JPH01112042U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01112042U JPH01112042U JP595788U JP595788U JPH01112042U JP H01112042 U JPH01112042 U JP H01112042U JP 595788 U JP595788 U JP 595788U JP 595788 U JP595788 U JP 595788U JP H01112042 U JPH01112042 U JP H01112042U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- predetermined position
- wafer
- light
- resist
- light irradiation
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Description
第1図はこの考案における不要レジスト除去装
置の一実施例の主要部の概略構成を示す斜視図、
第2図a,bは第1図における導光フアイバの出
射部の詳細を示した図、第3図は半導体ウエハに
塗布されたレジストにUV光を照射する場合の斜
視図、第4図a,bは第3図の方法で露光するた
めの照射を行う状態を示す図、第5図は従来の導
光フアイバを用いて不要レジストを露光する状態
を示した部分的な断面図である。 図中、1:ウエハ、5:搬送ベルト、6:処理
ステージ、7:オリフラ部検出搬送アーム、8:
導光フアイバ、8a:出射部、10:ローダ、1
0′:アンローダ、H:スポツト光照射装置。
置の一実施例の主要部の概略構成を示す斜視図、
第2図a,bは第1図における導光フアイバの出
射部の詳細を示した図、第3図は半導体ウエハに
塗布されたレジストにUV光を照射する場合の斜
視図、第4図a,bは第3図の方法で露光するた
めの照射を行う状態を示す図、第5図は従来の導
光フアイバを用いて不要レジストを露光する状態
を示した部分的な断面図である。 図中、1:ウエハ、5:搬送ベルト、6:処理
ステージ、7:オリフラ部検出搬送アーム、8:
導光フアイバ、8a:出射部、10:ローダ、1
0′:アンローダ、H:スポツト光照射装置。
Claims (1)
- レジストが塗布された半導体のウエハを所定位
置に搬送する搬送機構と、この所定位置に搬送さ
れ位置決めされたウエハの周辺部の全面をそれぞ
れ照射するように、水銀ランプからの光を導光す
る導光フアイバの出射側が配置されるように構成
した光照射機構と、前記所定位置上のウエハまた
は光照射機構との組を相対的に回動する回動機構
とを有することを特徴とする不要レジスト除去装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP595788U JPH01112042U (ja) | 1988-01-22 | 1988-01-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP595788U JPH01112042U (ja) | 1988-01-22 | 1988-01-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01112042U true JPH01112042U (ja) | 1989-07-27 |
Family
ID=31209784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP595788U Pending JPH01112042U (ja) | 1988-01-22 | 1988-01-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01112042U (ja) |
-
1988
- 1988-01-22 JP JP595788U patent/JPH01112042U/ja active Pending
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