JPH0214770A

JPH0214770A - 塗布装置

Info

Publication number: JPH0214770A
Application number: JP16292688A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Mitsutake; 均三竹; Takeshi Tanaka; 武志田中; Kazuyuki Shimizu; 和之清水; Nakaya Nakano; 中野　中也; Akira Ohira; 晃大平
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1988-06-30
Filing date: 1988-06-30
Publication date: 1990-01-18

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】イ、産業上の利用分野本発明は塗布装置に関し、例えば電子写真感光体の感光
層を塗布形成するデイツプ塗布装置に関するものである
。

口、従来技術近年、電子写真感光体の感光層圧おいて、キャリア発生
機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分担さ
せること罠より、感度が高くて耐久性の大きい有機感光
体を開発する試みがなされている。このようないわば機
能分離型の電子写真感光体においては、各機能を発揮す
る物質を広い範囲のものから選択することができるので
、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作
製することが可能である。

かかる電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際して
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。

なかでも１円筒状の被塗布物（導電性基体等）に均一な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。

第９図はデイツプ塗布に用いられる塗布装置を示すもの
である。

塗布槽３２内には所定の塗布液１が収容され・ている。

デイツプ塗布時には１円筒状導電性基体（以下、基体ド
ラムと呼ぶことがある。）４を開口部４ｂを下向きにし
て塗布液１へと浸漬し、次いで蓋５の把手５ａを把持し
て基体ドラム４を所定速度で引き上げる。基体ドラム４
を浸漬するときには基体ドラム４内の中空部４Ｃを満た
している空気のために、塗布液１が中空部４Ｃより排除
され、液面１ａは低下する。これに伴い、基体ドラム４
の外周面４ｅと塗布槽３２の側壁内周面３２ｂとにより
挾まれた領域では、液面１ａが上昇し、所定位置まで基
体ドラム外周面４ｅに塗布液が塗布され、塗膜が形成さ
れることになる。

しかし、このような塗布方法では、基体ドラム４をモー
タ駆動により引き上げる際に、基体ドラム４が振動し、
この振動の影響によりて塗膜が不均一となり、塗布ムラ
が生じた。

この問題点を解決するため、第１０図に示すような塗布
装置が提案されている。

すなわち、塗布槽底壁３２ｃに塗布液排出口１７及び塗
布液供給ロアを設け、基体ドラム４を塗布槽３２内の所
定位置に固定する。次に、送液ポンプ（Ｐ工Ｎ）１０Ｂ
によりタンク１２内の塗布液１をフィルター３を介して
供給ロアより供給し、塗布液液面１ａを一点鎖線で示す
位置から実線で示す位置へと上昇させる。この後に、排
液ポンプ（ＰｏＵＴ）１０Ａを駆動させ、排出口１７よ
り塗布液１を排出し、タンク１２内へと流入させる。

これにより、基体ドラム外周面４ｅ上に塗膜が形成され
る。

第１０図の塗布装置によれば、塗布液１を定量ポンプに
より排出して塗膜を形成しているので、基体ドラム引き
上げに伴う振動のような問題はなく、均一な塗膜を形成
できる。

しかし、この方法では、基体ドラムを塗布した後、次に
未塗布の基体ドラムを塗布槽１内の所定位置に収容する
までの間、塗布液液面は一点鎖線で示すように下降した
状態とされていた。このため、塗布槽側壁内周面３２ｂ
に付着した塗布液が外気にさらされて乾燥し、これが堆
積して乾固物９を生成する。しかも、この乾固物９が脱
落して塗布液を汚染し、異物欠陥の原因となっていた。

このため、塗膜の品質が低下し、不良品発生の原因とも
なっていた。

ハ１発明の目的本発明の目的は、均一な塗膜を形成でき、かつ塗布槽側
壁での乾固物の生成、塗布液の汚染、異物欠陥を防止で
きるような塗布装置を提供することである。

二９発明の構成本発明は、塗布槽内に収容される塗布液に被塗布体が浸
漬された状態で、前記塗布液を前記塗布槽内から排出す
ることによって前記塗布液を前記被塗布体に塗布する塗
布装置において、前記塗布液を前記被塗布体に塗布する
時以外の時に、所定時間前記塗布槽側壁の上縁部を越え
て前記塗布液が溢流するようにして塗布液が前記塗布槽
内へと供給されるように構成したことを特徴とする塗布
装置員侮）ｔの−Ｚ゛＄”４゜ホ、実施例以下１本発明の詳細な説明する。

実施例１第１図（ａ）、第２図、第３図はそれぞれ塗布装置を示
す概略部分断面図であり、それぞれ塗布プロセスの進行
状況（後述）に対応している、第１図（ｂ）は同図（ａ
）のＩｂ−Ｉｂ線矢視断面図である。

本例においては、塗布槽側壁２ｄの外周に一定の間隔を
おいて同心円状に外壁１５が設けられ、塗布槽側壁２ｄ
と外壁１５とで挾まれた領域に塗布液受は部１１が設け
られている。

基体ドラム４を塗布槽２内に浸漬する前には、第２図に
示す状態とされている。

即ち、塗布槽２に収容されている塗布液１は、塗布槽側
壁上縁部２ａを外周方向に一様に越え、側壁外周２ｅを
濡らしながら、その形状に沿って薄膜をなしつつ低速で
流下する。

塗布液受は部１１は塗布液を収容する塗布液収容部、即
ち一種の塗布液溜めとしても機能するものであり、側壁
外周２ｅ＆Ｃ沿って流下した塗布液１は図示するように
塗布液受は部１１の下部に収容される。塗布液受は部１
１の最下端には排出（供給）口２７Ａが設けられ、塗布
液受は部１１に一旦収容された塗布液１は排出（供給）
口２７Ａから排出され、排出ポンプＩＯＢ、フィルター
３を経由して、供給（排出）口２７Ｂより塗布槽２内へ
と供給される。

この状態で、第１図（ａ）Ｋ示すように塗布液１中へと
基体ドラム４を所定位置まで浸漬する。

次に、第３図に示すように、供給ポンプＩＯＢを止め、
排出ポンプＩＯＡを駆動する。これにより、塗布液１は
供給（排出）口２７Ｂより排出され、ポンプＩＯＡを経
由して排出（供給）口２７Ａより塗布液受は部１１へと
供給される。これにより、塗布液液面１ａは低下し、基
体ドラム４の外周面４ｅには所定位置まで塗膜が形成さ
れる。

次に、塗布の終了した基体ドラム４を引き上げて塗布槽
２内から排出すると共に１Ｍちに供給ポンプＩＯＢを駆
動して排出（供給）口２７Ａから塗布液受は部１１内の
塗布液１を排出する。そして、この塗布液１は供給ポン
プＩＯＢ、フィルター３を介して供給（排出）０２７Ｂ
より塗布槽２内へと供給され、最終的に第２図に示す状
態となって、塗布の一サイクルが終了する。

本例によれば、以下の効果を奏し５る。

（ａ）、塗布の終了した基体ドラムを引き上げた後。

直ちに塗布槽２内に塗布液を供給し、第２図の状態とす
るので、塗布槽側壁内周面２ｂに付着した塗布液の乾燥
が抑えられ、乾固物の生成までは至らない。従ワて、塗
布液の汚染、塗布欠陥の発生を防止できる。

（ｂ）、第１図、第２図に示すオーバーフロー状態の間
、供給ポンプＩＯＢを通過した塗布液がフィルター３に
より濾過され、清浄化される、従って、塗布液１中に異
物が脱落することがあっても、供給（排出）口２７Ｂか
ら塗布液１を排出する時以外の時には、常に塗布液１の
循環、濾過を行っているので、異物欠陥防止に一層効果
的である。

（Ｃ）、基体ドラム４の塗布時に、供給（排出）口２７
Ｂから塗布液を排出ポンプＩＯＡにより排出しているの
で、基体ドラム引き上げに伴う振動という問題はなく、
均一な塗膜を形成できる。

（ｄ）、塗布液が塗布槽側壁内周面沿って流下するので
、流下面積が非常に大きく、また塗布液が塗布槽側壁外
周を濡らしながら流下する。従って、結果として塗布液
の流下速度は非常に小さく、流下も静かに行われ、気泡
を巻き込むおそれはない。

ことに、特筆すべきことは、基体ドラムの浸漬時におい
ても、流下面積の犬ぎさ等から流下速度を低くでき、か
つ塗布液の流下も静かにできることである。

このため、気泡による凹状塗布欠陥も生じず、均一な塗
膜を生産性良く塗布形成できる。

（ｅ）　　排出（供給）口２７Ａより排出された塗布液
が塗布液収容槽（第１０図のタンク１２を参照。）を経
由することなく、供給口２７Ｂから塗布槽２内へと供給
されるので、別個にタンクを設げる等の手間がいらず、
余分なスペースをとる必要もなく、装置の小型化ひいて
はコストダウンも可能である。

（ｆ）、塗布槽側壁外周に塗布液受は部が同心円状に設
げられ、両者が一体となっているので、温度制御等を行
う場合に両者を一体として制御でき、有利である。

（ｇ）、電子写真感光体の構成層に前述のような塗布の
不均一が生ずると、画像ムラとして現れ、塗布層の異物
欠陥は画像欠陥として現れる。更に、上記（ｄ”ｌで述
べた、気泡の巻き込みによる凹状欠陥ｂ’−生じた場合
には、黒ペタ画像で淡くなるという欠陥を生ずる。

この点１本例の装置では、かかる画像欠陥をいずれも防
止し５る。

実施例２第４図はいわゆるオーバーフロ一方式ｆよる塗布装置を
示す概略部分断面図である。

塗布槽３２内には所定の塗布液１カー収容され、塗布槽
３２の側壁３２ｄの周囲には受は皿６ｂ′−投けられて
いる。塗布液１は、タンク１２から供給ポンプＩＯＢに
よって送り出され、フィルター３を介して、供給ロアよ
り塗布槽３２内へと供給され、更に側壁３２ｄの上縁部
３２ａを越えて塗布槽３２の円周から外へと溢流し５受
げ皿６で集められ、排出口８よりタンク１２へと排出さ
れる。

この状態で、塗布液１中へと基体ドラム４を所定位置ま
で浸漬する。

次に、供給ポンプＩＯＢを止め、排出ポンプ１０Ａを駆
動させる。これにより、塗布液１は、−点鎖線で示すよ
うに排出口１７より排出され。

排出ポンプＩＯＡを経由してタンク１２へと供給される
。これに伴ない、塗布液液面１ａは一点鎖線で示すよう
に低下し、基体ドラム４の外周面４８には所定位置まで
塗膜が形成される。

次に、塗布の終了した基体ドラム４を引き上げて塗布槽
３２内から排出すると共に、直ちに供給ポンプＩＯＢを
駆動する。これにより、タンク１２内に収容されている
塗布液１は、矢印で示すように供給ポンプＩＯＢ、フィ
ルター３を経由して供給ロアより塗布槽３２内へと供給
される。そして。

再び塗布槽側壁上縁部３２ｅより塗布液１が溢流するよ
う釦なり、塗布の一サイクルが完了する。

本例の装置によれば、上記（ａ）〜（Ｃ）、（ｇ）の効
果を奏しつる。

実施例３第５図は更に他の塗布装置を示す概略部分断面図であり
、第４図の塗布装置とほぼ同様の構成を有していて１図
示省略した部分は第４図の塗布装置と同様である。

本例では、第４図に示す供給ロア、排出口１７を別個に
設ける代り疋１両者の機能を兼ね備えた供給（排出）口
２７を塗布槽底壁３２ｃに設けている。これにより、塗
布装置の構造は更に簡略となる。

第６図〜第８図はそれぞれ本発明の塗布装置により層形
成される電子写真感光体の一例を示すものである。

第６図の感光体においては、導電性基体４１の上に第１
層としてキャリア発生層４２が設けられ、キャリア発生
層４２の上に、第２層としてキャリア輸送層４３が設け
られている。第７図の感光体は、導電性基体４１側から
見て、第１層としてキャリア輸送層４３、第２層として
キャリア発生層４２を順次積層したものである。第８図
の感光体は、第１層としてキャリア発生物質とキャリア
輸送物質との双方を含有する単層構造の感光層４４を有
するものである。

むろん１本発明の塗布装置により塗布形成される塗設層
の数、種類は第６図〜第８図の例に限定されるものでは
なく、その組成２機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応じて自由に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下引
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保護層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれぞ
れ下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるも
の、キャリア発生層。

２層、第３層、第４層がそれぞれ下引き層、キャリア発
生層、キャリア輸送層、保護層であるもの或いは下引き
層、キャリア輸送層、キャリア発生層、保護層であるも
の等が挙げられる。

下引き層はアクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル系
、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノ
ール系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボネ
ート系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル・酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン
酸共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキノン、ピ
レンキノンおよびフラパンスロン類などの多環キノン類
、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色素
、インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金属
フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシ
アニン系顔料、ビリリウム塩色素、チアピリリウム塩色
素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、公知
各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び必
要によりキャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或いは分
散し、塗布することによって形成することができろ。

またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノンあ
るいはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送しや
すい電子受容性物質のほかボＩＪ　−Ｎ−ビニルカルバ
ゾールに代表されるような複素環化合物を側鎖に有する
重合体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体
、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ボリアリー
ルアルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラ
ゾン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、トリアリール
アミン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体
、フェノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送しやす
いキャリア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒
忙溶解し、塗布、乾燥して形成することができる。

また単層構成の感光層は、上記のようなキャリア発生物
質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共に
溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することＫよって形成
することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂（例えばス
チレン−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリル酸
メチル共重合体）、アクリロニトリル系共重合樹脂（例
えば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等）、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−無水マレイン駿、共重合体、シリコン樹脂、シリ
コン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えばフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール−ホルム
アルデヒド樹脂等）、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ
−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルフォルマール等のフィルム形成性高分子重合体
が好ましい。

また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹脂
としてポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂。

ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート
樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等、並びにこれらの
樹脂の繰り返し単位のうち２つ以上を含む共重合体樹脂
等罠よって形成することができる。

キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キクレン
、クロロホルム、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエ
タン、１，１．２−）ジクロルエタン、１，１，２．２
−テトラクロルｘｐ７．Ｉ　Ｈ１＋　　２−トリクロル
プロパン、１゜１．２．２−テトラクロルプロパン、１
，２．３−１−　ＩＪジクロルロパン、１．１．２−）
ジクロルブタン、１，２．３．４−テトラクロルブタン
、テトラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジクミル
ベンゼン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスル
ホキシド、メチルセルソルブアセテート、ｎ−ブチルア
ミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、インプロパ
ツールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジ
アミン。

Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。

又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均一
に溶解するものが選択されるが、沸点（ｂｐ）が８０　
’Ｃ〜１５０　’Ｃのものが好ましく９０’Ｃ〜１２０
℃　のものがより好ましい。沸点が８０℃未満では乾燥
が早すぎて結露し、ブラシングを生じ易く、又、乾燥が
早すぎてレベリングができず、平滑な感光層が得られな
くなり易い。又、　　１５０’Ｃを超えると液垂れ、塗
布むらが生じ易い。具体的圧は、ジクロルメタン、１，
２−ジクロルエタン（ｂｐ　＝　８３．５℃）％　１．
１．２−）ジクロルエタン（ｂｐ　＝　１１３．５℃）
、１．４−ジオキサン（ｂｐ＝１０１．３℃）、ベアゼ
ア（ｂｐ＝８０．１”Ｃ）、　　トに工７（１）ｐ　＝
　１１０．６°Ｃ）、Ｏ，ｍ、ｐ−キシレン（ｂｐ　＝
１３８〜１４４℃）、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、モノクロルベンゼン等が挙げられる。又、沸点が８０
℃〜１５０℃の範囲にない溶媒でも高沸点溶媒と低沸点
溶媒の混合により、沸点調整を行うことができる。

また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層のキャリア輸送層、下引き層等が存在する場合に
は、これらを不当に溶解又は膨潤しないものが選択され
る。特に、上記のうち、トルエン、クロロホルム。

ジクロルメタン、１．２−ジクロルエタン、１゜１．２
−）リクロルエタン、１．１．２．２−テトラクロルエ
タン、テトラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジオ
キサンは、キャリア発生層、Φヤリア輸送層のいずれに
も好ましい溶媒である。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリクロキ
サン、メチルフェニルボリクロギサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量に対し１〜１００００１１１１１が
好ましく、より好ましくは１０〜１０００１１１＄ｍで
ある。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにΦヤリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。

さら（又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。

導電性基体の形状、材質等は特に限定されないが、形状
としては同筒状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、金属板、金属ドラム又は導電性ポリマー、
酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアルミニウム
、パラジウム、金等の金属よりなる導電性薄層を塗布、
蒸着、ラミネート等の手段により１紙、プラスチックフ
ィルム等の基体に設けて成るものが用いられる。

キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液あ
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。

（ロ）キャリア発生物質をボールミル、ホモミキサー等
尤よって分散媒中で微細粒子とし。

必要に応じてバインダーを加えて混合分散して得られる
分散液を塗布する方法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子な分散させ
ると、均一分散が可能になる。

感光層、下引き層、保護層等の感光体構成層の形成用塗
布液は、粘度を５〜５００ｃｐ（センチボイズ）の範囲
内とするのが本発明の効果をより良好に奏する上で好ま
しく、１０〜３００ｃｐの範囲内とするとより好ましい
。粘度が上記範囲より小さいと塗膜にタレを生じ易く、
ドラム上部より下部の方が厚膜となる傾向があり、上記
範囲より大きいと塗布槽中の塗布液の粘度が不均一にな
り易く、塗膜に膜厚ムラを生じる傾向がある。

塗布乾燥後のキャリア輸送層の厚みは５〜５０μｍの範
囲とするのが好ましい。また、塗布乾燥後のキャリア発
生層は１通常、その厚みが０．０５〜１０μｍとされる
。単層構成の感光層の場合、塗布乾燥後の層厚は１０〜
５０μｍであることが好ましい。

感光体表面に設けられる保護層の層厚は０．０１〜１μ
ｍの範囲内とするのｂ’−好ましい。また、感光層と導
電性基体との間に設けられる下引き層（あるいは中間層
、バリア層、接着層等）の層厚は０９０１〜２μｍの範
囲内とするのが好ましい。

なお、各感光体構成層の塗布形成に際しては、プレート
°塗布、スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法を
併用しても良い。

実験例以下、具体的な実験例について説明するが、本発明はこ
れにより限定されるものではない。

〈塗布液の調整〉まず、以下のようにして、塗布液を調整した。

１．２−ジクロルエタン（関東化学社ｊ！！り４０００
罰中に、バインダー樹脂としてポリカーボネート（パン
ライトＬ−１２５０、今人化成社製）　４８０９を溶解
し、かつキャリア輸送物質として１．１−ビス（４−Ｎ
、Ｎ−ジベンジルアミノ−２−メチルフェニル）ノルマ
ルブタン４８０９ヲ溶解シテ−キャリア輸送層形成用塗
布液を調整した。

〈塗布実験〉実施例内径１２０画、深さ３２０間の塗布槽の周囲に内径１５
０ｍｍ、深さ３５０　ｍｍの外壁を設置して塗布槽受け
とし、第１図に示す塗布装置とした。

前記キャリア輸送層形成用塗布液を上記塗布槽内に収容
し、循環ポンプ（ギヤポンプ、ダイヤクラムポンプ等）
を用いて２０００　ｃ　ｃ　／　ｍｉｎで循環せしめた
。この装置に、外径８０ｍｍφ、長さ３００　ｍｍのア
ルミニウム製円筒状導電性基体ドラム（シリンダー）を
浸漬し、次いで定量ポンプ（ギヤポンプ、ダイヤクラム
ポンプ等）を用いて塗布槽底部から塗布液を抜き、塗布
液受けへと供給した。このとき、塗布液を３００ｍ１／
ｍｉｎで降下させ、基体ドラムは塗布槽内に固定したま
まとした。そして。

塗布の終了した基体ドラムを塗布槽から引き上げると、
直ちに上記供給ポンプを用いて塗布槽内に塗布液を満た
し、再び２０００　ｃｃ　／　ｍｉｎで循環せしめた。

上記の操作を１００回繰り返して行い、１００本の基体
ドラムに塗布を行った。

この結果、異物付着による塗布欠陥が見られた基体ドラ
ムは２本であった。また、塗布形成されたギヤリア輸送
層の塗膜は均一であり、気泡の巻き込みに起因する凹状
欠陥も見られなかった。

なお、塗膜の均一性、凹状欠陥の有無については。

目視釦よる官能試験により検査した。

比較例第１０図に示す塗布装置を用い、塗布槽の寸法等は実施
例と同様とし、実施例で述べたと同様の条件で塗布実験
を行った。

但し、基体ドラムを塗布槽から引き上げた後は。

キャリア輸送層形成用塗布液を塗布槽内から排出したま
まにしておき、次に未塗布の基体ドラムを塗布槽内に収
容、固定した後に、塗布槽内に上記塗布液を供給した。

この結果、異物付着による塗布欠陥が見られた基体ドラ
ムは１５本であった。

変形例以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上述のも
のに限られるわけではなく、本発明の技術的思想に基づ
き種々変形が可能である。

例えば、塗布液受は部は第１図のよ５に塗布槽側壁の外
周に同心円状に設けられている必要はなく、その寸法、
形状等は種々変更でき１例えば第１図（ｂ）において一
定の方向忙大き（膨らんだ形状とし、主として膨らんだ
部分に塗布液収容部としての機能を持たしめても良い。

その他、塗布槽の寸法、形状、材質等にも特釦制限はな
い。

塗布の終了した被塗布体を塗布槽内から引き上げる際、
被塗布体の引き上げに合わせて同時に塗布液を塗布槽内
へと供給してもよい。

供給ポンプ、排出ポンプ、フィルターの個数。

能力等は種々変更できる。第１図の例において、塗布槽
内から排出された塗布液を収容するタンクを塗布液受は
部と別個に設けることも一応可能である、本発明は糧々の塗布装置に適用できる。

へ０発明の効果本発明の塗布装置によれば、塗布液を被塗布体に塗布す
る時以外の時に、所定時間塗布槽側壁の上縁部を越えて
塗布液が溢流するようにして塗布液が塗布槽内へと供給
されるので、塗布槽側壁に付着した塗布液の乾燥が防止
され、塗布液の乾固物の生成、塗布液の汚染、塗布層の
異物欠陥を防止できる。

また、塗布液を塗布槽内から排出することＫよって塗布
液を被塗布体に塗布しているので、塗布時疋被塗布体を
引き上げる必要はない。従って。

被塗布体引き上げに伴なう振動の影響を排除でき、均一
な塗布層を形成しうる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第８図は実施例を示すものでありで、第１図（
ａ）は塗布装置を示す概略部分断面図。同図（ｂ）は同図（ａ）のＩｂ−Ｉｂ線矢視断面図。第２図は塗布装置に基体ドラムを浸漬する前の状態を示
す概略部分断面図。第３図は塗布槽から塗布液を排出している状態を示す概
略部分断面図、第４図は他の塗布装置を示す概略部分断面図。第５図は更に他の塗布装置を示す概略部分断面図、第６図、第７図、第８図はそれぞれ本発明の塗布装置に
よって製造される電子写真感光体の一例を示す一部断面
図である。第９図は従来の塗布装置を示す部分断面図である。第１０図は従来の他の塗布装置を示す概略部分断面図で
ある。なお、図面に示す符号において。１・・・・・・・・・塗布液２．３２・・・・・−・・塗布槽２ａ、３２ａ・・・・・・・・・塗布槽側壁上級部３・
・・・・・・・・フィルター４・・・・・・・・・円筒状導電性基体ドラム７・・・
・・・・・・塗布液排出口１０Ａ・・・・・・・・・排出ポンプ１０Ｂ・・・・・・・・・供給ポンプ１１・・・・・・・・・塗布液受け１５・・・・・・・・・塗布装置外壁１７・・・・・・・・・塗布液供給口２７Ａ・・・・・・・・・塗布液排出口（供給口）２７
Ｂ・・・・・・・・・塗布液供給口（排出口）である。

Claims

【特許請求の範囲】

１、塗布槽内に収容される塗布液に被塗布体が浸漬され
た状態で、前記塗布液を前記塗布槽内から排出すること
によって前記塗布液を前記被塗布体に塗布する塗布装置
において、前記塗布液を前記被塗布体に塗布する時以外
の時に、所定時間前記塗布槽側壁の上縁部を越えて前記
塗布液が溢流するようにして塗布液が前記塗布槽内へと
供給されるように構成したことを特徴とする塗布装置。