JPH01119385A - 写真処理廃液の処理装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
Cmm上上利用分野)
この発明は、写真用自動現像機による写真感光材料の現
像処理に伴い発生する廃液(以下、写真処理11!液な
いし廃液と略称)を蒸発処理する処理装置に係り、特に
、自動現像機内若しくは自動現像機の近傍に配置して処
理するのに適した写真処理廃液の処理装置に関する。 (発明の背景) 一般に、ハロゲン化銀写真感光材料の写真処理は、黒白
感光材料の場合には現像、定着、水洗等、カラー感光材
料の場合には発色現像、漂白定着(又は漂白、定着)、
水洗、安定化等の壜能の1つ又は2つ以上を有する処理
液を用いた工程を組合せて行なわれている。 そして、多量の感光材料を処理する写真処理においては
、処理によフて消費された成分を補充し一方、処理によ
って処理液中に溶出或いは蒸発によって濃化する成分(
例えば現像液における臭化物イオン、定着液における銀
錯塩のような)を除去して処理液成分を一定に保つこと
によフて処理液の性能を一定に維持する手段が採られて
おり、補充のために補充液が処理液に補充され、写真処
理における濃厚化成分の除去のために処理液の一部が廃
棄されている。 近年、補充液は水洗の補充液である水洗水を含めて公害
上や経済的理由から補充の量を大幅に減少させたシステ
ムに変わりつつあるが、写真処理廃液は自動現像機の処
理槽から廃液管によって導かれ、水洗水の廃液や自動現
像機の冷却水等で稀釈されて下水道等に廃棄されている
。 しかしながら、近年の公害規制の強化により、水洗水や
冷却水の下水道や河川への廃棄は可能であるが、これら
以外の写真処理液[例えば、現像液、定着液、発色現像
液、漂白定着液(又は漂白液、定着液)、安定液等]の
廃棄は、実質的に不可能となっている。このため、各写
真処理業者は廃液を専門の廃液処理業者に回収料金を払
って回収してもらったり公害処理設備を設置したりして
いる。しかしながら、廃液処理業者に委託する方法は、
廃液を貯溜しておくのにかなりのスペースが必要となる
し、またコスト的にも極めて高価であり、さらに公害処
理設備は初期投置(イニシャルコスト)が極めて大きく
、整備するのにかなり広大な場所を必要とする等の欠点
を有している。 従って、一般には廃液回収業者によって回収され、二次
及び三次処理され無害化されているが、回収費の高騰に
より廃液引籾取り価格は年々高くなるばかりでなく、ミ
ニラボ等では回収効率は悪いため、なかなか回収に来て
もらうことができず、廃液が店に充満する等の問題を生
じている。 これらの問題を解決するために写真処理廃液の処理をミ
ニラボ等でも容易に行えることを目的として、写真処理
廃液を加熱して水分を蒸発乾固ないし固化することが研
究されており、例えば、実開昭60−70841号等に
示されている。 ところで、写真処理廃液を蒸発濃縮する場合、蒸発濃縮
が進行すると沈殿物の性質が変化して、流動性のないも
のになるため、処理部からの排出が困難になる。従って
、写真処理廃液を計量して蒸発濃縮の処理時間を設定す
る等が考えられるが、計量したり、それぞれに処理容積
によって処理時間を設定する作業が面倒である。 このため、簡単に蒸発濃縮による沈殿物の性質が変化す
ることを検知する手段を種々研究したところ、蒸発濃縮
によって写真処理廃液に含有される定着液や漂白定着液
としてよく用いられる特有のイオウ系化合物、例えばチ
オ硫酸塩や亜硫酸塩の分解によって沈殿物の性質が変化
して流動性がなくなると共に、亜硫酸ガス、硫化水素ガ
スが発生することを見い出した。このため、蒸発濃縮に
よって生じるガス濃度を検出することによって、蒸発濃
縮を停止すると、取り出しが容易な沈殿物を得ることが
できる。 (発明の目的) この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであ
り、写真処理廃液の蒸発濃縮によって、発生するガス濃
度から処理を停止させ、取り出しが容易な沈殿物を得る
写真処理廃液の処理装置を提供することである。 (問題点を解決するための手段) この発明の前記の問題点を解決するために、写真処理廃
液を加熱して蒸発濃縮させる写真処理廃液の処理装置に
おいて、前記写真処理廃液の処理で発生するガス濃度を
検出するガス検出手段と、このガス検出手段から得られ
るガス濃度に基づき濃縮処理を停止する制御手段とを備
えることを特徴としている。 このように、写真処理廃液が加熱手段で加熱されて蒸発
濃縮するとき、ガス検知手段でガス濃度を検出し、制御
手段で所定のガス濃度のとき蒸発濃縮の処理を停止する
。このため、写真処理廃液の蒸発濃縮の進行によって、
沈殿物の性質が変化することが防止され、この制御はガ
ス濃度を検知することによって行なわれるため、蒸発濃
縮を停止する制御が簡単である。 また、この発明のガス検出手段は硫化水素ガス及び/又
は亜硫酸ガスを検出するセンサであることが好ましい、
即ち、特に、蒸発濃縮によりて写真処理廃液に含有され
る定着液や漂白定着液どしてよく用いられる特有のイオ
ウ系化合物、例えばチオ硫酸塩や亜硫酸塩の分解によフ
て沈殿物の性質が変化して流動性がなくなると共に、亜
硫酸ガス、硫化水素ガスが発生する。 このガスを検出するセンサとして、例えば半導体センサ
、定電位電解式センサ、隔膜ガパル式等がある、この発
明においては例えば、株式会社フジテクノシステム発行
の「化学センサ実用便槽」、経営開発センター出版部発
行の「新しいセンサの技術開発と最適な選び方・使い方
」、株式会社経営システム研究所発行の「センサ一応用
技術集大成」等に記載されるセンサが用いられる。 また、この発明のガス濃度が検出して蒸発濃縮を停止す
ると、消臭剤を噴射して臭気を消すようにすることが好
ましい。このガス濃度が検出される場所として、蒸発濃
縮が行なわれる蒸発手段の内部に限らず、冷却、凝縮手
段、液貯層タンクが設置される場所、さらにはこれらの
処理部が収納される装置本体の内部、或いは外部に設置
することもでき、この場所に前記したセンサが配置され
る。 蒸発濃縮処理を停止するための検出ガス濃度は、硫化水
素ガス及び亜流酸ガスでは、0.1〜11000ppの
範囲で設定されることが好ましく、さらに好ましくは1
〜1100ppであり、特に好ましくは2〜20ppm
である。 さらに、この臭気を消す脱臭剤、消臭剤として、例えば
株式会社東レリサーチセンター発行のr新しい脱臭剤の
開発と用途展開」に記載の脱臭剤、消臭剤及び第143
頁〜第161頁に記載の特許番号とその明細書中にある
脱臭剤、消臭剤のものが用いられる。 また、硫化水素ガスを検知するときには、蒸発手段の濃
縮液中に化合物を添加して脱臭することができる。この
化合物として、金属の水酸化物として、KO)(%Na
OH,Ca (O)i)z 、NH4OH%Mg (O
H’)t 、L i OH,その他AI、Ba、Be、
Ce、Co、Cu、Fe%Zn、の水酸化物等がある。 また、前記金属の塩として、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸
塩、ホウ酸塩、亜硫酸塩、さらにアルカリ性の他のバッ
ファー剤、有機酸塩、キレート剤のアルカリ金属塩、好
ましくはKOH,NaOH%NH40H,Fe(OH)
3.炭酸塩、亜硫酸塩、好ましくは前記化合物を水溶液
にして、ガス検出信号に基づき、ポンプを作動させ蒸発
手段に送り込む、この量は濃縮液11当り、0.1〜s
oogの範囲が好ましく、特に好ましくは1〜50gの
範囲、さらに例えばX、CO,とに2SO3と併用して
使用することも好ましい。 さらに、硫化水・素ガスを検知したときの制御として、
ガス濃度が設定値を越えると、加熱手段を停止し、脱臭
剤を放出し、写真処理廃液の補充を停止する。そして一
定時間後に冷却ファンや空気循環ポンプ等を停止させる
。この場合蒸発手段中に脱臭剤を放出した場合には、脱
臭効果を維持するため所定時間、例えば10分が経過し
たら加熱手段を停止して、以下同様に他の装置の駆動を
停止する等の処置があるが、これに限定されるものでは
ない。 この発明において写真処理廃液に接触する加熱手段は、
ニクロム線であっても良いし、カートリッジヒータ、石
英ヒータ、テフロンヒータ、棒ヒータやパネルヒータの
ように加工成型されたヒータまたはマイクロウェーブに
よる加熱であっても良い、また、写真処理廃液に導電材
料を直接接触させ、この導電材料によって写真処理廃液
中に電流を流すと共に、加熱するようにしてもよい。 この導電材料は単結晶Si、多結晶SL、Ta2 N、
Ta−5if2.Zr0z、ZrN、TiN、Cr−5
L−0,5iCSSiC−Zr、5ic−Cr、5iC
−Hf、5iC−Ti、StC−Mo、5iC−WlS
ac−Nb%5iC−Ta、S I C−La%B、B
−Mo、B−La。 B−Cr、B−Tr、B−Na、B−Ta%W。 B−W、B−V、C,C−Aロゲン、C−S t、C−
Ge、C−H,Pt、Mo、Mo−5t、MOS lx
、Cab、MgO%Y2O3、La2(CrO4)の
内から少なくとも1個の組成物を選択して構成され、触
媒作用や電流の影響等で蒸発濃縮の際に生じる臭気の発
生を抑えることができる。また、前記組成物を単に抵抗
材料として使用し、写真処理廃液に対して絶縁したヒー
タとしても好ましく、さらにセラミックヒータ等が用い
られる。 この加熱手段は全体を写真処理廃液中に浸漬するように
配置され、或いは一部を浸漬して配置され、このように
写真処理廃液の蒸発は、蒸発手段による加熱によって生
じるようになすことが、廃液処理効率(処理速度)の向
上を図ることができ好ましく、この加熱温度は120〜
130℃程度が好ましい。 この蒸発手段は、いかなる形態であってもよく、立方体
、円柱、四角柱をはじめとする多角柱、円錐、四角錐を
はじめとする多角錐やこれらのうちのいくつかを組み合
わせたものでありても良いが、加熱手段近傍と底部にお
ける写真処理廃液の温度差が大ぎくなるように縦長であ
ることが好ましく、ざらに突沸による吹き出し事故を最
大限少なくするために、蒸発手段中の廃液表面から上の
空間をで診るだけ広くした方が好ましい。 蒸発手段の材質は、耐熱性ガラス、チタン、ステンレス
、カーボンスチール、耐熱プラスチック等の耐熱性の材
買であればいかなる素材であってもよいが、安全性や耐
腐食性の点からステンレス(好ましくは5US304や
5US316、特に好ましくは5US316)やチタン
が好ましい。 蒸発手段には好ましくは120〜130℃程度に写真処
理a液を加熱する加熱手段が備えられ、これは廃液の中
に設置してもよいが、蒸発手段の外部に設けて蒸発手段
の壁を通じて蒸発手段中の廃液を加熱することも好まし
い、この加熱手段の設置位置は、蒸発手段の廃液を加熱
できる位置であれば、いずれの位置であっても良いが、
特願昭61−288328号に記載されたように、蒸発
手段中の写真処理廃液の上方部を加熱するように加熱手
段を設置し、加熱手段近傍における写真処理廃液と写真
処理廃液の底部における温度に差が生じるようにするこ
とが好ましく、この温度差が5℃以上になるように加熱
手段を設置することが、この発明の効果をより高くする
ために好ましい。 この発明は蒸発した蒸気を冷却凝縮する凝縮手段を有し
、凝縮手段にはあらゆる種類の熱交換手段を採用でき、
(1)シェルアンドチューブ型(多管型、套管型)、(
2)二重管壁、(3)コイル型、(4)らせん型、(5
)プレート型、(6)フィンチューブ型、(7)トロン
ポーン型、(8)空冷型のいずれの構成であってもよい
。 また、熱交換型リボイラー技術を用いることもでき、(
1)垂直サーそサイフオン型、(2)水平サーモサイフ
オン型、(3)溢流管束型(ケトル型)、(4)強制循
環型、(5)内挿型等を採用してもよい。 さらに、コンデンサー形式の熱交換技術を採用してもよ
く、(1)ダイレクトコンデンサー形式、(2)塔内蔵
形式、(3)塔頂部設置式、(4)分離形式等のいずれ
であってもよい。 また、クーラーを用いることも可能であり、クーラーの
形式も任意である。空冷式熱交換器の採用も有利であり
、(1)押込通風式、(2)吹込通風式のいずれであっ
てもよい。 好ましい実施態様は、この凝縮手段が蒸発した蒸気を排
出する蒸気排出管に放熱板(空冷用ファン)を設置した
放熱板装置として構成されており、この放熱板上に水を
供給する手段を有していることである。この場合、水は
、シャワー上に放熱板装置の上から放熱板上に供給され
ることが好ましい。水は、例えば、水道水の蛇口から必
要に応じてバルブや電磁弁を介して放熱板上に供給され
てもよく、この場合水を供給する手段とは、水道の蛇口
、水の供給管等を示すが、好ましくはため水で、前記し
たような種々の定量ポンプや非定量ポンプを介して放熱
板上に供給されることが好ましい、特に、好ましくは放
熱板装置の下部に設けられたため水タンクの水が、ポン
プを介して放熱板上にシャワー状に供給されて再び下部
のため水タンクにたまるという具合に、ため水が循環す
るように構成されていることである。この場合、ため水
タンクには液面レベルセンサを設置し、液面レベルが一
定以下になりた時、信号を発信すれば、ため水がなくな
ったことを知ることができ、再び水を供給するのが良い
。 凝縮手段は蒸発した蒸気を排出する蒸気排出管に放熱板
(空冷用ファン)を設置した放熱板装置として構成され
ており、この放熱板上に水を供給する手段を有している
場合、同時に空冷用の扇風機を有していることが好まし
いが、特に、この場合、空冷用の扇風機は空気が放熱板
装置を通って、この発明の蒸発濃縮処理装置外へ放出さ
れるように設置されていることが、この発明の蒸発濃縮
処理装置内の電装部での凝結を防ぐことができるため好
ましい。 蒸発した蒸気を冷却濃縮することによって得られた凝縮
液は、凝縮液を貯溜する槽(溜液タンク)中に貯溜され
るが、この溜液タンクはこの発明の蒸発濃縮装置の内部
に設置することがスペースを小さくでき好ましく、この
場合、溜液タンクは引き出し可能な架台上に設置される
ことが作業性を良くするため好ましい。 さらに、この発明の蒸発手段、加熱手段及び凝縮手段の
構成は、この出願人が先に出願した特願昭62−694
35号、同82−69438号及び同82−89437
号明細書に詳細に記載されている。 次に、この発明による処理を行うことができる写真処理
廃液の代表例については、この出願人が先に出願した特
願昭82−194615号明細書等に記載されるものが
用いられ、特に、この発明の蒸発濃縮処理装置において
は、チオ硫酸塩、亜硫酸塩、アンモニウム塩を多量に含
有する写真処理廃液の場合に有効であり、特に有機酸第
2鉄錯塩及びチオ硫酸塩を含有する場合極めて有効であ
る。 この発明の好ましい適用例としては自動現像機による写
真感光材料の現像処理に伴ない発生する写真処理廃液を
自動現像機内もしくはその近傍にて処理を行なうのに適
している。ここで、自動現像機及び写真処理廃液につい
て説明する。 自動現像機 第1図において自動現像機は符号100で指示されてお
り、図示のものはロール状の写真感光材料Fを、発色現
像槽CD、漂白定着槽BF、安定化処理槽sbに連続的
に案内して写真処理し、乾燥り後、巻き取る方式のもの
である。101は補充液タンクでありセンサ102によ
り写真感光材料Fの写真処理量を検知し、その検出情報
に従い制御装置103により各処理槽に補充液の補充が
行われる。 各写真処理槽に対し補充液の補充が行われるとオーバー
フロー廃液として処理槽から排出され、ストックタンク
104に集められる。オーバーフローした写真処理廃液
をストックタンク104に移す手段としては、案内管を
通して自然落下させるのが簡易の方法である。ポンプ等
より強制移送する場合もあり得る。 また王記した如く、各写真処理槽CD、BF、sbに写
真処理廃液中の成分に相違が有るが、この発明において
は、全ての写真処理廃液を混合し一括処理することが好
ましい。 (実施例) 第2図はこの発明の写真処理廃液の処理装置を示す概略
構成図である。− 図において符号1は蒸発手段としての蒸発釜で、直径が
大きい円柱状の上部1aと、直径が小さい円柱状の下部
tbとから構成され、下部1bには加熱手段2が配置さ
れ、さらに下方にはボールバルブ3が設けられている。 蒸発釜1には液面レベルセンサ4が設けられ、さらに蒸
発釜1の下部に配置された支持台5にはスラッジ受け6
が載置され、このスラッジ受け6は下部1bの下に設け
られ、その内部にはポリプロピレン製バッグ7が0リン
グ8によって固定されている。蒸発釜1の上部1aには
、蒸気排出管9が設けられており、この蒸気排出管9は
熱交換器10及び凝縮手段11を通って、溜液導入管1
2に接続される。 凝縮手段11では、蒸気排出管9に多数の冷却用放熱板
13が設けられ、さらに液面レベルセンサ14が設けら
れている。凝縮手段11の下部には、冷却水導入管15
が設けられ、冷却水循環ポンプ16を介して、多数の小
孔が穿設されたシャワーバイブ1フに接続している。 凝縮手段11内の空気は、空冷用扇風機18によって、
処理装置外へ放出される。溜液導入管12は、溜液タン
ク19内に接続するが、溜液導入管12の先@ 12
aは溜液タンク19の溜液面下に位置しており、バブリ
ング機構20を構成している。さらに、溜液タンク19
の上部には、活性炭を収納する活性炭カートリッジ21
が設けられている。溜液タンク19にはまた、空気導入
管22が設けられ、その先端部22aはエアーポンプ2
3を介して蒸発釜1の廃液中に導入されている。24は
廃液供給タンクで、廃液導入管25が設けられ、ベロー
ズポンプ26、熱交換器10を介して蒸発釜上部1aに
接続されている。廃液供給タンク24にはさらに液面レ
ベル計27が設けられている。 蒸発釜1の上部1aには案内管28が更に設けられ、プ
ランジャーディスク29を介して廃液供給タンク24に
接続され、この蒸発釜1の上部1aにはまた温度センサ
30が設けられている。 蒸発釜1の上部1aにはガスセンサ60、脱臭剤噴射器
61、また写真処理廃液の補充部にはガスセンサ62、
脱臭剤噴射器63、また*1M手段11にはガスセンサ
64、脱臭剤噴射器65、また装置本体の内部にもガス
センサ66、脱臭剤噴射器67、さらに装置本体の外部
にもガスセンサ68、脱臭剤噴射器69が配置されてい
る。 これらのガスセンサ60.62,64,66゜68から
の検出信号は制御手段フ0に入力され、この制御手段7
0でしれぞれでガスセンサで設定されたガス濃度が所定
以上の場合には脱臭剤wJ、勅手段71を駆動して脱臭
剤噴射器61,63,65.67.69を作動させ、さ
らに運転停止手段72を駆動して所定の処理装置の作動
を停止するようになっている。 次に、この装置を用いて加熱、蒸発処理するプロセスの
概略を説明する。 自動現像機からのオーバーフロー液量201を廃液供給
タンク24に貯溜し、溜液タンク19には活性炭を詰め
た活性炭カートリッジ21、溜液導入管12及び空気導
入管22を接続する。蒸発釜1の下部1bの下のスラッ
ジ受け6内に、ポリプロピレン製バック7を設置し、2
つの0・リング8によって、蒸発釜10下部1bに固定
し、凝縮手段11内に水を供給した後、スイッチをON
すると、エアーポンプ23が作動し、溜液タンク19内
の空気が空気導入管22を介して蒸発釜1内に導入され
、この空気は加熱手段2よりもさらに下の位置にある先
端22 aから放出される。 そして、空冷用扇風機18、冷却水循環ポンプ16の順
に作動し、ため水が冷却水導入管15を通ってシャワー
バイブ17か、凝縮手段11内に納められた蒸気排出管
9の放熱板13上に供給され、再び凝縮手段11の下部
にたまるという具合に循環する。 ベローズポンプ26が作動し、廃液供給タンク24内の
廃液が廃液導入管25を通って、熱交換手段10を通過
した後、蒸発釜i内に送られる。 蒸発釜1中の廃液量が増加し、液面レベルセンサ4によ
って液面が例えば3秒間以上検知されると、ベローズポ
ンプ28の作動が停止し、同時に加熱手段2にスイッチ
が入り、加熱蒸発が開始される。 加熱蒸発によって蒸発濃縮されるが、供給管70がら空
気が導入され、この攪拌で加熱手段2から蒸気泡が早期
に離脱して、泡が細いため加熱分解が軽減され、蒸発濃
縮により発生する蒸気中に存在する臭気ガスを大幅に低
下させることができ、濃縮が進行しても硫化水素、イオ
ウ系の臭気の発生を軽減する。この処理によって、蒸発
釜1中の廃液の液量が減少し、液面レベルが低下し、液
面レベルセンサ4によって液面が3秒間以上検知されな
くなると、再びベローズポンプ26のスイッチが入り、
廃液供給タンク24内の廃液が蒸発釜1中に供給される
という動作が繰り返される。蒸発釜1から蒸発した蒸気
は、蒸気排出管9を通り、この蒸気が熱交換器10内で
廃液と熱交t^した後、a縮手段11を通過すると、そ
の一部が凝縮されて凝縮液となる。この凝縮液は蒸気中
の残りの気体と共に溜液導入管12を通り、溜液タンク
19内に送られ、溜液面下の先端12aから放出され、
凝縮水は溜液タンク19内に貯溜される。このとき、溜
液面下から放出された気体が溜液の中を上昇することで
バブリングが行なわれ、このバブルングによって溜液中
に溶融する硫化水素等の気体が液外に追い出され、この
気体はエアーポンプ23の作動で、空気導入管22を介
して溜液タンク19から蒸発釜i内の下部に位置する写
真処理廃液中に戻される。 なお、この溜液タンク19は活性炭を詰めた活性炭カー
トリッジ21を介して大気と連通しており、臭気を大気
に放出することを防止している。 そして、廃液供給タンク24内の廃液がなくなったこと
が、液面レベルセンサ2フによって検知されると、ベロ
ーズポンプ26の作動が停止し、加熱手段2のスイッチ
がOFFとなり、2時間後に冷却水循環ポンプ16、空
冷用扇風機18が停止し、ランプが点灯するとともに、
ブザーが鴫って蒸発濃縮処理が完了したことを知らせる
とともに、エアーポンプ23が停止する。ここで、ボー
ルパル3を開けて、蒸発釜1中のスラッジをポリプロピ
レン製バッグ7中に落下させた後、0リング8を外して
取り出す。 なお、蒸発濃縮過程中で、凝縮手段11中のため水がな
くなったことが、液面レベルセンサ14によって検知さ
れると、ランプが点灯するとともにブザーが喝って、た
め水がなくなったことを知らせる。 また、蒸発濃縮過程中で、何らかの理由で蒸発釜1中の
液面が異常に低下し、空だきによフて蒸発釜1中の温度
が120℃に上昇したことを、温度センサ30が検知す
ると、ランプが点灯し、警告ブザーが鳴るとともに、加
熱手段2のスイッチがOFFになり以後、前記したよう
な一連の動作によって蒸発濃縮処理が中断する。 さらに第2図に一点鎖線で示すように装置本体の内部や
外部に消臭M73.74を設けることもでき、この配置
場所は限定されず適宜必要な場所に配置できる。 [実験例1] MPS処理システムペーパー用自動現像機RP−800
(コニカ株式会社製)を使用し、市販のカラー写真用ペ
ーパー(コニカ株式会社製)を絵焼き後、次の処理工程
と処理液を使用して連続処理を行なった。 基準処理工程 (1)発色現像 40℃ 3分(2)漂白定
着 38℃ 1分30秒(3)安定化処理
25℃〜35℃ 3分(4)乾燥 75℃〜1
00℃ 約2分処理液組成 [発色現像タンク液] エチレングリコール 15ml2亜硫酸
カリウム 2.0g臭化カリウム
1.3g塩化ナトリウム
0.2g炭酸カリウム
24.0g3−メチル−4−アミノ−N−エチ
ル −N−(β−メタンスルホンアミドエチル)アニリン硫
酸塩 5.5g蛍光増白剤(4,4
°−ジアミノスチルベンジスルホン酸誘導体)
1.0gヒドロキシルアミン硫酸塩 3
.0g1−ヒドロキシエチリンデンー1.1−ニホスホ
ン酸 0.4gヒドロキシエチル
イミノジ酢酸 5.0g塩化マグネシウム・6水塩
0.7g1.2−ジヒドロキシベンゼン−3
,5−ジスルホン酸−二ナトリウム塩 0.2g水を
加えて11とし、水酸化カリウムと硫酸でpH10,2
0とする。 [発色現像補充液] エチレングリコール 20ml1亜硫酸
カリウム 3.0g炭酸カリウム
24.0gヒドロキシアミン硫酸
塩 4.0g3−メチル−4−アミノ−N−
エチル −N−(β−メタンスルホナミドエチル)アニリン硫酸
塩 7.5g蛍光増白剤(4,4
°−ジアミノスチルベンジスルホンal!誘導体)
2.5g1−ヒドロキシエチリンデンー1.
1−ニホスホン酸 0.5gヒド
ロキシエチルイミノジ酢酸 5.0g塩化マグニシ
ウム・6水塩 0.8g1.2−ジヒドロキシ
ベンゼン−3,5−ジスルホン酸−二ナトリウム塩
0.3g水を加えて11とし、水酸化カリウムと硫酸で
pH10,70とする。 [漂白定着タンク液] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩 60.0gエチレン
ジアミンテトラ酢酸 3.0gチオ硫酸アンモニ
ウム (70%溶液) 100.mf亜硫
酸アンモニウム (40%溶液) 27.5ni水を加
えて全量なtfLとし、炭酸カリウムまたは氷酢酸でp
H7,1に調整する。 [漂白定着補充液A] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩 260.0g炭酸カリ
ウム 42.0g水を加えて全量
141とする。 この溶液のpHは酢酸又はアンモニア水を用いて6.7
±0.1とする。 [漂白定着補充液B] チオ硫酸アンモニウム 250.OmJL(70
%溶液) 亜硫酸アンモニウム 25.OmJL(40
%溶液) エチレンジアミンテトラ酢酸 17.0g氷酢酸
85.OmJL水を加えて全量
IJ2とする。 この溶液はpHは酢酸又はアンモニア水を用いて5.3
±0.1である。 [水洗代替安定タンク液及び補充液] エチレングリコール 1.0g2−メチ
ル−4−イソチアゾリン−3−オン
0.20g1−ヒドロキシエチリデン−1,
1 −ニホスホン酸(60%水溶液 1.0gアンモニ
ア水(水酸化アンモニウム 25%水溶液) 2.0g水で1
λとし、50%硫酸でpH7,0とする。 自動現像機に上記の発色現像タンク液、漂白定着タンク
液及び安定タンク液を溝たし、前記市販のカラー写真ベ
ーパー試料を処理しながら、上記した発色現像補充液と
漂白定着補充液A、Bと安定補充液をベローズポンプを
通じて補充しながらランニングテストを行った。補充量
はカラーベーパー1−当りそれぞれ発色現像タンクへの
補充量として190mA、漂白定着タンクへの補充量と
して漂白定着補充液A、B各々50 m j! s安定
化槽への補充量として水洗代替安定補充液を250mj
l補充した。なお、自動現像機の安定化槽は試料の流れ
の方向に第1槽〜第3槽となる安定槽とし、最終槽から
補充を行ない、最終槽からのオーバーフロー液をその前
段の檜へ流入させ、さらにこのオーバーフロー液をまた
その前段の檜に流入させる多槽向流方式とした。 水洗代替安定液の総補充量が安定タンク容量の3倍とな
るまで連続処理を行った。 また、カラーネガフィルム GX−100(コニカ株式
会社製)をそれぞれ常法により、露光をした後、ネガフ
ィルムプロセッサーNFS−FP34(コニカ株式会社
製)を改造した自動現像機を用い、下記の現像処理条件
で連続的に処理を行なった。 無水洗安定(第2槽)から無水洗安定(第1槽)へは、
カウンターカレント方式(2段向流)とし、漂白定着に
ついても同様に漂白定着(第2槽)から漂白定着(第1
槽)へのカウンターカレント方式した。 なお、多槽の前槽からの処理液の持込量は0゜8mf/
dm2であった。 以下に、タンク液と各補充液の処方を示す0発発色現像
タンク液; 炭酸カリウム 30g亜硫酸
ナトリウム 2.0gヒドロキシル
アミン硫酸塩 2.0g1−ヒドロキシエチ
リデン −1,1−ジホスホン酸(60%水溶液)1.0g ヒドロキシエチルイミノニ酢酸 3.0g塩化マ
グネシウム 0.3g臭化カリウム
1.2g水酸化ナトリウム
3.4gN−エチレン−N−β−
ヒドロキシエチル−3−メチル−4−アミノアニリン塩
酸塩4.6g 水を加えてIJ2とし、水酸化ナトリウムでpH10,
1に調整した。 発色現像補充液; 炭酸カリウム 40g亜硫酸
ナトリウム 3.0gヒドロキシルア
ミン硫酸塩 3.0gジエチレントリアミン五
酢酸 3.0g臭化カリウム
0,9g水酸化ナトリウム 3
.4gN−エチレン−N−β−ヒドロキシエチル−3−
メチル−4−アミノアニリン塩酸塩5.6g 水を加えてifとし、水酸化ナトリウムでpH10,1
に調整した。 漂白定着タンク液及び補充液; ジエチレントリアミン五酢酸 第二鉄アンモニウム塩 0.5モルヒドロ
キシエチルイミノニ酢酸 20gチオ硫酸アンモ
ニウム(70% wt/V(IQ)50mA 亜硫酸アンモニウム 15g2−アミ
ノ−5−メルカプト− 1,3,4−チアジアゾニル 1.0gアンモ
ニア水(28%) 2otnx水で11
とし、酢酸とアンモニア水でpH7,6に調整した。 無水洗安定タンク液及び補充液; 5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オ
ン 0.01g2−メチル−4
−イソチアゾリン−3−オンエチレングリコール ジエチレントリアミン五酢酸第二鉄アンモニウム塩 水で11に仕上げ、アンモニウムと硫酸でpH10,0
に調整する。 安定タンク液及び補充液; ホルマリン(37%水溶液) コニダックス(コニカ株式会社製) 水を加えて11に仕上げる。 発色現像液の槽補充量が発色現像液タンク容量の3倍と
なるまで連続処理を行なった。 前記カラーネガフィルムとカラーペーパーの廃液を1対
1の割合で混合して使用した。
像処理に伴い発生する廃液(以下、写真処理11!液な
いし廃液と略称)を蒸発処理する処理装置に係り、特に
、自動現像機内若しくは自動現像機の近傍に配置して処
理するのに適した写真処理廃液の処理装置に関する。 (発明の背景) 一般に、ハロゲン化銀写真感光材料の写真処理は、黒白
感光材料の場合には現像、定着、水洗等、カラー感光材
料の場合には発色現像、漂白定着(又は漂白、定着)、
水洗、安定化等の壜能の1つ又は2つ以上を有する処理
液を用いた工程を組合せて行なわれている。 そして、多量の感光材料を処理する写真処理においては
、処理によフて消費された成分を補充し一方、処理によ
って処理液中に溶出或いは蒸発によって濃化する成分(
例えば現像液における臭化物イオン、定着液における銀
錯塩のような)を除去して処理液成分を一定に保つこと
によフて処理液の性能を一定に維持する手段が採られて
おり、補充のために補充液が処理液に補充され、写真処
理における濃厚化成分の除去のために処理液の一部が廃
棄されている。 近年、補充液は水洗の補充液である水洗水を含めて公害
上や経済的理由から補充の量を大幅に減少させたシステ
ムに変わりつつあるが、写真処理廃液は自動現像機の処
理槽から廃液管によって導かれ、水洗水の廃液や自動現
像機の冷却水等で稀釈されて下水道等に廃棄されている
。 しかしながら、近年の公害規制の強化により、水洗水や
冷却水の下水道や河川への廃棄は可能であるが、これら
以外の写真処理液[例えば、現像液、定着液、発色現像
液、漂白定着液(又は漂白液、定着液)、安定液等]の
廃棄は、実質的に不可能となっている。このため、各写
真処理業者は廃液を専門の廃液処理業者に回収料金を払
って回収してもらったり公害処理設備を設置したりして
いる。しかしながら、廃液処理業者に委託する方法は、
廃液を貯溜しておくのにかなりのスペースが必要となる
し、またコスト的にも極めて高価であり、さらに公害処
理設備は初期投置(イニシャルコスト)が極めて大きく
、整備するのにかなり広大な場所を必要とする等の欠点
を有している。 従って、一般には廃液回収業者によって回収され、二次
及び三次処理され無害化されているが、回収費の高騰に
より廃液引籾取り価格は年々高くなるばかりでなく、ミ
ニラボ等では回収効率は悪いため、なかなか回収に来て
もらうことができず、廃液が店に充満する等の問題を生
じている。 これらの問題を解決するために写真処理廃液の処理をミ
ニラボ等でも容易に行えることを目的として、写真処理
廃液を加熱して水分を蒸発乾固ないし固化することが研
究されており、例えば、実開昭60−70841号等に
示されている。 ところで、写真処理廃液を蒸発濃縮する場合、蒸発濃縮
が進行すると沈殿物の性質が変化して、流動性のないも
のになるため、処理部からの排出が困難になる。従って
、写真処理廃液を計量して蒸発濃縮の処理時間を設定す
る等が考えられるが、計量したり、それぞれに処理容積
によって処理時間を設定する作業が面倒である。 このため、簡単に蒸発濃縮による沈殿物の性質が変化す
ることを検知する手段を種々研究したところ、蒸発濃縮
によって写真処理廃液に含有される定着液や漂白定着液
としてよく用いられる特有のイオウ系化合物、例えばチ
オ硫酸塩や亜硫酸塩の分解によって沈殿物の性質が変化
して流動性がなくなると共に、亜硫酸ガス、硫化水素ガ
スが発生することを見い出した。このため、蒸発濃縮に
よって生じるガス濃度を検出することによって、蒸発濃
縮を停止すると、取り出しが容易な沈殿物を得ることが
できる。 (発明の目的) この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであ
り、写真処理廃液の蒸発濃縮によって、発生するガス濃
度から処理を停止させ、取り出しが容易な沈殿物を得る
写真処理廃液の処理装置を提供することである。 (問題点を解決するための手段) この発明の前記の問題点を解決するために、写真処理廃
液を加熱して蒸発濃縮させる写真処理廃液の処理装置に
おいて、前記写真処理廃液の処理で発生するガス濃度を
検出するガス検出手段と、このガス検出手段から得られ
るガス濃度に基づき濃縮処理を停止する制御手段とを備
えることを特徴としている。 このように、写真処理廃液が加熱手段で加熱されて蒸発
濃縮するとき、ガス検知手段でガス濃度を検出し、制御
手段で所定のガス濃度のとき蒸発濃縮の処理を停止する
。このため、写真処理廃液の蒸発濃縮の進行によって、
沈殿物の性質が変化することが防止され、この制御はガ
ス濃度を検知することによって行なわれるため、蒸発濃
縮を停止する制御が簡単である。 また、この発明のガス検出手段は硫化水素ガス及び/又
は亜硫酸ガスを検出するセンサであることが好ましい、
即ち、特に、蒸発濃縮によりて写真処理廃液に含有され
る定着液や漂白定着液どしてよく用いられる特有のイオ
ウ系化合物、例えばチオ硫酸塩や亜硫酸塩の分解によフ
て沈殿物の性質が変化して流動性がなくなると共に、亜
硫酸ガス、硫化水素ガスが発生する。 このガスを検出するセンサとして、例えば半導体センサ
、定電位電解式センサ、隔膜ガパル式等がある、この発
明においては例えば、株式会社フジテクノシステム発行
の「化学センサ実用便槽」、経営開発センター出版部発
行の「新しいセンサの技術開発と最適な選び方・使い方
」、株式会社経営システム研究所発行の「センサ一応用
技術集大成」等に記載されるセンサが用いられる。 また、この発明のガス濃度が検出して蒸発濃縮を停止す
ると、消臭剤を噴射して臭気を消すようにすることが好
ましい。このガス濃度が検出される場所として、蒸発濃
縮が行なわれる蒸発手段の内部に限らず、冷却、凝縮手
段、液貯層タンクが設置される場所、さらにはこれらの
処理部が収納される装置本体の内部、或いは外部に設置
することもでき、この場所に前記したセンサが配置され
る。 蒸発濃縮処理を停止するための検出ガス濃度は、硫化水
素ガス及び亜流酸ガスでは、0.1〜11000ppの
範囲で設定されることが好ましく、さらに好ましくは1
〜1100ppであり、特に好ましくは2〜20ppm
である。 さらに、この臭気を消す脱臭剤、消臭剤として、例えば
株式会社東レリサーチセンター発行のr新しい脱臭剤の
開発と用途展開」に記載の脱臭剤、消臭剤及び第143
頁〜第161頁に記載の特許番号とその明細書中にある
脱臭剤、消臭剤のものが用いられる。 また、硫化水素ガスを検知するときには、蒸発手段の濃
縮液中に化合物を添加して脱臭することができる。この
化合物として、金属の水酸化物として、KO)(%Na
OH,Ca (O)i)z 、NH4OH%Mg (O
H’)t 、L i OH,その他AI、Ba、Be、
Ce、Co、Cu、Fe%Zn、の水酸化物等がある。 また、前記金属の塩として、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸
塩、ホウ酸塩、亜硫酸塩、さらにアルカリ性の他のバッ
ファー剤、有機酸塩、キレート剤のアルカリ金属塩、好
ましくはKOH,NaOH%NH40H,Fe(OH)
3.炭酸塩、亜硫酸塩、好ましくは前記化合物を水溶液
にして、ガス検出信号に基づき、ポンプを作動させ蒸発
手段に送り込む、この量は濃縮液11当り、0.1〜s
oogの範囲が好ましく、特に好ましくは1〜50gの
範囲、さらに例えばX、CO,とに2SO3と併用して
使用することも好ましい。 さらに、硫化水・素ガスを検知したときの制御として、
ガス濃度が設定値を越えると、加熱手段を停止し、脱臭
剤を放出し、写真処理廃液の補充を停止する。そして一
定時間後に冷却ファンや空気循環ポンプ等を停止させる
。この場合蒸発手段中に脱臭剤を放出した場合には、脱
臭効果を維持するため所定時間、例えば10分が経過し
たら加熱手段を停止して、以下同様に他の装置の駆動を
停止する等の処置があるが、これに限定されるものでは
ない。 この発明において写真処理廃液に接触する加熱手段は、
ニクロム線であっても良いし、カートリッジヒータ、石
英ヒータ、テフロンヒータ、棒ヒータやパネルヒータの
ように加工成型されたヒータまたはマイクロウェーブに
よる加熱であっても良い、また、写真処理廃液に導電材
料を直接接触させ、この導電材料によって写真処理廃液
中に電流を流すと共に、加熱するようにしてもよい。 この導電材料は単結晶Si、多結晶SL、Ta2 N、
Ta−5if2.Zr0z、ZrN、TiN、Cr−5
L−0,5iCSSiC−Zr、5ic−Cr、5iC
−Hf、5iC−Ti、StC−Mo、5iC−WlS
ac−Nb%5iC−Ta、S I C−La%B、B
−Mo、B−La。 B−Cr、B−Tr、B−Na、B−Ta%W。 B−W、B−V、C,C−Aロゲン、C−S t、C−
Ge、C−H,Pt、Mo、Mo−5t、MOS lx
、Cab、MgO%Y2O3、La2(CrO4)の
内から少なくとも1個の組成物を選択して構成され、触
媒作用や電流の影響等で蒸発濃縮の際に生じる臭気の発
生を抑えることができる。また、前記組成物を単に抵抗
材料として使用し、写真処理廃液に対して絶縁したヒー
タとしても好ましく、さらにセラミックヒータ等が用い
られる。 この加熱手段は全体を写真処理廃液中に浸漬するように
配置され、或いは一部を浸漬して配置され、このように
写真処理廃液の蒸発は、蒸発手段による加熱によって生
じるようになすことが、廃液処理効率(処理速度)の向
上を図ることができ好ましく、この加熱温度は120〜
130℃程度が好ましい。 この蒸発手段は、いかなる形態であってもよく、立方体
、円柱、四角柱をはじめとする多角柱、円錐、四角錐を
はじめとする多角錐やこれらのうちのいくつかを組み合
わせたものでありても良いが、加熱手段近傍と底部にお
ける写真処理廃液の温度差が大ぎくなるように縦長であ
ることが好ましく、ざらに突沸による吹き出し事故を最
大限少なくするために、蒸発手段中の廃液表面から上の
空間をで診るだけ広くした方が好ましい。 蒸発手段の材質は、耐熱性ガラス、チタン、ステンレス
、カーボンスチール、耐熱プラスチック等の耐熱性の材
買であればいかなる素材であってもよいが、安全性や耐
腐食性の点からステンレス(好ましくは5US304や
5US316、特に好ましくは5US316)やチタン
が好ましい。 蒸発手段には好ましくは120〜130℃程度に写真処
理a液を加熱する加熱手段が備えられ、これは廃液の中
に設置してもよいが、蒸発手段の外部に設けて蒸発手段
の壁を通じて蒸発手段中の廃液を加熱することも好まし
い、この加熱手段の設置位置は、蒸発手段の廃液を加熱
できる位置であれば、いずれの位置であっても良いが、
特願昭61−288328号に記載されたように、蒸発
手段中の写真処理廃液の上方部を加熱するように加熱手
段を設置し、加熱手段近傍における写真処理廃液と写真
処理廃液の底部における温度に差が生じるようにするこ
とが好ましく、この温度差が5℃以上になるように加熱
手段を設置することが、この発明の効果をより高くする
ために好ましい。 この発明は蒸発した蒸気を冷却凝縮する凝縮手段を有し
、凝縮手段にはあらゆる種類の熱交換手段を採用でき、
(1)シェルアンドチューブ型(多管型、套管型)、(
2)二重管壁、(3)コイル型、(4)らせん型、(5
)プレート型、(6)フィンチューブ型、(7)トロン
ポーン型、(8)空冷型のいずれの構成であってもよい
。 また、熱交換型リボイラー技術を用いることもでき、(
1)垂直サーそサイフオン型、(2)水平サーモサイフ
オン型、(3)溢流管束型(ケトル型)、(4)強制循
環型、(5)内挿型等を採用してもよい。 さらに、コンデンサー形式の熱交換技術を採用してもよ
く、(1)ダイレクトコンデンサー形式、(2)塔内蔵
形式、(3)塔頂部設置式、(4)分離形式等のいずれ
であってもよい。 また、クーラーを用いることも可能であり、クーラーの
形式も任意である。空冷式熱交換器の採用も有利であり
、(1)押込通風式、(2)吹込通風式のいずれであっ
てもよい。 好ましい実施態様は、この凝縮手段が蒸発した蒸気を排
出する蒸気排出管に放熱板(空冷用ファン)を設置した
放熱板装置として構成されており、この放熱板上に水を
供給する手段を有していることである。この場合、水は
、シャワー上に放熱板装置の上から放熱板上に供給され
ることが好ましい。水は、例えば、水道水の蛇口から必
要に応じてバルブや電磁弁を介して放熱板上に供給され
てもよく、この場合水を供給する手段とは、水道の蛇口
、水の供給管等を示すが、好ましくはため水で、前記し
たような種々の定量ポンプや非定量ポンプを介して放熱
板上に供給されることが好ましい、特に、好ましくは放
熱板装置の下部に設けられたため水タンクの水が、ポン
プを介して放熱板上にシャワー状に供給されて再び下部
のため水タンクにたまるという具合に、ため水が循環す
るように構成されていることである。この場合、ため水
タンクには液面レベルセンサを設置し、液面レベルが一
定以下になりた時、信号を発信すれば、ため水がなくな
ったことを知ることができ、再び水を供給するのが良い
。 凝縮手段は蒸発した蒸気を排出する蒸気排出管に放熱板
(空冷用ファン)を設置した放熱板装置として構成され
ており、この放熱板上に水を供給する手段を有している
場合、同時に空冷用の扇風機を有していることが好まし
いが、特に、この場合、空冷用の扇風機は空気が放熱板
装置を通って、この発明の蒸発濃縮処理装置外へ放出さ
れるように設置されていることが、この発明の蒸発濃縮
処理装置内の電装部での凝結を防ぐことができるため好
ましい。 蒸発した蒸気を冷却濃縮することによって得られた凝縮
液は、凝縮液を貯溜する槽(溜液タンク)中に貯溜され
るが、この溜液タンクはこの発明の蒸発濃縮装置の内部
に設置することがスペースを小さくでき好ましく、この
場合、溜液タンクは引き出し可能な架台上に設置される
ことが作業性を良くするため好ましい。 さらに、この発明の蒸発手段、加熱手段及び凝縮手段の
構成は、この出願人が先に出願した特願昭62−694
35号、同82−69438号及び同82−89437
号明細書に詳細に記載されている。 次に、この発明による処理を行うことができる写真処理
廃液の代表例については、この出願人が先に出願した特
願昭82−194615号明細書等に記載されるものが
用いられ、特に、この発明の蒸発濃縮処理装置において
は、チオ硫酸塩、亜硫酸塩、アンモニウム塩を多量に含
有する写真処理廃液の場合に有効であり、特に有機酸第
2鉄錯塩及びチオ硫酸塩を含有する場合極めて有効であ
る。 この発明の好ましい適用例としては自動現像機による写
真感光材料の現像処理に伴ない発生する写真処理廃液を
自動現像機内もしくはその近傍にて処理を行なうのに適
している。ここで、自動現像機及び写真処理廃液につい
て説明する。 自動現像機 第1図において自動現像機は符号100で指示されてお
り、図示のものはロール状の写真感光材料Fを、発色現
像槽CD、漂白定着槽BF、安定化処理槽sbに連続的
に案内して写真処理し、乾燥り後、巻き取る方式のもの
である。101は補充液タンクでありセンサ102によ
り写真感光材料Fの写真処理量を検知し、その検出情報
に従い制御装置103により各処理槽に補充液の補充が
行われる。 各写真処理槽に対し補充液の補充が行われるとオーバー
フロー廃液として処理槽から排出され、ストックタンク
104に集められる。オーバーフローした写真処理廃液
をストックタンク104に移す手段としては、案内管を
通して自然落下させるのが簡易の方法である。ポンプ等
より強制移送する場合もあり得る。 また王記した如く、各写真処理槽CD、BF、sbに写
真処理廃液中の成分に相違が有るが、この発明において
は、全ての写真処理廃液を混合し一括処理することが好
ましい。 (実施例) 第2図はこの発明の写真処理廃液の処理装置を示す概略
構成図である。− 図において符号1は蒸発手段としての蒸発釜で、直径が
大きい円柱状の上部1aと、直径が小さい円柱状の下部
tbとから構成され、下部1bには加熱手段2が配置さ
れ、さらに下方にはボールバルブ3が設けられている。 蒸発釜1には液面レベルセンサ4が設けられ、さらに蒸
発釜1の下部に配置された支持台5にはスラッジ受け6
が載置され、このスラッジ受け6は下部1bの下に設け
られ、その内部にはポリプロピレン製バッグ7が0リン
グ8によって固定されている。蒸発釜1の上部1aには
、蒸気排出管9が設けられており、この蒸気排出管9は
熱交換器10及び凝縮手段11を通って、溜液導入管1
2に接続される。 凝縮手段11では、蒸気排出管9に多数の冷却用放熱板
13が設けられ、さらに液面レベルセンサ14が設けら
れている。凝縮手段11の下部には、冷却水導入管15
が設けられ、冷却水循環ポンプ16を介して、多数の小
孔が穿設されたシャワーバイブ1フに接続している。 凝縮手段11内の空気は、空冷用扇風機18によって、
処理装置外へ放出される。溜液導入管12は、溜液タン
ク19内に接続するが、溜液導入管12の先@ 12
aは溜液タンク19の溜液面下に位置しており、バブリ
ング機構20を構成している。さらに、溜液タンク19
の上部には、活性炭を収納する活性炭カートリッジ21
が設けられている。溜液タンク19にはまた、空気導入
管22が設けられ、その先端部22aはエアーポンプ2
3を介して蒸発釜1の廃液中に導入されている。24は
廃液供給タンクで、廃液導入管25が設けられ、ベロー
ズポンプ26、熱交換器10を介して蒸発釜上部1aに
接続されている。廃液供給タンク24にはさらに液面レ
ベル計27が設けられている。 蒸発釜1の上部1aには案内管28が更に設けられ、プ
ランジャーディスク29を介して廃液供給タンク24に
接続され、この蒸発釜1の上部1aにはまた温度センサ
30が設けられている。 蒸発釜1の上部1aにはガスセンサ60、脱臭剤噴射器
61、また写真処理廃液の補充部にはガスセンサ62、
脱臭剤噴射器63、また*1M手段11にはガスセンサ
64、脱臭剤噴射器65、また装置本体の内部にもガス
センサ66、脱臭剤噴射器67、さらに装置本体の外部
にもガスセンサ68、脱臭剤噴射器69が配置されてい
る。 これらのガスセンサ60.62,64,66゜68から
の検出信号は制御手段フ0に入力され、この制御手段7
0でしれぞれでガスセンサで設定されたガス濃度が所定
以上の場合には脱臭剤wJ、勅手段71を駆動して脱臭
剤噴射器61,63,65.67.69を作動させ、さ
らに運転停止手段72を駆動して所定の処理装置の作動
を停止するようになっている。 次に、この装置を用いて加熱、蒸発処理するプロセスの
概略を説明する。 自動現像機からのオーバーフロー液量201を廃液供給
タンク24に貯溜し、溜液タンク19には活性炭を詰め
た活性炭カートリッジ21、溜液導入管12及び空気導
入管22を接続する。蒸発釜1の下部1bの下のスラッ
ジ受け6内に、ポリプロピレン製バック7を設置し、2
つの0・リング8によって、蒸発釜10下部1bに固定
し、凝縮手段11内に水を供給した後、スイッチをON
すると、エアーポンプ23が作動し、溜液タンク19内
の空気が空気導入管22を介して蒸発釜1内に導入され
、この空気は加熱手段2よりもさらに下の位置にある先
端22 aから放出される。 そして、空冷用扇風機18、冷却水循環ポンプ16の順
に作動し、ため水が冷却水導入管15を通ってシャワー
バイブ17か、凝縮手段11内に納められた蒸気排出管
9の放熱板13上に供給され、再び凝縮手段11の下部
にたまるという具合に循環する。 ベローズポンプ26が作動し、廃液供給タンク24内の
廃液が廃液導入管25を通って、熱交換手段10を通過
した後、蒸発釜i内に送られる。 蒸発釜1中の廃液量が増加し、液面レベルセンサ4によ
って液面が例えば3秒間以上検知されると、ベローズポ
ンプ28の作動が停止し、同時に加熱手段2にスイッチ
が入り、加熱蒸発が開始される。 加熱蒸発によって蒸発濃縮されるが、供給管70がら空
気が導入され、この攪拌で加熱手段2から蒸気泡が早期
に離脱して、泡が細いため加熱分解が軽減され、蒸発濃
縮により発生する蒸気中に存在する臭気ガスを大幅に低
下させることができ、濃縮が進行しても硫化水素、イオ
ウ系の臭気の発生を軽減する。この処理によって、蒸発
釜1中の廃液の液量が減少し、液面レベルが低下し、液
面レベルセンサ4によって液面が3秒間以上検知されな
くなると、再びベローズポンプ26のスイッチが入り、
廃液供給タンク24内の廃液が蒸発釜1中に供給される
という動作が繰り返される。蒸発釜1から蒸発した蒸気
は、蒸気排出管9を通り、この蒸気が熱交換器10内で
廃液と熱交t^した後、a縮手段11を通過すると、そ
の一部が凝縮されて凝縮液となる。この凝縮液は蒸気中
の残りの気体と共に溜液導入管12を通り、溜液タンク
19内に送られ、溜液面下の先端12aから放出され、
凝縮水は溜液タンク19内に貯溜される。このとき、溜
液面下から放出された気体が溜液の中を上昇することで
バブリングが行なわれ、このバブルングによって溜液中
に溶融する硫化水素等の気体が液外に追い出され、この
気体はエアーポンプ23の作動で、空気導入管22を介
して溜液タンク19から蒸発釜i内の下部に位置する写
真処理廃液中に戻される。 なお、この溜液タンク19は活性炭を詰めた活性炭カー
トリッジ21を介して大気と連通しており、臭気を大気
に放出することを防止している。 そして、廃液供給タンク24内の廃液がなくなったこと
が、液面レベルセンサ2フによって検知されると、ベロ
ーズポンプ26の作動が停止し、加熱手段2のスイッチ
がOFFとなり、2時間後に冷却水循環ポンプ16、空
冷用扇風機18が停止し、ランプが点灯するとともに、
ブザーが鴫って蒸発濃縮処理が完了したことを知らせる
とともに、エアーポンプ23が停止する。ここで、ボー
ルパル3を開けて、蒸発釜1中のスラッジをポリプロピ
レン製バッグ7中に落下させた後、0リング8を外して
取り出す。 なお、蒸発濃縮過程中で、凝縮手段11中のため水がな
くなったことが、液面レベルセンサ14によって検知さ
れると、ランプが点灯するとともにブザーが喝って、た
め水がなくなったことを知らせる。 また、蒸発濃縮過程中で、何らかの理由で蒸発釜1中の
液面が異常に低下し、空だきによフて蒸発釜1中の温度
が120℃に上昇したことを、温度センサ30が検知す
ると、ランプが点灯し、警告ブザーが鳴るとともに、加
熱手段2のスイッチがOFFになり以後、前記したよう
な一連の動作によって蒸発濃縮処理が中断する。 さらに第2図に一点鎖線で示すように装置本体の内部や
外部に消臭M73.74を設けることもでき、この配置
場所は限定されず適宜必要な場所に配置できる。 [実験例1] MPS処理システムペーパー用自動現像機RP−800
(コニカ株式会社製)を使用し、市販のカラー写真用ペ
ーパー(コニカ株式会社製)を絵焼き後、次の処理工程
と処理液を使用して連続処理を行なった。 基準処理工程 (1)発色現像 40℃ 3分(2)漂白定
着 38℃ 1分30秒(3)安定化処理
25℃〜35℃ 3分(4)乾燥 75℃〜1
00℃ 約2分処理液組成 [発色現像タンク液] エチレングリコール 15ml2亜硫酸
カリウム 2.0g臭化カリウム
1.3g塩化ナトリウム
0.2g炭酸カリウム
24.0g3−メチル−4−アミノ−N−エチ
ル −N−(β−メタンスルホンアミドエチル)アニリン硫
酸塩 5.5g蛍光増白剤(4,4
°−ジアミノスチルベンジスルホン酸誘導体)
1.0gヒドロキシルアミン硫酸塩 3
.0g1−ヒドロキシエチリンデンー1.1−ニホスホ
ン酸 0.4gヒドロキシエチル
イミノジ酢酸 5.0g塩化マグネシウム・6水塩
0.7g1.2−ジヒドロキシベンゼン−3
,5−ジスルホン酸−二ナトリウム塩 0.2g水を
加えて11とし、水酸化カリウムと硫酸でpH10,2
0とする。 [発色現像補充液] エチレングリコール 20ml1亜硫酸
カリウム 3.0g炭酸カリウム
24.0gヒドロキシアミン硫酸
塩 4.0g3−メチル−4−アミノ−N−
エチル −N−(β−メタンスルホナミドエチル)アニリン硫酸
塩 7.5g蛍光増白剤(4,4
°−ジアミノスチルベンジスルホンal!誘導体)
2.5g1−ヒドロキシエチリンデンー1.
1−ニホスホン酸 0.5gヒド
ロキシエチルイミノジ酢酸 5.0g塩化マグニシ
ウム・6水塩 0.8g1.2−ジヒドロキシ
ベンゼン−3,5−ジスルホン酸−二ナトリウム塩
0.3g水を加えて11とし、水酸化カリウムと硫酸で
pH10,70とする。 [漂白定着タンク液] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩 60.0gエチレン
ジアミンテトラ酢酸 3.0gチオ硫酸アンモニ
ウム (70%溶液) 100.mf亜硫
酸アンモニウム (40%溶液) 27.5ni水を加
えて全量なtfLとし、炭酸カリウムまたは氷酢酸でp
H7,1に調整する。 [漂白定着補充液A] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩 260.0g炭酸カリ
ウム 42.0g水を加えて全量
141とする。 この溶液のpHは酢酸又はアンモニア水を用いて6.7
±0.1とする。 [漂白定着補充液B] チオ硫酸アンモニウム 250.OmJL(70
%溶液) 亜硫酸アンモニウム 25.OmJL(40
%溶液) エチレンジアミンテトラ酢酸 17.0g氷酢酸
85.OmJL水を加えて全量
IJ2とする。 この溶液はpHは酢酸又はアンモニア水を用いて5.3
±0.1である。 [水洗代替安定タンク液及び補充液] エチレングリコール 1.0g2−メチ
ル−4−イソチアゾリン−3−オン
0.20g1−ヒドロキシエチリデン−1,
1 −ニホスホン酸(60%水溶液 1.0gアンモニ
ア水(水酸化アンモニウム 25%水溶液) 2.0g水で1
λとし、50%硫酸でpH7,0とする。 自動現像機に上記の発色現像タンク液、漂白定着タンク
液及び安定タンク液を溝たし、前記市販のカラー写真ベ
ーパー試料を処理しながら、上記した発色現像補充液と
漂白定着補充液A、Bと安定補充液をベローズポンプを
通じて補充しながらランニングテストを行った。補充量
はカラーベーパー1−当りそれぞれ発色現像タンクへの
補充量として190mA、漂白定着タンクへの補充量と
して漂白定着補充液A、B各々50 m j! s安定
化槽への補充量として水洗代替安定補充液を250mj
l補充した。なお、自動現像機の安定化槽は試料の流れ
の方向に第1槽〜第3槽となる安定槽とし、最終槽から
補充を行ない、最終槽からのオーバーフロー液をその前
段の檜へ流入させ、さらにこのオーバーフロー液をまた
その前段の檜に流入させる多槽向流方式とした。 水洗代替安定液の総補充量が安定タンク容量の3倍とな
るまで連続処理を行った。 また、カラーネガフィルム GX−100(コニカ株式
会社製)をそれぞれ常法により、露光をした後、ネガフ
ィルムプロセッサーNFS−FP34(コニカ株式会社
製)を改造した自動現像機を用い、下記の現像処理条件
で連続的に処理を行なった。 無水洗安定(第2槽)から無水洗安定(第1槽)へは、
カウンターカレント方式(2段向流)とし、漂白定着に
ついても同様に漂白定着(第2槽)から漂白定着(第1
槽)へのカウンターカレント方式した。 なお、多槽の前槽からの処理液の持込量は0゜8mf/
dm2であった。 以下に、タンク液と各補充液の処方を示す0発発色現像
タンク液; 炭酸カリウム 30g亜硫酸
ナトリウム 2.0gヒドロキシル
アミン硫酸塩 2.0g1−ヒドロキシエチ
リデン −1,1−ジホスホン酸(60%水溶液)1.0g ヒドロキシエチルイミノニ酢酸 3.0g塩化マ
グネシウム 0.3g臭化カリウム
1.2g水酸化ナトリウム
3.4gN−エチレン−N−β−
ヒドロキシエチル−3−メチル−4−アミノアニリン塩
酸塩4.6g 水を加えてIJ2とし、水酸化ナトリウムでpH10,
1に調整した。 発色現像補充液; 炭酸カリウム 40g亜硫酸
ナトリウム 3.0gヒドロキシルア
ミン硫酸塩 3.0gジエチレントリアミン五
酢酸 3.0g臭化カリウム
0,9g水酸化ナトリウム 3
.4gN−エチレン−N−β−ヒドロキシエチル−3−
メチル−4−アミノアニリン塩酸塩5.6g 水を加えてifとし、水酸化ナトリウムでpH10,1
に調整した。 漂白定着タンク液及び補充液; ジエチレントリアミン五酢酸 第二鉄アンモニウム塩 0.5モルヒドロ
キシエチルイミノニ酢酸 20gチオ硫酸アンモ
ニウム(70% wt/V(IQ)50mA 亜硫酸アンモニウム 15g2−アミ
ノ−5−メルカプト− 1,3,4−チアジアゾニル 1.0gアンモ
ニア水(28%) 2otnx水で11
とし、酢酸とアンモニア水でpH7,6に調整した。 無水洗安定タンク液及び補充液; 5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オ
ン 0.01g2−メチル−4
−イソチアゾリン−3−オンエチレングリコール ジエチレントリアミン五酢酸第二鉄アンモニウム塩 水で11に仕上げ、アンモニウムと硫酸でpH10,0
に調整する。 安定タンク液及び補充液; ホルマリン(37%水溶液) コニダックス(コニカ株式会社製) 水を加えて11に仕上げる。 発色現像液の槽補充量が発色現像液タンク容量の3倍と
なるまで連続処理を行なった。 前記カラーネガフィルムとカラーペーパーの廃液を1対
1の割合で混合して使用した。
【実験1】
第2図の写真処理廃液の硫化水素ガス10ppmを検出
濃度として設定した処理装置で、前記廃液を単独と混合
した場合について処理した。比較として第2図の処理装
置のガス濃度に基づく停止を行なわないで全液混合のベ
ストの時間で行った場合について表−1に示す。 表−1 全液混合 前記表−1より、この発明では目詰りもなく、非常に良
好に処理できることがわかる。 また、濃度を予め比重により求めて、下式より濃縮時間
を決め、実験行なつた。 この結果を表−2に示す。 0.8 ×(2倍に濃縮するに要する時間)=濃縮時間表−2 前記のように、沈殿量については一定時間よりは好まし
いが、目詰りはこの発明に比較して劣り、この発明が非
常に有効であることがわかる。
濃度として設定した処理装置で、前記廃液を単独と混合
した場合について処理した。比較として第2図の処理装
置のガス濃度に基づく停止を行なわないで全液混合のベ
ストの時間で行った場合について表−1に示す。 表−1 全液混合 前記表−1より、この発明では目詰りもなく、非常に良
好に処理できることがわかる。 また、濃度を予め比重により求めて、下式より濃縮時間
を決め、実験行なつた。 この結果を表−2に示す。 0.8 ×(2倍に濃縮するに要する時間)=濃縮時間表−2 前記のように、沈殿量については一定時間よりは好まし
いが、目詰りはこの発明に比較して劣り、この発明が非
常に有効であることがわかる。
【実験2】
実験1のベーパネガ総合廃液の実験で、濃縮処理停止時
に、蒸発釜内へに2 Co、200g/IK250s
100g/lの液を添加したところ、停止後取り出した
濃縮物の臭気が未添加に比較し非常少なく、また溜出液
の臭気(H2S)も3ppmから0.5ppmに低下し
、好ましい結果でありた。
に、蒸発釜内へに2 Co、200g/IK250s
100g/lの液を添加したところ、停止後取り出した
濃縮物の臭気が未添加に比較し非常少なく、また溜出液
の臭気(H2S)も3ppmから0.5ppmに低下し
、好ましい結果でありた。
【実験3】
になると、実験1のベーパネガ総合廃液の実験で、装置
内に、消臭剤として、エボリオンT(工ポリオン社製)
、オドリッドワブレー(バイオケイド・ジャパン社製)
、コゾレクリーン(キング化学社製)、フレッシェライ
マツ(白井松新薬社製)を放出させる実験を行ワたとこ
ろ、消臭剤なしと比較して臭気は大幅に低下しておワ、
好ましい結果であワた。 (発明の効果] この発明は前記のように、写真処理廃液の処理装置は、
ガス検出手段でガス濃度を検出して所定値になると、制
御手段で蒸発濃縮処理を停止するようになしたから、蒸
発濃縮によって生じる沈殿物の流動性が損なわれないた
め、蒸発濃縮で得られた沈殿物が蒸発手段の内壁へ付着
することなく容易に取り出すことができる。さらに、こ
の蒸発濃縮を停止する制御はガス濃度を検出することに
よって行なわれるため、蒸発濃縮を停止する制御情報を
、簡単かつ確実に得ることができる。
内に、消臭剤として、エボリオンT(工ポリオン社製)
、オドリッドワブレー(バイオケイド・ジャパン社製)
、コゾレクリーン(キング化学社製)、フレッシェライ
マツ(白井松新薬社製)を放出させる実験を行ワたとこ
ろ、消臭剤なしと比較して臭気は大幅に低下しておワ、
好ましい結果であワた。 (発明の効果] この発明は前記のように、写真処理廃液の処理装置は、
ガス検出手段でガス濃度を検出して所定値になると、制
御手段で蒸発濃縮処理を停止するようになしたから、蒸
発濃縮によって生じる沈殿物の流動性が損なわれないた
め、蒸発濃縮で得られた沈殿物が蒸発手段の内壁へ付着
することなく容易に取り出すことができる。さらに、こ
の蒸発濃縮を停止する制御はガス濃度を検出することに
よって行なわれるため、蒸発濃縮を停止する制御情報を
、簡単かつ確実に得ることができる。
第1図は自動現像機の概略図、第2図はこの発明の実施
例を示す概略構成図である。 図面中符号1は蒸発釜、2は加熱手段、11は凝縮手段
、19は溜液タンク、24は廃液供給タンク、60,8
2,64.66.68はガスセンサ、61,63.65
.67.69は脱臭剤噴射器、70は制御手段である。 特 許 出 願 人 コニカ株式会社手続補正書 昭和63年3月7日 1 事件の表示 昭和62年特許願第276416号 2 発明の名称 写真処理廃液の処理装置 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号氏名 (1
27)コニカ株式会社 住所 東京都渋谷区代々木2丁目23番1号 ’
f−」ン6 補正の対象 明細書の「発明の詳細
な説明」の欄7 補正の内容 別紙のとおり (1)明細書第4頁347行の「行える」を「行なえる
」と訂正する。 (2)同書第11頁第10行の「組み合わせた」を「組
合せた」と訂正する。 (3)同書第15頁第20行の「行う」を「行なう」と
訂正する。 (4)同書第17頁第2行及び第3行の「行われる」を
「行なわれる」と訂正する。 (5)同書第18頁第2行乃至第3行の「下部」を「乍
部1bJと訂正する。 (6)同書第20頁第4行の「しれぞれ」を「それぞれ
」と訂正する。 ())同書第22頁第19行の「パブルング」を「バブ
リング」と訂正する。 (8)同書第23頁第15行の「ボールパル3」を「ボ
ールバルブ3」と訂正する。 (9)同書第26頁′!J19行の「マグネシウム」を
「マグネシウム」と訂正する。 (10)同書IE28頁第16行のr(60%水溶液」
を「(60%水溶液)」と訂正する。 (11)同書第29頁第5行及び第17行の「行った」
を「行なった」と訂正する。 (12)同書N30頁第19行のr方式した」をr方式
とした」と訂正する。 (13)同書第31頁第1行の「8 m A / dm
2」をr6mj!/dm”」と訂正する。 (14)同書第33頁第6行の「2−メチル−4−イツ
チアゾリン−3−オン」を 「2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン0・01
g」 と訂正する。 (15)同書第33頁第7行の「エチレングリコール」
を 「エチレングリコール 2.ogJと訂正
する。 (16)同書第33頁第9行の「塩」を「塩
0.03モル」と訂正する。 (17)同書第33頁第13行の「ホルマリン(37%
水溶液)」を 「ホルマリン(37%水溶液) 3mfl」と
訂正する。 (18)同書第33頁第14行の「コニダックス(コニ
カ株式会社製)」を 「コニダックス(コニカ株式会社製) 7mfl」と
訂正する。゛ (19)同書3434頁第5行の「行った」を「行なフ
た」と訂正する。 (20)同書第35頁第5行の「実験行なった」t「実
験を行なった」と訂正する。 (21)同書第37頁N4行の「行った」を「行なった
」と訂正する。 以上
例を示す概略構成図である。 図面中符号1は蒸発釜、2は加熱手段、11は凝縮手段
、19は溜液タンク、24は廃液供給タンク、60,8
2,64.66.68はガスセンサ、61,63.65
.67.69は脱臭剤噴射器、70は制御手段である。 特 許 出 願 人 コニカ株式会社手続補正書 昭和63年3月7日 1 事件の表示 昭和62年特許願第276416号 2 発明の名称 写真処理廃液の処理装置 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号氏名 (1
27)コニカ株式会社 住所 東京都渋谷区代々木2丁目23番1号 ’
f−」ン6 補正の対象 明細書の「発明の詳細
な説明」の欄7 補正の内容 別紙のとおり (1)明細書第4頁347行の「行える」を「行なえる
」と訂正する。 (2)同書第11頁第10行の「組み合わせた」を「組
合せた」と訂正する。 (3)同書第15頁第20行の「行う」を「行なう」と
訂正する。 (4)同書第17頁第2行及び第3行の「行われる」を
「行なわれる」と訂正する。 (5)同書第18頁第2行乃至第3行の「下部」を「乍
部1bJと訂正する。 (6)同書第20頁第4行の「しれぞれ」を「それぞれ
」と訂正する。 ())同書第22頁第19行の「パブルング」を「バブ
リング」と訂正する。 (8)同書第23頁第15行の「ボールパル3」を「ボ
ールバルブ3」と訂正する。 (9)同書第26頁′!J19行の「マグネシウム」を
「マグネシウム」と訂正する。 (10)同書IE28頁第16行のr(60%水溶液」
を「(60%水溶液)」と訂正する。 (11)同書第29頁第5行及び第17行の「行った」
を「行なった」と訂正する。 (12)同書N30頁第19行のr方式した」をr方式
とした」と訂正する。 (13)同書第31頁第1行の「8 m A / dm
2」をr6mj!/dm”」と訂正する。 (14)同書第33頁第6行の「2−メチル−4−イツ
チアゾリン−3−オン」を 「2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン0・01
g」 と訂正する。 (15)同書第33頁第7行の「エチレングリコール」
を 「エチレングリコール 2.ogJと訂正
する。 (16)同書第33頁第9行の「塩」を「塩
0.03モル」と訂正する。 (17)同書第33頁第13行の「ホルマリン(37%
水溶液)」を 「ホルマリン(37%水溶液) 3mfl」と
訂正する。 (18)同書第33頁第14行の「コニダックス(コニ
カ株式会社製)」を 「コニダックス(コニカ株式会社製) 7mfl」と
訂正する。゛ (19)同書3434頁第5行の「行った」を「行なフ
た」と訂正する。 (20)同書第35頁第5行の「実験行なった」t「実
験を行なった」と訂正する。 (21)同書第37頁N4行の「行った」を「行なった
」と訂正する。 以上
Claims (2)
- (1)写真処理廃液を加熱して蒸発濃縮させる写真処理
廃液の処理装置において、前記写真処理廃液の処理で発
生するガス濃度を検出するガス検出手段と、このガス検
出手段から得られるガス濃度に基づき濃縮処理を停止す
る制御手段とを備えることを特徴とする写真処理廃液の
処理装置。 - (2)前記ガス検出手段は硫化水素ガス及び/又は亜硫
酸ガスを検出するセンサであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の写真処理廃液の処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62276416A JPH01119385A (ja) | 1987-11-01 | 1987-11-01 | 写真処理廃液の処理装置 |
| DE8888310127T DE3868852D1 (de) | 1987-11-01 | 1988-10-27 | Vorrichtung und verfahren fuer die entfernung von abwasser aus photoprozessen. |
| EP88310127A EP0315374B1 (en) | 1987-11-01 | 1988-10-27 | Disposal device for photographic processing waste liquor and processing method of photograhic processing waste liquor |
| US07/497,763 US5057191A (en) | 1987-11-01 | 1990-03-20 | Processing method or photographic processing waste liquor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62276416A JPH01119385A (ja) | 1987-11-01 | 1987-11-01 | 写真処理廃液の処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01119385A true JPH01119385A (ja) | 1989-05-11 |
Family
ID=17569103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62276416A Pending JPH01119385A (ja) | 1987-11-01 | 1987-11-01 | 写真処理廃液の処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5057191A (ja) |
| EP (1) | EP0315374B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01119385A (ja) |
| DE (1) | DE3868852D1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5573895A (en) * | 1992-06-12 | 1996-11-12 | Konica Corporation | Recycling method for photographic processing waste liquid |
| US5452045A (en) * | 1992-10-30 | 1995-09-19 | Konica Corporation | Apparatus for processing a light-sensitive silver halide photographic material |
| US6402397B1 (en) * | 2000-12-22 | 2002-06-11 | Eastman Kodak Company | Photographic processor having a filter housing with a level sensing probe |
| US8293696B2 (en) * | 2009-02-06 | 2012-10-23 | Ecolab, Inc. | Alkaline composition comprising a chelant mixture, including HEIDA, and method of producing same |
| JP7787114B2 (ja) * | 2021-02-15 | 2025-12-16 | 旭化成株式会社 | 分離回収装置、分離回収方法、現像システム及び現像液リサイクル方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3312529A (en) * | 1962-02-22 | 1967-04-04 | Aquitaine Petrole | Chemical process automatic regulating system |
| US3300282A (en) * | 1963-09-16 | 1967-01-24 | British Columbia Res Council | Method and apparatus for hydrogen sulfide determination |
| US3998714A (en) * | 1964-04-23 | 1976-12-21 | Tii Corporation | System for pollution suppression |
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