JP2002138092A - テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法 - Google Patents
テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法Info
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Abstract
オン性不純物の残存がないテトラキス(アシロキシ)ボ
レート(1−)の合成方法を提供する。 【解決手段】 ホウ酸エステル、カルボン酸無水物、カ
ルボン酸、及びアミンとを反応させて一般式1のテトラ
キス(アシロキシ)ボレートを合成する。 (R1はアルキル基、アリール基又は、アラルキル基、
R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の
3つの置換基のうち2つ以上の置換基が環を形成する置
換基)
Description
エポキシ樹脂の硬化促進剤等に有用な置換オニウムテト
ラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及びその前駆体
であるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合
成方法に関するものである。
(1−)を合成する方法は、以下の2種類の方法が知ら
れている。 (1)無水酢酸存在下、トリアセテートボレートと酢酸
カリウムとを反応させる方法(I.G.ルイス、V.
N.プラホトニク 無機化学ジャーナル VOL.1
3,2050(1968))。 (2)テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートと分
子外に放出しうるプロトンを少なくとも1個以上分子内
に有するn(n≧1)価の有機酸とを反応させる方法
(特開平8−196911号公報)。
してアルカリ金属を使用しているため、合成プロセスに
おける有機溶媒への低溶解性や、電気・電子材料におい
て問題となるイオン性不純物の残存等が問題となる。一
方、前記(2)の方法は、反応の際に200℃以上の高
温で行うため、テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレ
ートのボレート置換基がアルキル基である場合、ボレー
ト側が大気中で不安定であり、取り扱いが困難である。
ボレート置換基が、フェニル基、その他のアリール基で
ある場合、コスト面で問題がある。特に、テトラ置換ホ
スホニウムテトラフェニルボレートを用いた場合、反応
時に副生成物として、人体に有害なベンゼンを生じるた
め望ましくない。
を解決するためなされたもので、合成における有機溶媒
への溶解性がよく、有害物質の発生もなく、イオン性不
純物の残存もなく、安定性に優れた置換オニウムテトラ
キス(アシロキシ)ボレート(1−)及びその前駆体で
あるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成
方法を提供するものである。
シ)ボレート(1−)が、一般式(2)で表されるホウ
酸エステル、一般式(3)で表されるカルボン酸無水
物、一般式(3)で表されるカルボン酸無水物の加水分
解生成物である一般式(4)で表されるカルボン酸、一
般式(5)で表されるアミンとを反応さて得られること
を特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1
−)の合成方法、
シル基からなる群より選ばれる基(行方知れず)、R1
は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群
より選ばれる基、R2〜R4はアルキル基、アリール基又
はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換
基が環を形成する置換基)
シル基からなる群より選ばれる基)
なる群より選ばれる基)
なる群より選ばれる基)
つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成す
る置換基) (2) 一般式(5)のR2〜R4がメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基からなる群より
選ばれる1種以上である第(1)項記載のテトラキス
(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法、 (3) 一般式(6)で表されるテトラキス(アシロキ
シ)ボレート(1−)が、一般式(2)で表されるホウ
酸エステル、一般式(3)で表される無水カルボン酸、
一般式(3)で表される無水カルボン酸の加水分解物で
ある一般式(4)で表されるカルボン酸、一般式(7)
で表されるアミジンとを反応させて得られることを特徴
とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合
成方法、
なる群より選ばれる基、R6〜R8はアルキル基、アリー
ル基又はR6〜R8の3つの置換基のうち少なくとも2つ
の置換基が環を形成する置換基)
シル基からなる群より選ばれる基)
なる群より選ばれる基)
なる群より選ばれる基)
つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成す
る置換基) (4) 第(1)〜(3)項のいずれかに記載の合成方
法により得られたテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)と、テトラ置換ホスホニウム塩、テトラ置換ア
ンモニウム塩、トリ置換スルホニウム塩からなる群より
選ばれるオニウム塩とを反応させて得られることを特徴
とする置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)の合成方法、である。
は一般式(6)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボ
レート(1−)は、一般式(2)で表されるホウ酸エス
テル、一般式(3)で表される無水カルボン酸、一般式
(3)で表される無水カルボン酸の加水分解生成物であ
る一般式(4)で表されるカルボン酸、一般式(5)で
表されるアミン又は一般式(7)で表されるアミジンと
の反応により合成する方法により得られるが、本発明
は、一般式(1)又は一般式(6)で表されるテトラキ
ス(アシロキシ)ボレート(1−)のカチオン種が有機
化合物であるアミン又はアミジンの塩であるため、溶媒
への溶解性が良好であり、きわめて取り扱い性がよいこ
とが特徴の一つである。
品或いは試薬として入手することが可能であり、いずれ
の形態を用いてもよい。本発明に用いる一般式(2)で
表されるホウ酸エステルは、式中のR1がアルキル基、
アリール基、アラルキル基、アシル基からなる群より選
ばれる基を示し、置換基の具体例なR1としては、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、トリル基、
アニシル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ベンジル
基、アセチル基、プロピオニル基等が挙げられる。本発
明に用いる一般式(3)で表される無水カルボン酸は、
式中のR2がアルキル基、アリール基、アラルキル基か
らなる群より選ばれる基を示し、置換基の具体例なR2
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル
基、トリル基、アニシル基、ニトロフェニル基、ナフチ
ル基、ベンジル基等が挙げられる。又無水カルボン酸の
例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、
無水安息香酸、無水メチル安息香酸、無水メトキシ安息
香酸、無水ニトロ安息香酸、1−ナフトエ酸無水物、無
水1−フェニル酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、無水パ
ラニトロ安息香酸等が挙げられる。
加水分解生成物である一般式(4)で表されるカルボン
酸は、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、メチル安息香
酸、メトキシ安息香酸、ニトロ安息香酸、ナフトエ酸、
1−フェニル酢酸等が挙げられる。又一般式(5)で表
されるアミン又は一般式(7)で表されるアミジンにつ
いては、特に限定されないが、窒素原子に水素原子が結
合している場合、副反応としてアミドを形成するため、
3級アミンが望ましい。これらは、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルア
ミンなどアルキル基の置換した3級のアルキルアミン
類、ジフェニルメチルアミン等のアリール基置換3級ア
ミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセ
ン−7(双環式アミジン化合物)、1,5−ジアザビシ
クロ[4,3,0]ノン−5−エン(双環式アミジン化
合物)、或いは非環状アミジン類等が例示される。
ト(1−)の合成方法の例としては、一般式(2)で表
されるホウ酸エステル、一般式(3)で表される無水カ
ルボン酸、一般式(3)で表される無水カルボン酸の加
水分解生成物である一般式(4)で表されるカルボン
酸、一般式(5)で表されるアミン又は一般式(7)で
表されるアミジンを反応させることにより行われるが、
本発明によれば、80〜180℃程度の200℃未満の
比較的穏和な条件で3〜8時間で反応を完結させること
ができる。
一般式(5)で表されるアミン又は一般式(7)で表さ
れるアミジンを大過剰に用いる場合、これらのアミン、
アミジンを溶媒として使用することができ、更に一般式
(5)で表されるアミン又は一般式(7)で表されるア
ミジンと、一般式(3)で表される無水カルボン酸を過
剰に用いることにより、これらを溶媒として使用するこ
とも可能である。又反応物質は溶解するが、不活性な溶
媒、例えばジメトキシエタン、ジメチルジグリコール、
ジメチルトリグリコール等を用いることができる。
塩、テトラ置換アンモニウム塩、トリ置換スルホニウム
塩は、それらのハライド塩を用いることができるが、塩
としては、特に限定されるものではなく、前述のテトラ
キス(アシロキシ)ボレート(1−)のカチオン側のア
ンモニウムイオン又はアミジニウムイオンが対応するテ
トラ置換ホスホニウム、テトラ置換アンモニウム、トリ
置換スルホニウムに置換する反応が生じるものであれ
ば、対応するオニウム無機酸塩やオニウムカルボン酸
塩、オニウムフェノレートであってもよく、いかなるも
のでも差し支えない。
キシ)ボレート(1−)の合成方法は、テトラ置換ホス
ホニウムハライド、テトラ置換アンモニウムハライド、
トリ置換スルホニウムハライド等の汎用オニウムハライ
ドと前述テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)と
を接触させることにより行われるが、例えばテトラキス
(アシロキシ)ボレート(1−)を不活性で溶解性が良
好な非プロトン性溶媒に溶解し、汎用オニウムハライド
をメタノールや水等に溶解し、両者を混合すれば、テト
ラキス(アシロキシ)ボレート(1−)のカチオン側の
アンモニウムイオン又はアミジニウムイオンが対応する
テトラ置換ホスホニウム、テトラ置換アンモニウム、ト
リ置換スルホニウムに置換し、対応する置換オニウムテ
トラキス(アシロキシ)ボレート(1−)が生成する。
本発明の合成方法で得られた置換オニウムテトラキス
(アシロキシ)ボレート(1−)及びその前駆体である
テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)は、電気・
電子材料用のエポキシ樹脂の硬化促進剤等として用いる
ことができる。
て説明するが、本発明は実施例になんら制限されるもの
ではない。 [テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成] (実施例1)フラスコにホウ酸トリエチル3.7g(2
5mmol)、1−ナフトエ酸無水物65.2g(20
0mmol)、1−ナフトエ酸4.3g(25mmo
l)、トリブチルアミン12.1g(50mmol)を
仕込み、120℃で4時間加熱攪拌した。これにより式
(8)のトリブチルアミンテトラキス(1−ナフトイル
オキシ)ボレート(1−)が得られた。これをアセトン
に溶解させ、濾過を行い、過剰なトリブチルアミン、1
−ナフトエ酸無水物、1−ナフトエ酸を除去した後、濾
液にヘキサン添加による貧溶媒化で再結晶を行った。収
量17.2g(ホウ酸トリエチルに対して収率82%)
テートボレート4.7g(25mmol)、過剰のトリ
フルオロ酢酸無水物42.0g(200mmol)、ト
リフルオロ酢酸2.85g(25mmol)、1−ベン
ジル2−メチルイミダゾール8.6g(50mmo
l)、ジメチルジグリコール200gを仕込み、160
℃で4時間加熱攪拌した。これにより式(10)の1−
ベンジル2−メチルイミダゾールのテトラキス(1−ト
リフルオロアセテート)ボレート塩が得られた。これを
アセトンに溶解させ、濾過を行い、過剰の1−ベンジル
2−メチルイミダゾール、フッ素化水素塩を除去した
後、濾液にヘキサン添加による貧溶媒化で再結晶を行っ
た。収量15.0g(トリアセテートボレートに対して
収率80%)
テル、カルボン酸無水物、カルボン酸、アミン又はアミ
ジンを用いて、実施例1或いは実施例2と同様の操作に
より、テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)を合
成した。
(200mmol)と酢酸カリウム塩8.88g(25
mmol)と式(9)のトリアセテートボレート17.
07g(25mmol)を仕込み、160℃で無水酢酸
を1時間還流を行い、室温で冷却することにより、式
(15)のカリウムテトラキスアセテートボレート(1
−)塩の結晶を得た。収量は19.2g(トリアセテー
トボレートに対して収率78%)(参考文献 無機化学
ジャーナル VOL.13,2050(1968)ソ
連)
3.7g(25mmol)、過剰の1−ナフトエ酸無水
物65.2g(200mmol))、1−ナフトエ酸カ
リウム塩21.0g(100mmol)を仕込み、12
0℃で15時間加熱攪拌を行ったが未反応であった。
ボレート(1−)の合成] (実施例7)実施例1のトリブチルアミンテトラキス
(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1−)塩(式
(8))のテトラハイドロフラン10重量%溶液を作成
した。この溶液を予め作成したテトラフェニルホスホニ
ウムブロマイドを10重量%含むイソプロパノール溶液
に室温で滴下した。滴下と同時に白色沈殿が生成した。
これを濾過し、メタノールで数回洗浄し、真空加熱乾燥
を行うことにより、式(16)のテトラフェニルホスホ
ニウムテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート
(1−)塩を得た。収量は22.0g(トリブチルアミ
ンテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1
−)塩(式(8))に対して収率85%)であった。得
られた置換オニウム塩であるテトラフェニルホスホニウ
ムテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1
−)塩を1.00g秤量し、純水50.0g中にてプレ
ッシャークッカー処理を125℃で20時間行った、カ
リウムイオンは検出されなかった。
シロキシ)ボレート(1−)と置換オニウム塩を用い、
実施例7と同様の操作を繰り返し、置換オニウムテトラ
キス(アシロキシ)ボレート(1−)を合成した。これ
らの反応はすべて室温で可能であった。又カリウムイオ
ンの定量も実施例7と同様に行った結果、カリウムイオ
ンは検出されなかった。
スアセテートボレート(1−)塩(式(15))の10
重量%含むイソプロパノール溶液を作成した。この溶液
を予め作成したテトラフェニルホスホニウムブロマイド
を10重量%含むイソプロパノール溶液に室温で滴下し
た。滴下と同時に白色沈殿が生成した。これを濾過し、
メタノールで数回洗浄し、真空加熱乾燥を行うことによ
り、式(24)のテトラフェニルホスホニウムテトラキ
スアセテートボレート(1−)塩を得た。このテトラフ
ェニルホスホニウムテトラキスアセテートボレート(1
−)塩を実施例7と同様な処理を行った結果、抽出され
たカリウムイオンは1500ppmであり、電気・電子
機器用途に用いるには不適であった。
g(100mmol)とテトラフェニルホスホニウムテ
トラフェニルボレート塩16.45g(25mmol)
を仕込み、230℃で4時間加熱攪拌を行い、式(2
5)のテトラフェニルホスホニウムテトラキス(ベンゾ
イルオキシ)ボレート(1−)塩23mmol(テトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート塩に対し
収率92%)を得たが、この方法は有害なベンゼンが発
生するし、230℃という極めて高温で反応しなければ
ならず好ましくない。
比べて汎用性が高く、低温反応可能でベンゼン等の有害
な物質を生成することもなく、更にフリーのアルカリ金
属を含まず、かつ反応操作も簡便で高収率で目的物を得
ることができる。又本発明のテトラ置換ホスホニウムテ
トラ置換ボレート、テトラ置換アンモニウムテトラ置換
ボレート、トリ置換スルホニウムテトラ置換ボレート
は、エポキシ樹脂等のアニオン重合の硬化触媒として有
用である。
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式(1)で表されるテトラキス(ア
シロキシ)ボレート(1−)が、一般式(2)で表され
るホウ酸エステル、一般式(3)で表されるカルボン酸
無水物、一般式(3)で表されるカルボン酸無水物の加
水分解生成物である一般式(4)で表されるカルボン
酸、一般式(5)で表されるアミンとを反応さて得られ
ることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)の合成方法。 【化1】 ( R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から
なる群より選ばれる基、R2〜R4はアルキル基、アリー
ル基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つ
の置換基が環を形成する置換基) 【化2】 (R5は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ア
シル基からなる群より選ばれる基) 【化3】 (R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から
なる群より選ばれる基) 【化4】 (R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から
なる群より選ばれる基) 【化5】 (R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3
つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成す
る置換基) - 【請求項2】 一般式(5)のR2〜R4がメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基からなる群
より選ばれる1種以上である請求項1記載のテトラキス
(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法。 - 【請求項3】 一般式(6)で表されるテトラキス(ア
シロキシ)ボレート(1−)が、一般式(2)で表され
るホウ酸エステル、一般式(3)で表される無水カルボ
ン酸、一般式(3)で表される無水カルボン酸の加水分
解物である一般式(4)で表されるカルボン酸、一般式
(7)で表されるアミジンとを反応させて得られること
を特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1
−)の合成方法。 【化6】 (R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から
なる群より選ばれる基、R6〜R8はアルキル基、アリー
ル基又はR6〜R8の3つの置換基のうち少なくとも2つ
の置換基が環を形成する置換基) 【化7】 (R5は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ア
シル基からなる群より選ばれる基) 【化8】 (R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から
なる群より選ばれる基) 【化9】 (R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から
なる群より選ばれる基) 【化10】 (R6〜R8はアルキル基、アリール基又はR6〜R8の3
つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成す
る置換基) - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の合成方
法により得られたテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)と、テトラ置換ホスホニウム塩、テトラ置換ア
ンモニウム塩、トリ置換スルホニウム塩からなる群より
選ばれるオニウム塩とを反応させて得られることを特徴
とする置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)の合成方法。
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| JP2000330438A JP4821041B2 (ja) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法 |
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| JP2008081470A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Adeka Corp | オニウム塩化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物 |
| JP2020503383A (ja) * | 2016-12-23 | 2020-01-30 | エスセエ フランス | ホウ素族からの元素をベースにした化合物、および電解質組成物中でのその使用 |
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| JPH11171981A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物 |
-
2000
- 2000-10-30 JP JP2000330438A patent/JP4821041B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US11228057B2 (en) | 2016-12-23 | 2022-01-18 | Sce France | Compounds based on an element from the boron group, and use thereof in electrolyte compositions |
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