, niob, tantal, ty¬ tan, wolfram, cyrkon albo ich stopy, znamienny tym, ze co najmniej czesc powierzchni metalu podstawowego pokrywa sie materialem powloko¬ wym skladajacym sie ze zwiazków antymonu i siarczanowego zwiazku cyny, suszy sie ten ma¬ terial i wypala w atmosferze utleniajacej celem przeksztalcenia zwiajzków antymonu i cyny w icfi odpowiednie tlenki, po czym nanosi sie wierzch¬ nia warstwe powlokowa z tlenków metali z' gru¬ py, w sklad której wchodza mangan i olów. 2. Sposób wedlug zastirz. 1, znamienny tym, ze zwiazek cyny wprowadza sie w postaci miesza¬ niny pieciowodnego chlorku cyny i kwasu siar¬ kowego. 3. Sposób pokrywania kompozycja powlokowa elektrody do elektroMzera z podstawowego meta¬ lu takiego jak glin, molibden, niob, tantal, tytan, wolfram, cyrkon alibo ich stopy, znamienny tym, ze co najmniej czesc powierzchni metalu podsta¬ wowego, pokrywa sie materialem powlokowym skladaijacym sie ze zwiazku metalu podstawowego elektrody, zwiazku metalu z grupy platynowców, zwiazków antymonu i siarczanowego zwiazku cy¬ ny, suszy sie ten material powlokowy i wypaia sie w atmosferze utleniajacej celem przeksztalce¬ nia zwiazku metalu podsitawowego elektrody, zwiazków antymonu i cyny w ich odpowiednie tlenki. 4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze zwiajzek cynowy wprowadza sie w postaci mie¬ szaniny pieciowodnego chlorku cyny i kwasu siarkowego. 5. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze jako zwiazek metalu z grupy platynowców sto¬ suje sie trójchlorek rutenu. 6. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze jako zwiajzek metalu z grupy platynowców sto- sujeje sie trójchlorek irydu. 10 15 PL PL PL PL PL PL PL PL PL PL

Claims (1)

1.
PL1977196653A 1976-03-15 1977-03-14 Method of coating the electrode for the electrolyser with coating composition PL110048B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US66720276A 1976-03-15 1976-03-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL110048B1 true PL110048B1 (en) 1980-06-30

Family

ID=24677240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1977196653A PL110048B1 (en) 1976-03-15 1977-03-14 Method of coating the electrode for the electrolyser with coating composition

Country Status (20)

Country Link
JP (5) JPS586786B2 (pl)
AU (1) AU516392B2 (pl)
BE (1) BE852419A (pl)
BR (1) BR7701546A (pl)
CA (1) CA1094891A (pl)
CH (1) CH619492A5 (pl)
DD (1) DD131043A5 (pl)
DE (1) DE2710802C3 (pl)
DK (1) DK110877A (pl)
FI (1) FI65284C (pl)
FR (1) FR2344644A1 (pl)
GB (2) GB1573173A (pl)
IT (1) IT1086682B (pl)
MX (1) MX145434A (pl)
NL (1) NL7702742A (pl)
NO (1) NO148751C (pl)
PL (1) PL110048B1 (pl)
SE (1) SE427192B (pl)
TR (1) TR20097A (pl)
ZA (1) ZA771521B (pl)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2710802C3 (de) * 1976-03-15 1980-04-03 Diamond Shamrock Corp., Cleveland, Ohio (V.St.A.) Verfahren zur Herstellung von Elektroden für Elektrolysezellen
JPS60162787A (ja) * 1984-01-31 1985-08-24 Tdk Corp 電解用電極
JPS6254017U (pl) * 1985-09-25 1987-04-03
JPS62274087A (ja) * 1986-05-22 1987-11-28 Permelec Electrode Ltd 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法
JPH0218722U (pl) * 1988-07-25 1990-02-07
GB2301413B (en) * 1995-05-31 1999-03-10 Titus Int Plc Joint forming devices
JP5309813B2 (ja) * 2008-09-05 2013-10-09 アタカ大機株式会社 酸素発生用電極

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1244650A (en) * 1968-10-18 1971-09-02 Ici Ltd Electrodes for electrochemical processes
DE2113676C2 (de) * 1971-03-20 1985-09-12 Conradty GmbH & Co Metallelektroden KG, 8505 Röthenbach Elektrode für elektrochemische Prozesse
US3793164A (en) * 1973-04-19 1974-02-19 Diamond Shamrock Corp High current density brine electrolysis
US3875043A (en) * 1973-04-19 1975-04-01 Electronor Corp Electrodes with multicomponent coatings
US3882002A (en) * 1974-08-02 1975-05-06 Hooker Chemicals Plastics Corp Anode for electrolytic processes
US4040939A (en) * 1975-12-29 1977-08-09 Diamond Shamrock Corporation Lead dioxide electrode
US4028215A (en) * 1975-12-29 1977-06-07 Diamond Shamrock Corporation Manganese dioxide electrode
DE2710802C3 (de) * 1976-03-15 1980-04-03 Diamond Shamrock Corp., Cleveland, Ohio (V.St.A.) Verfahren zur Herstellung von Elektroden für Elektrolysezellen

Also Published As

Publication number Publication date
SE7702837L (sv) 1977-09-16
TR20097A (tr) 1980-07-08
AU2321277A (en) 1978-09-21
CH619492A5 (en) 1980-09-30
DE2710802B2 (de) 1979-08-02
FI65284C (fi) 1984-04-10
JPS5782477A (en) 1982-05-22
IT1086682B (it) 1985-05-28
JPS52141489A (en) 1977-11-25
NL7702742A (nl) 1977-09-19
BE852419A (fr) 1977-09-14
MX145434A (es) 1982-02-16
JPS5833313B2 (ja) 1983-07-19
DD131043A5 (de) 1978-05-24
CA1094891A (en) 1981-02-03
DE2710802C3 (de) 1980-04-03
NO148751C (no) 1983-12-07
JPS5873782A (ja) 1983-05-04
FI65284B (fi) 1983-12-30
JPS5822551B2 (ja) 1983-05-10
JPS586786B2 (ja) 1983-02-07
FR2344644B1 (pl) 1980-09-26
DK110877A (da) 1977-09-16
BR7701546A (pt) 1978-01-17
SE427192B (sv) 1983-03-14
ZA771521B (en) 1978-04-26
NO148751B (no) 1983-08-29
JPS55100989A (en) 1980-08-01
JPS5930791B2 (ja) 1984-07-28
AU516392B2 (en) 1981-06-04
FR2344644A1 (fr) 1977-10-14
GB1573173A (en) 1980-08-20
FI770806A7 (pl) 1977-09-16
JPS5782486A (en) 1982-05-22
NO770908L (no) 1977-09-16
DE2710802A1 (de) 1977-09-29
GB1573297A (en) 1980-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3948751A (en) Valve metal electrode with valve metal oxide semi-conductive face
US4243503A (en) Method and electrode with admixed fillers
KR100227556B1 (ko) 전해 전극
US4125449A (en) Transition metal oxide electrodes
KR890003861B1 (ko) 전해 전극 및 그 제조 공정
JP5686455B2 (ja) 耐高負荷用酸素発生用陽極の製造方法
EP0014596A1 (en) Method for producing electrodes having mixed metal oxide catalyst coatings
US3926751A (en) Method of electrowinning metals
CN104011264A (zh) 氧发生用阳极及其制造方法
US4040939A (en) Lead dioxide electrode
US3627669A (en) Electrodes for electrochemical cells
HU199575B (en) Electrodes applicable by electrolise and process for their production
US4318795A (en) Valve metal electrode with valve metal oxide semi-conductor face and methods of carrying out electrolysis reactions
JP2574699B2 (ja) 酸素発生陽極及びその製法
PL110048B1 (en) Method of coating the electrode for the electrolyser with coating composition
JP2000110000A (ja) 電解プロセスにおける酸素発生用アノ―ド
US4670122A (en) Low over-voltage electrodes for alkaline electrolytes
CN104011263A (zh) 氧发生用阳极及其制造方法
Liu et al. Effect of molar ratio of ruthenium and antimony on corrosion mechanism of Ti/Sn-Sb-RuOx electrode for zinc electrowinning
PL119843B1 (en) Method of manufacture of electrode and electrode intended for use in electrochemical processesokhimicheskikh processov
US4208450A (en) Transition metal oxide electrodes
SE425804B (sv) Forfarande vid elektrolys av en flytande elektrolyt mellan en anod och en katod
JPS62161975A (ja) 電解槽に使用する電極およびその製造方法
US4108745A (en) Selenium-containing coating for valve metal electrodes and use
CA1110932A (en) Electrode coating method