JPH04358154A - 水処理可能な感光性エレメント - Google Patents
水処理可能な感光性エレメントInfo
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- JPH04358154A JPH04358154A JP3103410A JP10341091A JPH04358154A JP H04358154 A JPH04358154 A JP H04358154A JP 3103410 A JP3103410 A JP 3103410A JP 10341091 A JP10341091 A JP 10341091A JP H04358154 A JPH04358154 A JP H04358154A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F3/00—Colour separation; Correction of tonal value
- G03F3/10—Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は画像複製用の水処理可能な感光性
エレメントに関する。さらに詳しくは光可溶性層、エラ
ストマー層、および支持体とからなる感光性エレメント
に関するものである。
エレメントに関する。さらに詳しくは光可溶性層、エラ
ストマー層、および支持体とからなる感光性エレメント
に関するものである。
【０００２】
【背景技術】画像複製用の感光性エレメントはグラフィ
ックアーツの業界で良く知られている。このようなエレ
メントは、原板のポジチブまたはネガチブのいずれかの
複製画像を作るために、色分解原板のような画像をもつ
原板を通じて活性放射線に対して露光をされる。ポジ作
動型のエレメントは原板の複製像、すなわち最終の像中
で原板の着色域は着色されそして原板中の未着色域は未
着色の像を作る。ネガ作動型のエレメントは原板の逆の
、つまり最終画像中で原板の着色域は未着色でそして原
板中の未着色域は着色した像を作る。画像状の露光後、
感光性エレメントは可溶性の画像域をウオッシュアウト
し、着色材によってトーニングし、剥離し、またはこれ
ら各方法を組み合わせたものにより現像される。
ックアーツの業界で良く知られている。このようなエレ
メントは、原板のポジチブまたはネガチブのいずれかの
複製画像を作るために、色分解原板のような画像をもつ
原板を通じて活性放射線に対して露光をされる。ポジ作
動型のエレメントは原板の複製像、すなわち最終の像中
で原板の着色域は着色されそして原板中の未着色域は未
着色の像を作る。ネガ作動型のエレメントは原板の逆の
、つまり最終画像中で原板の着色域は未着色でそして原
板中の未着色域は着色した像を作る。画像状の露光後、
感光性エレメントは可溶性の画像域をウオッシュアウト
し、着色材によってトーニングし、剥離し、またはこれ
ら各方法を組み合わせたものにより現像される。
【０００３】一般に、このような感光性エレメントは最
終画像用の受像体の選択に制限がある。例えば、プルー
フの場合一般に印刷作業で用いられている用紙上に最終
の像（プルーフ）を作ることは不可能である。従って、
プルーフは印刷されたコピーと全く同じものと見ること
はできず、プルーフを評価するには相当の経験が必要で
ある。
終画像用の受像体の選択に制限がある。例えば、プルー
フの場合一般に印刷作業で用いられている用紙上に最終
の像（プルーフ）を作ることは不可能である。従って、
プルーフは印刷されたコピーと全く同じものと見ること
はできず、プルーフを評価するには相当の経験が必要で
ある。
【０００４】最終画像用の受像体選択の制限に加えて、
像複製用の感光性エレメントの多くは、有機溶剤による
ウオッシュアウトを必要とするという不都合さを有して
いる。例えば、米国特許第４，０５３，３１３号（Ｆａ
ｎ氏）は溶剤処理可能な感光性層、トーニングしうるエ
ラストマー層、および支持体とからなる感光性エレメン
トを示しており、これは水と有機溶剤との混合物により
処理（ウオッシュアウト）される。米国特許第４，３７
６，１５８号と同第４，３７６，１５９号（Ｓｐｅｃｋ
ｌｅｒ氏）に示されているエレメントはウオッシュアウ
トのために水系の塩基液を必要とする。有機溶剤または
水系塩基の使用は引火性、有毒性、腐食性および／また
は廃棄物処理などの点から好ましいものではない。
像複製用の感光性エレメントの多くは、有機溶剤による
ウオッシュアウトを必要とするという不都合さを有して
いる。例えば、米国特許第４，０５３，３１３号（Ｆａ
ｎ氏）は溶剤処理可能な感光性層、トーニングしうるエ
ラストマー層、および支持体とからなる感光性エレメン
トを示しており、これは水と有機溶剤との混合物により
処理（ウオッシュアウト）される。米国特許第４，３７
６，１５８号と同第４，３７６，１５９号（Ｓｐｅｃｋ
ｌｅｒ氏）に示されているエレメントはウオッシュアウ
トのために水系の塩基液を必要とする。有機溶剤または
水系塩基の使用は引火性、有毒性、腐食性および／また
は廃棄物処理などの点から好ましいものではない。
【０００５】そこで、各種の受像体上に画像を複製する
ことができ、かつ水性の液、好ましくは普通の水道水で
処理することのできる、改良された感光性エレメントが
必要であることはいまも続いているのである。
ことができ、かつ水性の液、好ましくは普通の水道水で
処理することのできる、改良された感光性エレメントが
必要であることはいまも続いているのである。
【０００６】
【発明の要点】本発明は水またはうすい塩基溶液で処理
（ウオッシュアウト）することのできる、画像複製用の
感光性エレメントを提供する。この感光性エレメントは
、多層サープリントプルーフのような着色画像を、各種
の所望基体上に作るために用いることができる。
（ウオッシュアウト）することのできる、画像複製用の
感光性エレメントを提供する。この感光性エレメントは
、多層サープリントプルーフのような着色画像を、各種
の所望基体上に作るために用いることができる。
【０００７】本発明の１具体例において、着色画像を作
るのに適した感光性エレメントは： （１）（ａ） 光可溶性化剤と、（ｂ） ポリマー
骨格とこの骨格に結合している懸垂した酸に不安定な基
（ｐｅｎｄａｎｔ ａｃｉｄ−ｌａｂｉｌｅ ｇｒｏｕ
ｐｓ）とをもち、この懸垂した酸に不安定な基が次の式
： −ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（０Ｒ２）−ＣＨ（Ｒ３）（Ｒ４
）（ここで、Ｒ１は水素または約１から約６の炭素原子
のアルキル、Ｒ２は１から約８の炭素原子のアルキル、
Ｒ３とＲ４とはそれぞれ独立に水素または１から約６の
炭素原子のアルキル、ここでＲ１とＲ２；Ｒ１とＲ３；
またはＲ２とＲ３のいずれかは５−、６−または７−員
の環を形成するために結合することができる）で表され
るものである、酸に不安定なポリマーとから本質的に構
成される光可溶性層、（２） エラストマー層、およ
び（３） 支持体とからなるものである、感光性エレ
メントが提供される。
るのに適した感光性エレメントは： （１）（ａ） 光可溶性化剤と、（ｂ） ポリマー
骨格とこの骨格に結合している懸垂した酸に不安定な基
（ｐｅｎｄａｎｔ ａｃｉｄ−ｌａｂｉｌｅ ｇｒｏｕ
ｐｓ）とをもち、この懸垂した酸に不安定な基が次の式
： −ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（０Ｒ２）−ＣＨ（Ｒ３）（Ｒ４
）（ここで、Ｒ１は水素または約１から約６の炭素原子
のアルキル、Ｒ２は１から約８の炭素原子のアルキル、
Ｒ３とＲ４とはそれぞれ独立に水素または１から約６の
炭素原子のアルキル、ここでＲ１とＲ２；Ｒ１とＲ３；
またはＲ２とＲ３のいずれかは５−、６−または７−員
の環を形成するために結合することができる）で表され
るものである、酸に不安定なポリマーとから本質的に構
成される光可溶性層、（２） エラストマー層、およ
び（３） 支持体とからなるものである、感光性エレ
メントが提供される。
【０００８】本発明のいま１つの具体例において、着色
画像を作るために： （Ａ） 次の順序の：（１）（ａ） 光可溶性化剤
と、（ｂ） ポリマー骨格とこの骨格に結合している
懸垂した酸に不安定な基とをもち、この懸垂した酸に不
安定な基が次の式： −ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（０Ｒ２）−ＣＨ（Ｒ３）（Ｒ４
）（ここで、Ｒ１は水素または約１から約６の炭素原子
のアルキル、Ｒ２は１から約８の炭素原子のアルキル、
Ｒ３とＲ４とはそれぞれ独立に水素または１から約６の
炭素原子のアルキル、ここでＲ１とＲ２；Ｒ１とＲ３；
またはＲ２とＲ３のいずれかは５−、６−または７−員
の環を形成するために結合することができる）で表され
るものである、酸に不安定なポリマーとから本質的に構
成される光可溶性層、（２） エラストマー層、およ
び（３） 除去可能な支持体とからなる、多層の感光
性エレメントを用意し； （Ｂ） 像を保持している原板を通じて、活性放射線
に対し前記光可溶性層を露光することにより、前記感光
性エレメント中に潜像を形成させ； （Ｃ） 工程Ｂで分解した前記の光可溶性層の区域を
水系溶剤で洗うことにより除去し、これによりエラスト
マー層の区域を出現させ； （Ｄ） 前記の感光性エレメント表面に着色材を付与
し、この着色材料をエラストマー層の出現された区域に
だけ選択的に付着させることにより着色画像を作り；（
Ｅ） 転写シートとエラストマー層とからなる転写エ
レメントを準備し； （Ｆ） 前記転写エレメントのエラストマー層に対し
て、着色画像をもつ感光性エレメントの表面をラミネー
トし； （Ｇ） エラストマー層を出現させるために、前記感
光性エレメントの除去可能な支持体をとり除き；そして
（Ｈ） 前記感光性エレメントのエラストマー層を受
像体にラミネートするの各工程からなる、着色画像の作
成方法が提供される。
画像を作るために： （Ａ） 次の順序の：（１）（ａ） 光可溶性化剤
と、（ｂ） ポリマー骨格とこの骨格に結合している
懸垂した酸に不安定な基とをもち、この懸垂した酸に不
安定な基が次の式： −ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（０Ｒ２）−ＣＨ（Ｒ３）（Ｒ４
）（ここで、Ｒ１は水素または約１から約６の炭素原子
のアルキル、Ｒ２は１から約８の炭素原子のアルキル、
Ｒ３とＲ４とはそれぞれ独立に水素または１から約６の
炭素原子のアルキル、ここでＲ１とＲ２；Ｒ１とＲ３；
またはＲ２とＲ３のいずれかは５−、６−または７−員
の環を形成するために結合することができる）で表され
るものである、酸に不安定なポリマーとから本質的に構
成される光可溶性層、（２） エラストマー層、およ
び（３） 除去可能な支持体とからなる、多層の感光
性エレメントを用意し； （Ｂ） 像を保持している原板を通じて、活性放射線
に対し前記光可溶性層を露光することにより、前記感光
性エレメント中に潜像を形成させ； （Ｃ） 工程Ｂで分解した前記の光可溶性層の区域を
水系溶剤で洗うことにより除去し、これによりエラスト
マー層の区域を出現させ； （Ｄ） 前記の感光性エレメント表面に着色材を付与
し、この着色材料をエラストマー層の出現された区域に
だけ選択的に付着させることにより着色画像を作り；（
Ｅ） 転写シートとエラストマー層とからなる転写エ
レメントを準備し； （Ｆ） 前記転写エレメントのエラストマー層に対し
て、着色画像をもつ感光性エレメントの表面をラミネー
トし； （Ｇ） エラストマー層を出現させるために、前記感
光性エレメントの除去可能な支持体をとり除き；そして
（Ｈ） 前記感光性エレメントのエラストマー層を受
像体にラミネートするの各工程からなる、着色画像の作
成方法が提供される。
【０００９】転写シートはとり除くこともできるし、あ
るいは画像を保護するためにそのままにしておくことも
できる。また、工程Ｄの後で光可溶性層の残留している
区域を、活性放射線で全面露光しそしてウオッシュアウ
トによりとり除くこともできる。好ましい具体例で、多
色の着色像が工程（Ａ）〜（Ｄ）をくり返すことにより
作られる。工程（Ｇ）の除去可能な支持体をとり除いた
後で、各画像は２色またはそれ以上の色をもつ画像を作
るために、位置決めの下に転写シートに付着するようラ
ミネートされる。一時的の支持体を最後の着色画像から
とり除き、最終的の多色画像は受像体にラミネートする
。４色のサープリントプルーフが色分解原板と対応する
イエロー、マゼンタ、シアンおよび黒の各着色材を選定
することにより作られる。
るいは画像を保護するためにそのままにしておくことも
できる。また、工程Ｄの後で光可溶性層の残留している
区域を、活性放射線で全面露光しそしてウオッシュアウ
トによりとり除くこともできる。好ましい具体例で、多
色の着色像が工程（Ａ）〜（Ｄ）をくり返すことにより
作られる。工程（Ｇ）の除去可能な支持体をとり除いた
後で、各画像は２色またはそれ以上の色をもつ画像を作
るために、位置決めの下に転写シートに付着するようラ
ミネートされる。一時的の支持体を最後の着色画像から
とり除き、最終的の多色画像は受像体にラミネートする
。４色のサープリントプルーフが色分解原板と対応する
イエロー、マゼンタ、シアンおよび黒の各着色材を選定
することにより作られる。
【００１０】〔発明の具体的説明〕本発明は着色画像を
作るのに適した感光性エレメントと方法とを提供するも
のである。この感光性エレメントは酸に不安定なポリマ
ーと光可溶性化剤とから本質的に構成される光可溶性層
；エラストマー層；および支持体を有している。
作るのに適した感光性エレメントと方法とを提供するも
のである。この感光性エレメントは酸に不安定なポリマ
ーと光可溶性化剤とから本質的に構成される光可溶性層
；エラストマー層；および支持体を有している。
【００１１】〔酸に不安定なポリマー〕酸に不安定なポ
リマーはポリマー骨格とこのポリマー骨格に直接または
間接に結合する懸垂した酸に不安定な官能基のくり返し
とを有している。この酸に不安定な基は以下の構成式に
より表わされる： −ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（０Ｒ２）−ＣＨ（Ｒ３）（Ｒ４
）ここで、Ｒ１は水素または約１から約６の炭素原子の
アルキル、Ｒ２は１から約８の炭素原子のアルキル、Ｒ
３とＲ４とはそれぞれ独立に水素または１から約６の炭
素原子のアルキル、ここでＲ１とＲ２；Ｒ１とＲ３；ま
たはＲ２とＲ３のいずれかは５−、６−または７−員の
環を形成するために結合することができる。
リマーはポリマー骨格とこのポリマー骨格に直接または
間接に結合する懸垂した酸に不安定な官能基のくり返し
とを有している。この酸に不安定な基は以下の構成式に
より表わされる： −ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（０Ｒ２）−ＣＨ（Ｒ３）（Ｒ４
）ここで、Ｒ１は水素または約１から約６の炭素原子の
アルキル、Ｒ２は１から約８の炭素原子のアルキル、Ｒ
３とＲ４とはそれぞれ独立に水素または１から約６の炭
素原子のアルキル、ここでＲ１とＲ２；Ｒ１とＲ３；ま
たはＲ２とＲ３のいずれかは５−、６−または７−員の
環を形成するために結合することができる。
【００１２】この説明にはＲ１とＲ２、Ｒ１とＲ３また
はＲ２とＲ３とが５−、６−または７−員環を形成する
ように結合しているポリマーを含んでいる。例えば、Ｒ
２とＲ３とが（ＣＨ２）３で結合されているとき、６員
のテトラハイドロピラニル環が形成される。
はＲ２とＲ３とが５−、６−または７−員環を形成する
ように結合しているポリマーを含んでいる。例えば、Ｒ
２とＲ３とが（ＣＨ２）３で結合されているとき、６員
のテトラハイドロピラニル環が形成される。
【００１３】ポリマー骨格は重合中に形成される原子お
よび／または部分の鎖から構成される。酸に不安定な基
は、テトラハイドロピラニルメタアクリレートのホモポ
リマーであるポリ（ＴＨＰＭＡ）、およびテトラハイド
ロピラニルアクリレートのホモポリマーであるポリ（Ｔ
ＨＰＡ）のように、ポリマー骨格に対して中継原子なし
に直接結合することができる。ポリマー骨格と酸に不安
定な基との間には、１個またはそれ以上の付加的の原子
が存在することができる。このような間接的の結合の例
にポリスチレンがあり、これでは酸に不安定な基が重合
したスチレンのフェニル基に結合されている。
よび／または部分の鎖から構成される。酸に不安定な基
は、テトラハイドロピラニルメタアクリレートのホモポ
リマーであるポリ（ＴＨＰＭＡ）、およびテトラハイド
ロピラニルアクリレートのホモポリマーであるポリ（Ｔ
ＨＰＡ）のように、ポリマー骨格に対して中継原子なし
に直接結合することができる。ポリマー骨格と酸に不安
定な基との間には、１個またはそれ以上の付加的の原子
が存在することができる。このような間接的の結合の例
にポリスチレンがあり、これでは酸に不安定な基が重合
したスチレンのフェニル基に結合されている。
【００１４】本発明の実施に際しその他のポリマーを用
いることもできるが、アクリレートおよびメタアクリレ
ートポリマーが好ましい。少量のその他のモノマーを存
在させることもできるが、基本的のポリマー骨格はアク
リレートおよび／またはメタアクリレートモノマーの１
個またはそれ以上のくり返し単位をもつものである。一
般に、これらのポリマーは光溶解性化剤を活性化するた
めに用いる活性放射線を吸収しないし、通常の合成法に
より容易に作られ、エラストマー層によく接着し、光溶
解性化剤と相溶性であり、そしてトーニングに際してト
ナーを受け入れない。
いることもできるが、アクリレートおよびメタアクリレ
ートポリマーが好ましい。少量のその他のモノマーを存
在させることもできるが、基本的のポリマー骨格はアク
リレートおよび／またはメタアクリレートモノマーの１
個またはそれ以上のくり返し単位をもつものである。一
般に、これらのポリマーは光溶解性化剤を活性化するた
めに用いる活性放射線を吸収しないし、通常の合成法に
より容易に作られ、エラストマー層によく接着し、光溶
解性化剤と相溶性であり、そしてトーニングに際してト
ナーを受け入れない。
【００１５】酸に不安定なポリマーの各特性はモノマー
と重合法を選択することにより調整できる。ポリマーは
各種の酸に不安定なモノマーのホモポリマー、ランダム
またはブロックコポリマー、ターポリマーもしくはより
高次のポリマーのいずれであっても良い。コポリマーお
よびより高次のポリマーは、メチルメタアクリレート、
エチルメタアクリレート、フルフリルメタアクリレート
、ベンジルメタアクリレート、およびスチレンのような
、酸に不安定でない普通のモノマーを含むこともできる
。少量の（代表的に５モル％以下）グリシジルメタアク
リレートまたは類似のモノマーを、接着性を良くするた
め含めることができる。しかしながら、容易に加水分解
または熱分解するような基をもつモノマー類は含めるこ
とはできない。
と重合法を選択することにより調整できる。ポリマーは
各種の酸に不安定なモノマーのホモポリマー、ランダム
またはブロックコポリマー、ターポリマーもしくはより
高次のポリマーのいずれであっても良い。コポリマーお
よびより高次のポリマーは、メチルメタアクリレート、
エチルメタアクリレート、フルフリルメタアクリレート
、ベンジルメタアクリレート、およびスチレンのような
、酸に不安定でない普通のモノマーを含むこともできる
。少量の（代表的に５モル％以下）グリシジルメタアク
リレートまたは類似のモノマーを、接着性を良くするた
め含めることができる。しかしながら、容易に加水分解
または熱分解するような基をもつモノマー類は含めるこ
とはできない。
【００１６】水または水性の塩基液（０．４Ｎ水酸化ナ
トリウム液など）による効率的なウオッシュアウトのた
めに、ポリマー骨格は酸に不安定なモノマーまたはモノ
マー類のくり返し単位を、少なくとも５０モル％もつこ
とが好ましい。１つの例は、テトラハイドロピラニルメ
タアクリレート５０モル％とフルフリルメタアクリレー
ト５０モル％を含むコポリマーである、５０：５０ポリ
（ＴＨＰＭＡ／ＦＭＡ）である。酸に不安定なアクリレ
ートおよび／またはメタアクリレートモノマーの、１種
または数種のくり返し単位から本質的に構成されるポリ
マーは特に有用である。この例は１−（エトキシ）−プ
ロピルメタアクリレートのホモポリマーであるポリ（Ｅ
ＰＭＡ）、およびテトラハイドロピラニルメタアクリレ
ート５９モル％とテトラハイドロピラニルアクリレート
４１モル％とのコポリマーである５９：４１ポリ（ＴＨ
ＰＭＡ／ＴＨＰＡ）である。好ましい酸に不安定な基は
、前記一般式中（１）Ｒ１はＨ；Ｒ２は１から約４炭素
原子のアルキル；Ｒ３はＨまたはＣＨ３；そしてＲ４は
Ｈであるか、もしくは（２）Ｒ１はＨ；Ｒ２とＲ３は（
ＣＨ２）３；そしてＲ４はＨである。
トリウム液など）による効率的なウオッシュアウトのた
めに、ポリマー骨格は酸に不安定なモノマーまたはモノ
マー類のくり返し単位を、少なくとも５０モル％もつこ
とが好ましい。１つの例は、テトラハイドロピラニルメ
タアクリレート５０モル％とフルフリルメタアクリレー
ト５０モル％を含むコポリマーである、５０：５０ポリ
（ＴＨＰＭＡ／ＦＭＡ）である。酸に不安定なアクリレ
ートおよび／またはメタアクリレートモノマーの、１種
または数種のくり返し単位から本質的に構成されるポリ
マーは特に有用である。この例は１−（エトキシ）−プ
ロピルメタアクリレートのホモポリマーであるポリ（Ｅ
ＰＭＡ）、およびテトラハイドロピラニルメタアクリレ
ート５９モル％とテトラハイドロピラニルアクリレート
４１モル％とのコポリマーである５９：４１ポリ（ＴＨ
ＰＭＡ／ＴＨＰＡ）である。好ましい酸に不安定な基は
、前記一般式中（１）Ｒ１はＨ；Ｒ２は１から約４炭素
原子のアルキル；Ｒ３はＨまたはＣＨ３；そしてＲ４は
Ｈであるか、もしくは（２）Ｒ１はＨ；Ｒ２とＲ３は（
ＣＨ２）３；そしてＲ４はＨである。
【００１７】さらに好ましいのは酸に不安定なアクリレ
ートポリマーであり、ここでポリマー骨格は酸に不安定
なアクリレートモノマーの１種または数種のくり返し単
位から本質的に構成されている。アクリレートポリマー
用の好ましい酸に不安定な基は（１）Ｒ１はＨ；Ｒ２は
１から約４炭素原子のアルキル；Ｒ３はＨまたはＣＨ３
；そしてＲ４はＨであるか、もしくは（２）Ｒ１はＨ；
Ｒ２とＲ３は（ＣＨ２）３；そしてＲ４はＨである。も
っとも好ましいポリマーはポリ（ＴＨＰＡ）で、このポ
リマーでＲ１はＨ；Ｒ２とＲ３は（ＣＨ２）３；そして
Ｒ４はＨである。このポリマーのポリマー骨格はテトラ
ハイドロピラニルアクリレートのくり返し単位から本質
的に構成されている。このポリマーは低いガラス転位点
温度（Ｔｇ）を有しているため、このポリマーから作っ
た光可溶性層は可撓性支持体上に塗布したときひび割れ
を生じない。
ートポリマーであり、ここでポリマー骨格は酸に不安定
なアクリレートモノマーの１種または数種のくり返し単
位から本質的に構成されている。アクリレートポリマー
用の好ましい酸に不安定な基は（１）Ｒ１はＨ；Ｒ２は
１から約４炭素原子のアルキル；Ｒ３はＨまたはＣＨ３
；そしてＲ４はＨであるか、もしくは（２）Ｒ１はＨ；
Ｒ２とＲ３は（ＣＨ２）３；そしてＲ４はＨである。も
っとも好ましいポリマーはポリ（ＴＨＰＡ）で、このポ
リマーでＲ１はＨ；Ｒ２とＲ３は（ＣＨ２）３；そして
Ｒ４はＨである。このポリマーのポリマー骨格はテトラ
ハイドロピラニルアクリレートのくり返し単位から本質
的に構成されている。このポリマーは低いガラス転位点
温度（Ｔｇ）を有しているため、このポリマーから作っ
た光可溶性層は可撓性支持体上に塗布したときひび割れ
を生じない。
【００１８】酸に不安定なポリマーは（１）普通の重合
法を用いる酸に不安定なモノマーの重合、または（２）
ビニルエーテルと、カルボン酸および／またはエステル
基を含むポリマーとの酸触媒反応のようなプレポリマー
の誘導体化、により作ることができる。酸に不安定なモ
ノマーは通常の合成法により作ることができる。１つの
例は、エチルビニルエーテルまたはジヒドロピランのよ
うなアルキルビニルエーテルとメタアクリル酸との酸触
媒反応である。これらモノマーは米国特許第４，４１７
，０３４号中で述べられているようなグループ移動（ｇ
ｒｏｕｐ ｔｒａｎｓｆｅｒ）重合；フリーラジカル重
合；またはアニオン重合のようなその他の普通の重合法
により重合させることができる。
法を用いる酸に不安定なモノマーの重合、または（２）
ビニルエーテルと、カルボン酸および／またはエステル
基を含むポリマーとの酸触媒反応のようなプレポリマー
の誘導体化、により作ることができる。酸に不安定なモ
ノマーは通常の合成法により作ることができる。１つの
例は、エチルビニルエーテルまたはジヒドロピランのよ
うなアルキルビニルエーテルとメタアクリル酸との酸触
媒反応である。これらモノマーは米国特許第４，４１７
，０３４号中で述べられているようなグループ移動（ｇ
ｒｏｕｐ ｔｒａｎｓｆｅｒ）重合；フリーラジカル重
合；またはアニオン重合のようなその他の普通の重合法
により重合させることができる。
【００１９】グループ移動重合は高い再現性でほぼ単分
散（メタアクリレートモノマーの重合およびアクリレー
トモノマーの多少高次の重合に対し１．７５以下の多分
散度で）のものを生成する。グループ移動重合はメタア
クリレートおよびアクリレートモノマーの重合に特に適
している。ポリマーの分子量はモノマーと開始剤との割
合に関係し；多分散性は重合条件にもっぱら関係する。 グループ移動重合における多分散性を調整する方法は、
Ｉ．Ｂ． Ｄｉｃｋｅｒ氏他によりＰｏｌｙｍ． Ｐｒ
ｅｐｒ．， Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， Ｄｉｖ
． Ｐｏｌｙｍ． Ｃｈｅｍ．， １９８７， ２８（
１）， １０６中で示されている。
散（メタアクリレートモノマーの重合およびアクリレー
トモノマーの多少高次の重合に対し１．７５以下の多分
散度で）のものを生成する。グループ移動重合はメタア
クリレートおよびアクリレートモノマーの重合に特に適
している。ポリマーの分子量はモノマーと開始剤との割
合に関係し；多分散性は重合条件にもっぱら関係する。 グループ移動重合における多分散性を調整する方法は、
Ｉ．Ｂ． Ｄｉｃｋｅｒ氏他によりＰｏｌｙｍ． Ｐｒ
ｅｐｒ．， Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， Ｄｉｖ
． Ｐｏｌｙｍ． Ｃｈｅｍ．， １９８７， ２８（
１）， １０６中で示されている。
【００２０】〔光可溶性化剤〕活性放射線により活性化
されたとき、光可溶性化剤は酸を生成し、これは酸に不
安定なポリマーの分解を触媒する。このものは直接的に
させることもできるし、あるいは露光されたときこのも
のに酸を遊離させるようにする増感剤を含む系とするこ
ともできる。
されたとき、光可溶性化剤は酸を生成し、これは酸に不
安定なポリマーの分解を触媒する。このものは直接的に
させることもできるし、あるいは露光されたときこのも
のに酸を遊離させるようにする増感剤を含む系とするこ
ともできる。
【００２１】この目的のために用いることのできる化合
物と混合物の例はジアゾニウム、ホスホニウム、スルホ
ニウムおよびヨードニウム塩類；ハロゲン化合物；ｏ−
キノンジアジドスルホクロライド；オルガノメタル／オ
ルガノハロゲンの組み合わせ；強酸、例えばトルエンス
ルホン酸のｏ−ニトロベンジルおよびベンゾインエステ
ル；および米国特許第４，３７１，６０５号中で示され
たＮ−ヒドロキシアミドおよびイミドのスルホネート類
などである。好ましい光可溶性化剤はジアリールヨード
ニウムまたはトリアリールスルホニウムの塩類で、一般
的にテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロアンチモ
ネート、ヘキサフルオロアルゼネート、およびヘキサフ
ルオロホスフェートのような金属錯ハライドイオンとの
塩類である。
物と混合物の例はジアゾニウム、ホスホニウム、スルホ
ニウムおよびヨードニウム塩類；ハロゲン化合物；ｏ−
キノンジアジドスルホクロライド；オルガノメタル／オ
ルガノハロゲンの組み合わせ；強酸、例えばトルエンス
ルホン酸のｏ−ニトロベンジルおよびベンゾインエステ
ル；および米国特許第４，３７１，６０５号中で示され
たＮ−ヒドロキシアミドおよびイミドのスルホネート類
などである。好ましい光可溶性化剤はジアリールヨード
ニウムまたはトリアリールスルホニウムの塩類で、一般
的にテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロアンチモ
ネート、ヘキサフルオロアルゼネート、およびヘキサフ
ルオロホスフェートのような金属錯ハライドイオンとの
塩類である。
【００２２】活性放射線の有効波長にスペクトル感度を
合わすため、系に対し増感剤を添加することが望ましい
。この必要性は使用した特定の感光性化合物および系の
要求とに関係する。例えば、ヨードニウムおよびスルホ
ニウム塩は３００ｎｍ以下の波長に対してだけ感光性で
ある。これらの化合物はペリレン、ピレン、アンスラセ
ンおよびこれらの誘導体のような、多環芳香族炭化水素
の使用でさらに長い波長に対して増感することができる
。ジアリールヨードニウムとトリアリールスルホニウム
塩の分解は、ビス−（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベン
ジリデン）−アセトンにより増感することもできる。 カラープルーフ用の利用のためには、光可溶性層中の色
素の使用、特にその吸収がスペクトルの可視域中に充分
拡がっているものは、得られる画像の色調に影響するの
で好ましくない。
合わすため、系に対し増感剤を添加することが望ましい
。この必要性は使用した特定の感光性化合物および系の
要求とに関係する。例えば、ヨードニウムおよびスルホ
ニウム塩は３００ｎｍ以下の波長に対してだけ感光性で
ある。これらの化合物はペリレン、ピレン、アンスラセ
ンおよびこれらの誘導体のような、多環芳香族炭化水素
の使用でさらに長い波長に対して増感することができる
。ジアリールヨードニウムとトリアリールスルホニウム
塩の分解は、ビス−（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベン
ジリデン）−アセトンにより増感することもできる。 カラープルーフ用の利用のためには、光可溶性層中の色
素の使用、特にその吸収がスペクトルの可視域中に充分
拡がっているものは、得られる画像の色調に影響するの
で好ましくない。
【００２３】３〜４個の原子の長さの鎖でアンスラセン
に結合したスルホニウム塩は効果的な光可溶性化剤であ
る。Ｍ．Ｇ． Ｔｉｌｌｅｙ氏のノースダコタ州立大学
の１９８８年度学位論文〔Ｄｉｓｓ． Ａｂｓｔｒ．
Ｉｎｔ． Ｂ． ４９，３７９１（１９８８）； Ｃｈ
ｅｍ． Ａｂｓｔｒ．，１１１，３９９４２ｕ〕中で示
された、これらの化合物は光可溶性化剤の好ましいクラ
スのものである。もっとも好ましい光可溶性化剤はＡＴ
ＡＳＳ、すなわち、スルホニウム、〔３−（９−アンス
ラセニル）プロピル〕ジフェニル−、ヘキサフルオロア
ンチモネート〔−１〕であり、アンスラセンとスルホニ
ウム塩とが３個の炭素鎖により結合されている化合物で
ある。
に結合したスルホニウム塩は効果的な光可溶性化剤であ
る。Ｍ．Ｇ． Ｔｉｌｌｅｙ氏のノースダコタ州立大学
の１９８８年度学位論文〔Ｄｉｓｓ． Ａｂｓｔｒ．
Ｉｎｔ． Ｂ． ４９，３７９１（１９８８）； Ｃｈ
ｅｍ． Ａｂｓｔｒ．，１１１，３９９４２ｕ〕中で示
された、これらの化合物は光可溶性化剤の好ましいクラ
スのものである。もっとも好ましい光可溶性化剤はＡＴ
ＡＳＳ、すなわち、スルホニウム、〔３−（９−アンス
ラセニル）プロピル〕ジフェニル−、ヘキサフルオロア
ンチモネート〔−１〕であり、アンスラセンとスルホニ
ウム塩とが３個の炭素鎖により結合されている化合物で
ある。
【００２４】光可溶性層中の光可溶性化剤の分量は、望
ましくない感度の犠牲をさけるため一般にできるだけ少
量とすべきで、代表的に光可溶性層の約０．１〜５重量
％の範囲である。約０．１％以下では一般に不感光性の
組成物となり、同時に約５％以上の重量％では相溶性と
コントロール上の問題とを生ずる。大部分の酸活性ポリ
マーでは、光可溶性層中で約０．５〜３重量％の光可溶
性化剤の使用が好ましい。
ましくない感度の犠牲をさけるため一般にできるだけ少
量とすべきで、代表的に光可溶性層の約０．１〜５重量
％の範囲である。約０．１％以下では一般に不感光性の
組成物となり、同時に約５％以上の重量％では相溶性と
コントロール上の問題とを生ずる。大部分の酸活性ポリ
マーでは、光可溶性層中で約０．５〜３重量％の光可溶
性化剤の使用が好ましい。
【００２５】〔エラストマー層〕エラストマー層は粘着
性のまたは多少軟かな、変形可能な有機材料である。良
好な保存安定性をもつエレメントのために、エラストマ
ー層用に適した材料は光可溶性層からエラストマー層へ
の拡散を阻止すべきである。これに加えて、これらの材
料は光可溶性層中に移動しないものでなければならない
。ブタジエンまたはイソプレンのポリマー；スチレンと
共重合したブタジエンとイソプレンのランダム、テレブ
ロックおよびブロックコポリマー類、および約５から約
１０の炭素原子を含むアルファ−オレフィンのポリマー
などを好都合に選定することができる。ポリ（アルファ
−オレフィン）、特にポリ（１−オクテン）が好ましい
。現像された画像が層を通して眺められる用途のために
、エラストマー層は透明でなければならないことは明ら
かであろう。
性のまたは多少軟かな、変形可能な有機材料である。良
好な保存安定性をもつエレメントのために、エラストマ
ー層用に適した材料は光可溶性層からエラストマー層へ
の拡散を阻止すべきである。これに加えて、これらの材
料は光可溶性層中に移動しないものでなければならない
。ブタジエンまたはイソプレンのポリマー；スチレンと
共重合したブタジエンとイソプレンのランダム、テレブ
ロックおよびブロックコポリマー類、および約５から約
１０の炭素原子を含むアルファ−オレフィンのポリマー
などを好都合に選定することができる。ポリ（アルファ
−オレフィン）、特にポリ（１−オクテン）が好ましい
。現像された画像が層を通して眺められる用途のために
、エラストマー層は透明でなければならないことは明ら
かであろう。
【００２６】〔支持体〕エラストマー層は支持体の上に
存在している。この支持体は必要な硬さと寸法上の安定
性、エラストマー層に対する接着性、ウオッシュアウト
に用いる溶剤、すなわち、水またはうすい水性塩基液、
に対する抵抗性などをもつどんな材料でも良い。支持体
は好ましく平滑なものである。支持体として有用なもの
には写真用級のポリエチレンテレフタレートのようなフ
ィルムで、Ａｌｌｅｓ氏の米国特許第２，７７９，６８
４号中で述べられたような下引をすることができ；アイ
・シー・アイ アメリカ社で販売しているメリネックス
Ｒ のような接着性下引をした不透明ポリエチレンテレ
フタレートフィルムベース；および水系溶剤に対する耐
性処理をした紙などが含まれる。接着性下引をした不透
明ポリエチレンテレフタレートフィルムベースがこの用
途に好ましい。画像が形成後に別の基体に転写されると
き、支持体はシリコン処理をしたポリエチレンテレフタ
レートフィルムのような、エラストマー層を剥離しうる
ものが選ばれる。
存在している。この支持体は必要な硬さと寸法上の安定
性、エラストマー層に対する接着性、ウオッシュアウト
に用いる溶剤、すなわち、水またはうすい水性塩基液、
に対する抵抗性などをもつどんな材料でも良い。支持体
は好ましく平滑なものである。支持体として有用なもの
には写真用級のポリエチレンテレフタレートのようなフ
ィルムで、Ａｌｌｅｓ氏の米国特許第２，７７９，６８
４号中で述べられたような下引をすることができ；アイ
・シー・アイ アメリカ社で販売しているメリネックス
Ｒ のような接着性下引をした不透明ポリエチレンテレ
フタレートフィルムベース；および水系溶剤に対する耐
性処理をした紙などが含まれる。接着性下引をした不透
明ポリエチレンテレフタレートフィルムベースがこの用
途に好ましい。画像が形成後に別の基体に転写されると
き、支持体はシリコン処理をしたポリエチレンテレフタ
レートフィルムのような、エラストマー層を剥離しうる
ものが選ばれる。
【００２７】１色の画像は、すべてが正しい位置と適切
な間隔でいるかを確めるためにつくられるプルーフであ
る、“組版プルーフ”として支持体上でそのまま用いる
ことができる。一方、くっつくのを阻止するため支持体
をそのままとして透明な受像体エレメントに接着するこ
ともできるし、またオーバーレイプルーフを作るため像
を重ねて互いに粘着させることもできる。位置決めの下
につみ重ねる個々のエレメントは組版プルーフ用に使用
することもできる。
な間隔でいるかを確めるためにつくられるプルーフであ
る、“組版プルーフ”として支持体上でそのまま用いる
ことができる。一方、くっつくのを阻止するため支持体
をそのままとして透明な受像体エレメントに接着するこ
ともできるし、またオーバーレイプルーフを作るため像
を重ねて互いに粘着させることもできる。位置決めの下
につみ重ねる個々のエレメントは組版プルーフ用に使用
することもできる。
【００２８】〔製造〕光可溶性層は、各成分を２−ブタ
ノンのような適当な溶剤中に、通常約１０：９０（固体
対溶剤）の重量比で混合し、塗布し、そして溶剤を蒸発
することにより作られる。塗膜は均一でなければならな
い。代表的な塗布重量は４０ｍｇ／ｄｍ２で、約０．０
０４ｍｍの乾燥膜厚を生ずる。
ノンのような適当な溶剤中に、通常約１０：９０（固体
対溶剤）の重量比で混合し、塗布し、そして溶剤を蒸発
することにより作られる。塗膜は均一でなければならな
い。代表的な塗布重量は４０ｍｇ／ｄｍ２で、約０．０
０４ｍｍの乾燥膜厚を生ずる。
【００２９】エラストマー層を塗布するために適当な溶
剤はどれも用いることができる。エラストマー層と光可
溶性層とを同時に塗布するとき、溶剤は層間で成分の著
しい移動を生じないものでなければならない。塗布は均
一に、そして代表的に乾燥したとき３〜１５μ、好まし
く７〜１２μの膜厚をもつようにする。乾燥塗布重量は
約３０〜１５０ｍｇ／ｄｍ２、好ましく７０〜１２０ｍ
ｇ／ｄｍ２であるが、エラストマー層がポリ（アルファ
−オレフィン）であるときは多少うすい塗膜を使用する
ことができる。
剤はどれも用いることができる。エラストマー層と光可
溶性層とを同時に塗布するとき、溶剤は層間で成分の著
しい移動を生じないものでなければならない。塗布は均
一に、そして代表的に乾燥したとき３〜１５μ、好まし
く７〜１２μの膜厚をもつようにする。乾燥塗布重量は
約３０〜１５０ｍｇ／ｄｍ２、好ましく７０〜１２０ｍ
ｇ／ｄｍ２であるが、エラストマー層がポリ（アルファ
−オレフィン）であるときは多少うすい塗膜を使用する
ことができる。
【００３０】感光性エレメントは普通の塗布技術を用い
て作られる。例えば、エラストマー層を支持体上に塗布
し、溶剤の蒸発後、光可溶性層がこのエラストマー層の
上に塗布される。エレメントを使用するまでの間光可溶
性層を保護するために、ポリエチレンカバーシートのよ
うなレリーズフィルムを用いることができる。
て作られる。例えば、エラストマー層を支持体上に塗布
し、溶剤の蒸発後、光可溶性層がこのエラストマー層の
上に塗布される。エレメントを使用するまでの間光可溶
性層を保護するために、ポリエチレンカバーシートのよ
うなレリーズフィルムを用いることができる。
【００３１】別の方法で、光可溶性層はカバーシート上
に塗布をしてもよい。溶剤の蒸発後、ポリエチレンのよ
うなレリーズフィルムを、エレメントの残りが形成され
るまでこの光可溶性層を保護するため、任意的にこの塗
膜上に置くことができる。エラストマー層はこの光可溶
性層上に塗布するが、レリーズフィルムが光可溶性層上
に存在しているときは、エラストマー層を塗布する前に
これはとり除かれる。溶剤が蒸発した後、エラストマー
層の表面に支持体がラミネートされる。エラストマー層
用の溶剤は光可溶性層を溶解せずまたは悪い作用をしな
いものでなければならない。
に塗布をしてもよい。溶剤の蒸発後、ポリエチレンのよ
うなレリーズフィルムを、エレメントの残りが形成され
るまでこの光可溶性層を保護するため、任意的にこの塗
膜上に置くことができる。エラストマー層はこの光可溶
性層上に塗布するが、レリーズフィルムが光可溶性層上
に存在しているときは、エラストマー層を塗布する前に
これはとり除かれる。溶剤が蒸発した後、エラストマー
層の表面に支持体がラミネートされる。エラストマー層
用の溶剤は光可溶性層を溶解せずまたは悪い作用をしな
いものでなければならない。
【００３２】いま１つの方法は、カバーシート上に光可
溶性層を塗布し、そして支持体上にはエラストマー層を
塗布する。ついで、この光可溶性層とエラストマー層と
は、周囲温度または高められた温度において圧力下に互
いにラミネートする。
溶性層を塗布し、そして支持体上にはエラストマー層を
塗布する。ついで、この光可溶性層とエラストマー層と
は、周囲温度または高められた温度において圧力下に互
いにラミネートする。
【００３３】エレメントはまた通常の多層塗布法を用い
て作ることもできる。光可溶性層とエラストマー層とは
カバーシート上に同時に塗布し、そして支持体がこのエ
ラストマー層にラミネートされる。一方、光可溶性層と
エラストマー層とは支持体上に同時に塗布することがで
き、そして任意的にカバーシートがこの光可溶性層にラ
ミネートされる。
て作ることもできる。光可溶性層とエラストマー層とは
カバーシート上に同時に塗布し、そして支持体がこのエ
ラストマー層にラミネートされる。一方、光可溶性層と
エラストマー層とは支持体上に同時に塗布することがで
き、そして任意的にカバーシートがこの光可溶性層にラ
ミネートされる。
【００３４】〔露光／画像の形成〕光可溶性化剤により
吸収される活性放射線を与える通常の光源をどれでも選
定することができる。“活性放射線”とは酸に不安定な
ポリマーの分解を触媒する酸を生成するため活性な放射
線のことである。この放射線は天然または人工の、単色
光または多色光の、コヒーレントのまたはコヒーレント
でないもの、のいずれでも良い。効率的な画像形成のた
めに、活性放射線の大部分は光可溶性化剤により吸収さ
れなければならない。
吸収される活性放射線を与える通常の光源をどれでも選
定することができる。“活性放射線”とは酸に不安定な
ポリマーの分解を触媒する酸を生成するため活性な放射
線のことである。この放射線は天然または人工の、単色
光または多色光の、コヒーレントのまたはコヒーレント
でないもの、のいずれでも良い。効率的な画像形成のた
めに、活性放射線の大部分は光可溶性化剤により吸収さ
れなければならない。
【００３５】活性放射線の普通の光源にはケイ光燈、水
銀蒸気、水銀−キセノン、金属添加などとアーク燈が含
まれる。コヒーレント放射線の有用な光源は、光可溶性
化剤の吸収帯内に入るかまたはこれに重なる放出光をも
つレーザーである。露光は通常ハーフトーン像をもつ原
板、好ましくハーフトーン色分解原板を通じて行われる
。しかしながら、変調した走査レーザービーム、ＣＲＴ
（陰極管）、その他のような別の手段もエレメントの画
像状露光方法である。
銀蒸気、水銀−キセノン、金属添加などとアーク燈が含
まれる。コヒーレント放射線の有用な光源は、光可溶性
化剤の吸収帯内に入るかまたはこれに重なる放出光をも
つレーザーである。露光は通常ハーフトーン像をもつ原
板、好ましくハーフトーン色分解原板を通じて行われる
。しかしながら、変調した走査レーザービーム、ＣＲＴ
（陰極管）、その他のような別の手段もエレメントの画
像状露光方法である。
【００３６】普通のネガチブハーフトーン分解原板から
ネガのサープリントプルーフを作るため、任意的なカバ
ーシートが存在するときはエレメントからとり除かれる
。ついでこのエレメントはネガチブ分解原板を通じて活
性放射線に対して露光をする。この他、任意的のカバー
シートは露光中そのままにしておき、露光後とり除くこ
ともできる。露光は原板と感光性エレメント間の良好な
接触を確実とするため、標準的な真空焼枠中で通常行わ
れる。
ネガのサープリントプルーフを作るため、任意的なカバ
ーシートが存在するときはエレメントからとり除かれる
。ついでこのエレメントはネガチブ分解原板を通じて活
性放射線に対して露光をする。この他、任意的のカバー
シートは露光中そのままにしておき、露光後とり除くこ
ともできる。露光は原板と感光性エレメント間の良好な
接触を確実とするため、標準的な真空焼枠中で通常行わ
れる。
【００３７】数分間、好ましく２〜３分周囲温度に放置
した後、露光済みエレメントは適当な溶剤によってウオ
ッシュアウトする。ウオッシュアウト用の溶剤と条件の
選定は、光可溶性層用に選択した酸に不安定なポリマー
に関係する。一般的に、酸に不安定でないモノマーの実
質的量を含むコポリマーでは、０．４Ｎ水酸化ナトリウ
ムのような塩基液を必要とする。本質的に酸に不安定な
モノマーから構成されるポリマーとコポリマーでは、周
囲温度の水道水中でウオッシュアウトすることができる
。酸に不安定なアクリレートモノマーから本質的に構成
される酸に不安定なポリマーは、酸に不安定なメタアク
リレートモノマーを含むポリマーよりも水道水を用いて
さらに迅速にウオッシュアウトされる。ウオッシュアウ
トの溶剤の温度は、高い温度でエラストマー層の変形が
生ずるから、周囲温度を余り大きく越えてはならない。 ウオッシュアウト中、露光済みのエレメントはおだやか
にブラシがけするかまたは綿でこすられる。ウオッシュ
アウト後、エレメントは風乾するかまたは強制空気乾燥
をする。
した後、露光済みエレメントは適当な溶剤によってウオ
ッシュアウトする。ウオッシュアウト用の溶剤と条件の
選定は、光可溶性層用に選択した酸に不安定なポリマー
に関係する。一般的に、酸に不安定でないモノマーの実
質的量を含むコポリマーでは、０．４Ｎ水酸化ナトリウ
ムのような塩基液を必要とする。本質的に酸に不安定な
モノマーから構成されるポリマーとコポリマーでは、周
囲温度の水道水中でウオッシュアウトすることができる
。酸に不安定なアクリレートモノマーから本質的に構成
される酸に不安定なポリマーは、酸に不安定なメタアク
リレートモノマーを含むポリマーよりも水道水を用いて
さらに迅速にウオッシュアウトされる。ウオッシュアウ
トの溶剤の温度は、高い温度でエラストマー層の変形が
生ずるから、周囲温度を余り大きく越えてはならない。 ウオッシュアウト中、露光済みのエレメントはおだやか
にブラシがけするかまたは綿でこすられる。ウオッシュ
アウト後、エレメントは風乾するかまたは強制空気乾燥
をする。
【００３８】画像は、一般にトナーとして知られている
、適当な着色材料を付与することにより現像する。この
トナーはウオッシュアウトに際して出現したエラストマ
ー層の部分に付着する。余分のトナーをふり落とした後
、トナー粒子はエラストマー層の出現された部分にだけ
付着する。適当なトナーは、Ｃｈｕ氏他の米国特許第３
，６２０，７２６号；Ｇｒａｙ氏の米国特許第３，９０
９，２８２号；Ｍａｎｇｅｒ氏他の米国特許第４，２１
５，１９３号；およびＲｕｓｋｉｎ氏の米国特許第４，
６６１，４３９号などに述べられている。トナーは、ト
ナー中に入れたパッドによるふりかけ（Ｂｕｒｇ氏他の
米国特許第３，０６０，０２４号）；転写（Ｂｕｒｇ氏
他の米国特許第３，０６０，０２５号）；手動装置によ
るトーニング（Ｓａｎｄｅｒ氏の米国特許第４，０１９
，８２１号）；および自動装置のトーニング（Ｔｏｂｉ
ａｓ氏の米国特許第４，０６９，７９１号）などの手段
により付与される。
、適当な着色材料を付与することにより現像する。この
トナーはウオッシュアウトに際して出現したエラストマ
ー層の部分に付着する。余分のトナーをふり落とした後
、トナー粒子はエラストマー層の出現された部分にだけ
付着する。適当なトナーは、Ｃｈｕ氏他の米国特許第３
，６２０，７２６号；Ｇｒａｙ氏の米国特許第３，９０
９，２８２号；Ｍａｎｇｅｒ氏他の米国特許第４，２１
５，１９３号；およびＲｕｓｋｉｎ氏の米国特許第４，
６６１，４３９号などに述べられている。トナーは、ト
ナー中に入れたパッドによるふりかけ（Ｂｕｒｇ氏他の
米国特許第３，０６０，０２４号）；転写（Ｂｕｒｇ氏
他の米国特許第３，０６０，０２５号）；手動装置によ
るトーニング（Ｓａｎｄｅｒ氏の米国特許第４，０１９
，８２１号）；および自動装置のトーニング（Ｔｏｂｉ
ａｓ氏の米国特許第４，０６９，７９１号）などの手段
により付与される。
【００３９】光可溶性層はウオッシュアウトとトーニン
グの後も光活性のままでいるから、処理済みのエレメン
トは活性放射線に対して全面露光をし、そして光可溶性
層の残留部分をウオッシュアウトすることができる。こ
の任意的の露光とウオッシュアウト工程で、支持体とト
ーニングされたエラストマー層とで構成される画像が作
られる。これらのエレメントはＳｐｅｃｋｅｌｅｒ氏の
米国特許第４，３７５，１５８号により述べられている
方法に用いることもできる。
グの後も光活性のままでいるから、処理済みのエレメン
トは活性放射線に対して全面露光をし、そして光可溶性
層の残留部分をウオッシュアウトすることができる。こ
の任意的の露光とウオッシュアウト工程で、支持体とト
ーニングされたエラストマー層とで構成される画像が作
られる。これらのエレメントはＳｐｅｃｋｅｌｅｒ氏の
米国特許第４，３７５，１５８号により述べられている
方法に用いることもできる。
【００４０】ウオッシュアウトとトーニング後の光可溶
性層がとり除かれない場合、この処理済みのエレメント
は付加的能力をもつことになろう。つまり光可溶性層の
残留部分が、第２の画像を作るためにさらに像状露光さ
れ、ウオッシュアウトし、そしてトーニングし得るので
ある。この第２の画像は前に作った画像域と重複しない
ようにすべきである。
性層がとり除かれない場合、この処理済みのエレメント
は付加的能力をもつことになろう。つまり光可溶性層の
残留部分が、第２の画像を作るためにさらに像状露光さ
れ、ウオッシュアウトし、そしてトーニングし得るので
ある。この第２の画像は前に作った画像域と重複しない
ようにすべきである。
【００４１】処理済みのエレメントは、単色のサープリ
ントプルーフを必要とするときは、さらに処理をするこ
となく用いられる。最終の画像は露光しウオッシュアウ
トされた光可溶性層、トーニングされたエラストマー層
、および支持体から構成される。この目的のためには除
去可能な支持体は必要としない。しかしながら、別の基
体に対する転写が必要なときには、シリコン処理をした
ポリエチレンテレフタレートフィルムのような剥離可能
な支持体を用いねばならない。
ントプルーフを必要とするときは、さらに処理をするこ
となく用いられる。最終の画像は露光しウオッシュアウ
トされた光可溶性層、トーニングされたエラストマー層
、および支持体から構成される。この目的のためには除
去可能な支持体は必要としない。しかしながら、別の基
体に対する転写が必要なときには、シリコン処理をした
ポリエチレンテレフタレートフィルムのような剥離可能
な支持体を用いねばならない。
【００４２】画像は転写シートとエラストマー層とから
なる転写エレメントを用いて転写することができる。一
般に支持体として用いられる材料は、また転写シートと
して使用することもできる。感光性エレメントのエラス
トマー層のため用いた材料は、また転写エレメントのエ
ラストマー層用に使用することもできる。
なる転写エレメントを用いて転写することができる。一
般に支持体として用いられる材料は、また転写シートと
して使用することもできる。感光性エレメントのエラス
トマー層のため用いた材料は、また転写エレメントのエ
ラストマー層用に使用することもできる。
【００４３】画像は転写エレメント上にラミネートして
：転写シート、エラストマー層、露光しウオッシュアウ
トをした光可溶性層（感光性エレメントの形成後除去さ
れなかったとき）、トーニングされたエラストマー層、
および支持体、で構成されるエレメントを作ることがで
きる。転写シートと支持体とに透明なフィルムが用いら
れたとき、このエレメントはオーバーレイプルーフとし
て使用することができる。
：転写シート、エラストマー層、露光しウオッシュアウ
トをした光可溶性層（感光性エレメントの形成後除去さ
れなかったとき）、トーニングされたエラストマー層、
および支持体、で構成されるエレメントを作ることがで
きる。転写シートと支持体とに透明なフィルムが用いら
れたとき、このエレメントはオーバーレイプルーフとし
て使用することができる。
【００４４】一方、サープリントプルーフを作るために
、支持体をとり除き画像を受像体にラミネートすること
ができる。この受像体は平らで、好ましく平滑でなけれ
ばならない。代表的な受像体は印刷に用いられている各
種の紙である。転写シートはとり除くことができ、また
は最終画像を保護するためそのままにしておくこともで
きる。転写シートをそのままにする場合は、透明な転写
シートを用いねばならない。
、支持体をとり除き画像を受像体にラミネートすること
ができる。この受像体は平らで、好ましく平滑でなけれ
ばならない。代表的な受像体は印刷に用いられている各
種の紙である。転写シートはとり除くことができ、また
は最終画像を保護するためそのままにしておくこともで
きる。転写シートをそのままにする場合は、透明な転写
シートを用いねばならない。
【００４５】多色のサープリント像が必要のとき、第２
の画像は位置決めの下に：転写シート、エラストマー層
、露光しウオッシュアウトした光可溶性層（感光性エレ
メントの形成後除去されなかったとき）、およびトーニ
ングされたエラストマー層、で構成されるエレメントの
トーニングされたエラストマー層の背面にラミネートす
ることができる。このように形成した画像は、２色画像
とするために受像体にラミネートすることができる。 多色画像を作るためには、受像体に対する最終ラミネー
ションの前に、この画像に対し位置決め下に追加の着色
画像をラミネートする。この方法で、イエロー、シアン
、マゼンタ、および黒の各画像の４色サープリントプル
ーフが作られる。
の画像は位置決めの下に：転写シート、エラストマー層
、露光しウオッシュアウトした光可溶性層（感光性エレ
メントの形成後除去されなかったとき）、およびトーニ
ングされたエラストマー層、で構成されるエレメントの
トーニングされたエラストマー層の背面にラミネートす
ることができる。このように形成した画像は、２色画像
とするために受像体にラミネートすることができる。 多色画像を作るためには、受像体に対する最終ラミネー
ションの前に、この画像に対し位置決め下に追加の着色
画像をラミネートする。この方法で、イエロー、シアン
、マゼンタ、および黒の各画像の４色サープリントプル
ーフが作られる。
【００４６】本発明のエレメントと方法とは一般に着色
画像を作るのに有用である。これらの画像はグラフィッ
クアーツの分野において、特に印刷により作られる画像
を複製するために作られるカラープルーフ用に有用であ
る。
画像を作るのに有用である。これらの画像はグラフィッ
クアーツの分野において、特に印刷により作られる画像
を複製するために作られるカラープルーフ用に有用であ
る。
【００４７】本発明の有利な諸特性は以下に説明する各
実施例を参照することにより理解されるが、これに発明
を限定するものではない。
実施例を参照することにより理解されるが、これに発明
を限定するものではない。
【００４８】〔実施例用の略称〕
ＡＴＡＳＳ
アンスラセン結合トリアリールスルホニウム塩；スルホ
ニウム、〔３−（９−アンスラセニル）プロピル〕ジフ
ェニル−ヘキサフルオロアンチモネート〔−１〕ＡＤＶ
Ｎ ２，２′−アゾビス（２，４−ジメチル）バレロニトリ
ル；バゾＲ ５２；イー・アイ・デュポン社製ＡＩＢＮ アゾビスイソブチロニトリル；バゾＲ ６４；ＣＡＳ
７８−６７−１；デュポン社 サイラキュアＲ ＵＶ６９７４ トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト錯塩；ユニオンカーバイド社 ジエン５５ＡＣ ポリブタジエン、ファイヤストーン社 ＥＰＭＡ １−（エトキシ）−プロピルメタアクリレート；ＣＨ２
Ｃ（ＣＨ３）（ＣＯ）ＯＣＨ（ＯＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２
ＣＨ３ジエントロＲ １５０６／２７ スチレン−ブタジエンランダムコポリマー性ゴム；ジエ
ンコーポレーションクライトンＲ Ｄ１１０７スチレン
−イソプレン−スチレンブロックコポリマー；シェルケ
ミカル社 ＩＥＭＡ １−（イソ−ブチル）−エチルメタアクリレートメリネ
ックスＲ メリネックスＲ９４４；下引層をもつ乳白ポリエス
テルシート；アイ・シー・アイ アメリカ社ポリ（１−
オクテン） チーグラー・ナッタ重合の１−オクテン；ＭＷ約２，０
００，０００；多分散性５．６〜６．８ＴＨＦ テトラハイドロフラン ＴＨＰＡ テトラハイドロピラニルアクリレート ＴＨＰＭＡ テトラハイドロピラニルメタアクリレートＴＴＥＢ １−トリメチルシロキシ−１−（２−トリメチル−シロ
キシエトキシ）−２−メチル−１−プロペン
ニウム、〔３−（９−アンスラセニル）プロピル〕ジフ
ェニル−ヘキサフルオロアンチモネート〔−１〕ＡＤＶ
Ｎ ２，２′−アゾビス（２，４−ジメチル）バレロニトリ
ル；バゾＲ ５２；イー・アイ・デュポン社製ＡＩＢＮ アゾビスイソブチロニトリル；バゾＲ ６４；ＣＡＳ
７８−６７−１；デュポン社 サイラキュアＲ ＵＶ６９７４ トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト錯塩；ユニオンカーバイド社 ジエン５５ＡＣ ポリブタジエン、ファイヤストーン社 ＥＰＭＡ １−（エトキシ）−プロピルメタアクリレート；ＣＨ２
Ｃ（ＣＨ３）（ＣＯ）ＯＣＨ（ＯＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２
ＣＨ３ジエントロＲ １５０６／２７ スチレン−ブタジエンランダムコポリマー性ゴム；ジエ
ンコーポレーションクライトンＲ Ｄ１１０７スチレン
−イソプレン−スチレンブロックコポリマー；シェルケ
ミカル社 ＩＥＭＡ １−（イソ−ブチル）−エチルメタアクリレートメリネ
ックスＲ メリネックスＲ９４４；下引層をもつ乳白ポリエス
テルシート；アイ・シー・アイ アメリカ社ポリ（１−
オクテン） チーグラー・ナッタ重合の１−オクテン；ＭＷ約２，０
００，０００；多分散性５．６〜６．８ＴＨＦ テトラハイドロフラン ＴＨＰＡ テトラハイドロピラニルアクリレート ＴＨＰＭＡ テトラハイドロピラニルメタアクリレートＴＴＥＢ １−トリメチルシロキシ−１−（２−トリメチル−シロ
キシエトキシ）−２−メチル−１−プロペン
【００４９
】〔実施例１〕この実施例はグループ移動重合によるＴ
ＨＰＡホモポリマーの調製を示す。ＴＨＰＡの作成法は
Ｊ．Ｅ． Ｋｅａｒｎｓ， Ｃ．Ｄ． ＭｃＬｅａｎ、
およびＤ．Ｈ． Ｓｏｌｏｍｏｎ各氏の、Ｊ． Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌ． Ｓｃｉ−Ｃｈｅｍ．， Ａ８（４），６
７３〜６８５，１９７４中で述べられている。
】〔実施例１〕この実施例はグループ移動重合によるＴ
ＨＰＡホモポリマーの調製を示す。ＴＨＰＡの作成法は
Ｊ．Ｅ． Ｋｅａｒｎｓ， Ｃ．Ｄ． ＭｃＬｅａｎ、
およびＤ．Ｈ． Ｓｏｌｏｍｏｎ各氏の、Ｊ． Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌ． Ｓｃｉ−Ｃｈｅｍ．， Ａ８（４），６
７３〜６８５，１９７４中で述べられている。
【００５０】無水ＴＨＦ７０ｍ１中のＴＴＥＢ ０．３
ｍ１（１ミリモル）とＴＨＰＡ １５．６ｇ（１４．６
ｍ１、１００ミリモル）との溶液を０℃に冷却したもの
に対して、ＴＨＦ中のテトラブチルアムモニウムアセテ
ートの０．０１Ｍ溶液の０．８ｍ１を、２０分間の間に
滴下した。発熱性の重合が起きた。反応混合物は周囲温
度にまで温め、０．１ｍ１のメタノールによって静めた
。ポリ（２−テトラハイドロピラニルアクリレート）は
−７０℃でヘキサン中に沈殿させ、真空中周囲温度で乾
燥して、ポリマー１１．３ｇを得た。ゲル透過クロマト
グラフィー（ＧＰＣ）で：Ｍｎ １４，４００；Ｍｗ
３２，７００；Ｍｗ／Ｍｎ ２．２６。示差走査熱量計
（ＤＳＣ）で３１．４℃のＴｇと１５３．９℃での吸熱
的分解が示された。
ｍ１（１ミリモル）とＴＨＰＡ １５．６ｇ（１４．６
ｍ１、１００ミリモル）との溶液を０℃に冷却したもの
に対して、ＴＨＦ中のテトラブチルアムモニウムアセテ
ートの０．０１Ｍ溶液の０．８ｍ１を、２０分間の間に
滴下した。発熱性の重合が起きた。反応混合物は周囲温
度にまで温め、０．１ｍ１のメタノールによって静めた
。ポリ（２−テトラハイドロピラニルアクリレート）は
−７０℃でヘキサン中に沈殿させ、真空中周囲温度で乾
燥して、ポリマー１１．３ｇを得た。ゲル透過クロマト
グラフィー（ＧＰＣ）で：Ｍｎ １４，４００；Ｍｗ
３２，７００；Ｍｗ／Ｍｎ ２．２６。示差走査熱量計
（ＤＳＣ）で３１．４℃のＴｇと１５３．９℃での吸熱
的分解が示された。
【００５１】〔実施例２〕この実施例はグループ移動重
合によるＴＨＰＡホモポリマーの調製を示す。
合によるＴＨＰＡホモポリマーの調製を示す。
【００５２】無水ＴＨＦ２５０ｍ１中のＴＴＥＢ １．
２ｍ１（４ミリモル）とＴＨＰＡ ６２．４ｇ（５８．
４ｍ１、４００ミリモル）の溶液を−２０℃に冷却した
ものに対して、ＴＨＦ中のテトラブチルアンモニウムア
セテートの０．０１Ｍ溶液の２．０ｍ１を、３０分の間
に滴下して加えた。発熱性の重合が起きた。反応混合物
は約１時間０℃以下で撹拌し、周囲温度までに温め０．
４ｍ１のメタノールで静めた。ポリ（２−テトラハイド
ロピラニルアクリレート）は−７０℃でヘキサン中に沈
殿させ、真空中周囲温度で乾燥した。ＧＰＣ：Ｍｎ １
９，６００；Ｍｗ ４７，２００；Ｍｗ／Ｍｎ １２．
４１。Ｔｇ ３５℃、１５５℃で吸熱的にはっきりと分
解する。
２ｍ１（４ミリモル）とＴＨＰＡ ６２．４ｇ（５８．
４ｍ１、４００ミリモル）の溶液を−２０℃に冷却した
ものに対して、ＴＨＦ中のテトラブチルアンモニウムア
セテートの０．０１Ｍ溶液の２．０ｍ１を、３０分の間
に滴下して加えた。発熱性の重合が起きた。反応混合物
は約１時間０℃以下で撹拌し、周囲温度までに温め０．
４ｍ１のメタノールで静めた。ポリ（２−テトラハイド
ロピラニルアクリレート）は−７０℃でヘキサン中に沈
殿させ、真空中周囲温度で乾燥した。ＧＰＣ：Ｍｎ １
９，６００；Ｍｗ ４７，２００；Ｍｗ／Ｍｎ １２．
４１。Ｔｇ ３５℃、１５５℃で吸熱的にはっきりと分
解する。
【００５３】〔実施例３〕この実施例はフリーラジカル
重合による広い分子量分布をもつポリ（ＴＨＰＡ）の調
製を示す。
重合による広い分子量分布をもつポリ（ＴＨＰＡ）の調
製を示す。
【００５４】エチルアセテート３０ｍ１中とＴＨＰＡ２
０ｇとの溶液をＡＤＶＮの２０ｍｇとともに還流加熱し
処理をした。４時間後、追加のＡＤＶＮの２０ｍｇを加
え２時間加熱を継続した。ＮＭＲで９４％の変換率であ
ることが示された。ポリ（２−テトラハイドロピラニル
アクリレート）は真空中で溶剤を蒸発することにより分
離した。ＧＰＣ：Ｍｎ ２７，６００；Ｍｗ １７８，
０００；Ｍｗ／Ｍｎ ６．４７。ＤＳＣ：Ｔｇ ２７℃
、１４８．２℃で吸熱的に分解（３４１．９Ｊ／ｇ）。
０ｇとの溶液をＡＤＶＮの２０ｍｇとともに還流加熱し
処理をした。４時間後、追加のＡＤＶＮの２０ｍｇを加
え２時間加熱を継続した。ＮＭＲで９４％の変換率であ
ることが示された。ポリ（２−テトラハイドロピラニル
アクリレート）は真空中で溶剤を蒸発することにより分
離した。ＧＰＣ：Ｍｎ ２７，６００；Ｍｗ １７８，
０００；Ｍｗ／Ｍｎ ６．４７。ＤＳＣ：Ｔｇ ２７℃
、１４８．２℃で吸熱的に分解（３４１．９Ｊ／ｇ）。
【００５５】〔実施例４〕この実施例はグループ移動重
合によるＴＨＰＭＡホモポリマーの調製を示す。ＴＨＰ
ＭＡの作成法はＪ．Ｅ． Ｋｅａｒｎｓ， Ｃ．Ｄ．
ＭｃＬｅａｎ、およびＤ．Ｈ． Ｓｏｌｏｍｏｎ各氏の
Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ． Ｓｃｉ．−Ｃｈｅｍ．， Ａ
８（４）， ６７３〜６８５，１９７４中で述べられて
いる。
合によるＴＨＰＭＡホモポリマーの調製を示す。ＴＨＰ
ＭＡの作成法はＪ．Ｅ． Ｋｅａｒｎｓ， Ｃ．Ｄ．
ＭｃＬｅａｎ、およびＤ．Ｈ． Ｓｏｌｏｍｏｎ各氏の
Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ． Ｓｃｉ．−Ｃｈｅｍ．， Ａ
８（４）， ６７３〜６８５，１９７４中で述べられて
いる。
【００５６】ＴＨＦ７５ｍ１中のテトラブチルアンモニ
ウムバイアセテートヘキサハイドレート（ＴＨＦ中０．
０４モル液）２５μｌとＴＴＥＢ０．３０ｍｌ（１ミリ
モル）の溶液に対して、実施例１０で述べたようにして
精製したＴＨＰＭＡの２０ｇ（１９．６ｍ１、０．１１
７５モル）を、アルゴン雰囲気下に温度が４０℃を超え
ない程度の速さで添加した。液の分取液のＮＭＲ分析で
残留モノマーの存在しないことが示された。メタノヘル
中で沈殿し、ついで真空オーブン中周囲温度で乾燥し、
１９．９ｇのポリ（２−テトラハイドロピラニルメタア
クリレート）を得た。ＧＰＣ：Ｍｎ １９，３００；Ｍ
ｗ ２１，１００；Ｍｗ／Ｍｎ １．０９。ＤＳＣはＴ
ｇ ９１℃、１７３．６℃で明らかなピークをもつ吸熱
分解を示す。
ウムバイアセテートヘキサハイドレート（ＴＨＦ中０．
０４モル液）２５μｌとＴＴＥＢ０．３０ｍｌ（１ミリ
モル）の溶液に対して、実施例１０で述べたようにして
精製したＴＨＰＭＡの２０ｇ（１９．６ｍ１、０．１１
７５モル）を、アルゴン雰囲気下に温度が４０℃を超え
ない程度の速さで添加した。液の分取液のＮＭＲ分析で
残留モノマーの存在しないことが示された。メタノヘル
中で沈殿し、ついで真空オーブン中周囲温度で乾燥し、
１９．９ｇのポリ（２−テトラハイドロピラニルメタア
クリレート）を得た。ＧＰＣ：Ｍｎ １９，３００；Ｍ
ｗ ２１，１００；Ｍｗ／Ｍｎ １．０９。ＤＳＣはＴ
ｇ ９１℃、１７３．６℃で明らかなピークをもつ吸熱
分解を示す。
【００５７】〔実施例５〕この実施例は１−（エトキシ
）−プロピルメタアクリレート（ＥＰＭＡ）の調製と、
これのフリーラジカル重合によるホモポリマーへの変換
を示す。
）−プロピルメタアクリレート（ＥＰＭＡ）の調製と、
これのフリーラジカル重合によるホモポリマーへの変換
を示す。
【００５８】還流コンデンサー、滴下ロート、熱電対お
よび磁気撹拌器を取り付けた１ｌの丸底フラスコ中で、
エチル１−プロペニルエーテル１２０ｍ１、メタアクリ
ル酸９２．８ｍ１、およびフェノチアジン１ｇの混合物
を、エチル１−プロペニルエーテル１２５ｍ１と５０％
硫酸１２滴の液に対し、アルゴン雰囲気下に滴下ロート
から約３０分間に添加した。温度はこの添加中に約７５
℃に上昇した。反応混合物を約５０℃に冷却し、５０〜
５４℃で１８時間撹拌し、ついで炭酸水素ナトリウム１
０ｇと無水硫酸ナトリウム４０ｇとにより処理した。固
体を除くために濾過し、生成物はカルシウムハイドライ
ド、フェノチアジンおよびジフェニルピクリルヒドラジ
ルから３回蒸留し、７１．７ｇのＥＰＭＡ、ｂｐ３４〜
３８．９℃（２．１〜２．６ｍｍＨｇ）を得た。Ｃ９Ｈ
１６Ｏ３としての計算値：Ｃ ６２．７７；Ｈ ９．３
６。実測値：Ｃ６３．１２；Ｈ ９．１１。１Ｈ ＮＭ
Ｒ（３６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：０．９５（ｔ，Ｊ＝
７．５Ｈｚ， ３Ｈ， ＣＨ３）、 １．２２（ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ， ３Ｈ， ＣＨ３）、 １．７６（ｍ， Ｊ
＝７， １Ｈｚ， ２Ｈ， ＣＨ２）、 １．９６（ｍ
，３Ｈ， ＝ＣＣＨ３）、 ３．５７（ｍ， １Ｈ，Ｏ
ＣＨ２）、 ３．７４（ｍ， １Ｈ，ＯＣＨ２）、 ５
．６０（ｍ， １Ｈ，＝ＣＨ２）、 ５．８４（ｔ，
Ｊ＝６Ｈｚ， １Ｈ，ＯＣＨＯ）、 ６．１６（ｍ，
１Ｈ，＝ＣＨ２）。
よび磁気撹拌器を取り付けた１ｌの丸底フラスコ中で、
エチル１−プロペニルエーテル１２０ｍ１、メタアクリ
ル酸９２．８ｍ１、およびフェノチアジン１ｇの混合物
を、エチル１−プロペニルエーテル１２５ｍ１と５０％
硫酸１２滴の液に対し、アルゴン雰囲気下に滴下ロート
から約３０分間に添加した。温度はこの添加中に約７５
℃に上昇した。反応混合物を約５０℃に冷却し、５０〜
５４℃で１８時間撹拌し、ついで炭酸水素ナトリウム１
０ｇと無水硫酸ナトリウム４０ｇとにより処理した。固
体を除くために濾過し、生成物はカルシウムハイドライ
ド、フェノチアジンおよびジフェニルピクリルヒドラジ
ルから３回蒸留し、７１．７ｇのＥＰＭＡ、ｂｐ３４〜
３８．９℃（２．１〜２．６ｍｍＨｇ）を得た。Ｃ９Ｈ
１６Ｏ３としての計算値：Ｃ ６２．７７；Ｈ ９．３
６。実測値：Ｃ６３．１２；Ｈ ９．１１。１Ｈ ＮＭ
Ｒ（３６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：０．９５（ｔ，Ｊ＝
７．５Ｈｚ， ３Ｈ， ＣＨ３）、 １．２２（ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ， ３Ｈ， ＣＨ３）、 １．７６（ｍ， Ｊ
＝７， １Ｈｚ， ２Ｈ， ＣＨ２）、 １．９６（ｍ
，３Ｈ， ＝ＣＣＨ３）、 ３．５７（ｍ， １Ｈ，Ｏ
ＣＨ２）、 ３．７４（ｍ， １Ｈ，ＯＣＨ２）、 ５
．６０（ｍ， １Ｈ，＝ＣＨ２）、 ５．８４（ｔ，
Ｊ＝６Ｈｚ， １Ｈ，ＯＣＨＯ）、 ６．１６（ｍ，
１Ｈ，＝ＣＨ２）。
【００５９】エチルアセテートの４０ｍ１を丸底フラス
コ中で窒素により脱気し、ついでＥＰＭＡの１０．１ｇ
（１０．９ｍ１、５９ミリモル）を加えた。この液を窒
素ガス下７５℃に加熱した後ＡＩＢＮの７５ｍｇを加え
た。 ７５℃で６時間加熱後追加のＡＩＢＮの７５ｍｇを加え
、さらに１８時間７５℃の加熱を継続した。メタノール
で沈殿させて油状の生成物が得られ、これを真空中で乾
かして３．８５ｇのポリ（ＥＰＭＡ）を得た。（Ｃ９Ｈ
１６Ｏ３）ｎとしての計算値：Ｃ ６２．７７；Ｈ ９
．３６。実測値：Ｃ ６３．１５；Ｈ ９．５０。ＩＲ
（フィルム）：１７３５ｃｍ−１（エステルＣ＝Ｏ）。 ＧＰＣ：Ｍｎ ２６，６００；Ｍｗ ３４，５００；Ｍ
ｗ／Ｍｎ １．３。ＤＳＣ：Ｔｇ ４８℃、１９３℃で
の明瞭な吸熱分解（１９８Ｊ／ｇ）。
コ中で窒素により脱気し、ついでＥＰＭＡの１０．１ｇ
（１０．９ｍ１、５９ミリモル）を加えた。この液を窒
素ガス下７５℃に加熱した後ＡＩＢＮの７５ｍｇを加え
た。 ７５℃で６時間加熱後追加のＡＩＢＮの７５ｍｇを加え
、さらに１８時間７５℃の加熱を継続した。メタノール
で沈殿させて油状の生成物が得られ、これを真空中で乾
かして３．８５ｇのポリ（ＥＰＭＡ）を得た。（Ｃ９Ｈ
１６Ｏ３）ｎとしての計算値：Ｃ ６２．７７；Ｈ ９
．３６。実測値：Ｃ ６３．１５；Ｈ ９．５０。ＩＲ
（フィルム）：１７３５ｃｍ−１（エステルＣ＝Ｏ）。 ＧＰＣ：Ｍｎ ２６，６００；Ｍｗ ３４，５００；Ｍ
ｗ／Ｍｎ １．３。ＤＳＣ：Ｔｇ ４８℃、１９３℃で
の明瞭な吸熱分解（１９８Ｊ／ｇ）。
【００６０】〔実施例６〕この実施例はＩＥＭＡの調製
とフリーラジカル重合によるホモポリマーへの変換を示
す。
とフリーラジカル重合によるホモポリマーへの変換を示
す。
【００６１】イソ−ブチルビニルエーテル３００．５ｇ
（３９１ｍ１、３モル）、精製したメタアクリル酸１２
９．１ｇ（１２７ｍ１、１．５モル）、および架橋した
ポリ（ビニルピリジンハイドロクロライド）触媒（フル
カ社製）５ｇの混合物を、撹拌しながら１８時間６５℃
に加熱した。反応混合物を周囲温度に冷却した後、触媒
を濾過によりとり除いた。濾液は無水炭酸ナトリウム２
０ｇとカルシウムハイドライド５ｇとともに１時間撹拌
し、濾過し、そして過剰のイソブチルビニルエーテルは
回転蒸発器によりとり除いた。生成物はカルシウムハイ
ドライド、フェノチアジン、およびジフェニルピクリル
ヒドラジルから蒸留して、３４．６ｇのＩＥＭＡ、ｂｐ
４８．５℃（２．２ｍｍＨｇ）を得た。Ｃ１０Ｈ１８Ｏ
３としての計算値：Ｃ ６４．４９；Ｈ９．７４。実測
値：Ｃ ６５．３４；Ｈ ９．６９。１Ｈ ＮＭＲ（３
６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：０．９０（ｄ， Ｊ＝６Ｈ
ｚ， ３Ｈ， ＣＨ３）、 ０．９１（ｄ， Ｊ＝６Ｈ
ｚ， ３Ｈ， ＣＨ３）、 １．４４（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ
， ３Ｈ， ＣＨ３）、 １．８４（ｍ， １Ｈ， Ｃ
Ｈ）、 １．９５（ｔ，Ｊ＝１Ｈｚ， ３Ｈ， ＣＨ３
Ｃ＝Ｃ）、 ３．２６（ｄｄ， Ｊ＝７， １０Ｈｚ，
１Ｈ， ＯＣＨ２）、 ３．４４（ｄｄ，Ｊ＝７， １
０Ｈｚ， １Ｈ， ＯＣＨ２）、 ５．５９（ｍ， １
Ｈ，Ｃ＝ＣＨ２）、 ５．９６（ｑ， Ｊ＝５Ｈｚ，
１Ｈ， ＯＣＨＯ）、 ６．１５（ｍ， １Ｈ，Ｃ＝Ｃ
Ｈ２）。
（３９１ｍ１、３モル）、精製したメタアクリル酸１２
９．１ｇ（１２７ｍ１、１．５モル）、および架橋した
ポリ（ビニルピリジンハイドロクロライド）触媒（フル
カ社製）５ｇの混合物を、撹拌しながら１８時間６５℃
に加熱した。反応混合物を周囲温度に冷却した後、触媒
を濾過によりとり除いた。濾液は無水炭酸ナトリウム２
０ｇとカルシウムハイドライド５ｇとともに１時間撹拌
し、濾過し、そして過剰のイソブチルビニルエーテルは
回転蒸発器によりとり除いた。生成物はカルシウムハイ
ドライド、フェノチアジン、およびジフェニルピクリル
ヒドラジルから蒸留して、３４．６ｇのＩＥＭＡ、ｂｐ
４８．５℃（２．２ｍｍＨｇ）を得た。Ｃ１０Ｈ１８Ｏ
３としての計算値：Ｃ ６４．４９；Ｈ９．７４。実測
値：Ｃ ６５．３４；Ｈ ９．６９。１Ｈ ＮＭＲ（３
６０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：０．９０（ｄ， Ｊ＝６Ｈ
ｚ， ３Ｈ， ＣＨ３）、 ０．９１（ｄ， Ｊ＝６Ｈ
ｚ， ３Ｈ， ＣＨ３）、 １．４４（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ
， ３Ｈ， ＣＨ３）、 １．８４（ｍ， １Ｈ， Ｃ
Ｈ）、 １．９５（ｔ，Ｊ＝１Ｈｚ， ３Ｈ， ＣＨ３
Ｃ＝Ｃ）、 ３．２６（ｄｄ， Ｊ＝７， １０Ｈｚ，
１Ｈ， ＯＣＨ２）、 ３．４４（ｄｄ，Ｊ＝７， １
０Ｈｚ， １Ｈ， ＯＣＨ２）、 ５．５９（ｍ， １
Ｈ，Ｃ＝ＣＨ２）、 ５．９６（ｑ， Ｊ＝５Ｈｚ，
１Ｈ， ＯＣＨＯ）、 ６．１５（ｍ， １Ｈ，Ｃ＝Ｃ
Ｈ２）。
【００６２】エチルアセテート５０ｍ１中のＩＥＭＡ３
７ｇ（２００ミリモル）とＡＩＢＮ０．１ｇの溶液を窒
素ガスで脱気し、１８時間７５℃に加熱した。−７０℃
でメタノール中で沈殿し、ついで真空下に乾燥して３４
．６ｇのポリ（ＩＥＭＡ）を得た。（Ｃ１０Ｈ１８Ｏ３
）ｎとしての計算値：Ｃ ６４．４９；Ｈ ９．７４。 実測値：Ｃ ６６．０６；Ｈ ９．８４。 ＧＰＣ：Ｍｎ ２５，２００；Ｍｗ ７１，５００；Ｍ
ｗ／Ｍｎ ２．８３。ＤＳＣ：Ｔｇ ３０．２℃、２１
０．２℃において吸熱的に分解（３４７Ｊ／ｇ）。
７ｇ（２００ミリモル）とＡＩＢＮ０．１ｇの溶液を窒
素ガスで脱気し、１８時間７５℃に加熱した。−７０℃
でメタノール中で沈殿し、ついで真空下に乾燥して３４
．６ｇのポリ（ＩＥＭＡ）を得た。（Ｃ１０Ｈ１８Ｏ３
）ｎとしての計算値：Ｃ ６４．４９；Ｈ ９．７４。 実測値：Ｃ ６６．０６；Ｈ ９．８４。 ＧＰＣ：Ｍｎ ２５，２００；Ｍｗ ７１，５００；Ｍ
ｗ／Ｍｎ ２．８３。ＤＳＣ：Ｔｇ ３０．２℃、２１
０．２℃において吸熱的に分解（３４７Ｊ／ｇ）。
【００６３】〔実施例７〕この実施例はフリーラジカル
重合による、ＴＨＰＭＡとＥＰＭＡとの４０：６０（モ
ル％）コポリマーの調製を示す。
重合による、ＴＨＰＭＡとＥＰＭＡとの４０：６０（モ
ル％）コポリマーの調製を示す。
【００６４】エチルアセテート８０ｍ１中のＥＰＭＡ２
１．８ｍｌ（１１８ミリモル）、ＴＨＰＭＡ １３ｍ１
（７８．７ミリモル）およびＡＩＢＮ １５０ｍｇの混
合物を、窒素ガス下に脱気し７５℃に加熱した。３時間
の加熱後、追加のＡＩＢＮ １５０ｍｇを添加した後再
度１８時間加熱した。追加の１８時間の加熱後、ポリマ
ーは−７０℃でメタノール中で沈殿させ、２７．２ｇコ
ポリマーを得た。ＮＭＲ分析でこのコポリマーはＴＨＰ
ＭＡ４０モル％とＥＰＭＡ６０モル％であることが示さ
れた。ＧＰＣ：Ｍｎ ２５，１００；Ｍｗ ６０，９０
０；Ｍｗ／Ｍｎ ２．４２。ＤＳＣ：Ｔｇ ７１℃、１
８１℃で吸熱的に分解する。
１．８ｍｌ（１１８ミリモル）、ＴＨＰＭＡ １３ｍ１
（７８．７ミリモル）およびＡＩＢＮ １５０ｍｇの混
合物を、窒素ガス下に脱気し７５℃に加熱した。３時間
の加熱後、追加のＡＩＢＮ １５０ｍｇを添加した後再
度１８時間加熱した。追加の１８時間の加熱後、ポリマ
ーは−７０℃でメタノール中で沈殿させ、２７．２ｇコ
ポリマーを得た。ＮＭＲ分析でこのコポリマーはＴＨＰ
ＭＡ４０モル％とＥＰＭＡ６０モル％であることが示さ
れた。ＧＰＣ：Ｍｎ ２５，１００；Ｍｗ ６０，９０
０；Ｍｗ／Ｍｎ ２．４２。ＤＳＣ：Ｔｇ ７１℃、１
８１℃で吸熱的に分解する。
【００６５】〔実施例８〕この実施例はグループ移動重
合による、ＴＨＰＭＡとエチルアクリレートとの６１：
３９モル％ブロックコポリマーの調製を示す。
合による、ＴＨＰＭＡとエチルアクリレートとの６１：
３９モル％ブロックコポリマーの調製を示す。
【００６６】無水ＴＨＦ １４０ｍ１中のＴＴＥＢ ０
．８９ｍ１（３ミリモル）とテトラブチルアンモニウム
バイアセテート（ＴＨＦ中０．０４Ｍ液）１００μｌの
液に対して、アルゴン雰囲気下にＴＨＰＭＡ４４．１７
ｇ（４３．３ｍ１、２５９ミリモル）を、反応温度を３
５〜４０℃間に保つような速度で加えた。モノマーのす
べてを添加したとき、反応フラスコを直ちに０℃に冷却
し、テトラブチルアンモニウムバイアセテート（ＴＨＦ
中０．０４Ｍ液）５０μ１を含むエチルアクリレート２
５ｇ（２７ｍ１、２５０ミリモル）を速やかに添加した
。ついでテトラブチルアムモニウムバイアセテート（Ｔ
ＨＦ中０．０４Ｍ液）の２００μｌを、発熱反応がもは
や認められなくなるまで滴下して加えた。反応はメタノ
ール２ｍ１によって静めた。１０分後、生成物は１０％
の水を含むメタノールで沈殿させ、乾燥後３１．７５ｇ
のポリ（ＴＨＰＭＡ−ブロック−エチルアクリレート）
を得た。ＮＭＲはこのポリマーはエチルアクリレート３
９モル％とＴＨＰＭＡ６１モル％であることを示した。 ＧＰＣ：Ｍｎ ２１，６００；Ｍｗ ２９，１００；Ｍ
ｗ／Ｍｎ １．３４。ＤＳＣ：Ｔｇ −１６℃、１６８
℃で吸熱的に分解する。
．８９ｍ１（３ミリモル）とテトラブチルアンモニウム
バイアセテート（ＴＨＦ中０．０４Ｍ液）１００μｌの
液に対して、アルゴン雰囲気下にＴＨＰＭＡ４４．１７
ｇ（４３．３ｍ１、２５９ミリモル）を、反応温度を３
５〜４０℃間に保つような速度で加えた。モノマーのす
べてを添加したとき、反応フラスコを直ちに０℃に冷却
し、テトラブチルアンモニウムバイアセテート（ＴＨＦ
中０．０４Ｍ液）５０μ１を含むエチルアクリレート２
５ｇ（２７ｍ１、２５０ミリモル）を速やかに添加した
。ついでテトラブチルアムモニウムバイアセテート（Ｔ
ＨＦ中０．０４Ｍ液）の２００μｌを、発熱反応がもは
や認められなくなるまで滴下して加えた。反応はメタノ
ール２ｍ１によって静めた。１０分後、生成物は１０％
の水を含むメタノールで沈殿させ、乾燥後３１．７５ｇ
のポリ（ＴＨＰＭＡ−ブロック−エチルアクリレート）
を得た。ＮＭＲはこのポリマーはエチルアクリレート３
９モル％とＴＨＰＭＡ６１モル％であることを示した。 ＧＰＣ：Ｍｎ ２１，６００；Ｍｗ ２９，１００；Ｍ
ｗ／Ｍｎ １．３４。ＤＳＣ：Ｔｇ −１６℃、１６８
℃で吸熱的に分解する。
【００６７】〔実施例９〕この実施例はフリーラジカル
重合による、ＴＨＰＭＡとＴＨＰＡとの５９：４１モル
％コポリマーの調製を示す。
重合による、ＴＨＰＭＡとＴＨＰＡとの５９：４１モル
％コポリマーの調製を示す。
【００６８】ＴＨＰＭＡ １６．６ｍ１（１７ｇ、１０
０ミリモル）とＴＨＰＡ １５．６ｇ（１００ミリモル
）との混合物を、エチルアセテートの４０ｍ１に対して
還流下に４．５時間かけて滴下して加えた。同時に、エ
チルアセテート６ｍ１中のＡＤＶＮ３０ｍｇの溶液を６
時間かけて添加した。この間に液はまったく粘性なもの
となった。反応混合物のＮＭＲ分析で約２７％のアクリ
レート残留モノマーが認められた。ポリマーはブレンダ
ー中で−７８℃においてメタノールで沈殿させ、０．１
ｍｍで２４時間乾燥後２４ｇのポリ（ＴＨＰＭＡ／ＴＨ
ＰＡ）を得た。 ＮＭＲによりこのポリマーはＴＨＰＭＡ５９モル％とＴ
ＨＰＡ４１モル％であることが示された。ＧＰＣ：Ｍｎ
５８，９００；Ｍｗ １２６，１００；Ｍｗ／Ｍｎ
２．１５。 ＤＳＣ：Ｔｇ ７４℃、１６０℃で吸熱的に分解。
０ミリモル）とＴＨＰＡ １５．６ｇ（１００ミリモル
）との混合物を、エチルアセテートの４０ｍ１に対して
還流下に４．５時間かけて滴下して加えた。同時に、エ
チルアセテート６ｍ１中のＡＤＶＮ３０ｍｇの溶液を６
時間かけて添加した。この間に液はまったく粘性なもの
となった。反応混合物のＮＭＲ分析で約２７％のアクリ
レート残留モノマーが認められた。ポリマーはブレンダ
ー中で−７８℃においてメタノールで沈殿させ、０．１
ｍｍで２４時間乾燥後２４ｇのポリ（ＴＨＰＭＡ／ＴＨ
ＰＡ）を得た。 ＮＭＲによりこのポリマーはＴＨＰＭＡ５９モル％とＴ
ＨＰＡ４１モル％であることが示された。ＧＰＣ：Ｍｎ
５８，９００；Ｍｗ １２６，１００；Ｍｗ／Ｍｎ
２．１５。 ＤＳＣ：Ｔｇ ７４℃、１６０℃で吸熱的に分解。
【００６９】〔実施例１０〕この実施例はグループ移動
重合による、ＴＨＰＭＡとフルフリルメタアクリレート
との１：１コポリマーの調製を示す。
重合による、ＴＨＰＭＡとフルフリルメタアクリレート
との１：１コポリマーの調製を示す。
【００７０】ＴＨＰＭＡとフルフリルメタアクリレート
とは、アルゴン雰囲気下で塩基性アルミナのカラムを通
じることにより精製した。実施例４の方法に従い、ＴＨ
Ｆ７５ｍ１中のＴＴＥＢ ０．７４ｍ１（２．３ミリモ
ル）とテトラブチルアンモニウムバイアセテート（ＴＨ
Ｆ中０．０４Ｍ）０．１５ｍ１の溶液に対して、ＴＨＰ
ＭＡ２４ｍ１（２４．６ｇ、０．１４４５モル）とフル
フリルメタアクリレート２２．２ｍ１（２４ｇ、０．１
４４５モル）との混合物を滴下して加えた。反応混合物
のＮＭＲ分析で残留モノマーの存在が示された。生成物
はメタノールで沈殿させ、０．１ｍｍで乾燥して２４．
４ｇのポリ（ＴＨＰＭＡ／フルフリルメタアクリレート
）を得た。ＮＭＲでこのポリマーは、ＴＨＰＭＡとフル
フリルメタアクリレートとの１：１モル比のポリマーで
あることが示された。 ＧＰＣ：Ｍｎ １３，８００；Ｍｗ１８，０００；Ｍｗ
／Ｍｎ １．３。ＤＳＣ：Ｔｇ ９６℃、１８４℃で吸
熱的に分解。
とは、アルゴン雰囲気下で塩基性アルミナのカラムを通
じることにより精製した。実施例４の方法に従い、ＴＨ
Ｆ７５ｍ１中のＴＴＥＢ ０．７４ｍ１（２．３ミリモ
ル）とテトラブチルアンモニウムバイアセテート（ＴＨ
Ｆ中０．０４Ｍ）０．１５ｍ１の溶液に対して、ＴＨＰ
ＭＡ２４ｍ１（２４．６ｇ、０．１４４５モル）とフル
フリルメタアクリレート２２．２ｍ１（２４ｇ、０．１
４４５モル）との混合物を滴下して加えた。反応混合物
のＮＭＲ分析で残留モノマーの存在が示された。生成物
はメタノールで沈殿させ、０．１ｍｍで乾燥して２４．
４ｇのポリ（ＴＨＰＭＡ／フルフリルメタアクリレート
）を得た。ＮＭＲでこのポリマーは、ＴＨＰＭＡとフル
フリルメタアクリレートとの１：１モル比のポリマーで
あることが示された。 ＧＰＣ：Ｍｎ １３，８００；Ｍｗ１８，０００；Ｍｗ
／Ｍｎ １．３。ＤＳＣ：Ｔｇ ９６℃、１８４℃で吸
熱的に分解。
【００７１】〔実施例１１〕この実施例は本発明の感光
性エレメントの調製とそれからの着色画像の作成とを示
す。
性エレメントの調製とそれからの着色画像の作成とを示
す。
【００７２】〔工程１． エラストマー層〕トルエン
中に溶解したポリ（１−オクテン）の１．５％溶液を、
３ミル（７５μ）のギャップをもつドクターナイフを使
用してメリネックスＲ 支持体上に塗布した。塗膜を風
乾して、支持体とポリ（１−オクテン）エラストマー層
とからなるエレメントを作った。
中に溶解したポリ（１−オクテン）の１．５％溶液を、
３ミル（７５μ）のギャップをもつドクターナイフを使
用してメリネックスＲ 支持体上に塗布した。塗膜を風
乾して、支持体とポリ（１−オクテン）エラストマー層
とからなるエレメントを作った。
【００７３】〔工程２． 感光性エレメント〕２−ブ
タノン中の実施例１で作ったＴＨＰＡホモポリマー（塗
布液中１０％）とＡＴＡＳＳ（塗布液中０．２５％；乾
燥塗膜中約２．５％）との溶液を、１ミル（２５μ）の
ギャップをもつドクターナイフを使用してエラストマー
層上に塗布をした。塗膜を風乾して、支持体；エラスト
マー層；および光可溶性層とからなる感光性エレメント
を作った。
タノン中の実施例１で作ったＴＨＰＡホモポリマー（塗
布液中１０％）とＡＴＡＳＳ（塗布液中０．２５％；乾
燥塗膜中約２．５％）との溶液を、１ミル（２５μ）の
ギャップをもつドクターナイフを使用してエラストマー
層上に塗布をした。塗膜を風乾して、支持体；エラスト
マー層；および光可溶性層とからなる感光性エレメント
を作った。
【００７４】〔工程３． 露光〕ＵＧＲＡターゲット
（グラフィックアーツ技術協会）を、工程２で作ったエ
レメント上にその乳剤側を光可溶性層に接するように置
いた。このエレメントとターゲットとを真空焼枠中に入
れ真空とする。エレメントはドウシットＤＣＯＰ−Ｘ（
ドウシット社製）露光ユニット中にとり付けたビオラッ
クス５００２Ｓランプの出力で５秒間露光をした。
（グラフィックアーツ技術協会）を、工程２で作ったエ
レメント上にその乳剤側を光可溶性層に接するように置
いた。このエレメントとターゲットとを真空焼枠中に入
れ真空とする。エレメントはドウシットＤＣＯＰ−Ｘ（
ドウシット社製）露光ユニット中にとり付けたビオラッ
クス５００２Ｓランプの出力で５秒間露光をした。
【００７５】〔工程４． 画像の形成〕露光済みのエ
レメントは約２〜３分間周囲温度に放置した。ついでこ
れを周囲温度の水道水でウオッシュアウトした。ウオッ
シュアウト中光可溶性層は綿でかるくこすった。ついで
空気流で乾かし、そしてデュポン社のネガチブクロマリ
ンＲ トナーによってトーニングした。ウオッシュアウ
ト時間の関数としての画質を以下の表１に示してある。
レメントは約２〜３分間周囲温度に放置した。ついでこ
れを周囲温度の水道水でウオッシュアウトした。ウオッ
シュアウト中光可溶性層は綿でかるくこすった。ついで
空気流で乾かし、そしてデュポン社のネガチブクロマリ
ンＲ トナーによってトーニングした。ウオッシュアウ
ト時間の関数としての画質を以下の表１に示してある。
【００７６】
【表１】
さらに長い露光時間（２０秒までの）は前述のものより
も劣った画像を生じる。
も劣った画像を生じる。
【００７７】〔実施例１２〕光可溶性層用の塗布液中の
ＡＴＡＳＳ濃度を０．２５％の代わりに０．０６３％に
して、実施例１１の方法をくり返した。露光は１０秒間
行った。ウオッシュアウト時間の関数としての画質を以
下の表２中に示してある。
ＡＴＡＳＳ濃度を０．２５％の代わりに０．０６３％に
して、実施例１１の方法をくり返した。露光は１０秒間
行った。ウオッシュアウト時間の関数としての画質を以
下の表２中に示してある。
【００７８】
【表２】
【００７９】〔実施例１３〕光可溶性層用の塗布液中の
ＡＴＡＳＳ濃度を０．２５％の代わりに０．０６３％と
し、そして感光性層が３ミル（７６μ）のギャップをも
つドクターナイフを使用してエラストマー層上に塗布し
た点を変えて、実施例１１の方法をくり返した。露光時
間は２０秒とした。ウオッシュアウト時間の関数として
の画質を以下の表３中に示してある。
ＡＴＡＳＳ濃度を０．２５％の代わりに０．０６３％と
し、そして感光性層が３ミル（７６μ）のギャップをも
つドクターナイフを使用してエラストマー層上に塗布し
た点を変えて、実施例１１の方法をくり返した。露光時
間は２０秒とした。ウオッシュアウト時間の関数として
の画質を以下の表３中に示してある。
【００８０】
【表３】
【００８１】〔実施例１４〕光可溶性層用の塗布液中の
ＡＴＡＳＳ濃度を０．２５％の代わりに０．１２５％と
し、そして実施例２中で述べたＴＨＰＡのホモポリマー
を実施例１のポリマーの代わりに光可溶性層中で使用し
て、実施例１１の方法をくり返した。露光時間は５秒と
した。ウオッシュアウト時間の関数としての画質を以下
の表４中に示してある。
ＡＴＡＳＳ濃度を０．２５％の代わりに０．１２５％と
し、そして実施例２中で述べたＴＨＰＡのホモポリマー
を実施例１のポリマーの代わりに光可溶性層中で使用し
て、実施例１１の方法をくり返した。露光時間は５秒と
した。ウオッシュアウト時間の関数としての画質を以下
の表４中に示してある。
【００８２】
【表４】
【００８３】〔実施例１５〕サイラキュアＲ ＵＶ６９
７４（光可溶性層用の塗布液中１．０％）と９−アンス
ラセンメチルブチレート（塗布液中０．５％）とからな
る光可溶性化剤と、そして実施例２中で述べたＴＨＰＡ
のホモポリマーを実施例１のポリマーの代わりに光可溶
性層中で用いた点を変えて、実施例１１の方法をくり返
した。ウオッシュアウト時間は２０秒とした。露光時間
の関数としての画質を以下の表５中に示してある。
７４（光可溶性層用の塗布液中１．０％）と９−アンス
ラセンメチルブチレート（塗布液中０．５％）とからな
る光可溶性化剤と、そして実施例２中で述べたＴＨＰＡ
のホモポリマーを実施例１のポリマーの代わりに光可溶
性層中で用いた点を変えて、実施例１１の方法をくり返
した。ウオッシュアウト時間は２０秒とした。露光時間
の関数としての画質を以下の表５中に示してある。
【００８４】
【表５】
【００８５】〔実施例１６〕実施例１１の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は実施例３で作ったＴＨＰＡのホモポリマー（
約９５％）とＡＴＡＳＳ（約５％）とを含んでいる。 エラストマー層はジクロロメタン中のクライトンＲ Ｄ
１１０７の３％溶液１０ｇ、ジクロロメタン中のジエン
５５ＡＣの３％溶液の１０ｇ、ポリ（メチル２−メチル
ペンタジエノエート）０．１０ｇ、３Ｍの２−層テープ
（３Ｍ社）０．０５ｇ、およびジクロロメタンの１０ｇ
を混合して作った液を、３ミルのギャップをもつドクタ
ーナイフを使用して塗布することにより作った。３．５
秒間露光し、０．４Ｎ水酸化ナトリウム中で２５秒間ウ
オッシュアウトし、そしてトーニングを行って１〜９８
％ドットの画像が得られた。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は実施例３で作ったＴＨＰＡのホモポリマー（
約９５％）とＡＴＡＳＳ（約５％）とを含んでいる。 エラストマー層はジクロロメタン中のクライトンＲ Ｄ
１１０７の３％溶液１０ｇ、ジクロロメタン中のジエン
５５ＡＣの３％溶液の１０ｇ、ポリ（メチル２−メチル
ペンタジエノエート）０．１０ｇ、３Ｍの２−層テープ
（３Ｍ社）０．０５ｇ、およびジクロロメタンの１０ｇ
を混合して作った液を、３ミルのギャップをもつドクタ
ーナイフを使用して塗布することにより作った。３．５
秒間露光し、０．４Ｎ水酸化ナトリウム中で２５秒間ウ
オッシュアウトし、そしてトーニングを行って１〜９８
％ドットの画像が得られた。
【００８６】〔実施例１７〕実施例１１の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は２−ブタノン中の実施例１０で述べたＴＨＰ
ＭＡホモポリマーの１０％、サイラキュアＲ ＵＶ６９
７４１％、ベンゾフェノン０．４％、および２−クロロ
チオキサンテン−９−オン０．１％を含む溶液をエラス
トマー層上に直接に塗布した。エラストマー層はジエン
トロＲ １５０６（約２２％）とジエン５５ＡＣ（約７
８％）との混合物である。４８０秒間露光し、０．４Ｎ
水酸化ナトリウム中で１８０秒間ウオッシュアウトし、
そしてトーニングをして０．５〜９９．５％のドットを
もつ画像が得られた。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は２−ブタノン中の実施例１０で述べたＴＨＰ
ＭＡホモポリマーの１０％、サイラキュアＲ ＵＶ６９
７４１％、ベンゾフェノン０．４％、および２−クロロ
チオキサンテン−９−オン０．１％を含む溶液をエラス
トマー層上に直接に塗布した。エラストマー層はジエン
トロＲ １５０６（約２２％）とジエン５５ＡＣ（約７
８％）との混合物である。４８０秒間露光し、０．４Ｎ
水酸化ナトリウム中で１８０秒間ウオッシュアウトし、
そしてトーニングをして０．５〜９９．５％のドットを
もつ画像が得られた。
【００８７】〔実施例１８〕実施例１１の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は２−ブタノン中の実施例５で述べたポリ（Ｅ
ＰＭＡ）の１０％、サイラキュアＲ ＵＶ６９７４ １
％、ベンゾフェノン０．４％、そして２−クロロチオキ
サンテン−９−オン０．１％を含む液をエラストマー層
上に直接に塗布した。エラストマー層はジエントロＲ
１５０６（約２２％）とジエン５５ＡＣ（約７８％）と
の混合物である。３６０秒間露光し、０．４Ｎ水酸化ナ
トリウム液中で１８０秒間ウオッシュアウトし、そして
トーニングをして０．５〜９９．５％のドットをもつ画
像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は２−ブタノン中の実施例５で述べたポリ（Ｅ
ＰＭＡ）の１０％、サイラキュアＲ ＵＶ６９７４ １
％、ベンゾフェノン０．４％、そして２−クロロチオキ
サンテン−９−オン０．１％を含む液をエラストマー層
上に直接に塗布した。エラストマー層はジエントロＲ
１５０６（約２２％）とジエン５５ＡＣ（約７８％）と
の混合物である。３６０秒間露光し、０．４Ｎ水酸化ナ
トリウム液中で１８０秒間ウオッシュアウトし、そして
トーニングをして０．５〜９９．５％のドットをもつ画
像を得た。
【００８８】〔実施例１９〕実施例１１の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、２−ブタノン（８９％）とプロピレンカー
ボネート（０．５％）中に溶解させた実施例６で述べた
ポリ（ＩＥＭＡ）１０％とＡＴＡＳＳ ０．５％とを含
む液を、エラストマー層上に直接に塗布した。エラスト
マー層はポリ（１−オクテン）である。１０秒間露光し
、周囲温度の０．４Ｎ水酸化ナトリウム液中で約３０秒
間ウオッシュアウトし、そしてトーニングをして２０〜
９８％のドットをもつ画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、２−ブタノン（８９％）とプロピレンカー
ボネート（０．５％）中に溶解させた実施例６で述べた
ポリ（ＩＥＭＡ）１０％とＡＴＡＳＳ ０．５％とを含
む液を、エラストマー層上に直接に塗布した。エラスト
マー層はポリ（１−オクテン）である。１０秒間露光し
、周囲温度の０．４Ｎ水酸化ナトリウム液中で約３０秒
間ウオッシュアウトし、そしてトーニングをして２０〜
９８％のドットをもつ画像を得た。
【００８９】〔実施例２０〕実施例１１の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、２−ブタノン（８９％）とプロピレンカー
ボネート（０．５％）中に溶解させた実施例７で述べた
ＴＨＰＭＡとＥＰＭＡとのコポリマー１０％とＡＴＡＳ
Ｓ ０．５％とを含む液を、エラストマー層上に直接に
塗布した。エラストマー層は実施例１６で用いたものと
同じである。１０秒間露光し、熱い水道水中で約１２０
秒ウオッシュアウトし、そしてトーニングをして０．５
〜９８％のドットをもつ画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、２−ブタノン（８９％）とプロピレンカー
ボネート（０．５％）中に溶解させた実施例７で述べた
ＴＨＰＭＡとＥＰＭＡとのコポリマー１０％とＡＴＡＳ
Ｓ ０．５％とを含む液を、エラストマー層上に直接に
塗布した。エラストマー層は実施例１６で用いたものと
同じである。１０秒間露光し、熱い水道水中で約１２０
秒ウオッシュアウトし、そしてトーニングをして０．５
〜９８％のドットをもつ画像を得た。
【００９０】〔実施例２１〕実施例１１の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。エ
ラストマー層は、ジクロロメタン中にジエントロＲ １
５０６の３％を含む液を、３ミルのギャップをもつドク
ターナイフを使用してメリネックスＲ 上に塗布した。 光可溶性層は、２−ブタノン中に実施例８で述べたＴＨ
ＰＭＡとエチルアクリレートとのブロックコポリマー１
０％、サイラキュアＲ ＵＶ６９７４ １％、ベンゾフ
ェノン０．４％、および２−クロロチオキサンテン−９
−オン ０．１％を含む液をエラストマー層上に直接に
塗布した。露光時間は１２０秒。画像は周囲温度の０．
４Ｎ水酸化ナトリウム液で約１８０秒間ウオッシュアウ
トした。トーニング後に０．５〜９８％のドットをもつ
画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。エ
ラストマー層は、ジクロロメタン中にジエントロＲ １
５０６の３％を含む液を、３ミルのギャップをもつドク
ターナイフを使用してメリネックスＲ 上に塗布した。 光可溶性層は、２−ブタノン中に実施例８で述べたＴＨ
ＰＭＡとエチルアクリレートとのブロックコポリマー１
０％、サイラキュアＲ ＵＶ６９７４ １％、ベンゾフ
ェノン０．４％、および２−クロロチオキサンテン−９
−オン ０．１％を含む液をエラストマー層上に直接に
塗布した。露光時間は１２０秒。画像は周囲温度の０．
４Ｎ水酸化ナトリウム液で約１８０秒間ウオッシュアウ
トした。トーニング後に０．５〜９８％のドットをもつ
画像を得た。
【００９１】〔実施例２２〕実施例１１の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、２−ブタノン中に実施例９で述べたＴＨＰ
ＭＡとＴＨＰＡとのコポリマー１０％とＡＴＡＳＳ ０
．５％とを含む液を、エラストマー層上に直接に塗布し
た。エラストマー層はポリ（１−オクテン）である。４
０秒間露光し、２５℃の水道水中で約６０秒ウオッシュ
アウトし、トーニングをして０．５〜８０％のドットを
もつ画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、２−ブタノン中に実施例９で述べたＴＨＰ
ＭＡとＴＨＰＡとのコポリマー１０％とＡＴＡＳＳ ０
．５％とを含む液を、エラストマー層上に直接に塗布し
た。エラストマー層はポリ（１−オクテン）である。４
０秒間露光し、２５℃の水道水中で約６０秒ウオッシュ
アウトし、トーニングをして０．５〜８０％のドットを
もつ画像を得た。
【００９２】〔実施例２３〕実施例１１の一般的方法に
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、２−ブタノン中に実施例１０で述べたＴＨ
ＰＭＡとフルフリルメタアクリレートとのコポリマー１
０％、サイラキュアＲ ＵＶ６９７４ １％、ベンゾフ
ェノン０．４％、および２−クロロチオキサンテン−９
−オン０．１％を含む液を、エラストマー層上に直接に
塗布した。エラストマー層はジエントロＲ１５０６（約
２２％）とジエン５５ＡＣ（約７８％）との混合物であ
る。４８０秒間露光し、０．４Ｎ水酸化ナトリウム液中
で１８０秒間ウオッシュアウトし、トーニングをして０
．５〜９９．５％のドットをもつ画像を得た。
従って感光性エレメントが作られイメージ化された。光
可溶性層は、２−ブタノン中に実施例１０で述べたＴＨ
ＰＭＡとフルフリルメタアクリレートとのコポリマー１
０％、サイラキュアＲ ＵＶ６９７４ １％、ベンゾフ
ェノン０．４％、および２−クロロチオキサンテン−９
−オン０．１％を含む液を、エラストマー層上に直接に
塗布した。エラストマー層はジエントロＲ１５０６（約
２２％）とジエン５５ＡＣ（約７８％）との混合物であ
る。４８０秒間露光し、０．４Ｎ水酸化ナトリウム液中
で１８０秒間ウオッシュアウトし、トーニングをして０
．５〜９９．５％のドットをもつ画像を得た。
【００９３】〔実施例２４〕この実施例は本発明の感光
性エレメントを使用する４色カラープルーフの調製を示
す。
性エレメントを使用する４色カラープルーフの調製を示
す。
【００９４】〔工程１． エラストマー層〕トルエン
中に溶解したポリ（１−オクテン）２．０％とジエン５
５ＡＣ １．０％との液を、シリコン処理を施こしたポ
リエチレンテレフタレート支持体上に３ミル（７５μ）
のギャップをもつドクターナイフを使用して塗布した。 塗膜を風乾させ：ポリエチレンテレフタレート支持体と
エラストマー層とからなるエレメントを作った。
中に溶解したポリ（１−オクテン）２．０％とジエン５
５ＡＣ １．０％との液を、シリコン処理を施こしたポ
リエチレンテレフタレート支持体上に３ミル（７５μ）
のギャップをもつドクターナイフを使用して塗布した。 塗膜を風乾させ：ポリエチレンテレフタレート支持体と
エラストマー層とからなるエレメントを作った。
【００９５】〔工程２． 感光性エレメント〕２−ブ
タノン中の実施例２で作ったＴＨＰＡホモポリマー１０
％とＡＴＡＳＳ０．１２６％との液を、工程１で作った
エレメントのエラストマー層上に１ミル（２５μ）のギ
ャップをもつドクターナイフを使用して塗布した。塗膜
を風乾させ：ポリエチレンテレフタレート支持体；エラ
ストマー層；および光可溶性層からなる感光性エレメン
トを作った。
タノン中の実施例２で作ったＴＨＰＡホモポリマー１０
％とＡＴＡＳＳ０．１２６％との液を、工程１で作った
エレメントのエラストマー層上に１ミル（２５μ）のギ
ャップをもつドクターナイフを使用して塗布した。塗膜
を風乾させ：ポリエチレンテレフタレート支持体；エラ
ストマー層；および光可溶性層からなる感光性エレメン
トを作った。
【００９６】〔工程３． 露光〕工程２で作ったエレ
メント上に、イエローのデュポンクロマリンＲ プルー
フシステムカラーターゲット（イー・アイ・デュポン社
製）の乳剤側が光可溶性層に接するように置き、そして
このエレメントとターゲットとを実施例１１の工程３で
述べたように露光した。
メント上に、イエローのデュポンクロマリンＲ プルー
フシステムカラーターゲット（イー・アイ・デュポン社
製）の乳剤側が光可溶性層に接するように置き、そして
このエレメントとターゲットとを実施例１１の工程３で
述べたように露光した。
【００９７】〔工程４． ウオッシュアウトとトーニ
ング〕露光済みの試料は約２〜３分間周囲温度に放置し
た。ついで、周囲温度の水道水で２０秒間ウオッシュア
ウトし、乾燥し、そして実施例１１の工程４で述べたよ
うにしてイエロートナーでトーニングして：露光しウオ
ッシュアウトをした光可溶性層；トーニングされたエラ
ストマー層；および支持体からなるイエローにトーニン
グされた画像を作った。
ング〕露光済みの試料は約２〜３分間周囲温度に放置し
た。ついで、周囲温度の水道水で２０秒間ウオッシュア
ウトし、乾燥し、そして実施例１１の工程４で述べたよ
うにしてイエロートナーでトーニングして：露光しウオ
ッシュアウトをした光可溶性層；トーニングされたエラ
ストマー層；および支持体からなるイエローにトーニン
グされた画像を作った。
【００９８】〔工程５． 追加の着色画像〕工程２で
作った感光性エレメントに、シアン、マゼンタ、および
黒のデュポンクロマリンＲ プルーフシステムカラータ
ーゲットと、それぞれシアン、マゼンタ、および黒のト
ナーとを用いて工程３と４の方法をくり返して：露光し
ウオッシュアウトをした光可溶性層；トーニングされた
エラストマー層；および支持体からなる、それぞれシア
ン、マゼンタ、および黒にトーニングされた画像を作っ
た。
作った感光性エレメントに、シアン、マゼンタ、および
黒のデュポンクロマリンＲ プルーフシステムカラータ
ーゲットと、それぞれシアン、マゼンタ、および黒のト
ナーとを用いて工程３と４の方法をくり返して：露光し
ウオッシュアウトをした光可溶性層；トーニングされた
エラストマー層；および支持体からなる、それぞれシア
ン、マゼンタ、および黒にトーニングされた画像を作っ
た。
【００９９】〔工程６． 転写エレメント〕エラスト
マー層用の塗布液を工程１で述べたようにしてポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に塗布し：ポリエチレン
テレフタレート転写シートとエラストマー層とからなる
転写エレメントを作った。
マー層用の塗布液を工程１で述べたようにしてポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に塗布し：ポリエチレン
テレフタレート転写シートとエラストマー層とからなる
転写エレメントを作った。
【０１００】〔工程７． ４色カラー画像〕工程５で
作った黒トーニング画像を、工程６で作った転写エレメ
ントのエラストマー層上に周囲温度でラミネートして：
転写シート；エラストマー層；露光しウオッシュアウト
をした光可溶性層；黒にトーニングされたエラストマー
層；および支持体からなる単色の黒画像を作った。
作った黒トーニング画像を、工程６で作った転写エレメ
ントのエラストマー層上に周囲温度でラミネートして：
転写シート；エラストマー層；露光しウオッシュアウト
をした光可溶性層；黒にトーニングされたエラストマー
層；および支持体からなる単色の黒画像を作った。
【０１０１】以上で作った単色の黒画像から支持体をと
り除き、そして工程６で作ったシアン画像を得られたエ
レメントのエラストマー層に対し位置決めの下にラミネ
ートして：転写シート；エラストマー層；露光しウオッ
シュアウトをした光可溶性層；黒にトーニングされたエ
ラストマー層；露光しウオッシュアウトをした光可溶性
層；シアンにトーニングされたエラストマー層；および
支持体からなる２色の画像を作った。
り除き、そして工程６で作ったシアン画像を得られたエ
レメントのエラストマー層に対し位置決めの下にラミネ
ートして：転写シート；エラストマー層；露光しウオッ
シュアウトをした光可溶性層；黒にトーニングされたエ
ラストマー層；露光しウオッシュアウトをした光可溶性
層；シアンにトーニングされたエラストマー層；および
支持体からなる２色の画像を作った。
【０１０２】上記で作った２色の画像から支持体をとり
除き、そして工程６で作ったマゼンタ画像を得られたエ
レメントのエラストマー層に対し位置決めの下にラミネ
ートして：転写シート；エラストマー層；露光しウオッ
シュアウトをした光可溶性層；黒にトーニングされたエ
ラストマー層；露光しウオッシュアウトをした光可溶性
層；シアンにトーニングされたエラストマー層；露光し
ウオッシュアウトをした光可溶性層；マゼンタにトーニ
ングされたエラストマー層；および支持体からなる３色
の画像を作った。
除き、そして工程６で作ったマゼンタ画像を得られたエ
レメントのエラストマー層に対し位置決めの下にラミネ
ートして：転写シート；エラストマー層；露光しウオッ
シュアウトをした光可溶性層；黒にトーニングされたエ
ラストマー層；露光しウオッシュアウトをした光可溶性
層；シアンにトーニングされたエラストマー層；露光し
ウオッシュアウトをした光可溶性層；マゼンタにトーニ
ングされたエラストマー層；および支持体からなる３色
の画像を作った。
【０１０３】上記で作った３色の画像から支持体をとり
除き、そして工程５で作ったイエロー画像を、このよう
にして作られている画像のエラストマー層に対し位置決
めの下にラミネートして：転写シート；エラストマー層
；露光しウオッシュアウトをされた光可溶性層；黒にト
ーニングされたエラストマー層；露光しウオッシュアウ
トをされた光可溶性層；シアンにトーニングされたエラ
ストマー層；露光しウオッシュアウトをされた光可溶性
層；マゼンタにトーニングされたエラストマー層；露光
しウオッシュアウトされた光可溶性層；イエローにトー
ニングされたエラストマー層；および支持体からなる４
色の画像を作った。
除き、そして工程５で作ったイエロー画像を、このよう
にして作られている画像のエラストマー層に対し位置決
めの下にラミネートして：転写シート；エラストマー層
；露光しウオッシュアウトをされた光可溶性層；黒にト
ーニングされたエラストマー層；露光しウオッシュアウ
トをされた光可溶性層；シアンにトーニングされたエラ
ストマー層；露光しウオッシュアウトをされた光可溶性
層；マゼンタにトーニングされたエラストマー層；露光
しウオッシュアウトされた光可溶性層；イエローにトー
ニングされたエラストマー層；および支持体からなる４
色の画像を作った。
【０１０４】上記で作った４色カラー画像から支持体を
とり除き、この画像をメリネックスＲ 受像体にラミネ
ートした。転写シートは画像を保護するためそのままに
しておいた。この方法により、クロモコートＲ 紙上に
また普通のコピー用紙上に、４色カラー画像を作ること
もできる。
とり除き、この画像をメリネックスＲ 受像体にラミネ
ートした。転写シートは画像を保護するためそのままに
しておいた。この方法により、クロモコートＲ 紙上に
また普通のコピー用紙上に、４色カラー画像を作ること
もできる。
【０１０５】本発明の多くの異なる具体化例を発明の目
的と範囲から外れることなく行うことができるが、本発
明は請求項中で規定されているごとく、ここの特定具体
例に限定されるものでないことを理解さるべきである。
的と範囲から外れることなく行うことができるが、本発
明は請求項中で規定されているごとく、ここの特定具体
例に限定されるものでないことを理解さるべきである。
Claims (24)
- 【請求項１】 着色画像を作るのに適した感光性エレ
メントであって、このエレメントは： （１）（ａ） 光可溶性化剤と、（ｂ） ポリマー
骨格とこの骨格に結合している懸垂した酸に不安定な基
とをもち、この懸垂した酸に不安定な基が次の式：−Ｃ
Ｏ２−Ｃ（Ｒ１）（０Ｒ２）−ＣＨ（Ｒ３）（Ｒ４）（
ここで、Ｒ１は水素または約１から約６の炭素原子のア
ルキル、Ｒ２は１から約８の炭素原子のアルキル、Ｒ３
とＲ４とはそれぞれ独立に水素または１から約６の炭素
原子のアルキル、ここでＲ１とＲ２；Ｒ１とＲ３；また
はＲ２とＲ３のいずれかは５−、６−または７−員の環
を形成するために結合することができる）で表わされる
ものである、酸に不安定なポリマーとから本質的に構成
される光可溶性層、（２） エラストマー層、および
（３） 支持体とからなるものである、感光性エレメ
ント。 - 【請求項２】 ポリマーが１個またはそれ以上の酸に
不安定なモノマーのくり返し単位を少なくとも約５０モ
ル％有するものである、請求項１に記載のエレメント。 - 【請求項３】 酸に不安定なモノマーがアクリレート
モノマー、メタアクリレートモノマー、またはこれらの
混合物である、請求項２に記載のエレメント。 - 【請求項４】 酸に不安定な基が以下の各置換基：Ｒ
１とＲ４とは水素；Ｒ２はＣ１〜４のアルキル；そして
Ｒ３は水素またはＣＨ３を有するものである、請求項３
に記載のエレメント。 - 【請求項５】 酸に不安定な基が以下の各置換基：Ｒ
１とＲ４とは水素；そしてＲ２とＲ３とは６−員環を形
成するように結合したものである、請求項３に記載のエ
レメント。 - 【請求項６】 ポリマーがまたメチルアクリレート、
メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、エチル
メタアクリレート、フルフリルアクリレート、およびフ
ルフリルメタアクリレート、よりなる群から選ばれた少
なくとも１つのモノマーを含むものである、請求項３に
記載のエレメント。 - 【請求項７】 ポリマーが１個またはそれ以上の酸に
不安定なモノマーのくり返し単位から本質的に構成され
るものである、請求項１に記載のエレメント。 - 【請求項８】 酸に不安定なモノマーがアクリレート
モノマー、メタアクリレートモノマー、またはこれらの
混合物である、請求項７に記載のエレメント。 - 【請求項９】 モノマーがアクリレートモノマーであ
り、ここで酸に不安定な基が以下の各置換基：Ｒ１とＲ
４とは水素；Ｒ２はＣ１〜４のアルキル；そしてＲ３は
水素またＣＨ３を有するものである、請求項７に記載の
エレメント。 - 【請求項１０】 ポリマーがポリ（テトラハイドロピ
ラニルアクリレート）、ポリ〔１−（エトキシ）−プロ
ピルメタアクリレート〕、およびテトラハイドロピラニ
ルメタアクリレートとテトラハイドロピラニルアクリレ
ートとのコポリマー、よりなる群から選ばれたものであ
る、請求項７に記載のエレメント。 - 【請求項１１】 光可溶性化剤がジアリールヨードニ
ウム、トリアリールスルホニウムまたはアンスラセン結
合スルホニウム塩である、請求項１に記載のエレメント
。 - 【請求項１２】 エラストマー層がブタジエン、イソ
プロピレンまたはアルファ−オレフィンのポリマーであ
る、請求項１に記載のエレメント。 - 【請求項１３】 エラストマー層がポリ（アルファ−
オレフィン）である、請求項１２に記載のエレメント。 - 【請求項１４】 支持体がエラストマー層から除去可
能なものである、請求項１に記載のエレメント。 - 【請求項１５】 着色画像を作るために：（Ａ）
次の順序の：（１）（ａ） 光可溶性化剤と、（ｂ）
ポリマー骨格とこの骨格に結合している懸垂した酸
に不安定な基とをもち、この懸垂した酸に不安定な基が
次の式： −ＣＯ２−Ｃ（Ｒ１）（０Ｒ２）−ＣＨ（Ｒ３）（Ｒ４
）（ここで、Ｒ１は水素または約１から約６の炭素原子
のアルキル、Ｒ２は１から約８の炭素原子のアルキル、
Ｒ３とＲ４とはそれぞれ独立に水素または１から約６の
炭素原子のアルキル、ここでＲ１とＲ２；Ｒ１とＲ３；
またはＲ２とＲ３のいずれかは５−、６−または７−員
の環を形成するために結合することができる）で表わさ
れるものである、酸に不安定なポリマーとから本質的に
構成される光可溶性層、（２） エラストマー層、お
よび（３） 除去可能な支持体とからなる、多層の感
光性エレメントを用意し； （Ｂ） 像を保持している原板を通じて、活性放射線
に対し前記光可溶性層を露光することにより、前記感光
性エレメント中に潜像を形成し； （Ｃ） 工程Ｂで分解した前記の光可溶性層の区域を
水系溶剤で洗うことにより除去し、これによりエラスト
マー層の区域を出現させ； （Ｄ） 前記の感光性エレメント表面に着色材を付与
し、この着色材料をエラストマー層の出現された区域に
だけ選択的に付着させることにより着色画像を作り；（
Ｅ） 転写シートとエラストマー層とからなる転写エ
レメントを準備し； （Ｆ） 前記転写エレメントのエラストマー層に対し
て、着色画像をもつ感光性エレメントの表面をラミネー
トし； （Ｇ） エラストマー層を出現させるために、前記感
光性エレメントの除去可能な支持体をとり除き；そして
（Ｈ） 前記感光性エレメントのエラストマー層を受
像体にラミネートするの各工程からなる、着色画像の作
成方法。 - 【請求項１６】 工程ＤとＥとの間に、前記エレメン
ト全体を活性放射線に対し露光し、そして水系の溶剤に
よって前記光可溶性層の残留物を除去する工程を含むも
のである、請求項１５に記載の方法。 - 【請求項１７】 ポリマーが少なくとも１つの酸に不
安定なモノマーのくり返し単位の少なくとも約５０％か
らなるものである、請求項１５に記載の方法。 - 【請求項１８】 ポリマーが１個または数個の酸に不
安定なモノマーのくり返し単位から本質的に構成される
ものである、請求項１５に記載の方法。 - 【請求項１９】 ポリマーが１個または数個のアクリ
レートおよび／またはメタアクリレートモノマーのくり
返し単位から本質的に構成されるものである、請求項１
５に記載の方法。 - 【請求項２０】 モノマーがアクリレートモノマーで
あり、酸に不安定な基が以下の各置換基：Ｒ１とＲ４と
は水素；Ｒ２はＣ１〜４のアルキル；そしてＲ３は水素
またはＣＨ３をもつものである、請求項１５に記載の方
法。 - 【請求項２１】 ポリマーがポリ（テトラハイドロピ
ラニルアクリレート）、ポリ〔１−（エトキシ）−プロ
ピルメタアクリレート〕、およびテトラハイドロピラニ
ルメタアクリレートとテトラハイドロピラニルアクリレ
ートとのコポリマー、よりなる群から選ばれるものであ
る、請求項１５に記載の方法。 - 【請求項２２】 水系溶剤は水である、請求項１５に
記載の方法。 - 【請求項２３】 工程Ａ〜Ｄが着色画像をもつ少なく
とも２つの感光性エレメントを作るためくり返され、そ
して各感光性エレメントは位置決めの下にラミネートさ
れるものである、請求項１５もしくは１６に記載の方法
。 - 【請求項２４】 ４つの感光性エレメントが４色サー
プリントプルーフを作るため位置決めのもとにラミネー
トされるものである、請求項２３に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/507,339 US5071731A (en) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | Aqueous processable photosensitive element with an elastomeric layer |
| US507339 | 1990-04-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04358154A true JPH04358154A (ja) | 1992-12-11 |
| JP2575237B2 JP2575237B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=24018259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3103410A Expired - Lifetime JP2575237B2 (ja) | 1990-04-10 | 1991-04-09 | 水処理可能な感光性エレメント |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5071731A (ja) |
| EP (1) | EP0451736B1 (ja) |
| JP (1) | JP2575237B2 (ja) |
| KR (1) | KR910018848A (ja) |
| CN (1) | CN1055609A (ja) |
| AU (1) | AU627115B2 (ja) |
| CA (1) | CA2038177A1 (ja) |
| DE (1) | DE69126729T2 (ja) |
| SG (1) | SG48136A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| WO2014017663A1 (en) * | 2012-07-27 | 2014-01-30 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, electronic device and resin |
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| US5206317A (en) * | 1990-04-10 | 1993-04-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Resist material and process for use |
| US5212047A (en) * | 1990-04-10 | 1993-05-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Resist material and process for use |
| US5225316A (en) * | 1990-11-26 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups |
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