JPH01127074A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は塗布装置に関し、例えば電子写真感光体の感光
層を塗布形成するデイツプ塗布装置に関するものである
。

口、従来技術 従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
層を有する無機感光体が広く用いられている。

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
層の材料として利用することが近年活発に開発、研究さ
れている。例えば特公昭５０−１０４９６号公報には、
ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールと２゜４．７−ドリニト
ロー９−フルオレノンを含有した感光層を有する有機感
光体について記載されている。しかしこの感光体は、感
度及び耐久性において必ずしも満足できるものではない
。このような欠点を改善するために、感光層において、
キャリア発生機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に
個別に分担させることにより、感度が高くて耐久性の大
きい有機感光体を開発する試みがなされている。このよ
うないわば機能分離型の電子写真感光体においては、各
機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択すること
ができるので、任意の特性を有する電子写真感光体を比
較的容易に作製することが可能である。

かかる電子写真感光体め感光層を塗布形成するに際して
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。

なかでも、円筒状の被塗布体（導電性基体等）に均一な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。

第１４図はデイツプ塗布に用いられる塗布装置を示すも
のである。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容されている。デイ
ツプ塗布時には、Ｉ！〆ｔｔｉ−ｉｙｉｉ円筒状導電性
基体（以下、基体ドラムと呼ぶことがある。）４を開口
部４ｂを下向きにして塗布液１へと浸漬し、次いでＭ５
の把手５ａを把持して基体ドラムに存在するが、基体ド
ラム４を浸漬するときには基体ドラム４内の中空部４ｃ
を満たしている空気に伴い、基体ドラム４の外周面４ｅ
と塗布槽２の４ａの高さまで基体ドラム外周囲４ｅに塗
布液が塗布され、均一な塗膜が形成されることになる。

このとき、基体ドラム４の浸漬部分の容積及びそ従って
、かかる塗布装置には、以下の問題点がある。

布種側壁内周面２ｂに塗布液１が付着し、付着した塗布
液が乾燥して乾固物９を生成する。そして乾固物９が塗
布液１中へと混入して塗布液１の成分変化、劣化を生じ
たり、更にいわゆる異物欠陥（塗布欠陥）の原因となっ
ているものと思われる。

また、塗布液１が劣化すれば、廃棄、塗布液の入れ替え
の必要が生ずるので、原材料費等のコストアンプにつな
がり、廃棄、入れ替えを行うたびに容器の洗浄等の煩わ
しい手作業が必要となる。

かかる問題点に対する対策として、実開昭６２−５９１
７５号公報において、塗布槽中に昇降可能な台座を備え
、この台座の上端に被塗布物体を載置し、台座の昇降に
より被塗布物体の浸漬、引き上げを行う塗布装置が開示
されている。これは塗布槽の底面に孔を設け、この孔に
上記台座を嵌入せしめ、塗布槽の外部に存在する駆動装
置により台座の上下動を行っているものである。しかし
、こうした塗布装置では、塗布槽と台座との間隙から塗
布液が洩れ易く、別にシール部材が必要で装置が複雑と
なり、また特に台座の昇降時に塗布液が洩れ易い。台座
外周面への塗布液の付着、乾燥を防止する必要もあると
考えられる。

このような欠点を防止する方法として、いわゆるオーバ
ーフロ一方式のものが知られており、第１５図はこの方
式によるデイツプ塗布装置の概略断面図を示すものであ
る。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容され、塗布槽２の
側壁２ｄの周囲には受は皿６が設けられて、供給口１１
より矢印Ｅで示すように塗布槽２内へと供給され、更に
側壁２ｄの上縁部２ｅを越えて塗布槽２の円周方向へと
溢流し、受は皿６で集められ、排出口８よりタンク１２
へと排出される。円筒状導電性基体４は塗布液１内に一
点鎖線で示すように浸漬され、次いで導電性基体４が矢
印りで示すように所定の速度で引き上げられ、デイツプ
塗布が施される。このデイツプ塗布時に、上述のように
塗布液１が側壁２ｄの上縁部２ｅを越えて溢流し続けて
いるので、塗布液ｌの液面の高さは一定に保たれる。

かかるオーバーフロ一方式の塗布方法によれば、塗布装
置において液面位が一定に保たれるため、塗布槽内壁の
乾固物生成がなく、また生成してもフィルター１４によ
り濾過できるため、異物付着による塗布欠陥防止に効果
的である。

しかし、オーバーフロ一方式の塗布装置では、塗布槽と
循環系とに多量の塗布液を必要とするという欠点がある
（例えば、第１４図の塗布装置にくらべて数倍の塗布液
量が必要となる。）。このため、原材料のコストが高く
、また塗布液が使用限度に達すれば、多量の塗布液の廃
棄、入れ替えの必要が生ずるので、コスト等の面で不利
である。

ハ０発明の目的 本発明の目的は、異物付着による塗布欠陥（異物欠陥）
を効果的に防止でき、かつ塗布に必要な塗布液の液量の
少ない塗布装置を提供することである。

二６発明の構成 本発明は、塗布槽内に収容されている塗布液に凹部を有
する被塗布体を浸漬し、この被塗布体を引き上げること
によって前記塗布液を前記被塗布体に塗布する塗布装置
において、前記塗布槽内壁に凸状部が設けられ、前記被
塗布体を浸漬するに際して前記凹部へ前記凸状部が挿入
されるように構成され、前記凹部内の圧力を制御する圧
力制御手段が設けられ、かつ前′配回部内の圧力が変化
する際には前記圧力制御手段が体積変化するように構成
されていることを特徴とする塗布装置に係るものである
。

ホロ実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

第１図は塗布装置を示し、同図（ａ）は概略部分断面図
、同図（ｂ）は塗布槽を示す断面図、同図（Ｃ１は基体
ドラムが浸漬された状態を示す断面図である。

塗布槽２の底面内壁２ａには凸状部３が設けられ、凸状
部３の内側には中空部３ａが形成されている。この凸状
部３が従来にない顕著な特徴をなすものである。

部ち、基体ドラム４の上端部にはＯリング１６を介して
蓋体１５が接合され、この蓋体１５は把持具１８を介し
て腕３５に固定されている。（但し、第１図（Ｃ）では
、把持具１８は図示省略している）。台３４には図示し
ない駆動手段が設けられ、腕３５が矢印Ｃ，Ｄのように
上下に駆動され、これに従って基体ドラム４も矢印Ｃ，
Ｄのように上下動する。把持具１８には貫通孔１７が設
けられており、基体ドラム中空部４ｃは開ロア、貫通孔
１７、及びチューブ２７を介して後述する風船３９から
圧力制御機構４０へと通じている。圧力制御機構４０は
、基体ドラム４の浸漬、引き上げ時に、中空部４Ｃ内の
圧力を一定範囲内に保つ働きを有するものである。

この塗布装置の動作を次に述べる。

まず、第１図（ａ）に示す状態から、矢印Ｃで示すよう
に基体ドラム４を塗布液１へと浸漬し、−点鎖線で示す
状態（同図（Ｃ１に示す状Ｂ）とする。中空部４Ｃの内
径は凸状部３の外径よりも若干大きくされており、基体
ドラム４の浸漬時に基体ドラム４の内周面４ｄと凸状部
３の外周面３ｂとが接触しないようになっている。この
とき、基体ドラム４の浸漬が進行するに従い、中空部４
Ｃ内の空気は凸状部３により排除され、かつ塗布液１の
圧力もかかるようになるため、中空部４Ｃ内の圧力が増
加する。この圧力増加に対応して、基体ドラム中空部４
ｃ内の空気は矢印Ａで示すように流れ、風船３Ｓを一点
鎖線で示すように膨張せしめる。

従って浸漬時に、中空部４Ｃ内の圧力は一定範囲内にと
どまり、かつ中空部４Ｃ内の空気が塗布液中に漏れ出る
ことも避けられる。

基体ドラム４の浸漬が終了した時点では、上述した風船
３Ｓの働きによって中空部４ｃ内の圧力が一定範囲内に
保たれた結果、塗布液液面は位置１ｃの高さに保持され
る共に、塗布槽側壁内周面２ｂと基体ドラム外周面４ｅ
とで挾まれた領域においては、空間１４の体積分だけ僅
かに上昇する。

これにより、基体ドラム外周面４ｅの所定位Ｗ４ａまで
塗布液中に浸漬される。

ここで、基体ドラム４の浸漬に伴う風船３９の体積変化
（膨張）の度合等について簡単に述べる。

基体ドラム４が下降してきて塗布液液面に触れた瞬間の
状態における中空部４ｃ内の圧力Ｐは大気圧Ｐ０に等し
い。即ち、 ｐ　、＝　ｐ　０−−−−−−−−−−−−・・　（１
）次に、基体ドラム４の浸漬が終了した時点で、塗布液
液面の位ｉ！　１　ａと１０との高さの差をり。

とすると、 ｐ＝ｐ、＋ρｈ婿−・−−−〜−−−−−（２）が成り
立つ。ここで、ρは塗布液１の比重、２は重力加速度で
ある。

基体ドラム４が液面に接触する瞬間に中空部４ｃ内に閉
じ込められた空気の体積ｖ１０、その時の風船内に閉じ
込められた空気の体積をＶ２゜とすると、圧力Ｐ０のも
とにおける系全体の体積は（Ｖｔ。＋Ｖ！。）である、
但し、チューブ２７等は無視しである。

次に、基体ドラム４の浸漬が終ｉした時点では、中空部
４ｃの容積は凸状部３によって■、にまで減少する。従
って、矢印Ａで示す空気の流れにより、風船３９が膨張
し、風船３９の容積はＶＺ＋にまで増大する。系全体の
容積は（Ｖａｔ　＋　Ｖｉａ）となる。

上記の数値関係を下に示す。

圧力　　　　　　Ｐａ＜Ｐｌ 基体側の容積　　Ｖｌ。〉■。

風船の容積　　　ｖ２゜〈■２１ 系全体の容積　　■１゜十Ｖ２゜〉ＶＩＩ＋Ｖ２１上記
のうち、■１゜、Ｖ２゜、Ｐ、は予め解っていいるので
、ｈ、の大きさを設定しく即ち、塗布液液面の位置１ｃ
を設定し）、これに従ってＰｌを算出し、或いはＰｌを
測定し、風船３ｓの容積、膨張率を上記の各数値に合わ
せて設定すれば、第１図の塗布装置を用いて前述したよ
うな浸漬動作を行い、基体ドラム中空部４ｃの圧力制御
を行って、液面を位Ｗ１　ｃに留めて置くことが容易に
できる。

なお、上記の各数値については、ボイルーシャルルの法
則が成立するので、下記（３）式を利用できると考えら
れる。

Ｐｏ　　・（Ｖ＋ｏ＋Ｖｚｏ）　＝Ｐ＋　　・（Ｖａｔ
　＋Ｖｚｔ）・・−・−・−・・−（３） なお、上記したことも更に一般化すれば、次のように考
えられる。

即ち、浸漬時のある時点における系内の圧力をＰ、基体
側の容積をｖ４、風船の容積をＶ！とすると、下記（４
）式が成り立つものと考えられる。

ｐ　・（ｖ＋　　＋　Ｖｚ　）　＝　ｃ−−−−−−−
−−−−−（４）但し、Ｃは定数である。

上記（４）式に従って容積ｖ２が変化するような風船３
９を設定すればよいのである。

以上、基体ドラム４の浸漬動作について述べたが、次に
引き上げ動作について述べる。

即ち、矢印りで示すように基体ドラム４を引き上げ、第
１図（ａ）に実線で示す状態とする。この場合は、基体
ドラム４の引き上げが進行するに従い、上記したのとは
逆に中空部４ｃ内の圧力が減少する。この圧力減少に対
応して、風船３９内の空気は矢印臼で示すように流れ、
風船３９は実線で示す状態へと収縮する。従って、浸漬
時と同様に中空部４ｃ内の圧力は一定範囲内にとどまり
、かつ中空部４Ｃ内の空気が塗布液中に漏れ出ることも
避けられる。

基体ドラム４の引き上げが終了した時点では、塗布液液
面ばもとの位置１ａに戻り、基体ドラム外周面４ｅ上に
は、所定位置４ａの高さまで塗布が行われる。

基体ドラム４の引き上げに伴う風船３Ｂの体積変化（収
縮）の度合、圧力との関係等についても、前述した浸漬
時の場合と同様である。

系内の圧力Ｐ、は通常３００〜５００ｍｍＡｑの範囲内
とするのが好ましい。むろん、これは、塗布液ｌの比重
、溶媒、基体ドラム４の上下方向の長さ等により調整す
べき値であり、上記範囲は必ずしも一律には決定、され
得ないものである。

通常、塗布液１の比重は０．８〜１．５の範囲内とする
のが好ましい。

こうした塗布装置によれば、基体ドラム４を浸漬しても
塗布液液面は位置１ａの高さからご（僅かしか上昇せず
、基体ドラム４の浸漬、引き上げに伴う塗布液液面の上
下動はごく僅かである。従って、塗布槽側壁内周面２ｂ
に乾固物が生成することもなく、異物欠陥の発生額度を
著しく減少せしめることができ、塗布液１の成分変化、
劣化も抑制できる。ゆえに塗布の生産性も向上し、原材
料の無駄等も防止でき、コストダウンも達成できる。

しかも、特筆すべきことば、凸状部３の存在により、塗
布に必要な塗布液１の量が少なくて済むことである。即
ち、従来は、第１４図に示すように、基体ドラム４の浸
漬に伴う塗布液液面の上昇の大きさは１２と大きく、こ
の塗布液液面の位置１ｂから位置１ａへの上昇により所
定位置４ａまで基体ドラム外周面４ｅを塗布できたので
ある。

言い換えれば、仮に基体ドラム４の浸漬時に塗布液液面
が上記のように上昇しないものと仮定すると、所定位置
４ａの高さまで所望の塗布を行うことはなし得ないので
ある。

これに対し、本発明においては、凸状部３を設けたこと
により、かかる二律背反を解決できるのである。即ち、
第１図（ｂ）に示すように、仮に塗布槽底面内壁２ａに
凸状部３を設けないものと仮定すると、塗布液液面は一
点鎖線で示す位置１ｂに存在するはずであり、これでは
第１図（Ｃ１に示すように基体ドラム４を浸漬しても所
定位置４ａの高さまで所望の塗布を行うことはできない
。しかし、凸状部３を設けたことにより、凸状部３の体
積分だけ塗布液１は排除され、液面は実線で示す位置１
ａまで１１だけ大きく上昇する。従って、この状態で第
１図ｔｅｌに示すように塗布液１内へと基体ドラム４を
浸漬すると、前述のように塗布液液面の上下動を抑えな
がら、同時に所定位置４ａの高さまで所望の塗布を行え
るのである。

しかも、基体ドラム４の浸漬、引き上げ時に、前述した
圧力制御機構４０の働きにより、基体ドラム中空部４ｃ
内の圧力は予め設定されたような値に保持される。これ
により基体ドラム中空部４ｃ内への塗布液１の侵入を防
止すると共に、中空部４ｃ内の空気が塗布液１中へと漏
れるのも防止でき、結果として塗布液液面を第１図ｆｃ
）に示す位置１Ｃに保持できる。従って、基体ドラム内
周面４ｄに塗布液が塗布され、或いは付着するのを防止
できる。即ち、仮に内周面４ｄに塗布液１が塗布される
ものとすると内周面４ｄから塗布液（層）を除く煩雑な
操作が必要となり、かつ塗布液１も無駄になって材料等
のコストも上昇するため不都合である。一方、仮に中空
部４Ｃ内の空気が塗布液１中へと漏れた場合には、塗布
欠陥が生じて不都合である。本例によれば、これらの問
題は共に技術的に解決されるのであり、圧力制御手段４
０によって基体ドラム中空部４Ｃ内への塗布液１の侵入
等を防止し、上述のような煩雑な手作業を不要とし、塗
布液１の無駄を防止し、かつ材料等のコストも低くでき
、また空気漏れによる塗布欠陥も防止できる。

これらのことに加えて、本例の圧力制御手段４０は実質
的に風船３９のみからなっており、極めて構造が簡略で
あって、かつ圧力制御が風船３９の膨張、収縮によって
自動的に行われ、浸漬、引き上げの際に基体ドラム４の
動きと圧力制御手段とを同期せしめるための特別の同期
手段の如きものは必要としない。従って、装置の小型化
、コストダウンが可能である。

以上述べたように、本例の塗布装置によれば、基体ドラ
ムの・浸漬、引き上げに伴う塗布液液面の上下動を抑え
ると同時に、塗布液の必要量も少なくでき、かつ基体ド
ラム内周面への塗布液の塗布、付着を防止でき、しかも
機構が簡素でコストダウンが可能である。

第２図は他の塗布装置（いわゆるオーバーフロ一方式の
もの）を示し、同図（ａ）は概略部分断面図、同図（ｂ
）は塗布槽を示す断面図、同図（ｃ）は基体ドラムが浸
漬された状態を示す断面図である。

第２図の塗布装置において、塗布槽２の底面内壁２ａに
凸状部３が設けられていること、及び基体ドラム中空部
４ｃ内の圧力を制御する圧力制御機構４０が設けられて
いることが、著しい特徴をなしている。

なお、第２図の塗布装置は、上述の点を除けば、第１５
図の塗布装置と同様のものであり、同一機能部材には同
一符号を付してその説明は省略し、かつタンク、ポンプ
等の循環系は、第２図（ａｌを除いて図示省略する（第
７図〜第９図の塗布装置においても同様である。）。

この塗布装置の動作は第１図のものと同様である。

まず、第２図（ｎ）に示す状態から、矢印Ｃで示すよう
に基体ドラム４を塗布液１へと浸漬し、−点鎖線で示す
状Ｂ（同図（Ｃ１に示す状態）とする、中空部４Ｃの内
径は凸状部３の外径よりも若干大きくされており、基体
ドラム４の浸漬時に基体ドラム４の内周面４ｄと凸状部
３の外周面３ｂとが接触しないようになっている。この
とき、基体ドラム４の浸漬が進行するに従い、中空部４
Ｃ内の圧力は増加するのであるが、圧力制御機構４０が
前述したと同様に動作し、中空部４ｃ内の圧力は一定に
保たれる。

基体ドラム４の浸漬が終了した時点では、中空部４Ｃの
圧力が一定に保たれた結果、塗布液液面は位置１ｃの高
さにまで下がる。これにより、基体ドラム外周面４ｅの
所定位置４ａまで塗布液中に浸漬される。

次に、基体ドラム４を引き上げ、第２図（ａｌに実線で
示す状態とする。この場合は、基体ドラム４の引き上げ
が進行するに従い、上記したのとは逆に中空部４ｃ内の
圧力が減少するのであるが、圧力制御機構４０が前述し
たと同様に動作し、中空部４ｃ内の圧力は一定に保たれ
る。

基体ドラム４の引き上げが終了した時点では、塗布液液
面ばもとの位置１ａに戻り、基体ドラム外周面４ｅ上に
は、所定位置４ａの高さまで塗布が行われる。

こうした塗布装置によれば、従来のオーバーフ　　　′
ロ一方式の塗布装置の利点をあますところなく充分に享
受できる。即ち、基体ドラム４の浸漬時にも塗布液液面
の高さは一定に保たれ、従って、塗布槽側壁内周面２ｂ
に乾固物が生成することもなく、異物欠陥の発生頻度を
著しく減少せしめることができ、塗布液１の成分変化、
劣化も抑制できる。ゆえに塗布の生産性も向上し、原材
料の無駄等も防止でき、コストダウンも達成できる。

しかも、特筆すべきことは、凸状部３の存在により、塗
布に必要な塗布液１の量が少なくて済むことである。即
ち、従来は、第１５図に示すように、塗布槽２を満たす
と共にタンク１２等の循環系にも充分な量の塗布液を収
容しておく必要があり、種々の理由から多量の塗布液が
必要とされる。

これに対し、本発明においては、凸状部３を設けたこと
により、凸状部３の体積分だけ塗布液１は排除され、塗
布槽を満たすのに必要な塗布液量が非常に減少する。し
かも、塗布槽内に収容される塗布液量の減少に伴い、循
環系内の液量も少なくて済み、全体として塗布液の必要
量が大幅に減少する。また、塗布液量の減少に伴い、塗
布液の循環量（速度）を減らしてポンプを小型化するこ
とができ、フィルターの濾過面積を小さくすることもで
きる。

こうした塗布液の必要量の減少と装置の小型化により、
原材料等のコストダウンを達成でき、また塗布液が最終
的に使用限度に達した際にも、塗布液の廃棄量、入れ替
え量が少な（て済み、この点でも原材料の無駄を防止で
き、有利である。

しかも、第１図の塗布装置と同様に、圧力制御機構４０
の働きにより、基体ドラム４の浸漬、引き上げ時におい
ても中空部４Ｃ内の圧力は予め風船３９の容積、膨張率
等によって設定された値に保持され、従って中空部４ｃ
内への塗布液１の侵入及び塗布液１中への空気漏れを防
止できる。これにより、第１図の塗布装置と同様に、前
述のような煩雑な操作を不要とし、塗布液ｌの無駄を防
止し、かつ材料等のコストも低く保持できると共に、空
気漏れによる塗布欠陥の発生も防止できる。

また、圧力側′４Ｂ機構４０が実質的に風船３９のみか
らなっていることから、装置の小型化、コストダウン等
を図れる点も、第１図の塗布装置と同様である。

以上述べてきたように、本例の塗布装置により、従来の
オーバーフロ一方式による利点を充分に享受しつつ、塗
布液の必要量を少なくすることができ、かつ基体ドラム
内周面への塗布液の塗布、付着も防止でき、更に装置の
小型化、コストダウンも達成しうる。

第３図は他の圧力制御手段５０を示すものである。

本例においては、第１図、第２図の例における風船３９
の代りに、チューブ２７に蛇腹４９を連結した点が特徴
である。蛇腹４９は、前述した風船３９と同様の作用を
営むものである。

第４図は他の塗布装置を示す断面図である。

本例においては、凸状部１３の高さが液面の位置１ａよ
りも高くされている。図中、１３ａは中空部、１３ｂは
凸状部外周面である。他は第１図の塗布装置と同様であ
り、基体ドラム中空部４Ｃは開ロアを介して図示省略し
た圧力側／４Ｂ機構４０（第１図参照）に通じている。

これらの点は、第５図、第６図の塗布装置においても同
様である。

第５図は更に他の塗布装置を示す断面図である。

本例においては、上方に開口２３ｃを有する円筒状の凸
状部２３が設けられている。凸状部２３の上端は液面の
位置１ａよりも高くされており、空間２３ａ内に塗布液
ｌが流入しないようにされている。なお、２３ｂは凸状
部外周面である。

第６図は更に他の塗布装置を示す断面図である。

本例においては、開ロアが塗布槽底面２ｃに設けられて
いる。

第７図、第８図、第９図はそれぞれ更に他の塗布装置を
示す断面図であり、いずれもオーバーフロ一方式による
ものである。

第７図の例においては、凸状部１３の高さが液面の位置
１ａよりも高くされている。他は第２図の塗布装置と同
様であり、基体ドラム中空部４ｃは開ロアを介して図示
省略した圧力制御機構４０（第２図参照）に通じている
。これらの点は、第８図、第９図の塗布装置においても
同様である。

第８図の例においては、上方に開口２３ｃを有する円筒
状の凸状部２３が設けられている。凸状部２３の上端は
液面の位置１ａよりも高くされている。

第９図の例においては、開ロアが塗布槽底面２ｃに設け
られている。

第１０図は更に他の塗布装置を示す概略一部所面図であ
る。

本例においては、開ロアが塗布槽底面２Ｃと基体ドラム
４とに共に設けられており、複数の開口を通して圧力制
御機構４０に連結されている点が特徴である。なお、こ
うした構成のものは、系内の空気の量が第１図の塗布装
置に比較して多いと考えられる。

本発明を電子写真感光体の構成層、特に感光層の塗布形
成に適用した場合は、異物欠陥に起因する画像欠陥（例
えば黒ポチ）の発生を抑制でき、感光体の生産性、原材
料費等のコストダウン（例えばキャリア発生物質等）の
点で特に有利である。

また、特に本発明をオーバーフロ一方式の塗布装置に適
用し、かつキャリア発生層形成用塗布液に適用した場合
には、特に効果が大であると考えられる。粒状のキャリ
ア発生物質とキャリア輸送物質とを共に含有せしめた単
層構成の感光層もこれに該当する。なぜなら、これらの
塗布液は、通常粒状の顔料を液中に分散せしめた顔料分
散系であり、顔料には結晶形の変化し易いものが多く、
循環することによる粘度変化、ａｎ料の結晶形変化など
の影響が大きいからである。従って、本発明の塗布装置
により塗布液量、塗布液の循環量を減少せしめれば、そ
れだけコスト的に有利と考えられるのである。

第１１図〜第１３図はそれぞれ本発明の塗布により層形
成される電子写真感光体の一例を示すものである。

第１１図の感光体においては、導電性基体３０の上に第
１層としてキャリア発生層３１が設けられ、キャリア発
生層３１の上に、第２層としてキャリア輸送層３２が設
けられている。第１２図の感光体は、導電性基体３０側
から見て、第１層としてキャリア輸送層３２、第２層と
してキャリア発生層３１を順次Ｍｉ層したものである。

第１３図の感光体は、第１層として、キャリア発生物質
とキャリア輸送物質との双方を含有する単層構造の感光
層３３を有するものである。

むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗設層
の数、種類は第１１図〜第１３図の例に限定されるもの
ではなく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体
の設計意図に応じて自由に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下引
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保護層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれぞ
れ下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるも
の、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の、第１層、第２層、第３層、第４層がそれぞれ下引き
層、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の、或いは下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層
、保護層であるもの等が挙げられる。

下引き層は、アクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル
系、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェ
ノール系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボ
ネート系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル・酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイ
ン酸共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素等のアゾ系色素、べυレン酸無水物、ペ
リレン酸イミド等のペリレン系色素、インジゴ、チオイ
ンジゴ等のインジゴ系色素、アンスラキノン、ピレンキ
ノンおよびフラバンスワン類等の多環キノン類、キナク
リドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色素、インダ
スロン系色素、スクェアリリウム系色素、金属フタロシ
アニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔
料、ピリリウム塩色素、チアピリリウム塩色素とポリカ
ーボネートから形成される共り錯体等、公知各種のキャ
リア発生物質を適当なバインダー樹脂及び必要によりキ
ャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或いは分散し、塗布
することによって形成することができる。

またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノン或
いはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送し易い
電子受容性物質のほかポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールに
代表されるような複素環化合物を側鎖に有する重合体、
トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダ
ゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、ポリアリールアルカ
ン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導
体、アミノ置換力シレコン誘導体、トリアリールアミン
誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、フェ
ノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送しやすいキャ
リア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒に溶解
し、傅布、乾燥して形成することができる。

また単層構成の感光層は、上記のようなキャリア発生物
質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共に
溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって形成
することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂（例えばス
チレン−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリル酸
メチル共重合体）、アクリロニトリル系共重合樹脂（例
えば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等）、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコ
ン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えばフェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂等）、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルフォルマール等のフィルム形成性高分子重合体が
好ましい。

また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹脂
としてポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエス
テル樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等、並び
にこれらの樹脂の繰り返し単位のうち２つ以上を含む共
重合体樹脂等によって形成することができる。

キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロホルム、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエ
タン、１．１．２−トリクロルエタン、１．１．２．２
−テトラクロルエタン、１，１．２−）リクロルプロパ
ン、１゜１．２．２−テトラクロルプロパン、１．２．
３−トリクロルプロパン、１，１．２−）ジクロルメタ
ン、１．２．３．４−テトラクロルブタン、テトラヒド
ロフラン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジ
オキサン、メタノール、エタノール、イソプロパツール
、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メ
チルセルソルブアセテート、ｎ−ブチルアミン、ジエチ
ルアミン、エチレンジアミン、イソプロパツールアミン
、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。

又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するだめの溶媒としては、これらを均一
に溶解するものが選択されるが、沸点（ｂ　ｐ）が８０
℃〜１５０℃のものが好ましり、９０℃〜１２０℃のも
のがより好ましい。沸点が８０℃未満では乾燥が早すぎ
て結露し、ブラシングを生じ易（、又、乾燥が早すぎて
レベリングができず、平滑な感光層が得られなくなり易
い。また、１５０℃を超えると液垂れ、塗布むらが生じ
易い。具体的には、ジクロルメタン、１，２−ジクロル
エタン（ｂ　ｐ　＝８３．５℃）、１．１．２−）ジク
ロルエタン（ｂ　ｐ　＝　１１３．５℃）、Ｌ４−ジオ
キサン（ｂ　ｐ　＝１０１．３℃）、ベンゼン（ｂ　ｐ
　＝８０．１°Ｃ）、トルエン（ｂ　ｐ＝１１０．６℃
）、ｏ、ｍ、ｐ−キシレン（ｂｐ＝１３８〜１４４℃）
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノクロルベンゼ
ン等が挙げられる。また、沸点が８０℃〜１５０℃の範
囲にない溶媒でも高沸点溶媒と低沸点溶媒の混合により
、沸点調整を行うことができる。

また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層のキャリア輸送層、下引き層等が存在する場合に
は、これらを不当に溶解又は膨潤しないものが選択され
る。特に、上記のうち、トルエン、クロロホルム、ジク
ロルメタン、１，２−ジクロルエタン、１゜１．２−）
ジクロルエタン、１．Ｌ、２．２−テトラクロルエタン
、テトラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジオキサ
ンは、キャリア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好
ましい溶媒である。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量に対し１〜１１００００ｐｐが好ま
しく、より好ましくは１０〜１１０００ｐｐである。

また、感光層中には、残留電位及びメモリー低減を目的
として、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸
等の電子受容性物質を、好ましくはキャリア発生物質１
００重量部当り０．１〜１００重量部の割合で添加する
ことができる。更に又、感光層中には、必要により感度
向上、メモリー低減を目的としてブチルアミン、ジイソ
ブチルアミン等の有機アミンをキャリア発生物質のモル
数以下のモル数で含有せしめてもよい。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。

更に又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用でき
れば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点がある
。

導電性基体の形状、材質等は特に限定されないが、形状
としては同筒状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、アルミニウム合金等の金属板、金属ドラム
、又は導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合
物若しくはアルミニウム、パラジウム、金等の金属より
なる導電性薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段によ
り、紙、プラスチックフィルム等の基体に設けて成るも
のが用いられる。

キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液あ
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。

（ロ）キャリア発生物質をボールミル、ホモミキサー等
によって分散媒中に微細粒子とし、必要に応じてバイン
ダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方
法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。

感光層、下引き層、保護層等の感光体構成層の形成用塗
布液は、粘度を５〜５００ｃｐ　　（センチポイズ）の
範囲内とするのが好ましく、１０〜３００ｃｐの範囲内
とするとより好ましい。粘度が上記範囲より小さいと塗
膜にタレを生じ易く、ドラム上部より下部の方が厚膜と
なる傾向があり、上記範囲より大きいと塗布槽中の塗布
液の粘度が不均一になり易く、塗膜に膜厚ムラを生じる
傾向がある。

塗布乾燥後のキャリア輸送層の厚みは５〜５０μｍの範
囲とするのが好ましい。５μｍ未満では所望の帯電能（
＋５００〜８００Ｖ）が得られず、又、十分なキャリア
輸送機能を発揮できないことがあり、５０μｍを超える
と帯電能が高すぎ（１０００Ｖ以上）、画質が荒れ易く
、解像力も落ち、残留電位大となり易い。バインダー樹
脂１００重量部当りのキャリア輸送物質の量は、２０〜
２００重量部、好ましくは３０〜１５０重量部の範囲に
納まるようにするのがよい。２０重量部未満ではキャリ
ア輸送機能が低く、感度低下、残留電位が増加し、２０
０重量部を超えると粘度、表面張力が大きく塗布加工性
が悪くなり易い。

また、塗布乾燥後のキャリア発生層は、通常、その厚み
が０，０５〜１０μｍとされる。０．０５μｍ未満では
キャリア発注能が不足し、又、均一塗布がしに（＜、１
０μｍを超えると発生したキャリアがトラップされ、逆
に感度が低下し易い。バインダー樹脂１００重量部当り
キャリア発生物質の量は５〜５００重量部、好ましくは
２０〜１００重量部とするのが良い。キャリア発生物質
が５重量部未満ではキャリア発生能が不足し、５００重
量部を超えるとキャリアがトラップされ、感度低下、メ
モリー発生が生じ易い。また、必要により含有せしめる
キャリア輸送物質の量は、バインダー樹脂１００重量部
当り、２０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重
量部の範囲に納まるようにするのがよい。

単層構成の感光層の場合、塗布乾燥後の層厚は１０〜５
０μｍであることが好ましい。層厚が上記範囲より小さ
いと帯電能が小さく、耐剛性にも劣る。

また層厚が上記範囲より大きいと、却って残留電位が上
昇すると共に、十分な輸送能が得がたくなる傾向がある
。

感光体表面に設けられる保護層の層厚は０．０１〜１μ
ｍの範囲内とするのが好ましい。また、感光層と導電性
基体との間に設けられる下引きＮ（或いは中間層、バリ
ア層、接着層等）の層厚は０．０１〜２μｍの範囲内と
するのが好ましい。

基体ドラムの直径と円筒状凸状部の外径（直径）との比
は１００：９Ｂ〜１００：５０の範囲内であるのが好ま
しい。これにより、凸状部の体積も塗布液液面を押し上
げるのに充分大きくなり、また場合によって、基体ドラ
ムと凸状部が接触するおそれもないと考えられる。

なお、感光体構成層の形成に際しては、ブレード塗布、
スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法を併用して
もよい。

以下、本発明の実施例をより具体的に説明するが、本発
明はこれにより限定されるものではない。

〈塗布液の調整〉 まず、以下のようにして、塗布液を調製した。

キャ１ア　　　ノ　　塗ｔ′のｉ已−１１．２−ジクロ
ルエタン（関東化学社製）（沸点８３．５℃）１００ｍ
Ｉｔ中に、バインダー樹脂としてポリカーボネート（パ
ンライトＬ−１２５０、奇人化成社製）　５．０　ｇを
溶解した。また、キャリア発生物質として４，１０−ジ
ブロムアンスアンスロン１０ｇをボールミル中で２４時
間粉砕し、これに上記溶液を加えてボールミルで更に２
４時間分散し、粘度１６０ｃｐのキャリア発生層形成用
塗布液（分散液）を得た。

ギヤ１ア今゛−ノ　　徐ｔ２ １．２−ジクロルエタン（関東化学社製）　１０１００
Ｏ中に、バインダー樹脂としてポリカーボネート樹脂（
パンライトＬ−１２５０、奇人化成社製）１００ｇを溶
解し、かつキャリア輸送物質として、１゜１−ビス（４
−Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノ−２−メチルフェニル）ノ
ルマルブタン１００　ｇを溶解して、キャリア輸送層形
成用塗布液を調製した。

く塗布実験ｌ〉 去血炭上 第１図の塗布装置を用いて塗布実験を行った。

塗布槽２の直径を１２０ＩＩＩ１１、高さを３５０ｍｍ
とし、凸状部３の直径を７５ｍｍ、高さを３ＱＱａ＋ｍ
とした。

上記のキャリア発生層形成用塗布液、キャリア輸送層形
成用塗布液をそれぞれ塗布槽内へと収容し、基体ドラム
上にキャリア発生層、キャリア輸送層を順次塗布形成し
、負帯電使用の電子写真感光体を連続して１００本製造
した。但し、基体ドラムとしてば８０ｍｍφＸ　３５０
ｍｍのアルミニウム製円筒状導電性基体を用いた。

ル較炎１ 第１５図に示す塗布槽を用い、実施例１と同様の条件下
に、負帯電使用の感光体を１００本連続して製造した。

但し、塗布槽の直径を８０ＩＩＩＩ１１、高さを３５０
１ＩＩＩＩ＋とした。

く塗布実験１の結果〉 尖施五上 キャリア発生層については、塗布液量が最初２１、追加
分０．５１で、計２．５１必要であった。

キャリア輸送層については、塗布液量が最初２１、追加
１１で、計３１であった。

感光体１００本のうち、良品は９０本であり、残りの１
０本には塗布欠陥（異物欠陥）が見られた。

且笠皿工　。

キャリア発生層、キャリア輸送層の塗布液量は、共に実
施例と同様であった。

また、感光体１００本のうち、良品は８０本であり、残
りの２０本には塗布欠陥（異物欠陥）が顕著であった。

以上のように、実施例１の塗布装置によれば、。

必要な塗布液量は同程度であるにもかかわらず、塗布液
の劣化が抑えられ、塗布欠陥の発生頻度が著しく減少し
、生産性が向上していることが明らかである。

く塗布実験２〉 実施皿Ｉ 第２図の塗布装置を用いて塗布実験を行った。

塗布槽２の直径を２４０＋ａｍ　、高さを３５０ｍｍと
し、凸状部３の直径を１９０ｍｍ　、高さを３００ｍｍ
とした。

上記のキャリア発生層形成用塗布液、キャリア輸送層形
成用塗布液をそれぞれ塗布槽内へと収容し、基体ドラム
上にキャリア発生層、キャリア輸送層を順次塗布形成し
、負帯電使用の電子写真感光体を連続して１００本製造
した。但し、基体ドラムとしては２００ｍｍ　φＸ　３
５０ｍａ＋のアルミニウム製円筒状導電性基体を用いた
。

ル較１ 第１５図に示す塗布槽を用い、実施例と同様の条件下に
、負帯電使用の感光体を１００本連続して製造した。但
し、塗布槽の直径２４０ｍｍ　、高さを３５０ｍｍとし
た。

〈塗布実験２の結果〉 実見■叢 キャリア発生層については、塗布液量が最初１０１（塗
布槽に６１、配管に４１）、追加分１βで、計１１Ｎ必
要であった。

キャリア輸送層については、塗布液量が最初１０１（塗
布槽に６１、配管に４１）、追加分２βで計１２Ｊであ
った。

感光体１００本のうち、良品は９６本であった。

北較訓１ キャリア発生層については、塗布液量が最初２２１（塗
布槽に１６１、配管に６１）、追加分１１で、計２３１
必要であった。

キャリア輸送層については、塗布液量が最初２２７！（
塗布槽に１６１、配管に６１）、追加２１で計２４１で
あった。

感光体１００本のうち、良品は９６本であった。

く塗布装置〉 なお、ポンプの容量を流量２０ｇ／ｗｉｎ　　（比較例
２）から２１／ｌｌ１ｎ　　（実施例２）へと小型化で
きた。また、フィルターの濾過面積を１３０００　ＣＩ
＋！　（比較例２）から１３００ｃＪ　（実施例２）へ
と小型化できた。

以上のように、実施例の塗布装置によれば、必要な塗布
液量が半分以下に抑えられ、ポンプの容量、フィルター
の濾過面積も小さくできることが明らかである。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の態
様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能であ
る。

例えば塗布槽、被塗布体、凸状部の寸法、形状、位置等
は種々であってよい。

また、圧力制御手段も種々であってよく、風船、蛇腹以
外のものも使用可能であり、要は基体ドラム中空部等の
圧力の増大、減少に応じて体積変化（膨張、収縮等）す
るものであればよい。例えば、種々の弾性変形体等が考
えられる。また、基体ドラム中空部内の圧力が増大した
場合に収縮し、圧力が減少した場合に膨張するものであ
ってもよい。

へ０発明の効果 本発明の塗布装置によれば、塗布槽内壁に凸状部が設け
られ、前記被塗布体を浸漬するに際して前記凹部へ前記
凸状部が挿入されるように構成しであるので、塗布槽内
において凸状部により塗布液が排除されるため、排除さ
れた分だけ少ない液量の塗布液をもって被塗布体を所定
位置まで塗布できると共に、被塗布体の浸漬、引き上げ
時において凸状部の体積分だけ塗布液の上下動を小さく
できる。これにより、塗布槽側壁における乾固物生成を
抑制して異物欠陥の発生頻度を著しく減少せしめると共
に、塗布液の必要量を減らしてコストダウンを達成でき
る。

また、被塗布体の凹部内の圧力を制御する圧力制御手段
が設けられているので、被塗布体の浸漬、引き上げ時に
、凹部内の圧力を制御して、凹部内への塗布液の侵入や
凹部内の空気が塗布液中へと漏れるのを防止できる。従
って、凹部内への塗布液の塗布、付着を避けて、塗布液
の無駄や塗布され、付着した塗布液を除く煩雑な作業を
不要とすると共に、空気漏れによる塗布欠陥も生じない
ようにできる。

更に、被塗布体の凹部内の圧力が変化する際には前記圧
力制御手段が体積変化するように構成されているので、
構造が簡略であって、圧力制御が比較的自動的に行われ
、特別の圧力計測手段や同期手段の如きものは特に必要
とせず、有利である。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第１０図は本発明の実施例を示すものであって
、 第１図は塗布装置を示し、同図ｔａ）は塗布装置を示す
概略部分断面図、同図化）は塗布槽を示す断面図、同図
（Ｃ１は塗布液に基体ドラムを浸漬した状態を示す断面
図、 第２図は他の塗布装置を示し、同図（ａ）は塗布装置を
示す概略部分断面図、同図（ｂ）は塗布槽を示す断面図
、同図（Ｃ）は塗布液に基体ドラムを浸漬した状態を示
す断面図、 第３図は他の圧力制御手段を示す概略断面図、第４図、
第５図、第６図、第７図、第８図、第９図はそれぞれ更
に他の塗布装置を示す断面図、第１０図は更に他の塗布
装置を示す概略部分断面図 である。 第１１図、第１２図、第１３図はそれぞれ電子写真感光
体の一例を示す断面図である。 第１４図、第１５図はそれぞれ従来の塗布装置を示す断
面図である。 なお、図面に示す符号において、 １〜・−・−・−・塗布液 １ａ、１ｂ、ｌ　ｃ　−−−−−−−−−−−一塗重液
’ｌ＆　面（７）　位に２・−・−・−一−−−−−塗
布槽 ２　ｄ−−−−−−・−−−ｍ−−・塗布槽側壁２ｅ−
−−−−・−・−・−塗布槽側壁上縁部３．１３．２３
−・−・−・−凸状部 ３ａ、１３　ａ−−−−−−−・−・・中空部３ｂ、１
３ｂ、２３ｂ・−・・−・・−一−−−−−凸状部外周
面４−−−−−−−−−−−・−基体ドラム４　ａ　−
−−−−−−−−−・−所定位置４　ｃ−−−−−−−
−−−−−一中空部４ｄ・・−・−・−−一−−−−−
基体ドラム内周面？−−−−−−−−・−・・開口 ９−−−−−−−−−−・−乾固物 ２３　ａ−一−−〜−−−−−−−−−空間２７−−−
−−−−−−・−チューブ ３９−−−−−−−−−−−−−・風船４０．５０・−
−−一−−−−−−−−圧力制御手段４９−−−−−−
−−−−−−一蛇腹 β１−−−−＝−凸状部による液面の上昇分の大きさ １２−−−−−−・−一一一−・−浸漬に伴う液面の上
下動の大きさである。 代理人　　弁理士　　逢　坂　　　宏 第３図　　　第４図 第５図　　　第６図 第７図　　　第８図 第９図 第１０図 第１１図 第１２図 第１３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、塗布槽内に収容されている塗布液に凹部を有する被
   塗布体を浸漬し、この被塗布体を引き上げることによっ
   て前記塗布液を前記被塗布体に塗布する塗布装置におい
   て、前記塗布槽内壁に凸状部が設けられ、前記被塗布体
   を浸漬するに際して前記凹部へ前記凸状部が挿入される
   ように構成され、前記凹部内の圧力を制御する圧力制御
   手段が設けられ、かつ前記凹部内の圧力が変化する際に
   は前記圧力制御手段が体積変化するように構成されてい
   ることを特徴とする塗布装置。