JPH01100719A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

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JPH01100719A
JPH01100719A JP62257557A JP25755787A JPH01100719A JP H01100719 A JPH01100719 A JP H01100719A JP 62257557 A JP62257557 A JP 62257557A JP 25755787 A JP25755787 A JP 25755787A JP H01100719 A JPH01100719 A JP H01100719A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
magnetic
gap
magnetic head
accuracy
Prior art date
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Pending
Application number
JP62257557A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsutoshi Suenaga
辰敏 末永
Yasuhiro Ogawa
靖弘 小川
Yasuhiro Nakaya
安広 仲谷
Shinji Nakamura
真治 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はVTRまたは、デジタルオーディオ等の高密度
磁気記録再生装置に好適な磁気ヘッドに関する。
従来の技術 従来、VTR,デジタルオーディオ等に用いられる磁気
ヘッドにはフェライト、またはセンダスト等のバルク磁
性材料が用いられてきた。この様な材料によるヘッドの
磁気ギャップの形成は、上述の材料にトラック加工、巻
線溝加工等の形状加工を施したコア半体対を貼合わせて
形成される。
この為にはコア半体対のギャップ形成面を精度良く研磨
した後、所望の厚さのギャップ部材をスパッタ法等によ
り形成した後ガラス等を接着剤として加熱溶融して行わ
れていた。またメタル磁性粉等の高保磁力媒体を用いた
記録再生系に於ては、磁気ギャップ付近に金属磁性薄膜
を形成して記録効率を高めた複合材料からなるヘッドも
用いられているが、製造法、形状等は従来のフェライト
ヘッドと本質的に異なるものでない。
近年、高密度磁気記録の進展にともなって極めて小さな
磁気ギャップ長の磁気ヘッドが求められるようになって
きた。例えば、デジタルオーディオテープ(DAT)に
於ては、0.3μm以下が求められている。従来の貼合
わせによるギャップ形成法では、精度のよいギャップ長
を得るためには、ギャップ形成面の仕上精度は勿論のこ
と、ガラス等の異種材料との熱膨張差、加工による歪等
を原因とするコア半体の反りを小さくさせること等が必
要であり高度な研磨技術が要求される。しかしながらこ
の様の技術にも限界があり、これ以上の狭ギャップ長に
於ては、ギャップ長のばらつきのため求めるヘッド特性
が安定して得られず、その結果歩留りを低下させること
になる。
発明が解決しようとする問題点 高密度磁気記録用の磁気ヘッドに於ては狭ギャップ化、
狭トラック化が不可欠である。狭ギャップ長、狭トラツ
ク幅のヘッドに対して上に述べた従来の構造、製造法に
よるヘッドでは、磁気ギャップの形成工程が最も歩留り
を低下させる工程となっておりギャップ精度の歩留りの
低さがコストを高くする大きな原因となっている。また
、10μm以下のような狭トラツク幅のヘッドに対して
、従来の様なバルクの磁性体に機械加工でトラック幅を
規定することは精度の点で大きな問題となる。
また、本発明の構造上、他トラツクからのもれ磁束を読
み出さない構造(クロストーク現象)としなくてはなら
ない。
問題点を解決するための手段 本発明は、上記問題点について、一方の磁気回路を構成
する金属磁性薄膜の両面を非磁性材料で挟持し、前記金
属磁性薄膜の厚さがトラック幅を規制する構造であり、
巻線穴が設けられているコア半体のギャップ形成面上に
、所定の膜厚のギャップ部材、及び他方の磁気回路を構
成する金属磁性薄膜を重ねて形成する。また、高密度で
トラックが隣接することによって生じるクロストークの
現象(特に低周波領域)を溝加工と、非磁性材を充填す
ることにより解決を図ろうとするものである。
作用 ギャップ形成を、従来の貼合わせによる方法によらず、
薄膜を重ねて形成する方法よっているため、ギャップ長
精度が高く特性が安定し、またトラック幅も薄膜の厚み
により規定されるので、トラック幅の精度も極めて高く
構造上欠陥となり得るクロストークも非磁性材を充填す
ることで解決出来、結果として磁気ヘッドを歩留り良く
安価に製造できるものである。
実施例 以下本発明の一実施例について、図面を用いて説明する
実施例1 第1図は、本発明の磁気ヘッドのコアチップの構造を示
す斜視図である。金属磁性薄膜4の両面を非磁性基板9
.9゛で挟持し、前記金属磁性薄膜の厚さがトラック幅
を規制する構造であり、巻線穴6が設けられているコア
半体1のギャップ形成面上に、所定の膜厚のギャップ部
材3を挟んで重ねて形成されている金属磁性薄膜2から
成っている。また巻線溝7は、巻線穴6を残してギャッ
プ形成面側を覆うように非磁性材5により埋め込まれて
あり実質的に平面になっているコア半体のギャップ形成
面上にギャップ部材、金属磁性薄膜が重ねて形成されて
おり、金属磁性薄膜2.4の少なくとも一方には、溝加
工を行い非磁性材8(本実施例ではガラスを用いた)を
溶解充填し、保持材14をガラス等を用いて加熱圧着し
である。
第2図は、本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図
である。第2図(a)に示す非磁性基板9の表面にスパ
ッタ法等の薄膜形成法により金属磁性薄膜4(本実施例
ではCo−Nb−Zr系アモルファス合金薄膜を用いて
いる)をトラック幅に相当する厚さに形成した後裏面と
ガラス層lOを数μmの厚さに遠心分離沈降法を用いて
形成する第2図(b)、更にこの両者の基板を金属磁性
薄膜4とガラス層を突き合わせ、加熱圧着して積層ブロ
ック11を得第2図(C)、これを第2図(d)中の切
断線に沿って切断し、1本のコア半体1nを得る。第2
図(e)に於て、このコア半体1に巻線溝7mを形成す
る。更に巻線溝に巻線穴6mを残してギャップ形成面側
を覆うように非磁性材料5m(本実施例ではガラスを用
いた)を埋め込み、ギャップ形成面12を研磨し平坦に
する第2図(f)。そのギャップ形成面上に第2図(幻
に示すようにギャップ部材3としてSiO□を所定の厚
さにスパッタ法により形成(本実施例では0.25μm
)した後、重ねて金属磁性薄膜2であるアモルファス合
金薄膜(Co−Nb−Zr)をスパッタ法により形成し
て第2図(g)に示す磁気ヘッドブロック13を得る。
更に磁気ヘッドブロック13の軟磁性薄膜4の少なくと
も一方に金属磁性薄膜4と平行に溝加工15を行う第2
図(hl。更に磁気ヘッドブロック13と保持材ブロッ
ク14をガラス等を用いて加熱加圧すると同時に非磁性
材8を溶解充填し接着する第2図<11゜第2図(Jl
に示す切断面に沿って切断してヘントコアチップを得る
。この後コアチップはベース接着、巻線、前面研磨工程
を経てヘッドとして実用に供せられる。
本実施例の磁気ヘッドは、ギャップ精度が良いため歩留
りが良く安価に製造出来、かつ高周波特性に優れたもの
であった。
実施例2 実施例1で用いたCOを主成分とするアモルファス合金
薄膜の代わりに、金属磁性薄膜2.4としてFe−Al
−5tを主成分とする合金薄膜を用いて実施例1と同様
にして磁気ヘッドを作製した。得られた磁気ヘッドは実
施例1と同様良好なものであった。
実施例3 実施例1で用いたCOを主成分とするアモルファス合金
薄膜の代わりに金属磁性画llI2.4としてFe−N
iを主成分とする合金薄膜を用いて実施例1と同様にし
て磁気ヘッドを作製した。得られた磁気ヘッドは実施例
1.2と同様良好なものであった。
実施例4 実施例1で用いたCoを主成分とするアモルファス合金
薄膜の代わりに金属磁性薄膜2.4としてFe−C(8
at%)化合物薄膜を用いて実施例1と同様にして磁気
ヘッドを作製した。得られた磁気ヘッドは実施例工、2
.3と同様良好なものであった。他に金属磁性薄膜2.
4としてN(7at%) 、P (10at%)をそれ
ぞれ含む化合物薄膜を用いて作製した磁気ヘッドも上述
の実施例同様良好なものであった。
発明の効果 以上のように本発明の磁気ヘッドは、ギャップ形成をギ
ャップ部材、金属磁性薄膜の順に薄膜を積み重ねて行う
ことが出来るため従来行われてきた貼合わせ法に比較し
て著しくギャップ精度が向上したため特性が安定し、ま
たトラック幅も薄膜の厚みにより規定されるので、トラ
ック幅の精度も極めて高い。また、構造上問題となり得
るクロストークも溝加工により影響のない構造となった
このように本発明の磁気ヘッドは単純な工程であるため
歩留り良く製造することが出来、ヘッドの製造コストを
安価にすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の磁気ヘッドの構造を示す斜視図、第2
図は本発明の実施例におけるヘッドの製造方法の説明図
である。 1・・・・・・コア半体、2・・・・・・金属磁性薄膜
、3・・・・・・ギャップ部材、4・・・・・・金属磁
性薄膜、5・・・・・・非磁性材、6・・・・・・巻線
穴、7・・・・・・巻線溝、9.9”・・・・・・非磁
性基板、10・・・・・・ガラス層、11・・・・・・
積層ブロック、12・・・・・・ギャップ形成面、13
・・・・・・磁気ヘッドブロック、14・・・・・パ保
持材ブロック、15・・・・・・溝加工。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名I′−コア
千体 5..9−一井磁性材 6・−巻線穴 7−・一番線、ズ 第1図 9−m−井 Rh 性 基、 j反 +2−一・ギv”)プ形F5.rfn ロー磁気へットラロック 第 2 口 /4−一保fIf社フロック

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一方の磁気回路を構成する第一の金属磁性薄膜の
    両面を非磁性材料で挟持し、前記第一の金属磁性薄膜の
    厚さがトラック幅を規制する構造であり、巻線穴が設け
    られているコア半体のギャップ形成面上に、所定の膜厚
    のギャップ部材、及び他方の磁気回路を構成する第二の
    金属磁性薄膜を重ねて形成した後、薄膜コアの少なくと
    も一方に溝加工を行い非磁性材料を溶解充填することを
    特徴とする磁気ヘッド。
  2. (2)コア半体に設けられた巻線穴は巻線溝に前記巻線
    穴を残してギャップ形成面側を覆うように非磁性材料が
    埋め込まれて形成されていることを特徴とする特許請求
    の範囲第(1)項記載の磁気ヘッド。
  3. (3)第一または第二の金属磁性薄膜にCoを主成分と
    するアモルファス合金薄膜、またはFe−Al−Siを
    主成分とする合金薄膜、またはFe−Niを主成分とす
    る合金薄膜の何れかを用いることを特徴とする特許請求
    の範囲第(1)項又は第(2)項の何れかに記載の磁気
    ヘッド。
  4. (4)第一または第二の金属磁性薄膜がC、N、Pのう
    ち少なくとも何れか1つを含むFeを主成分とする化合
    物薄膜であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
    項又は第(2)項の何れかに記載の磁気ヘッド。
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