JPH0214769A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は塗布装置及び塗布方法に関するものでリア発生
機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分担さ
せることにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光
体を開発する試みがなされている。このようないわば機
能分離凰の電子写真感光体においては、各機能を発揮す
る物質を広い範囲のものから選択することができるので
、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作
製することが可能である。

かかる電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際して
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。

なかでも、円筒状の被塗布物（導電性基体等）に均一な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。

こうしたデイツプ塗布方法により円筒状導電性基体（中
空のもの。以下、基体ドラムと呼ぶことがある。）の表
面に塗布を行う場合、中空の基体ドラムをそのまま浸漬
したのでは円筒状基体の両端が開口となっていることか
ら基体ドラムの中空部分に塗布液（塗料）が入り込み、
内壁面に塗布液が付着し、無駄となる。従って、これを
防止するため、基体ドラムの浸漬時に基体ドラム上端部
を閉塞させることが行われている。

第９図はこうした方法によるデイツプ塗布装置を示す断
面図である。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容されており、デイ
ツプ塗布時には基体ドラム４を開口部４ｂを下向きにし
て塗布液１へを浸漬する。基体ドラム４の上端側聞口４
ｆは蓋５により閉鎖されており、蓋５の外周面と基体ド
ラム内周面４ｄとの間にはリング１０が設けられ、空気
洩れを防止している。基体ドラム４を浸漬すると、基体
ドラム４内の中空部４Ｃを満している空気圧のために塗
布液１の液面が位置１ｃにまで低下する。一方、基体ド
ラム外周面４ｅと塗布槽側壁２ｄとで挟まれた領域では
、塗布液１が位置１ａにまで上昇し、この結果、基体ド
ラム外周面４ｅは所定高さ４ａまで塗布される。

そして、浸漬終了後、蓋５の把手５ａを把持して基体ド
ラム４を所定速度で引き上げ、基体ドラム外周面４ｅ上
に高さ４ａまで塗膜が形成される。

しかし、このような塗布装置では、基体ドラム４の浸漬
、保持、引き上げ時に、塗布液１中の溶剤が位置１Ｃに
存在する塗布液液面から中空部４リレ Ｃ内へと蒸発するため、中空部内の空気か点鎖線１ｄの
ように膨らみ、基体ドラム４の引き上げ時に開口部４ｂ
側から泡３３を生じることが多い。

そして、この泡３３により塗布液１が揺れ、基体ドラム
上の塗膜にムラを生じ、均一な塗膜が得られなくなる。

かかる問題を解決する方法として、例えば以下のような
ものが知られている。

ａ）　特開昭５９−８０３６３号公報記載の方法両端が
開放状態にある円筒状基体ドラムの下端部を′ｅ！１布
腹中に浸漬し、基体ドラムの下端部の中空部分に塗布液
を浸入させる。しかる後に基体ドラムの上端部を密閉し
、この密閉状態で基体ドラムを塗布液中に浸漬させる。

しかし、この方法では、基体ドラムの浸漬と同期させつ
つ、所定位置まで基体ドラム中空部内に塗布液が浸入す
ると共に基体ドラム上端部の密閉を行なわなければなら
ない。従って、制御が複雑かつ困難となり、生産性も低
下する。

るパイプ９を設け、塗布液１の液面よりもパイプ９の上
端開口９ａの方が上方に位置するようにする。パイプ９
の他端には風船状の伸縮自在の空気室２８を設けである
。そして、基体ドラム４を浸漬したときには中空部４ｃ
内の空気がパイプ９を通して空気室２８内に流入し、空
気室２８が実線で示すように膨張し、基体ドラム４Ｃ内
の空気の一部を抜く。これに伴い、塗布液液面は位置１
ｅの高さへと若干上昇する。基体ドラム４を引き上げる
と、空気室２８は仮想線で示すように収縮する。

しかし、この方法では、抜いた空気を貯える空気室を塗
布槽の外に別個に設げる必要があり、場所をとる上に、
コスト的にも不利となる。

Ｃ）　実開昭６１−１５５０７１号公報記載の方法第１
１図に示すように、塗布槽底面２Ｃを貫通するパイプ９
が設けられ、基体ドラム４を浸漬した状態で基体ドラム
４の下端よりもパイプ９の開口９ａが上方に位置するよ
うにする。この状態でパルプ１８を開栓して中空部４Ｃ
内の空気を抜き塗布液液面を位ｔ１ｅの高さにまで上昇
させる。

そして、基体ドラム４を上昇させるときには、／　＜ル
プ１８を閉じる。

しかし、この方法では、バルブの開閉操作を基体ドラム
の浸漬、引き上げと同期させつつ行う必要があり、制御
が極めて煩雑かつ困難である。

ｄ）　基体ドラムの下端部に蓋を嵌めて密閉する方法も
知られている。しかし、これでは両者の嵌め合せ及び位
置極めが困難であってロボット等による制御に向かず、
かつ基体ドラムの浸漬時に中空部の体積分の浮力がかか
ることから、浮力が非常に大きく、位置制御、姿勢制御
が困難となる。

ハ、発明の目的 本発明の目的は、被塗布体の凹部内への塗布液溶剤蒸気
の蒸発による気泡の発生及びこれによる塗布ムラの発生
を、簡略に煩雑な制御手段等によらずに防止でき、しか
も余計な設備を必要としないような塗布装置及び塗布方
法を提供することである。

二、発明の構成 第一の発明は、凹部な有する被塗布体を塗布槽内に収容
されている塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液
に対して相対的に引き上げることによって前記塗布液を
前記被塗布体に塗布する塗布装置において、前記塗布液
中を浮遊体が浮遊し、この浮遊体の少なくとも一部が前
記塗布液の液面より露出し、かつ前記被塗布体を浸漬す
るに際して前記浮遊体のうち少なくとも前記塗布液の液
面より露出している部分が前記凹部内に収容されるよう
に構成したことを特徴とする塗布装置に係るものである
。

第二の発明は、塗布槽内に収容されている塗布液中を浮
遊体が浮遊し、この浮遊体の少なくとも一部が前記塗布
液の液面より露出し、凹部を有する被塗布体を前記塗布
液に浸漬するに際して前記浮遊体のうち少なくとも前記
塗布液の液面より露出している部分を前記凹部内に収容
し、かつ前記被塗布体が前記塗布液に浸漬されている状
態から前記被塗布体を前記塗布液に対して相対的に弓き
上げることによって前記塗布液を前記被塗布体に塗布す
る塗布方法に係るものである。

ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

以下の実施例において、従来の塗布装置と同一の機能を
有する部材には同一の符号を付し、その説明は省略する
。

第１図、第２図は最初の実施例を示すものである。

第１図（ａ）は塗布装置を示す断面図、同図（ｂ））ま
同図（ａｔのＩｂ−１ｂ線矢視断面図、第２図（ａ）は
食布槽を示す断面図、同図（ｂ）は塗布槽の平面図であ
る。

本例においては、塗布液１中に浮遊物３０を浮遊させて
いる点が顕著な特徴をなす。

すなわち、塗布液１には円錐形の浮遊物３０が浮遊させ
られており、浮遊物３０の比重は塗布液１の比重よりも
小さく設定されていて、浮遊物３０−′シ の円錐台状部分３０ｃは塗布液中に渡し、先端側の円錐
部分３０ｂは塗布液液面より外気側へと露出している。

なお、図中、３０ａは頂点である。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容されており、デイ
ツプ塗布時には、第１図に示すように基体ドラム４を開
口部４ｂを下向きにして塗布液１へと浸漬する。この際
、基体ドラム４が塗布液液面く近づくにつれ、まず浮遊
物頂点３０ａが中空部４Ｃ内へと収容され、引きつづい
て先端側円錐部分３０ｂが中空部４ｃ内へと収容される
。基体ドラム下端面が塗布液液面に接触するまでの間、
浮遊物円錐部分３０ｂの体積に相当する分の空気が中空
部４ｃ内より排出される。

更に基体ドラム４の浸漬を続けると従来の塗布装置と同
様に基体ドラム中空部４ｃ内の空気により塗布液１が排
除され、塗布液液面は位置１ｃにまで低下する。しかる
後に、基体ドラム４を塗布槽２より引き上げ、塗布が終
了する。

このとき、特に注目すべきことは、基体ドラム４を塗布
液中に浸漬している状態で、基体ドラム中空部４ｃの下
側の塗布液液面が浮遊物円錐部分３０ｂにより排除され
、中空部４ｃに面している液面面積が非常に小さくなっ
ていることである。

これによる効果は後述する。

浮遊物３０は、テフロン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等のプラスチック等により製造できる。

この際、プラスチック自体は比重が塗布液よりも大きく
なるため、所定形状のプラスチック成形体の内部を空洞
として塗布液に浮くようにする。また、プラスチック薄
膜により風船様に浮遊物３０を形成してもよく、金属薄
膜等によるダイヤフラムを浮遊物３０として用いてもよ
い。

本例の塗布装置によれば、以下の効果を奏しつる。

（ａｔ、第１図に示すように、基体ドラム４の浸漬時に
、基体ドラム中空部４Ｃに面している塗布液液面の面積
が著しく減少している。従って、基体ドラム４を塗布液
１中に浸漬した後、引き上げるまでの間、塗布液液面か
ら中空部４ｃ内へと蒸発する塗布液溶剤の量は、著しく
減少する。これにより、中空部４ｃ内の溶剤蒸気はあま
り増大せず、中空部４Ｃ内の気体の膨張が抑制されるの
で、基体ドラム下端側から気泡が発生することはない。

よって、塗布液の揺れを防止でき、塗膜ムラの発生を防
止できる。

特に、電子写真感光体においては、感光層の塗膜ムラを
防止できる結果として、複写、画像上の画像ムラを防止
でき、均一な画像を提供できる。

基体ドラム４Ｃに面している塗布液液面の面積を、浮遊
物が存在しない場合と比較して５０％以下（更には２０
％以下）とすれば、上記効果が一層顕著となる。

（ｂ）、塗布槽に浮遊物を浮べているだけで、基体ドラ
ム中空部内への塗布液溶剤の蒸発量を減少させている。

従って、操作が簡便であり、従来のパルプが開閉動作の
ような制御は一切必要としない。

従って、基体ドラムの浸漬、引き上げを円滑かつ連続的
に行えるので生産性が向上し、塗布装置自体にも特別な
制御機構を設ける必要がないので、装置を簡略化できる
。

（ｃ）、空気室を塗布槽外に別個に設けておらず、従り
て設備がより簡略であり、場所をとらない。

（ｄ）、基体ドラム４を浸漬した状態では、塗布液液面
が基体ドラム外周面４ｅ側で所定位置１ａにまで上昇し
、これにより基体ドラム外周面４ｅ上に所定位置（高さ
）４ａまで塗布が行われる。

この際、本例の塗布装置では、浮遊物３０のうち塗布液
液面下に没している円錐台状部分３０ｃの体積分だけ塗
布液１が排除される。従りて、この円錐台状部分３０ｃ
の体積分だけ塗布液１の量を少なくしても、基体ドラム
４の浸漬時に塗布液液面は所定位置１ａに達する。よっ
て、円錐台状部分３０ｃの体積分だけ塗布液１を節約で
きる。

（ｅ）、浮遊物３０が頂点３０ａを上向き和した円錐形
をなしているので、基体ドラム浸漬時に塗布液液面から
露出している先端側円錐部分３０ｂが基体ドラム中空部
４ｃ内へと挿入され、浮遊物３０の位置極めが自動的に
なされる。

げ）、なお、先端側円錐部分３０ｂの体積を変えても、
基体ドラム下端側からの気泡発生に影響しない。基体ド
ラム浸漬時には、まず先端側円錐部分３０ｂが基体ドラ
ム中空部４Ｃ内に収容され、円錐部分３０ｂの体積分だ
けの空気が中空部４ｃより排出され、しかる後に基体ド
ラム下端が塗布液液面に達するからである。

浮遊物３０の頂角を６０＠　り上とすると浮遊物３０が
より安定に浮遊する。また、１２０°以下とすると、上
記位置極めの効果が顕著となる。

第３図は他の塗布装置を示すものである。

第３図（ａ）は塗布槽に基体ドラムを浸漬した状態を示
す断面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の１ｌｂ−１１ｂ線
矢視断面図、同図ｆｃ）は本例の塗布装置自体いる浮遊
物を拡大して示す正面図である。

本例の塗布装置においては、円盤状の基部４０ａの中央
（でガイド俸４０ｂを設げた浮遊物４０を用いている。

そして、浮遊物４０を塗布液１に浮遊させた状態では、
塗布液１中に基部４０ａの下部４０ｄが浸漬され、基部
４０ａの上部４０ｃが塗布液１より露出する。

本例においても、上述の例と同様の効果を奏しつる。ま
た、例えば基部４０ａを比重の軽いもの（上述の浮遊物
３０と同様の材質）で製造し、ガイド棒４０ｂは他の異
なる材質を用いて製造し、両者を接着等により接合する
こともできる。

第４図は更に他の塗布装置を示すものであり、いわゆる
オーバーフロ一方式によるものである。

浮遊物３０については第１図、第２図の例と同様であり
、その説明は省略する。この点は、後述する第５図の例
でも同様である。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容され、塗布槽２の
側壁２Ｃの周囲には受は皿６が設けられている。塗布液
１は、タンク１２からポンプＣＰ”）１０によって送り
出され、フィルター（Ｆ）、３を介して、供給口Ｔより
塗布槽２内へと供給され、更に側壁２ｃの上縁部２ｅを
越えて塗布槽２の円周から外へとｉｌ！流し、受は皿６
で集められ、排出口８よりタンク１２へと排出される。

基体ドラム４は塗布液１内に浸漬され、次いで基体ドラ
ム４が所定の速度で引き上げられ、デイツプ塗布が施さ
れる。このデイラグ塗布時に、上述のように塗布液１が
側壁２ｄの上縁部２ｃを越えて溢流し絖ゆでいるので、
塗布液液面の高さが一定に保たれる。

本例によれば、上述の（ａ）〜（ｆｌの効果を奏しうる
他、塗布液液面の高さが一定に保たれるため、塗布槽側
壁内周面に乾固物が生成することなく、これによる異物
欠陥を防止できる。

第５図（ａ）は更に他の塗布装置を示す概略部分断面図
、同図（ｂ）は同図（ａ）のｖｂ−ｖｂ線矢視断面図で
ある。

本例においては、塗布槽側壁２ｄの外周に一定の間隔を
おいて同心円状に外壁１５が設ゆられ、塗布槽側壁２ｄ
と外壁１５とで挟まれた領域に塗布液受は部１１が設け
られている点に顕著な特徴を有する。

即ち、塗布槽２に収容されている塗布液１は、塗布槽側
壁上縁部２ｅを外周方向に一様に越え、側壁外周２ａを
濡らしながら、その形状に沿って薄膜をなしつつ低速で
流下する。

塗布液受は部１１は塗布液を収容する塗布液収容部、即
ち一種の塗布液溜めとしても機能するものであり、側壁
外周２ａに沿って流下した塗布液１は図示するように塗
布液受は部１１の下部に収容される。塗布液受は部１１
の最下端には排出口１７が設けられ、塗布液受は部１１
に一旦収容された塗布液１は排出口１７から排出され、
ポンプ１０、フィルター３を経由して供給ロアから塗布
槽２内へと供給される。

本例では、上記（ａ）〜（ｆ）の効果の他、以下の効果
を奏しつる。

（ｇ）、塗布液が塗布槽側壁外周に沿って流下するので
、流下面積が非常に大きく、また塗布液が塗布槽側壁外
周を濡らしながら流下する。従って、結果として塗布液
の流下速度は非常に小さく、流下も静かに行われ、気泡
を巻き込むおそれはない。

ことに、特筆すべきことは、基体ドラムの浸漬時におい
ても、流下面積の大きさ等から流下速度を低くでき、か
つ塗布液の流下も静かにできることである。

このため、気泡による凹状塗布欠陥は生じず、均一な塗
膜を生産性良く塗布形成できる。むろん、異物欠陥の防
止等の従来のオーバーフロ一方式の塗布装置による利点
はあますところなく充分に享受できる。

（ｈ）、排出口より排出された塗布液がタンク等の塗布
液収容槽を経由することなく供給口から塗布槽内へと供
給されるので、別個にタンクを投げる等の手間がいらず
、余分なスペースをとる必要もなく、装置の小屋化ひい
てはコストダウンも可能である。

（ｉ）、塗布槽側壁外周に塗布液受は部が同心円状に設
けられ、両者が一体となっているので、温度制御等を行
う場合に両者を一体として制御でき、有利である。

第６図〜第８図はそれぞれ本発明の塗布装置により層形
成される電子写真感光体の一例を示す一部断面図である
。

第６図の感光体においては、導電性基体５０の上に第１
層としてキャリア発生層５１が設げられ、キャリア発生
層５１の上に、第２層としてキャリア輸送層５２が設け
られている。第７図の感光体は、導電性基体５０側から
見て、第１層としてキャリア輸送層５２、第２層として
キャリア発生層５１を頭次積層したものである。第８図
の感光体は、第１層として、キャリア発生物質とキャリ
ア輸送物質との双方を含有する単層構造の感光層５３を
有するものである。

むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗布層
の数、種類は第６図〜第８図の例に限定されるものでは
なく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応じて自白に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下引
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保護層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれぞ
れ下引層、キャリア輸送層キャリア発生層であるもの、
キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの、
第１層、第２層、第３層、第４層がそれぞれ下引層、キ
ャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの、或
いは下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層、保護層
であるもの等が挙げられる。

下引層はアクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル系、
酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノー
ル系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボネー
ト系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル鳴酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン酸
共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴ、などのインジゴ系色素、アンス２キノン、
ピレンキノンおよびフラバンメロン類などの多環キノン
類、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色
素、インダスロン系色素、スクエアリリクム系色素、金
Ｒ７ｊＸ　Ｏシアニン、熱金属フタロタフ９フリリウム
塩色素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、
公知各種のキャリア発生物質な適当なバインダー樹脂及
び必要により中ヤリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或い
は分散し、塗布することによって形成することができる
。

またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノンあ
るいはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送しや
すい電子受容性物質のほかポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ルに代表されるような複素環化合物を側鎖に有する重合
体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、ピラゾリ／誘導体、ボリアリールア
ルカ／誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、アミン置換カルコン誘導体、トリアリールアミ
ン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、フ
ェノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送しやすいキ
ャリア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒に溶
解し、塗布、乾燥して形成することができる。

また単層構成の感光層は、上記のようなキャリア発生物
質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共Ｖ
ｃｆｒＩ媒中に溶解或いは分赦し、塗布することによっ
て形成することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニルデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂（例えばス
チレン−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリル酸
メチル共重合体）、アクリロニトリル系共重合樹脂（例
えば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等）、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン償脂、シリコ
ン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えばフヱノー
ルーホルムアルデヒド對脂、ｍ−クレゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂等）、スチレンーアルキクド樹脂、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルフォルマール、等のフィルム形成性高分子重合体
が好ましい。

また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー有脂
としてポリウレタン、ポリエチレン、ボリプロピレン、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラ
ミン樹脂等、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうち
２つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成することが
できる。

ヤヤリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロホルム、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエ
タン、１，１．２−トリクロルエタン、１，１，２．２
−テトラクロルエタン、１，１．２−）ジクロルプロパ
ン、１゜１．２．２−テトラクロルプロパン、１，２．
３−ドリクロルプロパ：、ｔ、１．　１．　２−トリク
ロルブタン、１，２，３．４−テトラクロルブタン、テ
トラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イングロ
パノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキ
シド、メチルセルンルプアセテート、ｎ−ブチルアミン
、ジエチルアミン、エチレンジアミン、インプロパツー
ルアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミ
ン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。

又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均一
に溶解するものが選択されるが、沸点（ｂｐ）が８０℃
〜１５０℃のものが好ましく、９０℃〜１２０℃のもの
がより好ましい。沸点が８０℃未満では乾燥が早すぎて
結露し、プラシングを生じ易く、又、乾燥が早すぎてレ
ベリングができず、平滑な感光層が得られなくなり易い
。また、１５０℃を超えると液垂れ、塗布むらが生じ易
い。

具体的には、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン
（ｂｐ＝８３．５℃）、１，１．２−トリクロルエタン
（ｂｐ＝＝ｘｔａ、ｓ℃）、１，４−ジオキサン（ｂｐ
＝１０１．３℃）、ベンゼン（ｂｐ＝８０．１℃）、ト
ルエン（ｂｐ＝１１０．６℃）、ｏ、　ｍ、　ｐ。

−キシレン（ｂｐ＝１３８〜１４４℃）、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、モノクロルベンゼン等が挙げられ
る。また、沸点が８０℃〜１５０℃の範囲にない溶媒で
も高沸点溶媒と低沸点溶媒の混合により、沸点調整を行
うことができる。

また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層のキャリア輸送層、下引層等が存在する場合には
、これらを不当Ｋｇ解又は膨潤しないものが選択される
。

特に、上記のうち、トルエン、クロロホルム、ジクロル
メタン、１．２−ジクロルエタン、１．１゜２−トリク
ロルエタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、テ
トラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジオキサンは
、キャリア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好まし
い溶媒である。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量に対し１〜１００００　Ｐが好まし
く、より好ましくは１０〜１０００隼である。

また、感光層中には、残留電位及びメモリー低減を目的
として、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸
等の電子受容性物質を、好ましくはキャリア発生物質１
００重量部当り０．１〜１００重量部の割合で添加する
ことができる。さらに又、感光層中には、必要により感
度向上、メモリー低減を目的としてブチルアミン、ジイ
ソブチルアミン等の有機アミンをキャリア発生物質のモ
ル数以下のモル数で含有せしめてもよい。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモＩＪ−特
性等も改善される。

さらに又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。

導電性基体の形状、材質等は特に限定されない円 が、形状としてはｆ筒状のものが好ましく用いられる。

また、材料としては、アルミニウム合金等の金属板、金
属ドラム、又は導電性ポリマー、酸化インジウム等の導
電性化合物若しくはアルミニウム、パラジウム、金等の
金属よりなる導電性薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の
手段により、紙、プラスチックフィルム等の基体に設け
て成るものが用いられる。

キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液あ
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。

（ロ）キャリア発生物質をボールミル、ホモミキで サー等によって分散媒中４微細粒子とし、必要に応じて
バインダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布
する方法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。

感光層、下引層、保護層等の感光体構成層の形成用塗布
液は、粘度を５〜５００　ｃｐ　（センチボイズ）の範
囲内とするのが好ましく、１０〜３００Ｃｐの範囲内と
するとより好ましい。粘度が上記範囲より小さいと塗膜
にタレを生じ易く、ドラム上部よりも下部の方が厚膜と
なる傾向があり、上記範囲より大きいと塗布槽中の塗布
液の粘度が不均一になり易く、塗膜に膜厚ムラを生じる
傾向がある。

なお、感光体構成層の形成に際しては、ブレード塗布、
スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法をも併用し
てもよい。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の態
様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能であ
る。

例えば、浮遊物の寸法、形状、構造、個数等は上記のも
のに限られない。例えば、球形のもの、略球形のもの、
楕円形のもの、ひょうたん形のもの、直方体状のもの、
ドーナツ形のもの等も使用できる。浮遊物の材質も上述
のものに限られず、例えば焼結多孔体、木材等積々の材
料が使用できる。

浮遊物と塗布槽側壁との間を糸、網等により結びつける
ことも可能である。

本発明は、塗布槽底壁から塗布液を排出して塗布液液面
を基体ドラム外周面に対し下降させて塗布を行うタイプ
の塗布装置にも適用可能である。

本発明は種々の塗布装置に適用できる。

へ、発明の効果 本発明の塗布装置及び塗布方法によれば、被塗布体を浸
漬するに際して浮遊体のうち少なくとも塗布液の液面よ
り露出している部分が凹部内に収容されるように構成し
ているので、凹部に面する塗布液液面の面積が゛、浮遊
体の塗布液液面からの露出部分の面積だけ減少する。従
って、塗布液液面よりの塗布液溶剤の蒸発が抑えられ、
凹部内の圧力増大、気泡の発生を抑えることができる。

これにより、塗布液の揺れ、塗膜ムラを防止できる。

また、塗布液中を浮遊体に浮遊させ、被塗布体を浸漬す
るに＠ｔ、て浮遊体のうち少なくとも塗布液の液面より
露出している部分が凹部内に収容されるように構成して
いるので、操作が簡略であり、煩雑な制御手段を必要と
しない。従って、塗布装置を簡略化でき、塗布の生産性
も向上する。また塗布槽外に空気室等の余分な設備を設
けないようにもできる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第８図は実施例を示すものであって、第１図（
ａ）は塗布槽に基体ドラムを浸漬した状態を示す塗布装
置の断面図、同図（ｂ）は同図（ａｌのＩｂ−Ｉｂ線矢
視断面図、 第２図（ａ）は塗布槽を示す断面図、同図（ｂ）は塗布
槽の平面図、 第３図ｔａ）は他の塗布装置を示す断面図、同図（ｂ）
は同図（ａ）のｉｂ−ｍｂ線矢視断面図、同図（ｃ）は
浮遊物を示す正面図、 第４図は更に他の塗布装置を示す概略部分断面図、 第５図（ａ）は更に他の塗布装置を示す概略部分断面図
、同図（ｂ）は同図（ａ）のｖｂ−ｖｂ線矢視断面図、 第６図、第７図、第８図はそれぞれ電子写真感光体の一
例を示す一部断面図 である。 第９図は従来の塗布装置を示す断面図である。 第１０図、第１１図はそれぞれ従来の他の塗布装置を示
す概略部分断面図である。 なお、図面に示す符号において、 １・・・・・・・・・・・・・・・塗布液２・・・・・
・・・・・・・・・・塗布槽４・・・・・・・・・・・
・・・・基体ドラム４ｂ・・・・・・・・・・・・下端
側開口４ｃ・・・・・・・・・・・・ ４ｆ・・・・・・・・・・・・ ５・・・・・・・・・・・・・・・ １０・・・・・・・・・・・・ ３０．４０・・・ ３０ｂ　　・・・・・・・・・ ３０ｃ　　・・・・・・・・・ ４０ａ　　・・・・・・・・・ ４０ｂ　　・・・・・・・・・ ４０Ｃ・・・・・・・・・ ４０ｄ　　・・・・・・・・・ である。 中空部 上端側開口 蓋 シール部材 浮遊物 塗布液液面よりの露出部分 塗布液への浸漬部分 基部 ガイド棒 塗布液液面よりの露出部分 塗布液への浸漬部分

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、凹部を有する被塗布体を塗布槽内に収容されている
   塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液に対して相
   対的に引き上げることによって前記塗布液を前記被塗布
   体に塗布する塗布装置において、前記塗布液中を浮遊体
   が浮遊し、この浮遊体の少なくとも一部が前記塗布液の
   液面より露出し、かつ前記被塗布体を浸漬するに際して
   前記浮遊体のうち少なくとも前記塗布液の液面より露出
   している部分が前記凹部内に収容されるように構成した
   ことを特徴とする塗布装置。 ２、塗布槽内に収容されている塗布液中を浮遊体が浮遊
   し、この浮遊体の少なくとも一部が前記塗布液の液面よ
   り露出し、凹部を有する被塗布体を前記塗布液に浸漬す
   るに際して前記浮遊体のうち少なくとも前記塗布液の液
   面より露出している部分を前記凹部内に収容し、かつ前
   記被塗布体が前記塗布液に浸漬されている状態から前記
   被塗布体を前記塗布液に対して相対的に引き上げること
   によって前記塗布液を前記被塗布体に塗布する塗布方法
   。