JP2575237B2 - 水処理可能な感光性エレメント - Google Patents
水処理可能な感光性エレメントInfo
- Publication number
- JP2575237B2 JP2575237B2 JP3103410A JP10341091A JP2575237B2 JP 2575237 B2 JP2575237 B2 JP 2575237B2 JP 3103410 A JP3103410 A JP 3103410A JP 10341091 A JP10341091 A JP 10341091A JP 2575237 B2 JP2575237 B2 JP 2575237B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- image
- acid
- photosensitive element
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F3/00—Colour separation; Correction of tonal value
- G03F3/10—Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【0001】
【技術分野】本発明は画像複製用の水処理可能な感光性
エレメントに関する。さらに詳しくは光可溶性層、エラ
ストマー層、および支持体とからなる感光性エレメント
に関するものである。
エレメントに関する。さらに詳しくは光可溶性層、エラ
ストマー層、および支持体とからなる感光性エレメント
に関するものである。
【0002】
【背景技術】画像複製用の感光性エレメントはグラフィ
ックアーツの業界で良く知られている。このようなエレ
メントは、原板のポジチブまたはネガチブのいずれかの
複製画像を作るために、色分解原板のような画像をもつ
原板を通じて活性放射線に対して露光をされる。ポジ作
動型のエレメントは原板の複製像、すなわち最終の像中
で原板の着色域は着色されそして原板中の未着色域は未
着色の像を作る。ネガ作動型のエレメントは原板の逆
の、つまり最終画像中で原板の着色域は未着色でそして
原板中の未着色域は着色した像を作る。画像状の露光
後、感光性エレメントは可溶性の画像域をウオッシュア
ウトし、着色材によってトーニングし、剥離し、または
これら各方法を組み合わせたものにより現像される。
ックアーツの業界で良く知られている。このようなエレ
メントは、原板のポジチブまたはネガチブのいずれかの
複製画像を作るために、色分解原板のような画像をもつ
原板を通じて活性放射線に対して露光をされる。ポジ作
動型のエレメントは原板の複製像、すなわち最終の像中
で原板の着色域は着色されそして原板中の未着色域は未
着色の像を作る。ネガ作動型のエレメントは原板の逆
の、つまり最終画像中で原板の着色域は未着色でそして
原板中の未着色域は着色した像を作る。画像状の露光
後、感光性エレメントは可溶性の画像域をウオッシュア
ウトし、着色材によってトーニングし、剥離し、または
これら各方法を組み合わせたものにより現像される。
【0003】一般に、このような感光性エレメントは最
終画像用の受像体の選択に制限がある。例えば、プルー
フの場合一般に印刷作業で用いられている用紙上に最終
の像(プルーフ)を作ることは不可能である。従って、
プルーフは印刷されたコピーと全く同じものと見ること
はできず、プルーフを評価するには相当の経験が必要で
ある。
終画像用の受像体の選択に制限がある。例えば、プルー
フの場合一般に印刷作業で用いられている用紙上に最終
の像(プルーフ)を作ることは不可能である。従って、
プルーフは印刷されたコピーと全く同じものと見ること
はできず、プルーフを評価するには相当の経験が必要で
ある。
【0004】最終画像用の受像体選択の制限に加えて、
像複製用の感光性エレメントの多くは、有機溶剤による
ウオッシュアウトを必要とするという不都合さを有して
いる。例えば、米国特許第4,053,313号(Fan
氏)は溶剤処理可能な感光性層、トーニングしうるエラ
ストマー層、および支持体とからなる感光性エレメント
を示しており、これは水と有機溶剤との混合物により処
理(ウオッシュアウト)される。米国特許第4,376,
158号と同第4,376,159号(Speckler氏)に示
されているエレメントはウオッシュアウトのために水系
の塩基液を必要とする。有機溶剤または水系塩基の使用
は引火性、有毒性、腐食性および/または廃棄物処理な
どの点から好ましいものではない。
像複製用の感光性エレメントの多くは、有機溶剤による
ウオッシュアウトを必要とするという不都合さを有して
いる。例えば、米国特許第4,053,313号(Fan
氏)は溶剤処理可能な感光性層、トーニングしうるエラ
ストマー層、および支持体とからなる感光性エレメント
を示しており、これは水と有機溶剤との混合物により処
理(ウオッシュアウト)される。米国特許第4,376,
158号と同第4,376,159号(Speckler氏)に示
されているエレメントはウオッシュアウトのために水系
の塩基液を必要とする。有機溶剤または水系塩基の使用
は引火性、有毒性、腐食性および/または廃棄物処理な
どの点から好ましいものではない。
【0005】そこで、各種の受像体上に画像を複製する
ことができ、かつ水性の液、好ましくは普通の水道水で
処理することのできる、改良された感光性エレメントが
必要であることはいまも続いているのである。
ことができ、かつ水性の液、好ましくは普通の水道水で
処理することのできる、改良された感光性エレメントが
必要であることはいまも続いているのである。
【0006】
【発明の要点】本発明は水またはうすい塩基溶液で処理
(ウオッシュアウト)することのできる、画像複製用の
感光性エレメントを提供する。この感光性エレメント
は、多層サープリントプルーフのような着色画像を、各
種の所望基体上に作るために用いることができる。
(ウオッシュアウト)することのできる、画像複製用の
感光性エレメントを提供する。この感光性エレメント
は、多層サープリントプルーフのような着色画像を、各
種の所望基体上に作るために用いることができる。
【0007】本発明の1具体例において、着色画像を作
るのに適した感光性エレメントは: (1)(a) 光可溶性化剤と、(b) ポリマー骨格とこの
骨格に結合している懸垂した酸に不安定な基(pendant
acid-labile groups)とをもち、この懸垂した酸に不安
定な基が次の式: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) (ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子の
アルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3
とR4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素
原子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR
2とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる)で表されるものであ
る、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成される光
可溶性層、(2) エラストマー層、および(3) 支持体
とからなるものである、感光性エレメントが提供され
る。
るのに適した感光性エレメントは: (1)(a) 光可溶性化剤と、(b) ポリマー骨格とこの
骨格に結合している懸垂した酸に不安定な基(pendant
acid-labile groups)とをもち、この懸垂した酸に不安
定な基が次の式: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) (ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子の
アルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3
とR4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素
原子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR
2とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる)で表されるものであ
る、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成される光
可溶性層、(2) エラストマー層、および(3) 支持体
とからなるものである、感光性エレメントが提供され
る。
【0008】本発明のいま1つの具体例において、着色
画像を作るために: (A) 次の順序の:(1)(a) 光可溶性化剤と、(b)
ポリマー骨格とこの骨格に結合している懸垂した酸に不
安定な基とをもち、この懸垂した酸に不安定な基が次の
式: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) (ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子の
アルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3
とR4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素
原子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR
2とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる)で表されるものであ
る、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成される光
可溶性層、(2) エラストマー層、および(3) 除去可
能な支持体とからなる、多層の感光性エレメントを用意
し; (B) 像を保持している原板を通じて、活性放射線に対
し前記光可溶性層を露光することにより、前記感光性エ
レメント中に潜像を形成させ; (C) 工程Bで分解した前記の光可溶性層の区域を水系
溶剤で洗うことにより除去し、これによりエラストマー
層の区域を出現させ; (D) 前記の感光性エレメント表面に着色材を付与し、
この着色材料をエラストマー層の出現された区域にだけ
選択的に付着させることにより着色画像を作り; (E) 転写シートとエラストマー層とからなる転写エレ
メントを準備し; (F) 前記転写エレメントのエラストマー層に対して、
着色画像をもつ感光性エレメントの表面をラミネート
し; (G) エラストマー層を出現させるために、前記感光性
エレメントの除去可能な支持体をとり除き;そして (H) 前記感光性エレメントのエラストマー層を受像体
にラミネートするの各工程からなる、着色画像の作成方
法が提供される。
画像を作るために: (A) 次の順序の:(1)(a) 光可溶性化剤と、(b)
ポリマー骨格とこの骨格に結合している懸垂した酸に不
安定な基とをもち、この懸垂した酸に不安定な基が次の
式: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) (ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子の
アルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3
とR4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素
原子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR
2とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる)で表されるものであ
る、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成される光
可溶性層、(2) エラストマー層、および(3) 除去可
能な支持体とからなる、多層の感光性エレメントを用意
し; (B) 像を保持している原板を通じて、活性放射線に対
し前記光可溶性層を露光することにより、前記感光性エ
レメント中に潜像を形成させ; (C) 工程Bで分解した前記の光可溶性層の区域を水系
溶剤で洗うことにより除去し、これによりエラストマー
層の区域を出現させ; (D) 前記の感光性エレメント表面に着色材を付与し、
この着色材料をエラストマー層の出現された区域にだけ
選択的に付着させることにより着色画像を作り; (E) 転写シートとエラストマー層とからなる転写エレ
メントを準備し; (F) 前記転写エレメントのエラストマー層に対して、
着色画像をもつ感光性エレメントの表面をラミネート
し; (G) エラストマー層を出現させるために、前記感光性
エレメントの除去可能な支持体をとり除き;そして (H) 前記感光性エレメントのエラストマー層を受像体
にラミネートするの各工程からなる、着色画像の作成方
法が提供される。
【0009】転写シートはとり除くこともできるし、あ
るいは画像を保護するためにそのままにしておくことも
できる。また、工程Dの後で光可溶性層の残留している
区域を、活性放射線で全面露光しそしてウオッシュアウ
トによりとり除くこともできる。好ましい具体例で、多
色の着色像が工程(A)〜(D)をくり返すことにより
作られる。工程(G)の除去可能な支持体をとり除いた
後で、各画像は2色またはそれ以上の色をもつ画像を作
るために、位置決めの下に転写シートに付着するようラ
ミネートされる。一時的の支持体を最後の着色画像から
とり除き、最終的の多色画像は受像体にラミネートす
る。4色のサープリントプルーフが色分解原板と対応す
るイエロー、マゼンタ、シアンおよび黒の各着色材を選
定することにより作られる。
るいは画像を保護するためにそのままにしておくことも
できる。また、工程Dの後で光可溶性層の残留している
区域を、活性放射線で全面露光しそしてウオッシュアウ
トによりとり除くこともできる。好ましい具体例で、多
色の着色像が工程(A)〜(D)をくり返すことにより
作られる。工程(G)の除去可能な支持体をとり除いた
後で、各画像は2色またはそれ以上の色をもつ画像を作
るために、位置決めの下に転写シートに付着するようラ
ミネートされる。一時的の支持体を最後の着色画像から
とり除き、最終的の多色画像は受像体にラミネートす
る。4色のサープリントプルーフが色分解原板と対応す
るイエロー、マゼンタ、シアンおよび黒の各着色材を選
定することにより作られる。
【0010】〔発明の具体的説明〕本発明は着色画像を
作るのに適した感光性エレメントと方法とを提供するも
のである。この感光性エレメントは酸に不安定なポリマ
ーと光可溶性化剤とから本質的に構成される光可溶性
層;エラストマー層;および支持体を有している。
作るのに適した感光性エレメントと方法とを提供するも
のである。この感光性エレメントは酸に不安定なポリマ
ーと光可溶性化剤とから本質的に構成される光可溶性
層;エラストマー層;および支持体を有している。
【0011】〔酸に不安定なポリマー〕酸に不安定なポ
リマーはポリマー骨格とこのポリマー骨格に直接または
間接に結合する懸垂した酸に不安定な官能基のくり返し
とを有している。この酸に不安定な基は以下の構成式に
より表わされる: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子のア
ルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3と
R4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素原
子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR2
とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる。
リマーはポリマー骨格とこのポリマー骨格に直接または
間接に結合する懸垂した酸に不安定な官能基のくり返し
とを有している。この酸に不安定な基は以下の構成式に
より表わされる: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子のア
ルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3と
R4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素原
子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR2
とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる。
【0012】この説明にはR1とR2、R1とR3またはR
2とR3とが5−、6−または7−員環を形成するように
結合しているポリマーを含んでいる。例えば、R2とR3
とが(CH2)3で結合されているとき、6員のテトラハイ
ドロピラニル環が形成される。
2とR3とが5−、6−または7−員環を形成するように
結合しているポリマーを含んでいる。例えば、R2とR3
とが(CH2)3で結合されているとき、6員のテトラハイ
ドロピラニル環が形成される。
【0013】ポリマー骨格は重合中に形成される原子お
よび/または部分の鎖から構成される。酸に不安定な基
は、テトラハイドロピラニルメタアクリレートのホモポ
リマーであるポリ(THPMA)、およびテトラハイド
ロピラニルアクリレートのホモポリマーであるポリ(T
HPA)のように、ポリマー骨格に対して中継原子なし
に直接結合することができる。ポリマー骨格と酸に不安
定な基との間には、1個またはそれ以上の付加的の原子
が存在することができる。このような間接的の結合の例
にポリスチレンがあり、これでは酸に不安定な基が重合
したスチレンのフェニル基に結合されている。
よび/または部分の鎖から構成される。酸に不安定な基
は、テトラハイドロピラニルメタアクリレートのホモポ
リマーであるポリ(THPMA)、およびテトラハイド
ロピラニルアクリレートのホモポリマーであるポリ(T
HPA)のように、ポリマー骨格に対して中継原子なし
に直接結合することができる。ポリマー骨格と酸に不安
定な基との間には、1個またはそれ以上の付加的の原子
が存在することができる。このような間接的の結合の例
にポリスチレンがあり、これでは酸に不安定な基が重合
したスチレンのフェニル基に結合されている。
【0014】本発明の実施に際しその他のポリマーを用
いることもできるが、アクリレートおよびメタアクリレ
ートポリマーが好ましい。少量のその他のモノマーを存
在させることもできるが、基本的のポリマー骨格はアク
リレートおよび/またはメタアクリレートモノマーの1
個またはそれ以上のくり返し単位をもつものである。一
般に、これらのポリマーは光溶解性化剤を活性化するた
めに用いる活性放射線を吸収しないし、通常の合成法に
より容易に作られ、エラストマー層によく接着し、光溶
解性化剤と相溶性であり、そしてトーニングに際してト
ナーを受け入れない。
いることもできるが、アクリレートおよびメタアクリレ
ートポリマーが好ましい。少量のその他のモノマーを存
在させることもできるが、基本的のポリマー骨格はアク
リレートおよび/またはメタアクリレートモノマーの1
個またはそれ以上のくり返し単位をもつものである。一
般に、これらのポリマーは光溶解性化剤を活性化するた
めに用いる活性放射線を吸収しないし、通常の合成法に
より容易に作られ、エラストマー層によく接着し、光溶
解性化剤と相溶性であり、そしてトーニングに際してト
ナーを受け入れない。
【0015】酸に不安定なポリマーの各特性はモノマー
と重合法を選択することにより調整できる。ポリマーは
各種の酸に不安定なモノマーのホモポリマー、ランダム
またはブロックコポリマー、ターポリマーもしくはより
高次のポリマーのいずれであっても良い。コポリマーお
よびより高次のポリマーは、メチルメタアクリレート、
エチルメタアクリレート、フルフリルメタアクリレー
ト、ベンジルメタアクリレート、およびスチレンのよう
な、酸に不安定でない普通のモノマーを含むこともでき
る。少量の(代表的に5モル%以下)グリシジルメタア
クリレートまたは類似のモノマーを、接着性を良くする
ため含めることができる。しかしながら、容易に加水分
解または熱分解するような基をもつモノマー類は含める
ことはできない。
と重合法を選択することにより調整できる。ポリマーは
各種の酸に不安定なモノマーのホモポリマー、ランダム
またはブロックコポリマー、ターポリマーもしくはより
高次のポリマーのいずれであっても良い。コポリマーお
よびより高次のポリマーは、メチルメタアクリレート、
エチルメタアクリレート、フルフリルメタアクリレー
ト、ベンジルメタアクリレート、およびスチレンのよう
な、酸に不安定でない普通のモノマーを含むこともでき
る。少量の(代表的に5モル%以下)グリシジルメタア
クリレートまたは類似のモノマーを、接着性を良くする
ため含めることができる。しかしながら、容易に加水分
解または熱分解するような基をもつモノマー類は含める
ことはできない。
【0016】水または水性の塩基液(0.4N水酸化ナ
トリウム液など)による効率的なウオッシュアウトのた
めに、ポリマー骨格は酸に不安定なモノマーまたはモノ
マー類のくり返し単位を、少なくとも50モル%もつこ
とが好ましい。1つの例は、テトラハイドロピラニルメ
タアクリレート50モル%とフルフリルメタアクリレー
ト50モル%を含むコポリマーである、50:50ポリ
(THPMA/FMA)である。酸に不安定なアクリレ
ートおよび/またはメタアクリレートモノマーの、1種
または数種のくり返し単位から本質的に構成されるポリ
マーは特に有用である。この例は1−(エトキシ)−プ
ロピルメタアクリレートのホモポリマーであるポリ(E
PMA)、およびテトラハイドロピラニルメタアクリレ
ート59モル%とテトラハイドロピラニルアクリレート
41モル%とのコポリマーである59:41ポリ(TH
PMA/THPA)である。好ましい酸に不安定な基
は、前記一般式中(1)R1はH;R2は1から約4炭素
原子のアルキル;R3はHまたはCH3;そしてR4はH
であるか、もしくは(2)R1はH;R2とR3は(CH2)
3;そしてR4はHである。
トリウム液など)による効率的なウオッシュアウトのた
めに、ポリマー骨格は酸に不安定なモノマーまたはモノ
マー類のくり返し単位を、少なくとも50モル%もつこ
とが好ましい。1つの例は、テトラハイドロピラニルメ
タアクリレート50モル%とフルフリルメタアクリレー
ト50モル%を含むコポリマーである、50:50ポリ
(THPMA/FMA)である。酸に不安定なアクリレ
ートおよび/またはメタアクリレートモノマーの、1種
または数種のくり返し単位から本質的に構成されるポリ
マーは特に有用である。この例は1−(エトキシ)−プ
ロピルメタアクリレートのホモポリマーであるポリ(E
PMA)、およびテトラハイドロピラニルメタアクリレ
ート59モル%とテトラハイドロピラニルアクリレート
41モル%とのコポリマーである59:41ポリ(TH
PMA/THPA)である。好ましい酸に不安定な基
は、前記一般式中(1)R1はH;R2は1から約4炭素
原子のアルキル;R3はHまたはCH3;そしてR4はH
であるか、もしくは(2)R1はH;R2とR3は(CH2)
3;そしてR4はHである。
【0017】さらに好ましいのは酸に不安定なアクリレ
ートポリマーであり、ここでポリマー骨格は酸に不安定
なアクリレートモノマーの1種または数種のくり返し単
位から本質的に構成されている。アクリレートポリマー
用の好ましい酸に不安定な基は(1)R1はH;R2は1
から約4炭素原子のアルキル;R3はHまたはCH3;そ
してR4はHであるか、もしくは(2)R1はH;R2と
R3は(CH2)3;そしてR4はHである。もっとも好まし
いポリマーはポリ(THPA)で、このポリマーでR1
はH;R2とR3は(CH2)3;そしてR4はHである。こ
のポリマーのポリマー骨格はテトラハイドロピラニルア
クリレートのくり返し単位から本質的に構成されてい
る。このポリマーは低いガラス転位点温度(Tg)を有し
ているため、このポリマーから作った光可溶性層は可撓
性支持体上に塗布したときひび割れを生じない。
ートポリマーであり、ここでポリマー骨格は酸に不安定
なアクリレートモノマーの1種または数種のくり返し単
位から本質的に構成されている。アクリレートポリマー
用の好ましい酸に不安定な基は(1)R1はH;R2は1
から約4炭素原子のアルキル;R3はHまたはCH3;そ
してR4はHであるか、もしくは(2)R1はH;R2と
R3は(CH2)3;そしてR4はHである。もっとも好まし
いポリマーはポリ(THPA)で、このポリマーでR1
はH;R2とR3は(CH2)3;そしてR4はHである。こ
のポリマーのポリマー骨格はテトラハイドロピラニルア
クリレートのくり返し単位から本質的に構成されてい
る。このポリマーは低いガラス転位点温度(Tg)を有し
ているため、このポリマーから作った光可溶性層は可撓
性支持体上に塗布したときひび割れを生じない。
【0018】酸に不安定なポリマーは(1)普通の重合
法を用いる酸に不安定なモノマーの重合、または(2)
ビニルエーテルと、カルボン酸および/またはエステル
基を含むポリマーとの酸触媒反応のようなプレポリマー
の誘導体化、により作ることができる。酸に不安定なモ
ノマーは通常の合成法により作ることができる。1つの
例は、エチルビニルエーテルまたはジヒドロピランのよ
うなアルキルビニルエーテルとメタアクリル酸との酸触
媒反応である。これらモノマーは米国特許第4,417,
034号中で述べられているようなグループ移動(grou
p transfer)重合;フリーラジカル重合;またはアニオ
ン重合のようなその他の普通の重合法により重合させる
ことができる。
法を用いる酸に不安定なモノマーの重合、または(2)
ビニルエーテルと、カルボン酸および/またはエステル
基を含むポリマーとの酸触媒反応のようなプレポリマー
の誘導体化、により作ることができる。酸に不安定なモ
ノマーは通常の合成法により作ることができる。1つの
例は、エチルビニルエーテルまたはジヒドロピランのよ
うなアルキルビニルエーテルとメタアクリル酸との酸触
媒反応である。これらモノマーは米国特許第4,417,
034号中で述べられているようなグループ移動(grou
p transfer)重合;フリーラジカル重合;またはアニオ
ン重合のようなその他の普通の重合法により重合させる
ことができる。
【0019】グループ移動重合は高い再現性でほぼ単分
散(メタアクリレートモノマーの重合およびアクリレー
トモノマーの多少高次の重合に対し1.75以下の多分
散度で)のものを生成する。グループ移動重合はメタア
クリレートおよびアクリレートモノマーの重合に特に適
している。ポリマーの分子量はモノマーと開始剤との割
合に関係し;多分散性は重合条件にもっぱら関係する。
グループ移動重合における多分散性を調整する方法は、
I.B. Dicker氏他によりPolym. Prepr., Am. Chem. So
c., Div. Polym. Chem., 1987, 28(1), 10
6中で示されている。
散(メタアクリレートモノマーの重合およびアクリレー
トモノマーの多少高次の重合に対し1.75以下の多分
散度で)のものを生成する。グループ移動重合はメタア
クリレートおよびアクリレートモノマーの重合に特に適
している。ポリマーの分子量はモノマーと開始剤との割
合に関係し;多分散性は重合条件にもっぱら関係する。
グループ移動重合における多分散性を調整する方法は、
I.B. Dicker氏他によりPolym. Prepr., Am. Chem. So
c., Div. Polym. Chem., 1987, 28(1), 10
6中で示されている。
【0020】〔光可溶性化剤〕活性放射線により活性化
されたとき、光可溶性化剤は酸を生成し、これは酸に不
安定なポリマーの分解を触媒する。このものは直接的に
させることもできるし、あるいは露光されたときこのも
のに酸を遊離させるようにする増感剤を含む系とするこ
ともできる。
されたとき、光可溶性化剤は酸を生成し、これは酸に不
安定なポリマーの分解を触媒する。このものは直接的に
させることもできるし、あるいは露光されたときこのも
のに酸を遊離させるようにする増感剤を含む系とするこ
ともできる。
【0021】この目的のために用いることのできる化合
物と混合物の例はジアゾニウム、ホスホニウム、スルホ
ニウムおよびヨードニウム塩類;ハロゲン化合物;o−
キノンジアジドスルホクロライド;オルガノメタル/オ
ルガノハロゲンの組み合わせ;強酸、例えばトルエンス
ルホン酸のo−ニトロベンジルおよびベンゾインエステ
ル;および米国特許第4,371,605号中で示された
N−ヒドロキシアミドおよびイミドのスルホネート類な
どである。好ましい光可溶性化剤はジアリールヨードニ
ウムまたはトリアリールスルホニウムの塩類で、一般的
にテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロアンチモネ
ート、ヘキサフルオロアルゼネート、およびヘキサフル
オロホスフェートのような金属錯ハライドイオンとの塩
類である。
物と混合物の例はジアゾニウム、ホスホニウム、スルホ
ニウムおよびヨードニウム塩類;ハロゲン化合物;o−
キノンジアジドスルホクロライド;オルガノメタル/オ
ルガノハロゲンの組み合わせ;強酸、例えばトルエンス
ルホン酸のo−ニトロベンジルおよびベンゾインエステ
ル;および米国特許第4,371,605号中で示された
N−ヒドロキシアミドおよびイミドのスルホネート類な
どである。好ましい光可溶性化剤はジアリールヨードニ
ウムまたはトリアリールスルホニウムの塩類で、一般的
にテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロアンチモネ
ート、ヘキサフルオロアルゼネート、およびヘキサフル
オロホスフェートのような金属錯ハライドイオンとの塩
類である。
【0022】活性放射線の有効波長にスペクトル感度を
合わすため、系に対し増感剤を添加することが望まし
い。この必要性は使用した特定の感光性化合物および系
の要求とに関係する。例えば、ヨードニウムおよびスル
ホニウム塩は300nm以下の波長に対してだけ感光性で
ある。これらの化合物はペリレン、ピレン、アンスラセ
ンおよびこれらの誘導体のような、多環芳香族炭化水素
の使用でさらに長い波長に対して増感することができ
る。ジアリールヨードニウムとトリアリールスルホニウ
ム塩の分解は、ビス−(p−N,N−ジメチルアミノベ
ンジリデン)−アセトンにより増感することもできる。
カラープルーフ用の利用のためには、光可溶性層中の色
素の使用、特にその吸収がスペクトルの可視域中に充分
拡がっているものは、得られる画像の色調に影響するの
で好ましくない。
合わすため、系に対し増感剤を添加することが望まし
い。この必要性は使用した特定の感光性化合物および系
の要求とに関係する。例えば、ヨードニウムおよびスル
ホニウム塩は300nm以下の波長に対してだけ感光性で
ある。これらの化合物はペリレン、ピレン、アンスラセ
ンおよびこれらの誘導体のような、多環芳香族炭化水素
の使用でさらに長い波長に対して増感することができ
る。ジアリールヨードニウムとトリアリールスルホニウ
ム塩の分解は、ビス−(p−N,N−ジメチルアミノベ
ンジリデン)−アセトンにより増感することもできる。
カラープルーフ用の利用のためには、光可溶性層中の色
素の使用、特にその吸収がスペクトルの可視域中に充分
拡がっているものは、得られる画像の色調に影響するの
で好ましくない。
【0023】3〜4個の原子の長さの鎖でアンスラセン
に結合したスルホニウム塩は効果的な光可溶性化剤であ
る。M.G. Tilley氏のノースダコタ州立大学の1988
年度学位論文〔Diss. Abstr. Int. B. 49,3791
(1988); Chem. Abstr.,111,39942u〕
中で示された、これらの化合物は光可溶性化剤の好まし
いクラスのものである。もっとも好ましい光可溶性化剤
はATASS、すなわち、スルホニウム、〔3−(9−
アンスラセニル)プロピル〕ジフェニル−、ヘキサフル
オロアンチモネート〔−1〕であり、アンスラセンとス
ルホニウム塩とが3個の炭素鎖により結合されている化
合物である。
に結合したスルホニウム塩は効果的な光可溶性化剤であ
る。M.G. Tilley氏のノースダコタ州立大学の1988
年度学位論文〔Diss. Abstr. Int. B. 49,3791
(1988); Chem. Abstr.,111,39942u〕
中で示された、これらの化合物は光可溶性化剤の好まし
いクラスのものである。もっとも好ましい光可溶性化剤
はATASS、すなわち、スルホニウム、〔3−(9−
アンスラセニル)プロピル〕ジフェニル−、ヘキサフル
オロアンチモネート〔−1〕であり、アンスラセンとス
ルホニウム塩とが3個の炭素鎖により結合されている化
合物である。
【0024】光可溶性層中の光可溶性化剤の分量は、望
ましくない感度の犠牲をさけるため一般にできるだけ少
量とすべきで、代表的に光可溶性層の約0.1〜5重量
%の範囲である。約0.1%以下では一般に不感光性の
組成物となり、同時に約5%以上の重量%では相溶性と
コントロール上の問題とを生ずる。大部分の酸活性ポリ
マーでは、光可溶性層中で約0.5〜3重量%の光可溶
性化剤の使用が好ましい。
ましくない感度の犠牲をさけるため一般にできるだけ少
量とすべきで、代表的に光可溶性層の約0.1〜5重量
%の範囲である。約0.1%以下では一般に不感光性の
組成物となり、同時に約5%以上の重量%では相溶性と
コントロール上の問題とを生ずる。大部分の酸活性ポリ
マーでは、光可溶性層中で約0.5〜3重量%の光可溶
性化剤の使用が好ましい。
【0025】〔エラストマー層〕エラストマー層は粘着
性のまたは多少軟かな、変形可能な有機材料である。良
好な保存安定性をもつエレメントのために、エラストマ
ー層用に適した材料は光可溶性層からエラストマー層へ
の拡散を阻止すべきである。これに加えて、これらの材
料は光可溶性層中に移動しないものでなければならな
い。ブタジエンまたはイソプレンのポリマー;スチレン
と共重合したブタジエンとイソプレンのランダム、テレ
ブロックおよびブロックコポリマー類、および約5から
約10の炭素原子を含むアルファ−オレフィンのポリマ
ーなどを好都合に選定することができる。ポリ(アルフ
ァ−オレフィン)、特にポリ(1−オクテン)が好まし
い。現像された画像が層を通して眺められる用途のため
に、エラストマー層は透明でなければならないことは明
らかであろう。
性のまたは多少軟かな、変形可能な有機材料である。良
好な保存安定性をもつエレメントのために、エラストマ
ー層用に適した材料は光可溶性層からエラストマー層へ
の拡散を阻止すべきである。これに加えて、これらの材
料は光可溶性層中に移動しないものでなければならな
い。ブタジエンまたはイソプレンのポリマー;スチレン
と共重合したブタジエンとイソプレンのランダム、テレ
ブロックおよびブロックコポリマー類、および約5から
約10の炭素原子を含むアルファ−オレフィンのポリマ
ーなどを好都合に選定することができる。ポリ(アルフ
ァ−オレフィン)、特にポリ(1−オクテン)が好まし
い。現像された画像が層を通して眺められる用途のため
に、エラストマー層は透明でなければならないことは明
らかであろう。
【0026】〔支持体〕エラストマー層は支持体の上に
存在している。この支持体は必要な硬さと寸法上の安定
性、エラストマー層に対する接着性、ウオッシュアウト
に用いる溶剤、すなわち、水またはうすい水性塩基液、
に対する抵抗性などをもつどんな材料でも良い。支持体
は好ましく平滑なものである。支持体として有用なもの
には写真用級のポリエチレンテレフタレートのようなフ
ィルムで、Alles氏の米国特許第2,779,684号中
で述べられたような下引をすることができ;アイ・シー
・アイ アメリカ社で販売しているメリネックスR のよ
うな接着性下引をした不透明ポリエチレンテレフタレー
トフィルムベース;および水系溶剤に対する耐性処理を
した紙などが含まれる。接着性下引をした不透明ポリエ
チレンテレフタレートフィルムベースがこの用途に好ま
しい。画像が形成後に別の基体に転写されるとき、支持
体はシリコン処理をしたポリエチレンテレフタレートフ
ィルムのような、エラストマー層を剥離しうるものが選
ばれる。
存在している。この支持体は必要な硬さと寸法上の安定
性、エラストマー層に対する接着性、ウオッシュアウト
に用いる溶剤、すなわち、水またはうすい水性塩基液、
に対する抵抗性などをもつどんな材料でも良い。支持体
は好ましく平滑なものである。支持体として有用なもの
には写真用級のポリエチレンテレフタレートのようなフ
ィルムで、Alles氏の米国特許第2,779,684号中
で述べられたような下引をすることができ;アイ・シー
・アイ アメリカ社で販売しているメリネックスR のよ
うな接着性下引をした不透明ポリエチレンテレフタレー
トフィルムベース;および水系溶剤に対する耐性処理を
した紙などが含まれる。接着性下引をした不透明ポリエ
チレンテレフタレートフィルムベースがこの用途に好ま
しい。画像が形成後に別の基体に転写されるとき、支持
体はシリコン処理をしたポリエチレンテレフタレートフ
ィルムのような、エラストマー層を剥離しうるものが選
ばれる。
【0027】1色の画像は、すべてが正しい位置と適切
な間隔でいるかを確めるためにつくられるプルーフであ
る、“組版プルーフ”として支持体上でそのまま用いる
ことができる。一方、くっつくのを阻止するため支持体
をそのままとして透明な受像体エレメントに接着するこ
ともできるし、またオーバーレイプルーフを作るため像
を重ねて互いに粘着させることもできる。位置決めの下
につみ重ねる個々のエレメントは組版プルーフ用に使用
することもできる。
な間隔でいるかを確めるためにつくられるプルーフであ
る、“組版プルーフ”として支持体上でそのまま用いる
ことができる。一方、くっつくのを阻止するため支持体
をそのままとして透明な受像体エレメントに接着するこ
ともできるし、またオーバーレイプルーフを作るため像
を重ねて互いに粘着させることもできる。位置決めの下
につみ重ねる個々のエレメントは組版プルーフ用に使用
することもできる。
【0028】〔製造〕光可溶性層は、各成分を2−ブタ
ノンのような適当な溶剤中に、通常約10:90(固体
対溶剤)の重量比で混合し、塗布し、そして溶剤を蒸発
することにより作られる。塗膜は均一でなければならな
い。代表的な塗布重量は40mg/dm2で、約0.004mm
の乾燥膜厚を生ずる。
ノンのような適当な溶剤中に、通常約10:90(固体
対溶剤)の重量比で混合し、塗布し、そして溶剤を蒸発
することにより作られる。塗膜は均一でなければならな
い。代表的な塗布重量は40mg/dm2で、約0.004mm
の乾燥膜厚を生ずる。
【0029】エラストマー層を塗布するために適当な溶
剤はどれも用いることができる。エラストマー層と光可
溶性層とを同時に塗布するとき、溶剤は層間で成分の著
しい移動を生じないものでなければならない。塗布は均
一に、そして代表的に乾燥したとき3〜15μ、好まし
く7〜12μの膜厚をもつようにする。乾燥塗布重量は
約30〜150mg/dm2、好ましく70〜120mg/dm2
であるが、エラストマー層がポリ(アルファ−オレフィ
ン)であるときは多少うすい塗膜を使用することができ
る。
剤はどれも用いることができる。エラストマー層と光可
溶性層とを同時に塗布するとき、溶剤は層間で成分の著
しい移動を生じないものでなければならない。塗布は均
一に、そして代表的に乾燥したとき3〜15μ、好まし
く7〜12μの膜厚をもつようにする。乾燥塗布重量は
約30〜150mg/dm2、好ましく70〜120mg/dm2
であるが、エラストマー層がポリ(アルファ−オレフィ
ン)であるときは多少うすい塗膜を使用することができ
る。
【0030】感光性エレメントは普通の塗布技術を用い
て作られる。例えば、エラストマー層を支持体上に塗布
し、溶剤の蒸発後、光可溶性層がこのエラストマー層の
上に塗布される。エレメントを使用するまでの間光可溶
性層を保護するために、ポリエチレンカバーシートのよ
うなレリーズフィルムを用いることができる。
て作られる。例えば、エラストマー層を支持体上に塗布
し、溶剤の蒸発後、光可溶性層がこのエラストマー層の
上に塗布される。エレメントを使用するまでの間光可溶
性層を保護するために、ポリエチレンカバーシートのよ
うなレリーズフィルムを用いることができる。
【0031】別の方法で、光可溶性層はカバーシート上
に塗布をしてもよい。溶剤の蒸発後、ポリエチレンのよ
うなレリーズフィルムを、エレメントの残りが形成され
るまでこの光可溶性層を保護するため、任意的にこの塗
膜上に置くことができる。エラストマー層はこの光可溶
性層上に塗布するが、レリーズフィルムが光可溶性層上
に存在しているときは、エラストマー層を塗布する前に
これはとり除かれる。溶剤が蒸発した後、エラストマー
層の表面に支持体がラミネートされる。エラストマー層
用の溶剤は光可溶性層を溶解せずまたは悪い作用をしな
いものでなければならない。
に塗布をしてもよい。溶剤の蒸発後、ポリエチレンのよ
うなレリーズフィルムを、エレメントの残りが形成され
るまでこの光可溶性層を保護するため、任意的にこの塗
膜上に置くことができる。エラストマー層はこの光可溶
性層上に塗布するが、レリーズフィルムが光可溶性層上
に存在しているときは、エラストマー層を塗布する前に
これはとり除かれる。溶剤が蒸発した後、エラストマー
層の表面に支持体がラミネートされる。エラストマー層
用の溶剤は光可溶性層を溶解せずまたは悪い作用をしな
いものでなければならない。
【0032】いま1つの方法は、カバーシート上に光可
溶性層を塗布し、そして支持体上にはエラストマー層を
塗布する。ついで、この光可溶性層とエラストマー層と
は、周囲温度または高められた温度において圧力下に互
いにラミネートする。
溶性層を塗布し、そして支持体上にはエラストマー層を
塗布する。ついで、この光可溶性層とエラストマー層と
は、周囲温度または高められた温度において圧力下に互
いにラミネートする。
【0033】エレメントはまた通常の多層塗布法を用い
て作ることもできる。光可溶性層とエラストマー層とは
カバーシート上に同時に塗布し、そして支持体がこのエ
ラストマー層にラミネートされる。一方、光可溶性層と
エラストマー層とは支持体上に同時に塗布することがで
き、そして任意的にカバーシートがこの光可溶性層にラ
ミネートされる。
て作ることもできる。光可溶性層とエラストマー層とは
カバーシート上に同時に塗布し、そして支持体がこのエ
ラストマー層にラミネートされる。一方、光可溶性層と
エラストマー層とは支持体上に同時に塗布することがで
き、そして任意的にカバーシートがこの光可溶性層にラ
ミネートされる。
【0034】〔露光/画像の形成〕光可溶性化剤により
吸収される活性放射線を与える通常の光源をどれでも選
定することができる。“活性放射線”とは酸に不安定な
ポリマーの分解を触媒する酸を生成するため活性な放射
線のことである。この放射線は天然または人工の、単色
光または多色光の、コヒーレントのまたはコヒーレント
でないもの、のいずれでも良い。効率的な画像形成のた
めに、活性放射線の大部分は光可溶性化剤により吸収さ
れなければならない。
吸収される活性放射線を与える通常の光源をどれでも選
定することができる。“活性放射線”とは酸に不安定な
ポリマーの分解を触媒する酸を生成するため活性な放射
線のことである。この放射線は天然または人工の、単色
光または多色光の、コヒーレントのまたはコヒーレント
でないもの、のいずれでも良い。効率的な画像形成のた
めに、活性放射線の大部分は光可溶性化剤により吸収さ
れなければならない。
【0035】活性放射線の普通の光源にはケイ光燈、水
銀蒸気、水銀−キセノン、金属添加などとアーク燈が含
まれる。コヒーレント放射線の有用な光源は、光可溶性
化剤の吸収帯内に入るかまたはこれに重なる放出光をも
つレーザーである。露光は通常ハーフトーン像をもつ原
板、好ましくハーフトーン色分解原板を通じて行われ
る。しかしながら、変調した走査レーザービーム、CR
T(陰極管)、その他のような別の手段もエレメントの
画像状露光方法である。
銀蒸気、水銀−キセノン、金属添加などとアーク燈が含
まれる。コヒーレント放射線の有用な光源は、光可溶性
化剤の吸収帯内に入るかまたはこれに重なる放出光をも
つレーザーである。露光は通常ハーフトーン像をもつ原
板、好ましくハーフトーン色分解原板を通じて行われ
る。しかしながら、変調した走査レーザービーム、CR
T(陰極管)、その他のような別の手段もエレメントの
画像状露光方法である。
【0036】普通のネガチブハーフトーン分解原板から
ネガのサープリントプルーフを作るため、任意的なカバ
ーシートが存在するときはエレメントからとり除かれ
る。ついでこのエレメントはネガチブ分解原板を通じて
活性放射線に対して露光をする。この他、任意的のカバ
ーシートは露光中そのままにしておき、露光後とり除く
こともできる。露光は原板と感光性エレメント間の良好
な接触を確実とするため、標準的な真空焼枠中で通常行
われる。
ネガのサープリントプルーフを作るため、任意的なカバ
ーシートが存在するときはエレメントからとり除かれ
る。ついでこのエレメントはネガチブ分解原板を通じて
活性放射線に対して露光をする。この他、任意的のカバ
ーシートは露光中そのままにしておき、露光後とり除く
こともできる。露光は原板と感光性エレメント間の良好
な接触を確実とするため、標準的な真空焼枠中で通常行
われる。
【0037】数分間、好ましく2〜3分周囲温度に放置
した後、露光済みエレメントは適当な溶剤によってウオ
ッシュアウトする。ウオッシュアウト用の溶剤と条件の
選定は、光可溶性層用に選択した酸に不安定なポリマー
に関係する。一般的に、酸に不安定でないモノマーの実
質的量を含むコポリマーでは、0.4N水酸化ナトリウ
ムのような塩基液を必要とする。本質的に酸に不安定な
モノマーから構成されるポリマーとコポリマーでは、周
囲温度の水道水中でウオッシュアウトすることができ
る。酸に不安定なアクリレートモノマーから本質的に構
成される酸に不安定なポリマーは、酸に不安定なメタア
クリレートモノマーを含むポリマーよりも水道水を用い
てさらに迅速にウオッシュアウトされる。ウオッシュア
ウトの溶剤の温度は、高い温度でエラストマー層の変形
が生ずるから、周囲温度を余り大きく越えてはならな
い。ウオッシュアウト中、露光済みのエレメントはおだ
やかにブラシがけするかまたは綿でこすられる。ウオッ
シュアウト後、エレメントは風乾するかまたは強制空気
乾燥をする。
した後、露光済みエレメントは適当な溶剤によってウオ
ッシュアウトする。ウオッシュアウト用の溶剤と条件の
選定は、光可溶性層用に選択した酸に不安定なポリマー
に関係する。一般的に、酸に不安定でないモノマーの実
質的量を含むコポリマーでは、0.4N水酸化ナトリウ
ムのような塩基液を必要とする。本質的に酸に不安定な
モノマーから構成されるポリマーとコポリマーでは、周
囲温度の水道水中でウオッシュアウトすることができ
る。酸に不安定なアクリレートモノマーから本質的に構
成される酸に不安定なポリマーは、酸に不安定なメタア
クリレートモノマーを含むポリマーよりも水道水を用い
てさらに迅速にウオッシュアウトされる。ウオッシュア
ウトの溶剤の温度は、高い温度でエラストマー層の変形
が生ずるから、周囲温度を余り大きく越えてはならな
い。ウオッシュアウト中、露光済みのエレメントはおだ
やかにブラシがけするかまたは綿でこすられる。ウオッ
シュアウト後、エレメントは風乾するかまたは強制空気
乾燥をする。
【0038】画像は、一般にトナーとして知られてい
る、適当な着色材料を付与することにより現像する。こ
のトナーはウオッシュアウトに際して出現したエラスト
マー層の部分に付着する。余分のトナーをふり落とした
後、トナー粒子はエラストマー層の出現された部分にだ
け付着する。適当なトナーは、Chu氏他の米国特許第3,
620,726号;Gray氏の米国特許第3,909,28
2号;Manger氏他の米国特許第4,215,193号;お
よびRuskin氏の米国特許第4,661,439号などに述
べられている。トナーは、トナー中に入れたパッドによ
るふりかけ(Burg氏他の米国特許第3,060,024
号);転写(Burg氏他の米国特許第3,060,025
号);手動装置によるトーニング(Sander氏の米国特許
第4,019,821号);および自動装置のトーニング
(Tobias氏の米国特許第4,069,791号)などの手
段により付与される。
る、適当な着色材料を付与することにより現像する。こ
のトナーはウオッシュアウトに際して出現したエラスト
マー層の部分に付着する。余分のトナーをふり落とした
後、トナー粒子はエラストマー層の出現された部分にだ
け付着する。適当なトナーは、Chu氏他の米国特許第3,
620,726号;Gray氏の米国特許第3,909,28
2号;Manger氏他の米国特許第4,215,193号;お
よびRuskin氏の米国特許第4,661,439号などに述
べられている。トナーは、トナー中に入れたパッドによ
るふりかけ(Burg氏他の米国特許第3,060,024
号);転写(Burg氏他の米国特許第3,060,025
号);手動装置によるトーニング(Sander氏の米国特許
第4,019,821号);および自動装置のトーニング
(Tobias氏の米国特許第4,069,791号)などの手
段により付与される。
【0039】光可溶性層はウオッシュアウトとトーニン
グの後も光活性のままでいるから、処理済みのエレメン
トは活性放射線に対して全面露光をし、そして光可溶性
層の残留部分をウオッシュアウトすることができる。こ
の任意的の露光とウオッシュアウト工程で、支持体とト
ーニングされたエラストマー層とで構成される画像が作
られる。これらのエレメントはSpeckeler氏の米国特許
第4,375,158号により述べられている方法に用い
ることもできる。
グの後も光活性のままでいるから、処理済みのエレメン
トは活性放射線に対して全面露光をし、そして光可溶性
層の残留部分をウオッシュアウトすることができる。こ
の任意的の露光とウオッシュアウト工程で、支持体とト
ーニングされたエラストマー層とで構成される画像が作
られる。これらのエレメントはSpeckeler氏の米国特許
第4,375,158号により述べられている方法に用い
ることもできる。
【0040】ウオッシュアウトとトーニング後の光可溶
性層がとり除かれない場合、この処理済みのエレメント
は付加的能力をもつことになろう。つまり光可溶性層の
残留部分が、第2の画像を作るためにさらに像状露光さ
れ、ウオッシュアウトし、そしてトーニングし得るので
ある。この第2の画像は前に作った画像域と重複しない
ようにすべきである。
性層がとり除かれない場合、この処理済みのエレメント
は付加的能力をもつことになろう。つまり光可溶性層の
残留部分が、第2の画像を作るためにさらに像状露光さ
れ、ウオッシュアウトし、そしてトーニングし得るので
ある。この第2の画像は前に作った画像域と重複しない
ようにすべきである。
【0041】処理済みのエレメントは、単色のサープリ
ントプルーフを必要とするときは、さらに処理をするこ
となく用いられる。最終の画像は露光しウオッシュアウ
トされた光可溶性層、トーニングされたエラストマー
層、および支持体から構成される。この目的のためには
除去可能な支持体は必要としない。しかしながら、別の
基体に対する転写が必要なときには、シリコン処理をし
たポリエチレンテレフタレートフィルムのような剥離可
能な支持体を用いねばならない。
ントプルーフを必要とするときは、さらに処理をするこ
となく用いられる。最終の画像は露光しウオッシュアウ
トされた光可溶性層、トーニングされたエラストマー
層、および支持体から構成される。この目的のためには
除去可能な支持体は必要としない。しかしながら、別の
基体に対する転写が必要なときには、シリコン処理をし
たポリエチレンテレフタレートフィルムのような剥離可
能な支持体を用いねばならない。
【0042】画像は転写シートとエラストマー層とから
なる転写エレメントを用いて転写することができる。一
般に支持体として用いられる材料は、また転写シートと
して使用することもできる。感光性エレメントのエラス
トマー層のため用いた材料は、また転写エレメントのエ
ラストマー層用に使用することもできる。
なる転写エレメントを用いて転写することができる。一
般に支持体として用いられる材料は、また転写シートと
して使用することもできる。感光性エレメントのエラス
トマー層のため用いた材料は、また転写エレメントのエ
ラストマー層用に使用することもできる。
【0043】画像は転写エレメント上にラミネートし
て:転写シート、エラストマー層、露光しウオッシュア
ウトをした光可溶性層(感光性エレメントの形成後除去
されなかったとき)、トーニングされたエラストマー
層、および支持体、で構成されるエレメントを作ること
ができる。転写シートと支持体とに透明なフィルムが用
いられたとき、このエレメントはオーバーレイプルーフ
として使用することができる。
て:転写シート、エラストマー層、露光しウオッシュア
ウトをした光可溶性層(感光性エレメントの形成後除去
されなかったとき)、トーニングされたエラストマー
層、および支持体、で構成されるエレメントを作ること
ができる。転写シートと支持体とに透明なフィルムが用
いられたとき、このエレメントはオーバーレイプルーフ
として使用することができる。
【0044】一方、サープリントプルーフを作るため
に、支持体をとり除き画像を受像体にラミネートするこ
とができる。この受像体は平らで、好ましく平滑でなけ
ればならない。代表的な受像体は印刷に用いられている
各種の紙である。転写シートはとり除くことができ、ま
たは最終画像を保護するためそのままにしておくことも
できる。転写シートをそのままにする場合は、透明な転
写シートを用いねばならない。
に、支持体をとり除き画像を受像体にラミネートするこ
とができる。この受像体は平らで、好ましく平滑でなけ
ればならない。代表的な受像体は印刷に用いられている
各種の紙である。転写シートはとり除くことができ、ま
たは最終画像を保護するためそのままにしておくことも
できる。転写シートをそのままにする場合は、透明な転
写シートを用いねばならない。
【0045】多色のサープリント像が必要のとき、第2
の画像は位置決めの下に:転写シート、エラストマー
層、露光しウオッシュアウトした光可溶性層(感光性エ
レメントの形成後除去されなかったとき)、およびトー
ニングされたエラストマー層、で構成されるエレメント
のトーニングされたエラストマー層の背面にラミネート
することができる。このように形成した画像は、2色画
像とするために受像体にラミネートすることができる。
多色画像を作るためには、受像体に対する最終ラミネー
ションの前に、この画像に対し位置決め下に追加の着色
画像をラミネートする。この方法で、イエロー、シア
ン、マゼンタ、および黒の各画像の4色サープリントプ
ルーフが作られる。
の画像は位置決めの下に:転写シート、エラストマー
層、露光しウオッシュアウトした光可溶性層(感光性エ
レメントの形成後除去されなかったとき)、およびトー
ニングされたエラストマー層、で構成されるエレメント
のトーニングされたエラストマー層の背面にラミネート
することができる。このように形成した画像は、2色画
像とするために受像体にラミネートすることができる。
多色画像を作るためには、受像体に対する最終ラミネー
ションの前に、この画像に対し位置決め下に追加の着色
画像をラミネートする。この方法で、イエロー、シア
ン、マゼンタ、および黒の各画像の4色サープリントプ
ルーフが作られる。
【0046】本発明のエレメントと方法とは一般に着色
画像を作るのに有用である。これらの画像はグラフィッ
クアーツの分野において、特に印刷により作られる画像
を複製するために作られるカラープルーフ用に有用であ
る。
画像を作るのに有用である。これらの画像はグラフィッ
クアーツの分野において、特に印刷により作られる画像
を複製するために作られるカラープルーフ用に有用であ
る。
【0047】本発明の有利な諸特性は以下に説明する各
実施例を参照することにより理解されるが、これに発明
を限定するものではない。
実施例を参照することにより理解されるが、これに発明
を限定するものではない。
【0048】〔実施例用の略称〕 ATASS アンスラセン結合トリアリールスルホニウム塩;スルホ
ニウム、〔3−(9−アンスラセニル)プロピル〕ジフ
ェニル−ヘキサフルオロアンチモネート〔−1〕 ADVN 2,2′−アゾビス(2,4−ジメチル)バレロニトリ
ル;バゾR 52;イー・アイ・デュポン社製 AIBN アゾビスイソブチロニトリル;バゾR 64;CAS 7
8−67−1;デュポン社 サイラキュアR UV6974 トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト錯塩;ユニオンカーバイド社 ジエン55AC ポリブタジエン、ファイヤストーン社 EPMA 1−(エトキシ)−プロピルメタアクリレート;CH2
C(CH3)(CO)OCH(OCH2CH3)CH2CH3 ジエントロR 1506/27 スチレン−ブタジエンランダムコポリマー性ゴム;ジエ
ンコーポレーションクライトンR D1107 スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー;
シェルケミカル社 IEMA 1−(イソ−ブチル)−エチルメタアクリレート メリネックスR メリネックスR944;下引層をもつ乳白ポリエステ
ルシート;アイ・シー・アイ アメリカ社 ポリ(1−オクテン) チーグラー・ナッタ重合の1−オクテン;MW約2,0
00,000;多分散性5.6〜6.8 THF テトラハイドロフラン THPA テトラハイドロピラニルアクリレート THPMA テトラハイドロピラニルメタアクリレート TTEB 1−トリメチルシロキシ−1−(2−トリメチル−シロ
キシエトキシ)−2−メチル−1−プロペン
ニウム、〔3−(9−アンスラセニル)プロピル〕ジフ
ェニル−ヘキサフルオロアンチモネート〔−1〕 ADVN 2,2′−アゾビス(2,4−ジメチル)バレロニトリ
ル;バゾR 52;イー・アイ・デュポン社製 AIBN アゾビスイソブチロニトリル;バゾR 64;CAS 7
8−67−1;デュポン社 サイラキュアR UV6974 トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト錯塩;ユニオンカーバイド社 ジエン55AC ポリブタジエン、ファイヤストーン社 EPMA 1−(エトキシ)−プロピルメタアクリレート;CH2
C(CH3)(CO)OCH(OCH2CH3)CH2CH3 ジエントロR 1506/27 スチレン−ブタジエンランダムコポリマー性ゴム;ジエ
ンコーポレーションクライトンR D1107 スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー;
シェルケミカル社 IEMA 1−(イソ−ブチル)−エチルメタアクリレート メリネックスR メリネックスR944;下引層をもつ乳白ポリエステ
ルシート;アイ・シー・アイ アメリカ社 ポリ(1−オクテン) チーグラー・ナッタ重合の1−オクテン;MW約2,0
00,000;多分散性5.6〜6.8 THF テトラハイドロフラン THPA テトラハイドロピラニルアクリレート THPMA テトラハイドロピラニルメタアクリレート TTEB 1−トリメチルシロキシ−1−(2−トリメチル−シロ
キシエトキシ)−2−メチル−1−プロペン
【0049】〔実施例1〕この実施例はグループ移動重
合によるTHPAホモポリマーの調製を示す。THPA
の作成法はJ.E. Kearns, C.D. McLean、およびD.H. Sol
omon各氏の、J. Macromol. Sci-Chem., A8(4),67
3〜685,1974中で述べられている。
合によるTHPAホモポリマーの調製を示す。THPA
の作成法はJ.E. Kearns, C.D. McLean、およびD.H. Sol
omon各氏の、J. Macromol. Sci-Chem., A8(4),67
3〜685,1974中で述べられている。
【0050】無水THF70m1中のTTEB 0.3m1
(1ミリモル)とTHPA 15.6g(14.6m1、10
0ミリモル)との溶液を0℃に冷却したものに対して、
THF中のテトラブチルアムモニウムアセテートの0.
01M溶液の0.8m1を、20分間の間に滴下した。発
熱性の重合が起きた。反応混合物は周囲温度にまで温
め、0.1m1のメタノールによって静めた。ポリ(2−
テトラハイドロピラニルアクリレート)は−70℃でヘ
キサン中に沈殿させ、真空中周囲温度で乾燥して、ポリ
マー11.3gを得た。ゲル透過クロマトグラフィー
(GPC)で:Mn 14,400;Mw 32,700;M
w/Mn 2.26。示差走査熱量計(DSC)で31.4℃
のTgと153.9℃での吸熱的分解が示された。
(1ミリモル)とTHPA 15.6g(14.6m1、10
0ミリモル)との溶液を0℃に冷却したものに対して、
THF中のテトラブチルアムモニウムアセテートの0.
01M溶液の0.8m1を、20分間の間に滴下した。発
熱性の重合が起きた。反応混合物は周囲温度にまで温
め、0.1m1のメタノールによって静めた。ポリ(2−
テトラハイドロピラニルアクリレート)は−70℃でヘ
キサン中に沈殿させ、真空中周囲温度で乾燥して、ポリ
マー11.3gを得た。ゲル透過クロマトグラフィー
(GPC)で:Mn 14,400;Mw 32,700;M
w/Mn 2.26。示差走査熱量計(DSC)で31.4℃
のTgと153.9℃での吸熱的分解が示された。
【0051】〔実施例2〕この実施例はグループ移動重
合によるTHPAホモポリマーの調製を示す。
合によるTHPAホモポリマーの調製を示す。
【0052】無水THF250m1中のTTEB 1.2m1
(4ミリモル)とTHPA 62.4g(58.4m1、4
00ミリモル)の溶液を−20℃に冷却したものに対し
て、THF中のテトラブチルアンモニウムアセテートの
0.01M溶液の2.0m1を、30分の間に滴下して加え
た。発熱性の重合が起きた。反応混合物は約1時間0℃
以下で撹拌し、周囲温度までに温め0.4m1のメタノー
ルで静めた。ポリ(2−テトラハイドロピラニルアクリ
レート)は−70℃でヘキサン中に沈殿させ、真空中周
囲温度で乾燥した。GPC:Mn 19,600;Mw 4
7,200;Mw/Mn 12.41。Tg 35℃、155
℃で吸熱的にはっきりと分解する。
(4ミリモル)とTHPA 62.4g(58.4m1、4
00ミリモル)の溶液を−20℃に冷却したものに対し
て、THF中のテトラブチルアンモニウムアセテートの
0.01M溶液の2.0m1を、30分の間に滴下して加え
た。発熱性の重合が起きた。反応混合物は約1時間0℃
以下で撹拌し、周囲温度までに温め0.4m1のメタノー
ルで静めた。ポリ(2−テトラハイドロピラニルアクリ
レート)は−70℃でヘキサン中に沈殿させ、真空中周
囲温度で乾燥した。GPC:Mn 19,600;Mw 4
7,200;Mw/Mn 12.41。Tg 35℃、155
℃で吸熱的にはっきりと分解する。
【0053】〔実施例3〕この実施例はフリーラジカル
重合による広い分子量分布をもつポリ(THPA)の調
製を示す。
重合による広い分子量分布をもつポリ(THPA)の調
製を示す。
【0054】エチルアセテート30m1中とTHPA20
gとの溶液をADVNの20mgとともに還流加熱し処理
をした。4時間後、追加のADVNの20mgを加え2時
間加熱を継続した。NMRで94%の変換率であること
が示された。ポリ(2−テトラハイドロピラニルアクリ
レート)は真空中で溶剤を蒸発することにより分離し
た。GPC:Mn 27,600;Mw 178,000;M
w/Mn 6.47。DSC:Tg 27℃、148.2℃で
吸熱的に分解(341.9J/g)。
gとの溶液をADVNの20mgとともに還流加熱し処理
をした。4時間後、追加のADVNの20mgを加え2時
間加熱を継続した。NMRで94%の変換率であること
が示された。ポリ(2−テトラハイドロピラニルアクリ
レート)は真空中で溶剤を蒸発することにより分離し
た。GPC:Mn 27,600;Mw 178,000;M
w/Mn 6.47。DSC:Tg 27℃、148.2℃で
吸熱的に分解(341.9J/g)。
【0055】〔実施例4〕この実施例はグループ移動重
合によるTHPMAホモポリマーの調製を示す。THP
MAの作成法はJ.E. Kearns, C.D. McLean、およびD.H.
Solomon各氏のJ.Macromol. Sci.-Chem., A8(4), 6
73〜685,1974中で述べられている。
合によるTHPMAホモポリマーの調製を示す。THP
MAの作成法はJ.E. Kearns, C.D. McLean、およびD.H.
Solomon各氏のJ.Macromol. Sci.-Chem., A8(4), 6
73〜685,1974中で述べられている。
【0056】THF75m1中のテトラブチルアンモニウ
ムバイアセテートヘキサハイドレート(THF中0.0
4モル液)25μlとTTEB 0.30ml(1ミリモ
ル)の溶液に対して、実施例1で述べたようにして精製
したTHPMAの20g(19.6m1、0.1175モ
ル)を、アルゴン雰囲気下に温度が40℃を超えない程
度の速さで添加した。液の分取液のNMR分析で残留モ
ノマーの存在しないことが示された。メタノヘル中で沈
殿し、ついで真空オーブン中周囲温度で乾燥し、19.
9gのポリ(2−テトラハイドロピラニルメタアクリレ
ート)を得た。GPC:Mn 19,300;Mw 21,1
00;Mw/Mn 1.09。DSCはTg 91℃、17
3.6℃で明らかなピークをもつ吸熱分解を示す。
ムバイアセテートヘキサハイドレート(THF中0.0
4モル液)25μlとTTEB 0.30ml(1ミリモ
ル)の溶液に対して、実施例1で述べたようにして精製
したTHPMAの20g(19.6m1、0.1175モ
ル)を、アルゴン雰囲気下に温度が40℃を超えない程
度の速さで添加した。液の分取液のNMR分析で残留モ
ノマーの存在しないことが示された。メタノヘル中で沈
殿し、ついで真空オーブン中周囲温度で乾燥し、19.
9gのポリ(2−テトラハイドロピラニルメタアクリレ
ート)を得た。GPC:Mn 19,300;Mw 21,1
00;Mw/Mn 1.09。DSCはTg 91℃、17
3.6℃で明らかなピークをもつ吸熱分解を示す。
【0057】〔実施例5〕この実施例は1−(エトキ
シ)−プロピルメタアクリレート(EPMA)の調製
と、これのフリーラジカル重合によるホモポリマーへの
変換を示す。
シ)−プロピルメタアクリレート(EPMA)の調製
と、これのフリーラジカル重合によるホモポリマーへの
変換を示す。
【0058】還流コンデンサー、滴下ロート、熱電対お
よび磁気撹拌器を取り付けた1lの丸底フラスコ中で、
エチル1−プロペニルエーテル120m1、メタアクリル
酸92.8m1、およびフェノチアジン1gの混合物を、
エチル1−プロペニルエーテル125m1と50%硫酸1
2滴の液に対し、アルゴン雰囲気下に滴下ロートから約
30分間に添加した。温度はこの添加中に約75℃に上
昇した。反応混合物を約50℃に冷却し、50〜54℃
で18時間撹拌し、ついで炭酸水素ナトリウム10gと
無水硫酸ナトリウム40gとにより処理した。固体を除
くために濾過し、生成物はカルシウムハイドライド、フ
ェノチアジンおよびジフェニルピクリルヒドラジルから
3回蒸留し、71.7gのEPMA、bp34〜38.9
℃(2.1〜2.6mmHg)を得た。C9H16O3としての計算
値:C 62.77;H 9.36。実測値:C63.12;H 9.11。1H NM
R(360MHz,CDCl3):0.95(t,J=7.5Hz, 3H, CH3)、 1.22
(t,J=7Hz, 3H, CH3)、 1.76(m, J=7, 1Hz, 2H, CH2)、
1.96(m,3H, =CCH3)、 3.57(m, 1H,OCH2)、 3.74(m, 1
H,OCH2)、 5.60(m, 1H,=CH2)、 5.84(t, J=6Hz, 1H,OCH
O)、 6.16(m, 1H,=CH2)。
よび磁気撹拌器を取り付けた1lの丸底フラスコ中で、
エチル1−プロペニルエーテル120m1、メタアクリル
酸92.8m1、およびフェノチアジン1gの混合物を、
エチル1−プロペニルエーテル125m1と50%硫酸1
2滴の液に対し、アルゴン雰囲気下に滴下ロートから約
30分間に添加した。温度はこの添加中に約75℃に上
昇した。反応混合物を約50℃に冷却し、50〜54℃
で18時間撹拌し、ついで炭酸水素ナトリウム10gと
無水硫酸ナトリウム40gとにより処理した。固体を除
くために濾過し、生成物はカルシウムハイドライド、フ
ェノチアジンおよびジフェニルピクリルヒドラジルから
3回蒸留し、71.7gのEPMA、bp34〜38.9
℃(2.1〜2.6mmHg)を得た。C9H16O3としての計算
値:C 62.77;H 9.36。実測値:C63.12;H 9.11。1H NM
R(360MHz,CDCl3):0.95(t,J=7.5Hz, 3H, CH3)、 1.22
(t,J=7Hz, 3H, CH3)、 1.76(m, J=7, 1Hz, 2H, CH2)、
1.96(m,3H, =CCH3)、 3.57(m, 1H,OCH2)、 3.74(m, 1
H,OCH2)、 5.60(m, 1H,=CH2)、 5.84(t, J=6Hz, 1H,OCH
O)、 6.16(m, 1H,=CH2)。
【0059】エチルアセテートの40m1を丸底フラスコ
中で窒素により脱気し、ついでEPMAの10.1g
(10.9m1、59ミリモル)を加えた。この液を窒素
ガス下75℃に加熱した後AIBNの75mgを加えた。
75℃で6時間加熱後追加のAIBNの75mgを加え、
さらに18時間75℃の加熱を継続した。メタノールで
沈殿させて油状の生成物が得られ、これを真空中で乾か
して3.85gのポリ(EPMA)を得た。(C9H16O3)nと
しての計算値:C 62.77;H 9.36。実測値:C 63.15;H
9.50。IR(フィルム):1735cm-1(エステルC=O)。G
PC:Mn 26,600;Mw 34,500;Mw/Mn
1.3。DSC:Tg 48℃、193℃での明瞭な吸熱
分解(198J/g)。
中で窒素により脱気し、ついでEPMAの10.1g
(10.9m1、59ミリモル)を加えた。この液を窒素
ガス下75℃に加熱した後AIBNの75mgを加えた。
75℃で6時間加熱後追加のAIBNの75mgを加え、
さらに18時間75℃の加熱を継続した。メタノールで
沈殿させて油状の生成物が得られ、これを真空中で乾か
して3.85gのポリ(EPMA)を得た。(C9H16O3)nと
しての計算値:C 62.77;H 9.36。実測値:C 63.15;H
9.50。IR(フィルム):1735cm-1(エステルC=O)。G
PC:Mn 26,600;Mw 34,500;Mw/Mn
1.3。DSC:Tg 48℃、193℃での明瞭な吸熱
分解(198J/g)。
【0060】〔実施例6〕この実施例はIEMAの調製
とフリーラジカル重合によるホモポリマーへの変換を示
す。
とフリーラジカル重合によるホモポリマーへの変換を示
す。
【0061】イソ−ブチルビニルエーテル300.5g
(391m1、3モル)、精製したメタアクリル酸12
9.1g(127m1、1.5モル)、および架橋したポリ
(ビニルピリジンハイドロクロライド)触媒(フルカ社
製)5gの混合物を、撹拌しながら18時間65℃に加
熱した。反応混合物を周囲温度に冷却した後、触媒を濾
過によりとり除いた。濾液は無水炭酸ナトリウム20g
とカルシウムハイドライド5gとともに1時間撹拌し、
濾過し、そして過剰のイソブチルビニルエーテルは回転
蒸発器によりとり除いた。生成物はカルシウムハイドラ
イド、フェノチアジン、およびジフェニルピクリルヒド
ラジルから蒸留して、34.6gのIEMA、bp48.
5℃(2.2mmHg)を得た。C10H18O3としての計算値:C
64.49;H9.74。実測値:C 65.34;H 9.69。1H NMR(36
0MHz,CDCl3):0.90(d, J=6Hz, 3H, CH3)、 0.91(d, J=6
Hz, 3H, CH3)、 1.44(d,J=5Hz, 3H, CH3)、 1.84(m, 1H,
CH)、 1.95(t,J=1Hz, 3H, CH3C=C)、 3.26(dd, J=7, 10
Hz,1H, OCH2)、 3.44(dd,J=7, 10Hz, 1H, OCH2)、 5.59
(m, 1H,C=CH2)、 5.96(q, J=5Hz, 1H, OCHO)、 6.15(m,
1H,C=CH2)。
(391m1、3モル)、精製したメタアクリル酸12
9.1g(127m1、1.5モル)、および架橋したポリ
(ビニルピリジンハイドロクロライド)触媒(フルカ社
製)5gの混合物を、撹拌しながら18時間65℃に加
熱した。反応混合物を周囲温度に冷却した後、触媒を濾
過によりとり除いた。濾液は無水炭酸ナトリウム20g
とカルシウムハイドライド5gとともに1時間撹拌し、
濾過し、そして過剰のイソブチルビニルエーテルは回転
蒸発器によりとり除いた。生成物はカルシウムハイドラ
イド、フェノチアジン、およびジフェニルピクリルヒド
ラジルから蒸留して、34.6gのIEMA、bp48.
5℃(2.2mmHg)を得た。C10H18O3としての計算値:C
64.49;H9.74。実測値:C 65.34;H 9.69。1H NMR(36
0MHz,CDCl3):0.90(d, J=6Hz, 3H, CH3)、 0.91(d, J=6
Hz, 3H, CH3)、 1.44(d,J=5Hz, 3H, CH3)、 1.84(m, 1H,
CH)、 1.95(t,J=1Hz, 3H, CH3C=C)、 3.26(dd, J=7, 10
Hz,1H, OCH2)、 3.44(dd,J=7, 10Hz, 1H, OCH2)、 5.59
(m, 1H,C=CH2)、 5.96(q, J=5Hz, 1H, OCHO)、 6.15(m,
1H,C=CH2)。
【0062】エチルアセテート50m1中のIEMA37
g(200ミリモル)とAIBN0.1gの溶液を窒素
ガスで脱気し、18時間75℃に加熱した。−70℃で
メタノール中で沈殿し、ついで真空下に乾燥して34.
6gのポリ(IEMA)を得た。(C10H18O3)nとしての
計算値:C 64.49;H 9.74。実測値:C 66.06;H 9.84。
GPC:Mn 25,200;Mw 71,500;Mw/Mn
2.83。DSC:Tg 30.2℃、210.2℃におい
て吸熱的に分解(347J/g)。
g(200ミリモル)とAIBN0.1gの溶液を窒素
ガスで脱気し、18時間75℃に加熱した。−70℃で
メタノール中で沈殿し、ついで真空下に乾燥して34.
6gのポリ(IEMA)を得た。(C10H18O3)nとしての
計算値:C 64.49;H 9.74。実測値:C 66.06;H 9.84。
GPC:Mn 25,200;Mw 71,500;Mw/Mn
2.83。DSC:Tg 30.2℃、210.2℃におい
て吸熱的に分解(347J/g)。
【0063】〔実施例7〕この実施例はフリーラジカル
重合による、THPMAとEPMAとの40:60(モ
ル%)コポリマーの調製を示す。
重合による、THPMAとEPMAとの40:60(モ
ル%)コポリマーの調製を示す。
【0064】エチルアセテート80m1中のEPMA2
1.8ml(118ミリモル)、THPMA 13m1(7
8.7ミリモル)およびAIBN 150mgの混合物を、
窒素ガス下に脱気し75℃に加熱した。3時間の加熱
後、追加のAIBN 150mgを添加した後再度18時
間加熱した。追加の18時間の加熱後、ポリマーは−7
0℃でメタノール中で沈殿させ、27.2gコポリマー
を得た。NMR分析でこのコポリマーはTHPMA40
モル%とEPMA60モル%であることが示された。G
PC:Mn 25,100;Mw 60,900;Mw/Mn
2.42。DSC:Tg 71℃、181℃で吸熱的に分
解する。
1.8ml(118ミリモル)、THPMA 13m1(7
8.7ミリモル)およびAIBN 150mgの混合物を、
窒素ガス下に脱気し75℃に加熱した。3時間の加熱
後、追加のAIBN 150mgを添加した後再度18時
間加熱した。追加の18時間の加熱後、ポリマーは−7
0℃でメタノール中で沈殿させ、27.2gコポリマー
を得た。NMR分析でこのコポリマーはTHPMA40
モル%とEPMA60モル%であることが示された。G
PC:Mn 25,100;Mw 60,900;Mw/Mn
2.42。DSC:Tg 71℃、181℃で吸熱的に分
解する。
【0065】〔実施例8〕この実施例はグループ移動重
合による、THPMAとエチルアクリレートとの61:
39モル%ブロックコポリマーの調製を示す。
合による、THPMAとエチルアクリレートとの61:
39モル%ブロックコポリマーの調製を示す。
【0066】無水THF 140m1中のTTEB 0.8
9m1(3ミリモル)とテトラブチルアンモニウムバイア
セテート(THF中0.04M液)100μlの液に対し
て、アルゴン雰囲気下にTHPMA44.17g(43.
3m1、259ミリモル)を、反応温度を35〜40℃間
に保つような速度で加えた。モノマーのすべてを添加し
たとき、反応フラスコを直ちに0℃に冷却し、テトラブ
チルアンモニウムバイアセテート(THF中0.04M
液)50μ1を含むエチルアクリレート25g(27m
1、250ミリモル)を速やかに添加した。ついでテト
ラブチルアムモニウムバイアセテート(THF中0.0
4M液)の200μlを、発熱反応がもはや認められな
くなるまで滴下して加えた。反応はメタノール2m1によ
って静めた。10分後、生成物は10%の水を含むメタ
ノールで沈殿させ、乾燥後31.75gのポリ(THP
MA−ブロック−エチルアクリレート)を得た。NMR
はこのポリマーはエチルアクリレート39モル%とTH
PMA61モル%であることを示した。GPC:Mn 2
1,600;Mw 29,100;Mw/Mn 1.34。DS
C:Tg −16℃、168℃で吸熱的に分解する。
9m1(3ミリモル)とテトラブチルアンモニウムバイア
セテート(THF中0.04M液)100μlの液に対し
て、アルゴン雰囲気下にTHPMA44.17g(43.
3m1、259ミリモル)を、反応温度を35〜40℃間
に保つような速度で加えた。モノマーのすべてを添加し
たとき、反応フラスコを直ちに0℃に冷却し、テトラブ
チルアンモニウムバイアセテート(THF中0.04M
液)50μ1を含むエチルアクリレート25g(27m
1、250ミリモル)を速やかに添加した。ついでテト
ラブチルアムモニウムバイアセテート(THF中0.0
4M液)の200μlを、発熱反応がもはや認められな
くなるまで滴下して加えた。反応はメタノール2m1によ
って静めた。10分後、生成物は10%の水を含むメタ
ノールで沈殿させ、乾燥後31.75gのポリ(THP
MA−ブロック−エチルアクリレート)を得た。NMR
はこのポリマーはエチルアクリレート39モル%とTH
PMA61モル%であることを示した。GPC:Mn 2
1,600;Mw 29,100;Mw/Mn 1.34。DS
C:Tg −16℃、168℃で吸熱的に分解する。
【0067】〔実施例9〕この実施例はフリーラジカル
重合による、THPMAとTHPAとの59:41モル
%コポリマーの調製を示す。
重合による、THPMAとTHPAとの59:41モル
%コポリマーの調製を示す。
【0068】THPMA 16.6m1(17g、100ミ
リモル)とTHPA 15.6g(100ミリモル)との
混合物を、エチルアセテートの40m1に対して還流下に
4.5時間かけて滴下して加えた。同時に、エチルアセ
テート6m1中のADVN30mgの溶液を6時間かけて添
加した。この間に液はまったく粘性なものとなった。反
応混合物のNMR分析で約27%のアクリレート残留モ
ノマーが認められた。ポリマーはブレンダー中で−78
℃においてメタノールで沈殿させ、0.1mmで24時間
乾燥後24gのポリ(THPMA/THPA)を得た。
NMRによりこのポリマーはTHPMA59モル%とT
HPA41モル%であることが示された。GPC:Mn
58,900;Mw 126,100;Mw/Mn 2.15。
DSC:Tg 74℃、160℃で吸熱的に分解。
リモル)とTHPA 15.6g(100ミリモル)との
混合物を、エチルアセテートの40m1に対して還流下に
4.5時間かけて滴下して加えた。同時に、エチルアセ
テート6m1中のADVN30mgの溶液を6時間かけて添
加した。この間に液はまったく粘性なものとなった。反
応混合物のNMR分析で約27%のアクリレート残留モ
ノマーが認められた。ポリマーはブレンダー中で−78
℃においてメタノールで沈殿させ、0.1mmで24時間
乾燥後24gのポリ(THPMA/THPA)を得た。
NMRによりこのポリマーはTHPMA59モル%とT
HPA41モル%であることが示された。GPC:Mn
58,900;Mw 126,100;Mw/Mn 2.15。
DSC:Tg 74℃、160℃で吸熱的に分解。
【0069】〔実施例10〕この実施例はグループ移動
重合による、THPMAとフルフリルメタアクリレート
との1:1コポリマーの調製を示す。
重合による、THPMAとフルフリルメタアクリレート
との1:1コポリマーの調製を示す。
【0070】THPMAとフルフリルメタアクリレート
とは、アルゴン雰囲気下で塩基性アルミナのカラムを通
じることにより精製した。実施例4の方法に従い、TH
F75m1中のTTEB 0.74m1(2.3ミリモル)と
テトラブチルアンモニウムバイアセテート(THF中
0.04M)0.15m1の溶液に対して、THPMA24
m1(24.6g、0.1445モル)とフルフリルメタア
クリレート22.2m1(24g、0.1445モル)との
混合物を滴下して加えた。反応混合物のNMR分析で残
留モノマーの存在が示された。生成物はメタノールで沈
殿させ、0.1mmで乾燥して24.4gのポリ(THPM
A/フルフリルメタアクリレート)を得た。NMRでこ
のポリマーは、THPMAとフルフリルメタアクリレー
トとの1:1モル比のポリマーであることが示された。
GPC:Mn 13,800;Mw18,000;Mw/Mn
1.3。DSC:Tg 96℃、184℃で吸熱的に分
解。
とは、アルゴン雰囲気下で塩基性アルミナのカラムを通
じることにより精製した。実施例4の方法に従い、TH
F75m1中のTTEB 0.74m1(2.3ミリモル)と
テトラブチルアンモニウムバイアセテート(THF中
0.04M)0.15m1の溶液に対して、THPMA24
m1(24.6g、0.1445モル)とフルフリルメタア
クリレート22.2m1(24g、0.1445モル)との
混合物を滴下して加えた。反応混合物のNMR分析で残
留モノマーの存在が示された。生成物はメタノールで沈
殿させ、0.1mmで乾燥して24.4gのポリ(THPM
A/フルフリルメタアクリレート)を得た。NMRでこ
のポリマーは、THPMAとフルフリルメタアクリレー
トとの1:1モル比のポリマーであることが示された。
GPC:Mn 13,800;Mw18,000;Mw/Mn
1.3。DSC:Tg 96℃、184℃で吸熱的に分
解。
【0071】〔実施例11〕この実施例は本発明の感光
性エレメントの調製とそれからの着色画像の作成とを示
す。
性エレメントの調製とそれからの着色画像の作成とを示
す。
【0072】〔工程1. エラストマー層〕トルエン中
に溶解したポリ(1−オクテン)の1.5%溶液を、3
ミル(75μ)のギャップをもつドクターナイフを使用
してメリネックスR 支持体上に塗布した。塗膜を風乾し
て、支持体とポリ(1−オクテン)エラストマー層とか
らなるエレメントを作った。
に溶解したポリ(1−オクテン)の1.5%溶液を、3
ミル(75μ)のギャップをもつドクターナイフを使用
してメリネックスR 支持体上に塗布した。塗膜を風乾し
て、支持体とポリ(1−オクテン)エラストマー層とか
らなるエレメントを作った。
【0073】〔工程2. 感光性エレメント〕2−ブタ
ノン中の実施例1で作ったTHPAホモポリマー(塗布
液中10%)とATASS(塗布液中0.25%;乾燥
塗膜中約2.5%)との溶液を、1ミル(25μ)のギ
ャップをもつドクターナイフを使用してエラストマー層
上に塗布をした。塗膜を風乾して、支持体;エラストマ
ー層;および光可溶性層とからなる感光性エレメントを
作った。
ノン中の実施例1で作ったTHPAホモポリマー(塗布
液中10%)とATASS(塗布液中0.25%;乾燥
塗膜中約2.5%)との溶液を、1ミル(25μ)のギ
ャップをもつドクターナイフを使用してエラストマー層
上に塗布をした。塗膜を風乾して、支持体;エラストマ
ー層;および光可溶性層とからなる感光性エレメントを
作った。
【0074】〔工程3. 露光〕UGRAターゲット
(グラフィックアーツ技術協会)を、工程2で作ったエ
レメント上にその乳剤側を光可溶性層に接するように置
いた。このエレメントとターゲットとを真空焼枠中に入
れ真空とする。エレメントはドウシットDCOP−X
(ドウシット社製)露光ユニット中にとり付けたビオラ
ックス5002Sランプの出力で5秒間露光をした。
(グラフィックアーツ技術協会)を、工程2で作ったエ
レメント上にその乳剤側を光可溶性層に接するように置
いた。このエレメントとターゲットとを真空焼枠中に入
れ真空とする。エレメントはドウシットDCOP−X
(ドウシット社製)露光ユニット中にとり付けたビオラ
ックス5002Sランプの出力で5秒間露光をした。
【0075】〔工程4. 画像の形成〕露光済みのエレ
メントは約2〜3分間周囲温度に放置した。ついでこれ
を周囲温度の水道水でウオッシュアウトした。ウオッシ
ュアウト中光可溶性層は綿でかるくこすった。ついで空
気流で乾かし、そしてデュポン社のネガチブクロマリン
R トナーによってトーニングした。ウオッシュアウト時
間の関数としての画質を以下の表1に示してある。
メントは約2〜3分間周囲温度に放置した。ついでこれ
を周囲温度の水道水でウオッシュアウトした。ウオッシ
ュアウト中光可溶性層は綿でかるくこすった。ついで空
気流で乾かし、そしてデュポン社のネガチブクロマリン
R トナーによってトーニングした。ウオッシュアウト時
間の関数としての画質を以下の表1に示してある。
【0076】
【表1】 さらに長い露光時間(20秒までの)は前述のものより
も劣った画像を生じる。
も劣った画像を生じる。
【0077】〔実施例12〕光可溶性層用の塗布液中の
ATASS濃度を0.25%の代わりに0.063%にし
て、実施例11の方法をくり返した。露光は10秒間行
った。ウオッシュアウト時間の関数としての画質を以下
の表2中に示してある。
ATASS濃度を0.25%の代わりに0.063%にし
て、実施例11の方法をくり返した。露光は10秒間行
った。ウオッシュアウト時間の関数としての画質を以下
の表2中に示してある。
【0078】
【表2】
【0079】〔実施例13〕光可溶性層用の塗布液中の
ATASS濃度を0.25%の代わりに0.063%と
し、そして感光性層が3ミル(76μ)のギャップをも
つドクターナイフを使用してエラストマー層上に塗布し
た点を変えて、実施例11の方法をくり返した。露光時
間は20秒とした。ウオッシュアウト時間の関数として
の画質を以下の表3中に示してある。
ATASS濃度を0.25%の代わりに0.063%と
し、そして感光性層が3ミル(76μ)のギャップをも
つドクターナイフを使用してエラストマー層上に塗布し
た点を変えて、実施例11の方法をくり返した。露光時
間は20秒とした。ウオッシュアウト時間の関数として
の画質を以下の表3中に示してある。
【0080】
【表3】
【0081】〔実施例14〕光可溶性層用の塗布液中の
ATASS濃度を0.25%の代わりに0.125%と
し、そして実施例2中で述べたTHPAのホモポリマー
を実施例1のポリマーの代わりに光可溶性層中で使用し
て、実施例11の方法をくり返した。露光時間は5秒と
した。ウオッシュアウト時間の関数としての画質を以下
の表4中に示してある。
ATASS濃度を0.25%の代わりに0.125%と
し、そして実施例2中で述べたTHPAのホモポリマー
を実施例1のポリマーの代わりに光可溶性層中で使用し
て、実施例11の方法をくり返した。露光時間は5秒と
した。ウオッシュアウト時間の関数としての画質を以下
の表4中に示してある。
【0082】
【表4】
【0083】〔実施例15〕サイラキュアR UV697
4(光可溶性層用の塗布液中1.0%)と9−アンスラ
センメチルブチレート(塗布液中0.5%)とからなる
光可溶性化剤と、そして実施例2中で述べたTHPAの
ホモポリマーを実施例1のポリマーの代わりに光可溶性
層中で用いた点を変えて、実施例11の方法をくり返し
た。ウオッシュアウト時間は20秒とした。露光時間の
関数としての画質を以下の表5中に示してある。
4(光可溶性層用の塗布液中1.0%)と9−アンスラ
センメチルブチレート(塗布液中0.5%)とからなる
光可溶性化剤と、そして実施例2中で述べたTHPAの
ホモポリマーを実施例1のポリマーの代わりに光可溶性
層中で用いた点を変えて、実施例11の方法をくり返し
た。ウオッシュアウト時間は20秒とした。露光時間の
関数としての画質を以下の表5中に示してある。
【0084】
【表5】
【0085】〔実施例16〕実施例11の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は実施例3で作ったTHPAのホモポリマー
(約95%)とATASS(約5%)とを含んでいる。
エラストマー層はジクロロメタン中のクライトンR D1
107の3%溶液10g、ジクロロメタン中のジエン5
5ACの3%溶液の10g、ポリ(メチル2−メチルペ
ンタジエノエート)0.10g、3Mの2−層テープ
(3M社)0.05g、およびジクロロメタンの10g
を混合して作った液を、3ミルのギャップをもつドクタ
ーナイフを使用して塗布することにより作った。3.5
秒間露光し、0.4N水酸化ナトリウム中で25秒間ウ
オッシュアウトし、そしてトーニングを行って1〜98
%ドットの画像が得られた。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は実施例3で作ったTHPAのホモポリマー
(約95%)とATASS(約5%)とを含んでいる。
エラストマー層はジクロロメタン中のクライトンR D1
107の3%溶液10g、ジクロロメタン中のジエン5
5ACの3%溶液の10g、ポリ(メチル2−メチルペ
ンタジエノエート)0.10g、3Mの2−層テープ
(3M社)0.05g、およびジクロロメタンの10g
を混合して作った液を、3ミルのギャップをもつドクタ
ーナイフを使用して塗布することにより作った。3.5
秒間露光し、0.4N水酸化ナトリウム中で25秒間ウ
オッシュアウトし、そしてトーニングを行って1〜98
%ドットの画像が得られた。
【0086】〔実施例17〕実施例11の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は2−ブタノン中の実施例10で述べたTHP
MAホモポリマーの10%、サイラキュアR UV697
41%、ベンゾフェノン0.4%、および2−クロロチ
オキサンテン−9−オン0.1%を含む溶液をエラスト
マー層上に直接に塗布した。エラストマー層はジエント
ロR 1506(約22%)とジエン55AC(約78
%)との混合物である。480秒間露光し、0.4N水
酸化ナトリウム中で180秒間ウオッシュアウトし、そ
してトーニングをして0.5〜99.5%のドットをもつ
画像が得られた。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は2−ブタノン中の実施例10で述べたTHP
MAホモポリマーの10%、サイラキュアR UV697
41%、ベンゾフェノン0.4%、および2−クロロチ
オキサンテン−9−オン0.1%を含む溶液をエラスト
マー層上に直接に塗布した。エラストマー層はジエント
ロR 1506(約22%)とジエン55AC(約78
%)との混合物である。480秒間露光し、0.4N水
酸化ナトリウム中で180秒間ウオッシュアウトし、そ
してトーニングをして0.5〜99.5%のドットをもつ
画像が得られた。
【0087】〔実施例18〕実施例11の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は2−ブタノン中の実施例5で述べたポリ(E
PMA)の10%、サイラキュアR UV6974 1
%、ベンゾフェノン0.4%、そして2−クロロチオキ
サンテン−9−オン0.1%を含む液をエラストマー層
上に直接に塗布した。エラストマー層はジエントロR 1
506(約22%)とジエン55AC(約78%)との
混合物である。360秒間露光し、0.4N水酸化ナト
リウム液中で180秒間ウオッシュアウトし、そしてト
ーニングをして0.5〜99.5%のドットをもつ画像を
得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は2−ブタノン中の実施例5で述べたポリ(E
PMA)の10%、サイラキュアR UV6974 1
%、ベンゾフェノン0.4%、そして2−クロロチオキ
サンテン−9−オン0.1%を含む液をエラストマー層
上に直接に塗布した。エラストマー層はジエントロR 1
506(約22%)とジエン55AC(約78%)との
混合物である。360秒間露光し、0.4N水酸化ナト
リウム液中で180秒間ウオッシュアウトし、そしてト
ーニングをして0.5〜99.5%のドットをもつ画像を
得た。
【0088】〔実施例19〕実施例11の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、2−ブタノン(89%)とプロピレンカー
ボネート(0.5%)中に溶解させた実施例6で述べた
ポリ(IEMA)10%とATASS 0.5%とを含む
液を、エラストマー層上に直接に塗布した。エラストマ
ー層はポリ(1−オクテン)である。10秒間露光し、
周囲温度の0.4N水酸化ナトリウム液中で約30秒間
ウオッシュアウトし、そしてトーニングをして20〜9
8%のドットをもつ画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、2−ブタノン(89%)とプロピレンカー
ボネート(0.5%)中に溶解させた実施例6で述べた
ポリ(IEMA)10%とATASS 0.5%とを含む
液を、エラストマー層上に直接に塗布した。エラストマ
ー層はポリ(1−オクテン)である。10秒間露光し、
周囲温度の0.4N水酸化ナトリウム液中で約30秒間
ウオッシュアウトし、そしてトーニングをして20〜9
8%のドットをもつ画像を得た。
【0089】〔実施例20〕実施例11の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、2−ブタノン(89%)とプロピレンカー
ボネート(0.5%)中に溶解させた実施例7で述べた
THPMAとEPMAとのコポリマー10%とATAS
S 0.5%とを含む液を、エラストマー層上に直接に塗
布した。エラストマー層は実施例16で用いたものと同
じである。10秒間露光し、熱い水道水中で約120秒
ウオッシュアウトし、そしてトーニングをして0.5〜
98%のドットをもつ画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、2−ブタノン(89%)とプロピレンカー
ボネート(0.5%)中に溶解させた実施例7で述べた
THPMAとEPMAとのコポリマー10%とATAS
S 0.5%とを含む液を、エラストマー層上に直接に塗
布した。エラストマー層は実施例16で用いたものと同
じである。10秒間露光し、熱い水道水中で約120秒
ウオッシュアウトし、そしてトーニングをして0.5〜
98%のドットをもつ画像を得た。
【0090】〔実施例21〕実施例11の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。エ
ラストマー層は、ジクロロメタン中にジエントロR 15
06の3%を含む液を、3ミルのギャップをもつドクタ
ーナイフを使用してメリネックスR 上に塗布した。光可
溶性層は、2−ブタノン中に実施例8で述べたTHPM
Aとエチルアクリレートとのブロックコポリマー10
%、サイラキュアR UV6974 1%、ベンゾフェノ
ン0.4%、および2−クロロチオキサンテン−9−オ
ン 0.1%を含む液をエラストマー層上に直接に塗布し
た。露光時間は120秒。画像は周囲温度の0.4N水
酸化ナトリウム液で約180秒間ウオッシュアウトし
た。トーニング後に0.5〜98%のドットをもつ画像
を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。エ
ラストマー層は、ジクロロメタン中にジエントロR 15
06の3%を含む液を、3ミルのギャップをもつドクタ
ーナイフを使用してメリネックスR 上に塗布した。光可
溶性層は、2−ブタノン中に実施例8で述べたTHPM
Aとエチルアクリレートとのブロックコポリマー10
%、サイラキュアR UV6974 1%、ベンゾフェノ
ン0.4%、および2−クロロチオキサンテン−9−オ
ン 0.1%を含む液をエラストマー層上に直接に塗布し
た。露光時間は120秒。画像は周囲温度の0.4N水
酸化ナトリウム液で約180秒間ウオッシュアウトし
た。トーニング後に0.5〜98%のドットをもつ画像
を得た。
【0091】〔実施例22〕実施例11の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、2−ブタノン中に実施例9で述べたTHP
MAとTHPAとのコポリマー10%とATASS 0.
5%とを含む液を、エラストマー層上に直接に塗布し
た。エラストマー層はポリ(1−オクテン)である。4
0秒間露光し、25℃の水道水中で約60秒ウオッシュ
アウトし、トーニングをして0.5〜80%のドットを
もつ画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、2−ブタノン中に実施例9で述べたTHP
MAとTHPAとのコポリマー10%とATASS 0.
5%とを含む液を、エラストマー層上に直接に塗布し
た。エラストマー層はポリ(1−オクテン)である。4
0秒間露光し、25℃の水道水中で約60秒ウオッシュ
アウトし、トーニングをして0.5〜80%のドットを
もつ画像を得た。
【0092】〔実施例23〕実施例11の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、2−ブタノン中に実施例10で述べたTH
PMAとフルフリルメタアクリレートとのコポリマー1
0%、サイラキュアR UV6974 1%、ベンゾフェ
ノン0.4%、および2−クロロチオキサンテン−9−
オン0.1%を含む液を、エラストマー層上に直接に塗
布した。エラストマー層はジエントロR1506(約2
2%)とジエン55AC(約78%)との混合物であ
る。480秒間露光し、0.4N水酸化ナトリウム液中
で180秒間ウオッシュアウトし、トーニングをして
0.5〜99.5%のドットをもつ画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、2−ブタノン中に実施例10で述べたTH
PMAとフルフリルメタアクリレートとのコポリマー1
0%、サイラキュアR UV6974 1%、ベンゾフェ
ノン0.4%、および2−クロロチオキサンテン−9−
オン0.1%を含む液を、エラストマー層上に直接に塗
布した。エラストマー層はジエントロR1506(約2
2%)とジエン55AC(約78%)との混合物であ
る。480秒間露光し、0.4N水酸化ナトリウム液中
で180秒間ウオッシュアウトし、トーニングをして
0.5〜99.5%のドットをもつ画像を得た。
【0093】〔実施例24〕この実施例は本発明の感光
性エレメントを使用する4色カラープルーフの調製を示
す。
性エレメントを使用する4色カラープルーフの調製を示
す。
【0094】〔工程1. エラストマー層〕トルエン中
に溶解したポリ(1−オクテン)2.0%とジエン55
AC 1.0%との液を、シリコン処理を施こしたポリエ
チレンテレフタレート支持体上に3ミル(75μ)のギ
ャップをもつドクターナイフを使用して塗布した。塗膜
を風乾させ:ポリエチレンテレフタレート支持体とエラ
ストマー層とからなるエレメントを作った。
に溶解したポリ(1−オクテン)2.0%とジエン55
AC 1.0%との液を、シリコン処理を施こしたポリエ
チレンテレフタレート支持体上に3ミル(75μ)のギ
ャップをもつドクターナイフを使用して塗布した。塗膜
を風乾させ:ポリエチレンテレフタレート支持体とエラ
ストマー層とからなるエレメントを作った。
【0095】〔工程2. 感光性エレメント〕2−ブタ
ノン中の実施例2で作ったTHPAホモポリマー10%
とATASS0.126%との液を、工程1で作ったエ
レメントのエラストマー層上に1ミル(25μ)のギャ
ップをもつドクターナイフを使用して塗布した。塗膜を
風乾させ:ポリエチレンテレフタレート支持体;エラス
トマー層;および光可溶性層からなる感光性エレメント
を作った。
ノン中の実施例2で作ったTHPAホモポリマー10%
とATASS0.126%との液を、工程1で作ったエ
レメントのエラストマー層上に1ミル(25μ)のギャ
ップをもつドクターナイフを使用して塗布した。塗膜を
風乾させ:ポリエチレンテレフタレート支持体;エラス
トマー層;および光可溶性層からなる感光性エレメント
を作った。
【0096】〔工程3. 露光〕工程2で作ったエレメ
ント上に、イエローのデュポンクロマリンR プルーフシ
ステムカラーターゲット(イー・アイ・デュポン社製)
の乳剤側が光可溶性層に接するように置き、そしてこの
エレメントとターゲットとを実施例11の工程3で述べ
たように露光した。
ント上に、イエローのデュポンクロマリンR プルーフシ
ステムカラーターゲット(イー・アイ・デュポン社製)
の乳剤側が光可溶性層に接するように置き、そしてこの
エレメントとターゲットとを実施例11の工程3で述べ
たように露光した。
【0097】〔工程4. ウオッシュアウトとトーニン
グ〕露光済みの試料は約2〜3分間周囲温度に放置し
た。ついで、周囲温度の水道水で20秒間ウオッシュア
ウトし、乾燥し、そして実施例11の工程4で述べたよ
うにしてイエロートナーでトーニングして:露光しウオ
ッシュアウトをした光可溶性層;トーニングされたエラ
ストマー層;および支持体からなるイエローにトーニン
グされた画像を作った。
グ〕露光済みの試料は約2〜3分間周囲温度に放置し
た。ついで、周囲温度の水道水で20秒間ウオッシュア
ウトし、乾燥し、そして実施例11の工程4で述べたよ
うにしてイエロートナーでトーニングして:露光しウオ
ッシュアウトをした光可溶性層;トーニングされたエラ
ストマー層;および支持体からなるイエローにトーニン
グされた画像を作った。
【0098】〔工程5. 追加の着色画像〕工程2で作
った感光性エレメントに、シアン、マゼンタ、および黒
のデュポンクロマリンR プルーフシステムカラーターゲ
ットと、それぞれシアン、マゼンタ、および黒のトナー
とを用いて工程3と4の方法をくり返して:露光しウオ
ッシュアウトをした光可溶性層;トーニングされたエラ
ストマー層;および支持体からなる、それぞれシアン、
マゼンタ、および黒にトーニングされた画像を作った。
った感光性エレメントに、シアン、マゼンタ、および黒
のデュポンクロマリンR プルーフシステムカラーターゲ
ットと、それぞれシアン、マゼンタ、および黒のトナー
とを用いて工程3と4の方法をくり返して:露光しウオ
ッシュアウトをした光可溶性層;トーニングされたエラ
ストマー層;および支持体からなる、それぞれシアン、
マゼンタ、および黒にトーニングされた画像を作った。
【0099】〔工程6. 転写エレメント〕エラストマ
ー層用の塗布液を工程1で述べたようにしてポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に塗布し:ポリエチレンテ
レフタレート転写シートとエラストマー層とからなる転
写エレメントを作った。
ー層用の塗布液を工程1で述べたようにしてポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に塗布し:ポリエチレンテ
レフタレート転写シートとエラストマー層とからなる転
写エレメントを作った。
【0100】〔工程7. 4色カラー画像〕工程5で作
った黒トーニング画像を、工程6で作った転写エレメン
トのエラストマー層上に周囲温度でラミネートして:転
写シート;エラストマー層;露光しウオッシュアウトを
した光可溶性層;黒にトーニングされたエラストマー
層;および支持体からなる単色の黒画像を作った。
った黒トーニング画像を、工程6で作った転写エレメン
トのエラストマー層上に周囲温度でラミネートして:転
写シート;エラストマー層;露光しウオッシュアウトを
した光可溶性層;黒にトーニングされたエラストマー
層;および支持体からなる単色の黒画像を作った。
【0101】以上で作った単色の黒画像から支持体をと
り除き、そして工程6で作ったシアン画像を得られたエ
レメントのエラストマー層に対し位置決めの下にラミネ
ートして:転写シート;エラストマー層;露光しウオッ
シュアウトをした光可溶性層;黒にトーニングされたエ
ラストマー層;露光しウオッシュアウトをした光可溶性
層;シアンにトーニングされたエラストマー層;および
支持体からなる2色の画像を作った。
り除き、そして工程6で作ったシアン画像を得られたエ
レメントのエラストマー層に対し位置決めの下にラミネ
ートして:転写シート;エラストマー層;露光しウオッ
シュアウトをした光可溶性層;黒にトーニングされたエ
ラストマー層;露光しウオッシュアウトをした光可溶性
層;シアンにトーニングされたエラストマー層;および
支持体からなる2色の画像を作った。
【0102】上記で作った2色の画像から支持体をとり
除き、そして工程6で作ったマゼンタ画像を得られたエ
レメントのエラストマー層に対し位置決めの下にラミネ
ートして:転写シート;エラストマー層;露光しウオッ
シュアウトをした光可溶性層;黒にトーニングされたエ
ラストマー層;露光しウオッシュアウトをした光可溶性
層;シアンにトーニングされたエラストマー層;露光し
ウオッシュアウトをした光可溶性層;マゼンタにトーニ
ングされたエラストマー層;および支持体からなる3色
の画像を作った。
除き、そして工程6で作ったマゼンタ画像を得られたエ
レメントのエラストマー層に対し位置決めの下にラミネ
ートして:転写シート;エラストマー層;露光しウオッ
シュアウトをした光可溶性層;黒にトーニングされたエ
ラストマー層;露光しウオッシュアウトをした光可溶性
層;シアンにトーニングされたエラストマー層;露光し
ウオッシュアウトをした光可溶性層;マゼンタにトーニ
ングされたエラストマー層;および支持体からなる3色
の画像を作った。
【0103】上記で作った3色の画像から支持体をとり
除き、そして工程5で作ったイエロー画像を、このよう
にして作られている画像のエラストマー層に対し位置決
めの下にラミネートして:転写シート;エラストマー
層;露光しウオッシュアウトをされた光可溶性層;黒に
トーニングされたエラストマー層;露光しウオッシュア
ウトをされた光可溶性層;シアンにトーニングされたエ
ラストマー層;露光しウオッシュアウトをされた光可溶
性層;マゼンタにトーニングされたエラストマー層;露
光しウオッシュアウトされた光可溶性層;イエローにト
ーニングされたエラストマー層;および支持体からなる
4色の画像を作った。
除き、そして工程5で作ったイエロー画像を、このよう
にして作られている画像のエラストマー層に対し位置決
めの下にラミネートして:転写シート;エラストマー
層;露光しウオッシュアウトをされた光可溶性層;黒に
トーニングされたエラストマー層;露光しウオッシュア
ウトをされた光可溶性層;シアンにトーニングされたエ
ラストマー層;露光しウオッシュアウトをされた光可溶
性層;マゼンタにトーニングされたエラストマー層;露
光しウオッシュアウトされた光可溶性層;イエローにト
ーニングされたエラストマー層;および支持体からなる
4色の画像を作った。
【0104】上記で作った4色カラー画像から支持体を
とり除き、この画像をメリネックスR 受像体にラミネー
トした。転写シートは画像を保護するためそのままにし
ておいた。この方法により、クロモコートR 紙上にまた
普通のコピー用紙上に、4色カラー画像を作ることもで
きる。本発明の多くの異なる具体化例を発明の目的と範
囲から外れることなく行うことができるが、本発明は請
求項中で規定されているごとく、ここの特定具体例に限
定されるものでないことを理解さるべきである。
とり除き、この画像をメリネックスR 受像体にラミネー
トした。転写シートは画像を保護するためそのままにし
ておいた。この方法により、クロモコートR 紙上にまた
普通のコピー用紙上に、4色カラー画像を作ることもで
きる。本発明の多くの異なる具体化例を発明の目的と範
囲から外れることなく行うことができるが、本発明は請
求項中で規定されているごとく、ここの特定具体例に限
定されるものでないことを理解さるべきである。
【0105】本発明の要旨およびその実施態様を以下に
要約して示す。 1. 着色画像を作るのに適した感光性エレメントであ
って、このエレメントは: (1)(a) 光可溶性化剤と、 (b) ポリマー骨格とこの骨格に結合している懸垂した
酸に不安定な基とをもち、この懸垂した酸に不安定な基
が次の式: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) (ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子の
アルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3
とR4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素
原子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR
2とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる)で表わされるもので
ある、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成される
光可溶性層、 (2) エラストマー層、および (3) 支持体とからなるものである、感光性エレメン
ト。 2. ポリマーが1個またはそれ以上の酸に不安定なモ
ノマーのくり返し単位を少なくとも約50モル%有する
ものである、前項1に記載のエレメント。 3. 酸に不安定なモノマーがアクリレートモノマー、
メタアクリレートモノマー、またはこれらの混合物であ
る、前項2に記載のエレメント。 4. 酸に不安定な基が以下の各置換基:R1とR4とは
水素;R2はC1〜C4アルキル;そしてR3は水素または
CH3を有するものである、前項3に記載のエレメン
ト。 5. 酸に不安定な基が以下の各置換基:R1とR4とは
水素;そしてR2とR3とは6−員環を形成するように結
合したものである、前項3に記載のエレメント。 6. ポリマーがまたメチルアクリレート、メチルメタ
アクリレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリ
レート、フルフリルアクリレート、およびフルフリルメ
タアクリレート、よりなる群から選ばれた少なくとも1
つのモノマーを含むものである、前項3に記載のエレメ
ント。 7. ポリマーが1個またはそれ以上の酸に不安定なモ
ノマーのくり返し単位から本質的に構成されるものであ
る、前項1に記載のエレメント。 8. 酸に不安定なモノマーがアクリレートモノマー、
メタアクリレートモノマー、またはこれらの混合物であ
る、前項7に記載のエレメント。 9. モノマーがアクリレートモノマーであり、ここで
酸に不安定な基が以下の各置換基:R1とR4とは水素;
R2はC1〜C4のアルキル;そしてR3は水素またCH3
を有するものである、前項7に記載のエレメント。 10. ポリマーがポリ(テトラハイドロピラニルアク
リレート)、ポリ〔1−(エトキシ)−プロピルメタア
クリレート〕、およびテトラハイドロピラニルメタアク
リレートとテトラハイドロピラニルアクリレートとのコ
ポリマー、よりなる群から選ばれたものである、前項7
に記載のエレメント。 11. 光可溶性化剤がジアリールヨードニウム、トリ
アリールスルホニウムまたはアンスラセン結合スルホニ
ウム塩である、前項1に記載のエレメント。 12. エラストマー層がブタジエン、イソプロピレン
またはアルファ−オレフィンのポリマーである、前項1
に記載のエレメント。 13. エラストマー層がポリ(アルファ−オレフィ
ン)である、前項12に記載のエレメント。 14. 支持体がエラストマー層から除去可能なもので
ある、前項1に記載のエレメント。 15. 着色画像を作るために: (A) 次の順序の: (1)(a) 光可溶性化剤と、 (b) ポリマー骨格とこの骨格に結合している懸垂した
酸に不安定な基とをもち、この懸垂した酸に不安定な基
が次の式: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) (ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子の
アルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3
とR4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素
原子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR
2とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる)で表わされるもので
ある、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成される
光可溶性層、 (2) エラストマー層、および (3) 除去可能な支持体とからなる、多層の感光性エレ
メントを用意し; (B) 像を保持している原板を通じて、活性放射線に対
し前記光可溶性層を露光することにより、前記感光性エ
レメント中に潜像を形成し; (C) 工程Bで分解した前記の光可溶性層の区域を水系
溶剤で洗うことにより除去し、これによりエラストマー
層の区域を出現させ; (D) 前記の感光性エレメント表面に着色材料を付与
し、この着色材料をエラストマー層の出現された区域に
だけ選択的に付着させることにより着色画像を作り; (E) 転写シートとエラストマー層とからなる転写エレ
メントを準備し; (F) 前記転写エレメントのエラストマー層に対して、
着色画像をもつ感光性エレメントの表面をラミネート
し; (G) エラストマー層を出現させるために、前記感光性
エレメントの除去可能な支持体をとり除き;そして (H) 前記感光性エレメントのエラストマー層を受像体
にラミネートするの各工程からなる、着色画像の作成方
法。 16. 工程DとEとの間に、前記エレメント全体を活
性放射線に対し露光し、そして水系の溶剤によって前記
光可溶性層の残留物を除去する工程を含むものである、
前項15に記載の方法。 17. ポリマーが少なくとも1つの酸に不安定なモノ
マーのくり返し単位の少なくとも約50%からなるもの
である、前項15に記載の方法。 18. ポリマーが1個または数個の酸に不安定なモノ
マーのくり返し単位から本質的に構成されるものであ
る、前項15に記載の方法。 19. ポリマーが1個または数個のアクリレートおよ
び/またはメタアクリレートモノマーのくり返し単位か
ら本質的に構成されるものである、前項15に記載の方
法。 20. モノマーがアクリレートモノマーであり、酸に
不安定な基が以下の各置換基:R1とR4とは水素;R2
はC1〜C4のアルキル;そしてR3は水素またはCH3を
もつものである、前項15に記載の方法。 21. ポリマーがポリ(テトラハイドロピラニルアク
リレート)、ポリ〔1−(エトキシ)−プロピルメタア
クリレート〕、およびテトラハイドロピラニルメタアク
リレートとテトラハイドロピラニルアクリレートとのコ
ポリマー、よりなる群から選ばれるものである、前項1
5に記載の方法。 22. 水系溶剤は水である、前項15に記載の方法。 23. 工程A〜Dが着色画像をもつ少なくとも2つの
感光性エレメントを作るためくり返され、そして各感光
性エレメントは位置決めの下にラミネートされるもので
ある、前項15もしくは16に記載の方法。 24. 4つの感光性エレメントが4色サープリントプ
ルーフを作るため位置決めのもとにラミネートされるも
のである、前項23に記載の方法。
要約して示す。 1. 着色画像を作るのに適した感光性エレメントであ
って、このエレメントは: (1)(a) 光可溶性化剤と、 (b) ポリマー骨格とこの骨格に結合している懸垂した
酸に不安定な基とをもち、この懸垂した酸に不安定な基
が次の式: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) (ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子の
アルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3
とR4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素
原子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR
2とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる)で表わされるもので
ある、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成される
光可溶性層、 (2) エラストマー層、および (3) 支持体とからなるものである、感光性エレメン
ト。 2. ポリマーが1個またはそれ以上の酸に不安定なモ
ノマーのくり返し単位を少なくとも約50モル%有する
ものである、前項1に記載のエレメント。 3. 酸に不安定なモノマーがアクリレートモノマー、
メタアクリレートモノマー、またはこれらの混合物であ
る、前項2に記載のエレメント。 4. 酸に不安定な基が以下の各置換基:R1とR4とは
水素;R2はC1〜C4アルキル;そしてR3は水素または
CH3を有するものである、前項3に記載のエレメン
ト。 5. 酸に不安定な基が以下の各置換基:R1とR4とは
水素;そしてR2とR3とは6−員環を形成するように結
合したものである、前項3に記載のエレメント。 6. ポリマーがまたメチルアクリレート、メチルメタ
アクリレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリ
レート、フルフリルアクリレート、およびフルフリルメ
タアクリレート、よりなる群から選ばれた少なくとも1
つのモノマーを含むものである、前項3に記載のエレメ
ント。 7. ポリマーが1個またはそれ以上の酸に不安定なモ
ノマーのくり返し単位から本質的に構成されるものであ
る、前項1に記載のエレメント。 8. 酸に不安定なモノマーがアクリレートモノマー、
メタアクリレートモノマー、またはこれらの混合物であ
る、前項7に記載のエレメント。 9. モノマーがアクリレートモノマーであり、ここで
酸に不安定な基が以下の各置換基:R1とR4とは水素;
R2はC1〜C4のアルキル;そしてR3は水素またCH3
を有するものである、前項7に記載のエレメント。 10. ポリマーがポリ(テトラハイドロピラニルアク
リレート)、ポリ〔1−(エトキシ)−プロピルメタア
クリレート〕、およびテトラハイドロピラニルメタアク
リレートとテトラハイドロピラニルアクリレートとのコ
ポリマー、よりなる群から選ばれたものである、前項7
に記載のエレメント。 11. 光可溶性化剤がジアリールヨードニウム、トリ
アリールスルホニウムまたはアンスラセン結合スルホニ
ウム塩である、前項1に記載のエレメント。 12. エラストマー層がブタジエン、イソプロピレン
またはアルファ−オレフィンのポリマーである、前項1
に記載のエレメント。 13. エラストマー層がポリ(アルファ−オレフィ
ン)である、前項12に記載のエレメント。 14. 支持体がエラストマー層から除去可能なもので
ある、前項1に記載のエレメント。 15. 着色画像を作るために: (A) 次の順序の: (1)(a) 光可溶性化剤と、 (b) ポリマー骨格とこの骨格に結合している懸垂した
酸に不安定な基とをもち、この懸垂した酸に不安定な基
が次の式: -CO2-C(R1)(0R2)-CH(R3)(R4) (ここで、R1は水素または約1から約6の炭素原子の
アルキル、R2は1から約8の炭素原子のアルキル、R3
とR4とはそれぞれ独立に水素または1から約6の炭素
原子のアルキル、ここでR1とR2;R1とR3;またはR
2とR3のいずれかは5−、6−または7−員の環を形成
するために結合することができる)で表わされるもので
ある、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成される
光可溶性層、 (2) エラストマー層、および (3) 除去可能な支持体とからなる、多層の感光性エレ
メントを用意し; (B) 像を保持している原板を通じて、活性放射線に対
し前記光可溶性層を露光することにより、前記感光性エ
レメント中に潜像を形成し; (C) 工程Bで分解した前記の光可溶性層の区域を水系
溶剤で洗うことにより除去し、これによりエラストマー
層の区域を出現させ; (D) 前記の感光性エレメント表面に着色材料を付与
し、この着色材料をエラストマー層の出現された区域に
だけ選択的に付着させることにより着色画像を作り; (E) 転写シートとエラストマー層とからなる転写エレ
メントを準備し; (F) 前記転写エレメントのエラストマー層に対して、
着色画像をもつ感光性エレメントの表面をラミネート
し; (G) エラストマー層を出現させるために、前記感光性
エレメントの除去可能な支持体をとり除き;そして (H) 前記感光性エレメントのエラストマー層を受像体
にラミネートするの各工程からなる、着色画像の作成方
法。 16. 工程DとEとの間に、前記エレメント全体を活
性放射線に対し露光し、そして水系の溶剤によって前記
光可溶性層の残留物を除去する工程を含むものである、
前項15に記載の方法。 17. ポリマーが少なくとも1つの酸に不安定なモノ
マーのくり返し単位の少なくとも約50%からなるもの
である、前項15に記載の方法。 18. ポリマーが1個または数個の酸に不安定なモノ
マーのくり返し単位から本質的に構成されるものであ
る、前項15に記載の方法。 19. ポリマーが1個または数個のアクリレートおよ
び/またはメタアクリレートモノマーのくり返し単位か
ら本質的に構成されるものである、前項15に記載の方
法。 20. モノマーがアクリレートモノマーであり、酸に
不安定な基が以下の各置換基:R1とR4とは水素;R2
はC1〜C4のアルキル;そしてR3は水素またはCH3を
もつものである、前項15に記載の方法。 21. ポリマーがポリ(テトラハイドロピラニルアク
リレート)、ポリ〔1−(エトキシ)−プロピルメタア
クリレート〕、およびテトラハイドロピラニルメタアク
リレートとテトラハイドロピラニルアクリレートとのコ
ポリマー、よりなる群から選ばれるものである、前項1
5に記載の方法。 22. 水系溶剤は水である、前項15に記載の方法。 23. 工程A〜Dが着色画像をもつ少なくとも2つの
感光性エレメントを作るためくり返され、そして各感光
性エレメントは位置決めの下にラミネートされるもので
ある、前項15もしくは16に記載の方法。 24. 4つの感光性エレメントが4色サープリントプ
ルーフを作るため位置決めのもとにラミネートされるも
のである、前項23に記載の方法。
フロントページの続き (72)発明者 フロイド・エイ・レイモンド アメリカ合衆国デラウエア州19810.ウ イルミントン.ブランデイウツドドライ ブ2143 (72)発明者 ジエフリー・ジユード・パトリシア アメリカ合衆国ニユーヨーク州13850. ベスタル.メインストリート400 (72)発明者 ウオールター・レイモンド・ハートラー アメリカ合衆国ペンシルベニア州19348. ケネツトスクエア.パーカーズビルロー ド1375 (56)参考文献 特開 平1−103611(JP,A)
Claims (3)
- 【請求項1】 (1)(a)光可溶性化剤、および (b)ポリマー骨格およびこの骨格に結合している酸に
不安定な懸垂基を有し、この酸に不安定な懸垂基が式 −CO2−C(R1)(OR2)−CH(R3)(R4) (式中、R1は水素または1から6の炭素原子のアルキ
ルであり、 R2は1から8の炭素原子のアルキルであり、 R3およびR4はそれぞれ独立に水素または1から6の
炭素原子のアルキルであり、 R1とR2、R1とR3またはR2とR3のいずれかは
一緒になって5−、6−または7−員環を形成すること
ができる)で表わされる、酸に不安定なポリマーから本
質的に構成される光可溶性層、 (2)エラストマー層、および (3)支持体からなる、着色像の作成に適した感光性エ
レメント。 - 【請求項2】 (A)(1)(a)光可溶性化剤、およ
び (b)ポリマー骨格およびこの骨格に結合している酸に
不安定な懸垂基を有し、この酸に不安定な懸垂基が式 −CO2−C(R1)(OR2)−CH(R3)(R4) (式中、R1は水素または1から6の炭素原子のアルキ
ルであり、 R2は1から8の炭素原子のアルキルであり、 R3およびR4はそれぞれ独立に水素または1から6の
炭素原子のアルキルであり、 R1とR2、R1とR3またはR2とR3のいずれかは
一緒になって5−、6−または7−員環を形成すること
ができる)で表わされる、酸に不安定なポリマーから本
質的に構成される光可溶性層、 (2)エラストマー層、および (3)除去可能な支持体 から順次なる、多層の感光性エレメントを用意し、 (B)前記光可溶性層を像担持原板を通じて活性放射線
に露光して前記感光性エレメント中に潜像を形成させ、 (C)工程Bで分解した前記の光可溶性層の区域を水性
溶媒で洗浄して除去しエラストマー層の区域を出現さ
せ、 (D)前記感光性エレメントの表面に、エラストマー層
の出現された区域にだけ選択的に付着する着色材を付与
して着色像を形成させ、 (E)転写シートとエラストマー層とからなる転写エレ
メントを準備し、 (F)着色像を有する感光性エレメントの表面を前記転
写エレメントのエラストマー層に積層し、 (G)前記感光性エレメントの除去可能な支持体をとり
除いてエラストマー層を出現させ、そして (H)前記感光性エレメントのエラストマー層を受像体
に積層することからなる、着色像の作成方法。 - 【請求項3】 工程DとEとの間に、前記エレメント全
体を活性放射線に露光しそして水性溶媒によって前記光
可溶性層の残りを除去する工程を含む、請求項2記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US507339 | 1990-04-10 | ||
| US07/507,339 US5071731A (en) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | Aqueous processable photosensitive element with an elastomeric layer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04358154A JPH04358154A (ja) | 1992-12-11 |
| JP2575237B2 true JP2575237B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=24018259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3103410A Expired - Lifetime JP2575237B2 (ja) | 1990-04-10 | 1991-04-09 | 水処理可能な感光性エレメント |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5071731A (ja) |
| EP (1) | EP0451736B1 (ja) |
| JP (1) | JP2575237B2 (ja) |
| KR (1) | KR910018848A (ja) |
| CN (1) | CN1055609A (ja) |
| AU (1) | AU627115B2 (ja) |
| CA (1) | CA2038177A1 (ja) |
| DE (1) | DE69126729T2 (ja) |
| SG (1) | SG48136A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5219711A (en) * | 1990-04-10 | 1993-06-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Positive image formation utilizing resist material with carbazole diazonium salt acid generator |
| US5262281A (en) * | 1990-04-10 | 1993-11-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Resist material for use in thick film resists |
| US5212047A (en) * | 1990-04-10 | 1993-05-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Resist material and process for use |
| US5206317A (en) * | 1990-04-10 | 1993-04-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Resist material and process for use |
| US5102771A (en) * | 1990-11-26 | 1992-04-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive materials |
| US5225316A (en) * | 1990-11-26 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups |
| ES2152258T3 (es) * | 1992-07-31 | 2001-02-01 | Du Pont | Metodo y producto para montaje de particulas. |
| DE4328676A1 (de) * | 1993-08-26 | 1995-03-02 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung eines farbigen Bilds |
| EP0655653B1 (en) * | 1993-11-02 | 1999-05-19 | Konica Corporation | Method of forming a color image |
| US5597677A (en) * | 1994-11-02 | 1997-01-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoimageable elements |
| US5563023A (en) * | 1994-11-02 | 1996-10-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Photoimageable elements |
| US5965321A (en) * | 1997-09-25 | 1999-10-12 | E. U. Du Pont De Nemours And Company | Peel-apart photosensitive elements and their process of use |
| US6001532A (en) * | 1997-09-25 | 1999-12-14 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Peel-apart photosensitive elements and their process of use |
| US6884562B1 (en) | 1998-10-27 | 2005-04-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoresists and processes for microlithography |
| JP4666859B2 (ja) * | 1999-08-13 | 2011-04-06 | インテレクチュアル ヴェンチャーズ ホールディング 40 リミテッド ライアビリティ カンパニー | 水処理可能なフォトレジスト組成物 |
| US6100006A (en) * | 1999-08-19 | 2000-08-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Peel-apart photosensitive elements and their process of use |
| FR2809829B1 (fr) * | 2000-06-05 | 2002-07-26 | Rhodia Chimie Sa | Nouvelle composition photosensible pour la fabrication de photoresist |
| JP2007246418A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Canon Inc | 感光性シランカップリング剤、パターン形成方法およびデバイスの製造方法 |
| JP5965855B2 (ja) * | 2012-07-27 | 2016-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法、並びに樹脂 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH621416A5 (ja) * | 1975-03-27 | 1981-01-30 | Hoechst Ag | |
| US4053313A (en) * | 1975-06-03 | 1977-10-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for image reproduction using multilayer photosensitive solvent processable elements |
| US4376159A (en) * | 1977-05-09 | 1983-03-08 | Keuffel & Esser Company | Method of preparing matte finish color-proofing surprints |
| US4376158A (en) * | 1977-05-09 | 1983-03-08 | Keuffel & Esser Company | Color-proofing method |
| US4294909A (en) * | 1979-12-26 | 1981-10-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive negative-working toning process |
| DE3406927A1 (de) * | 1984-02-25 | 1985-08-29 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren verbindungen |
| FR2567135B1 (fr) * | 1984-07-03 | 1989-01-13 | Asahi Chemical Ind | Polymere ou copolymere de butadiene et procede de preparation |
| JPH067263B2 (ja) * | 1985-08-19 | 1994-01-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 光可溶化組成物 |
| DE3751745T2 (de) * | 1986-10-23 | 1996-09-26 | Ibm | Hochempfindliche Resiste mit Selbstzersetzungstemperatur grösser als etwa 160 Grad Celsius |
| JPH07120039B2 (ja) * | 1986-11-14 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| EP0307353A3 (de) * | 1987-09-07 | 1990-09-12 | Ciba-Geigy Ag | Organometallhaltige Polymere und deren Verwendung |
| DE3730783A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| US4985332A (en) * | 1990-04-10 | 1991-01-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Resist material with carbazole diazonium salt acid generator and process for use |
-
1990
- 1990-04-10 US US07/507,339 patent/US5071731A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-03-13 CA CA002038177A patent/CA2038177A1/en not_active Abandoned
- 1991-04-06 SG SG1996007268A patent/SG48136A1/en unknown
- 1991-04-06 DE DE69126729T patent/DE69126729T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-06 EP EP91105460A patent/EP0451736B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-09 JP JP3103410A patent/JP2575237B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-09 KR KR1019910005681A patent/KR910018848A/ko not_active Withdrawn
- 1991-04-09 AU AU74204/91A patent/AU627115B2/en not_active Ceased
- 1991-04-10 CN CN91102274A patent/CN1055609A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69126729T2 (de) | 1997-10-23 |
| CN1055609A (zh) | 1991-10-23 |
| KR910018848A (ko) | 1991-11-30 |
| SG48136A1 (en) | 1998-04-17 |
| JPH04358154A (ja) | 1992-12-11 |
| EP0451736A3 (en) | 1992-03-04 |
| AU627115B2 (en) | 1992-08-13 |
| EP0451736A2 (en) | 1991-10-16 |
| US5071731A (en) | 1991-12-10 |
| CA2038177A1 (en) | 1991-10-11 |
| DE69126729D1 (de) | 1997-08-14 |
| EP0451736B1 (en) | 1997-07-09 |
| AU7420491A (en) | 1991-11-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2575237B2 (ja) | 水処理可能な感光性エレメント | |
| EP0076028B1 (en) | Aqueous processible, alcohol resistant flexographic printing plates | |
| JPH04350661A (ja) | ポジ作動感光性静電マスター | |
| JPH02272455A (ja) | ホトレリーズ層をもつ感光性複製用エレメント | |
| JPH0389249A (ja) | ピールアパート感光性エレメントを使用する画像反転方法 | |
| US5229244A (en) | Dry processible photosensitive composition including photo-acid generator and optically clear polymer (co-polymer) blend that becomes tacky upon exposure to actinic radiation | |
| US5093221A (en) | Process of making colored images using aqueous processable photosensitive elements | |
| JPH03241355A (ja) | 感光性エレメント | |
| JP2645206B2 (ja) | 紫外線硬化性、粘着非持続性調色材料を用いる転写方法 | |
| US6177234B1 (en) | Process and preparation of monochrome and polychromatic color proofs from high resolution color separations using image carriers having a specified roughness | |
| US5399458A (en) | Process for making images employing a toner which has a tackiness that can be increased by actinic radiation | |
| JPH02291570A (ja) | ホトポリマ静電マスタからの高解像性重ね合わせ画像 | |
| US5286595A (en) | Process for creating a tacky tonable image surface through exposure of a substrate coated with a polymer blend, including a photo-acid generator, to actinic radiation | |
| JPH0795195B2 (ja) | 前着色およびトーニングされた画像からなるオーバーレイプルーフ | |
| JPH05341506A (ja) | トーニング可能な感光性層上に画像を作成するための方法 | |
| AU640763B2 (en) | Improved elastomeric layer for multilayer tonable photosensitive elements | |
| JP2736233B2 (ja) | 低い光学網点成長をもつ単色及び多色カラープルーフ、その製造方法及び手段 | |
| JP2771122B2 (ja) | トーニング可能な感光性組成物および多色画像の作成方法 | |
| JPS62247348A (ja) | 画像形成材料および転写画像形成方法 | |
| EP0291537B1 (en) | Colored image-forming material and process for forming colored image | |
| EP0543881B1 (en) | Single layer dry processible photosensitive composition and toning process | |
| JPS62291634A (ja) | 着色画像形成材料及び転写画像形成方法 | |
| JPH04113894A (ja) | 受像シート材料及び転写画像形成方法 | |
| JPS63143535A (ja) | 転写画像形成方法 | |
| Fahey | Design, synthesis and evaluation of novel polymeric materials for microelectronics |