JPH01120319A - 加熱体の温度制御方法 - Google Patents

加熱体の温度制御方法

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JPH01120319A
JPH01120319A JP62278239A JP27823987A JPH01120319A JP H01120319 A JPH01120319 A JP H01120319A JP 62278239 A JP62278239 A JP 62278239A JP 27823987 A JP27823987 A JP 27823987A JP H01120319 A JPH01120319 A JP H01120319A
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石橋 一久
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は加熱体の温度の制御方法に関し、特に、成形用
プラスチック材料等の加熱の熱源となる加熱体の温度を
制御する方法に関する。
〔従来の技術〕
プラスチックびんの成形材料であるプリフォーム等を加
熱する場合、プリフォームの内外から加熱する方法は均
一加熱が達成されて好ましい。そしてその場合プリフォ
ームの内部にini g物で1が挿入され高温物iτの
輻射熱によりプリフォームを加熱する方法が提案されて
いる(本出願人による特許願昭和62年第142299
号)。
前記方法において加熱体となる高温物質として固体金属
が用いられ、固体金属の温度が測定され、その測定値に
詰ずき固体金属の加熱が制御Iされている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
前記従来技術において、多数個の固体金属が加熱ゾーン
と放熱ゾーン(固体金属がプリフォームの中に挿入され
、固体金属が放熱しプリフォームが加熱されるゾーン)
とを巡回し加熱と放熱が繰返される。そしてプリフォー
ムの加熱温度を正確に制wJするためには熱源となる多
数個の固体金属の温度を厳密に同−温度にしなければな
らないが、前記方法ではこれを達成することが困難であ
った。
すなわち、固体金属は加熱時に温度が上昇し、放熱時に
温度が下るが、上胃渇度および下降温度は放熱おにび加
熱の1ネルキ゛−呈に比例し加熱量や放熱量が多(プれ
ば温度変動中は大きくならざるを得ない。また、プリフ
ォームが抜けた場合には、1′Jl熱体は放熱ゾーンで
外部からの熱エネルギーを受けるので、放熱のエネルギ
ー量も常に一定であるとは限らず温度変動中を狭い範囲
どすることは極めて困難であった。さらに加熱体の全体
を均一温度に加熱することも、又、極めて困難であった
本発明は上記問題点を解決するためになされたものでプ
リフォーム等の内部に挿入されてこれを加熱するための
熱源となるような加熱体の温度を厳密にしかも安定して
制御することを可能とする加熱体の温度制御方法を提供
することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
加熱体の内部に空洞を設け、該空洞に前記加熱体の制御
目標温度の範囲内に融点を有し望ましくは融解熱の大き
な物質を封入し、前記加熱体の温度を測定し、その測定
値に基づき、前記加熱体の加熱を制御する。
〔作 用〕
一定の融点を有する物質は固体と液体が共存する状態で
は加熱や放熱が行われてし固体や液体の量が変化するの
みで温度は変化しない。従ってこのような物質を加熱体
の空洞内に充分の吊を1・1人すれば加熱体の温度は封
入物質の温度と笠しくなり、封入物質が固体液体共存状
態では一定の温度となり、その物質の融解熱が大きい程
、一定の温度を保持している時間が長いことになる。封
入物質を含む加熱体よりの放fi吊が一定囲を越えて封
入物質がすべて固化し、てしまうと加熱体の温度は低下
し、これを検出することによって加熱体は加熱されるが
そのとき与えられるエネルギーは封入物質をすべて液化
するmであっても加熱体の温度変化は微かであり安定し
た制御が可能となる。微かに融点の異なる2種類あるい
は3種類の物質を封入する場合は、低融点物質の固化が
始まる温度が検出されて加熱が行われるが低融点物質が
ずべて固化する迄は加熱体および封入物の温度低下は押
えられ加熱時には加熱量が多すぎても微かに融点の高い
物質の部分的な液化が始まるだけなので加熱体の温度を
狭い範囲に安定的に制御することが容易に行える。
〔実施例〕
以下本発明をプラスチックびんをブロー成形するときの
プリフォームの加熱方法に応用した例を図面を参照して
説明する。
第1図に示すようにブリフオーム1を支持するマンドレ
ル3.3・・・は各回転テーブルの間を矢印で示す順序
で巡回する。すなわちプリフォーム受渡しテーブル4か
ら移送テーブル5、加熱ステーションテーブル6、アニ
ーリングステーションテーブル72.8、移送テーブル
9、ブロー成型ステージョンテーブル10、移送テーブ
ル11、を経て再びプリフォーム受渡しテーブル4ヘマ
ンドレル3.3・・・が巡回されるが各テーブルでのマ
ンドレルの保持機構や受渡し機構は従来公知の方法で・
行われるので図示していない。このように巡回されるマ
ンドレル3,3・・・の上に従来公知の供給装置から供
給テーブル12.13を経てプリフォーム1.1・・・
が装着される。ブリフA−ム1は第2図に示す断面形状
をしており有底円筒状の胴部15とねじ山や環状突起部
を有する口部16より成っている。このプリフォーム1
がマンドレル3に装着されて上記順路を巡回づる聞に加
熱ステーションテーブル6で胴部が加熱されブロー成型
ステーションテーブルで従来公知の方法で吹込成型され
、第3図に示す熱可塑性プラスチックびん2が製造され
る。製造された熱可塑性プラスチックびん2は受渡しテ
ーブル4に保持されているマンドレル3上から従来公知
の装置で抜き取られ送出テーブル14を経て送出される
。マンドレル3は第4図に示す断面形状であり各テーブ
ルで保持するための周溝17.17、と回転駆動するた
めのスプロケット18.18が一体に設けられている。
加熱ステーションテーブル6およびアニーリングステー
ションテーブル7.8のマンドレル3.3・・・の通過
する部分にはチェーンが順次段違いとなるように張り回
らされて上または下のスプロケット18.18と噛み合
いマンドレルに自転運動を付与するように駆動される。
但しチェーンは図示してい4工い。
次に加熱ステーションテーブル6に付属する装δと加熱
動作について第4図〜第9図を参照して説明する。加熱
ステーションテーブル6には保持装置19、加熱体21
を断熱体22を介して保持し上下方向に駆動するピスト
ンロッド23およびエアシリンダ20が周方向位置を一
致させて等間隔に取付けられている。加熱体21には第
1の加熱体の実施例として第9図に示すように空洞31
が穿設されており、その中に高融点金属として亜鉛が封
入されておりその融点は420℃である。
また、第2の加熱体の実施例として第10図に示す様に
第1の空洞31と第2の空洞32とが穿設されており、
各々高融点金属と、低融点金属が封入されている。高融
点金属としては前記亜鉛が用いられており、低融点金属
としては錫とテルルの合金が用いられ、その合金は状態
図に於いて共晶点のおこる成分構成をなし原子%で表現
すると、錫15%テルル85%であり、融点に相当する
共品停滞湿度は約410℃である。
次に第3の加熱体の実施例として第11図に示す様に、
第1、第2、第3の空洞31.32.33が穿設されて
おり、その中に各々、錫−テルル合金、亜鉛、テルルが
封入されている。錫−テルルの合金は前記成分構成とな
っており、テルルの融点は約450℃である。
加熱ステーションテーブル6は一定方向に回転しながら
定位置でマンドレル3を保持装置19で受は取りまた定
位置で保持装置から送り出す。従って加熱ステーション
テーブル6の周囲にはマンドレルの通過する部分と通過
しない部分がある。
マンドレル3の通過する部分には加熱ユニット26.2
6・・・が、またマンドレルの通過しない部分には誘導
加熱ゾーン27が配置されている。
加熱」−ニット26は赤外線ヒータ24と反射鏡25と
から構成されておりマンドレル3と共に自転するプリフ
ォーム1に向けて赤外線を照射してこれを外部から加熱
する装置である。加熱体21はX ”J加熱により加熱
され易い金属で作られておりエアーシリンダ20により
、プリフォーム1内に挿入された状態と誘導加熱ゾーン
27内を通過する状態との2つの位訂をとるように駆動
される。
加熱ステーションテーブルでは第1図に示されるように
、多数のプリフォーム1が順次に送られて加熱されるが
、ある場合には、プリフォーム1が送られない状態、す
なわち、多数のマンドレル3のうち一つのものにはプリ
フオーム1が供給されない場合が生じることがある。そ
のような場合には、加熱体21は直接、赤外線ヒータ2
4に瞑されるので他のものに比べ熱エネルギーの放出が
少い。加熱ゾーン27では全ての加熱体を一定温度まで
加熱しなければならない。そのために加熱ゾーン27は
二つの誘導加熱コイルより構成されている。誘導加熱コ
イル28は加熱体の移動経路を覆うように円弧状に細長
く形成された多層巻ヘアピン状のものであり、その両端
は加熱体の移fJjを防げないように上方へ偏倚されて
いる。
誘導加熱コイル29は第6図に示されるような多層巻ヘ
アピン状のもので、コの字型フェライトコア31の両側
に巻かれており、加熱体をはさんだ相対するコイル部分
にはお互いに逆方向の高周波電流が流れている。誘導加
熱コイル29の良さは個々の加熱体21の間隔にほぼ等
しくなるように定められている。誘導加熱コイル29の
加熱能力を大きくすれば一定加熱の誘導加熱コイルを省
くことも可能である。
加熱体21は第7図および第8図に示すように誘導加熱
コイル28.29内を通過するとき誘導加熱コイル28
.29を流れる高周波電流により誘導加熱され高温とな
りかつ封入金属が溶融し輻射熱を放射するようになる。
第1図に示されるように、2.1加熱コイル28を通過
直後の加熱体21の温度は放射温度a130により検出
される。
第1の実施例の加熱体に一定の電力を与えた場合の昇温
曲線を第12図に示す。又、第12図に於いてA点まで
加熱したときの加熱体の自然放冷曲線を第13図に示す
。図中、t(工時間、■は加熱体21の温度を示しT1
は亜鉛の融点を示す。加熱体21は通常は第13図のフ
ラットな曲線部分に相当する高融点金属の融点湿度、T
1で加熱コイル29に近づくが、放射温度計、30によ
り加熱コイル29の直前で検出された温度が封入された
高融点金属の融点T1より実質的に低い、すなわち第1
3図に於いて、例えば0点の温度になっていた場合は、
第12図に示される様に融点との温度差によって決まる
プログラム化された高周波電力を掻く短時間(0,5秒
)、誘導加熱コイル29へ供給し、望ましくは、封入さ
れた高融点金属のすべてが液化する状態、B点まで加熱
される。
第2の実施例にお於いては加熱体21の昇温曲線は第1
4図、自然冷却曲線は第15図のごとくである。図中T
2は低融点全屈、すなわち揚−テルル合金の融点である
温度制御は第1の加熱体の実施例の通りであり、即ち第
15図の0点の様な温度であった場合には第14図のB
点まで温度があがる様に、誘導加熱コイル29へ電力が
与えられる。この場合にはたとえ放射温度計、30の検
出不良により、加熱体21が低い温度であったにもかか
わらず、温度が高いと検出されても、錫−テルル合金の
凝固熱により温度が下がりすぎることはない。
ざらに制御目標温度をC′点に選んだ場合に1.182
点まで温度が上がる様にルリ御されるが、検出器の不良
により温度差の検出を大きく検出し、その結果、加熱コ
イル29へ電力を供給し過たとしても加熱体の温度は亜
鉛の融解熱のため、上り過ぎることはなく良い制御がで
きる。第3の実fk例に於いては、加熱体21の昇温曲
線は第16図、自然冷却曲線は第17図のごとくである
図中、Toはテルルの融点を示す。第17図の0点の温
度を検出した場合には第16図のB点まで温度があがる
様に、第1、第2の実施例と同様の制御がなされるが、
融点の異なる3種類の金属を封入することにより、より
良い制御ができる。
また加熱体が一巡する間に封入された金属の全体が固化
することのないように誘導加熱ゾーン27の加熱能力お
よび封入金属の子が設定されている。
従って加熱8体は加熱ステーションを一周する問中常に
封入金属の一部は液体状態であり一部は固体状態であり
、実質的に封入された金属の各融点の温度またはこの間
の温度に保たれる。
すなわち第1の実施例の加熱体の温度は420℃に保た
れ、第2の実施例の温度は制御点を第15図に示す0点
に選んだ場合は420℃にC’!2に選んだ場合は41
0℃に保たれる。第3の実施例の場合は420℃に安定
的に保たれる。
そして加熱された加熱体21がプリフォーム1内に挿入
されるとプリフォーム1は加熱体21と加熱ユニット2
6により内外から同時に加熱される。このようにしてブ
リフA−ム加熱ステージ」ン6で加熱されたプリフォー
ムはアニーリングステーション、7,8で均熱化されブ
ロー成型ステーションでびんに吹込成形される。
本実施例では加熱体は金属で作られ、誘導加熱法で加熱
されるが、発明はこれに限られることなく、セラミック
の加熱体が赤外線ヒータで加熱されてもよい。
〔発明の効果〕
加熱体に融点が一定の物体が封入されているので、この
封入物を固体と液体が共存する状態となるように制御目
標温度を設定すれば吸熱および放熱急が比較的大きく変
動しても加熱体の温度を狭い範囲に安定的に制御するこ
とができ、これをプラスチック成形用のプリフォーム加
熱の熱源として利用すればプリフォームは常に一定温度
に加熱され、成形品の品質を高めることができる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明をプリフォームの加熱に応用した実施例
を示す平面図、第2図は本実施例において加熱されるプ
リフォーム1の断面図、第3図はブリフオーム1から吹
込成形によってIlI造される熱可塑性プラスチックび
んの断面図、第4図はプリフォーム1を支持するマンド
レル3の断面図、第5図は第1図におけるA−A方向断
面図、第6図は誘導加熱コイル29を示す斜視図、第7
図は第1図におけるB−8方向断面図、第8図は第6図
のC−C方向断面図、第9図は第1の実施例の加熱体2
1の拡大断面図、第10図、第11図はそれぞれ第2、
第3の実施例の加熱体の拡大断面図である。第12図は
第1の実施例の加熱体の加熱のai制御方法を示すため
の背温曲線、第13図は自然冷却温度曲線である。第1
4図、第15図は第2の実施例の加熱体のそれぞれ貸温
、冷却曲線を示し、第16図、第17図は第3の実施例
のそれぞれ昇温、冷却曲線を丞す。 1・・・ブリフオーム、2・・・熱可塑性プラスデック
びん、3・・・マンドレル、4・・・受渡しテーブル、
5゜9.11・・・移送テーブル、6・・・加熱ステー
ションテーブル、7,8・・・アニーリングステーショ
ンテーブル、10・・・ブロー成型ステーションテーブ
ル、12.13・・・供給テーブル、14・・・送出テ
ーブル、15・・・胴部、16・・・口部、17・・・
円満、18・・・スプロケット、19・・・保持装置、
20・・・エアシリンダ、21・・・加熱体、22・・
・所熱体、23・・・ピストンロッド、24・・・赤外
線ヒータ、25・・・反射鏡、26・・・加熱ユニット
、27・・・加熱ゾーン、28゜29・・・誘導加熱コ
イル、30・・・放射温度計、31・・・第1の空洞、
32・・・第2の空洞、33・・・第3の空洞。 出願人代理人  藤  木  博  光茗4図 $ コ G 第 6 図 芋9 図     羊lO呂 茶 ff  目

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、加熱体の内部に空洞を設け、該空洞に前記加熱体の
    制御目標温度の範囲内に融点を有する物質を封入し、前
    記加熱体の温度を測定し、その測定値に基づき、前記加
    熱体の加熱を制御することにより加熱体を一定温度に保
    つことを特徴とする加熱体の温度制御方法。 2、前記加熱体に少くとも2個の空洞を設け、各空洞に
    互に異なる融点を有する物質を封入する特許請求の範囲
    第1項記載の加熱体の温度制御方法。 3、前記加熱体の温度と封入する物質の融点との差の大
    きさに比例した熱量を供給することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 4、前記加熱体が誘導加熱により加熱されることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
JP62278239A 1987-06-09 1987-11-05 加熱体の温度制御方法 Granted JPH01120319A (ja)

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JP (1) JPH01120319A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0374011U (ja) * 1989-11-18 1991-07-25

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JPH0374011U (ja) * 1989-11-18 1991-07-25

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JPH0571027B2 (ja) 1993-10-06

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