JPH0113995Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0113995Y2 JPH0113995Y2 JP16701280U JP16701280U JPH0113995Y2 JP H0113995 Y2 JPH0113995 Y2 JP H0113995Y2 JP 16701280 U JP16701280 U JP 16701280U JP 16701280 U JP16701280 U JP 16701280U JP H0113995 Y2 JPH0113995 Y2 JP H0113995Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disc
- spin dryer
- substrate
- disk
- tangent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はスピンドライヤの改良に関するもので
ある。一般に半導体装置を製造する場合に用いる
ホトマスクを製造するとき、ガラス基板上にポジ
型のホトレジスト膜を塗布したのち所定のパター
ンに露光し、その後クロム等の金属膜を蒸着によ
り被着したのち、前記露光した部分のホトレジス
ト膜を除去するとともに該ホトレジスト膜上の金
属膜をも除去するいわゆるリフトオフ法によつて
所定のパターンの金属膜を基板上に形成してホト
マスクを製造している。このようにしてホトマス
クを製造する場合、あらかじめガラス基板を純水
で洗浄したのち、界面活性剤のような洗剤で洗浄
し、その後更に純水で洗浄してから乾燥する方法
がとられている。
ある。一般に半導体装置を製造する場合に用いる
ホトマスクを製造するとき、ガラス基板上にポジ
型のホトレジスト膜を塗布したのち所定のパター
ンに露光し、その後クロム等の金属膜を蒸着によ
り被着したのち、前記露光した部分のホトレジス
ト膜を除去するとともに該ホトレジスト膜上の金
属膜をも除去するいわゆるリフトオフ法によつて
所定のパターンの金属膜を基板上に形成してホト
マスクを製造している。このようにしてホトマス
クを製造する場合、あらかじめガラス基板を純水
で洗浄したのち、界面活性剤のような洗剤で洗浄
し、その後更に純水で洗浄してから乾燥する方法
がとられている。
このようなガラス基板を乾燥する従来のスピン
ドライヤの装置を第１図に示す。
ドライヤの装置を第１図に示す。
第２図は従来のスピンドライヤの構造を示す平
面図で第１図は第２図のＡ−A′線に沿つた断面
図である。第１図・第２図に示すように従来の構
造のスピンドライヤは高速回転する塩化ビニル製
の円板１上に上記洗浄したガラス基板２を埋設
し、前記円板を高速回転させることで基板上に付
着した水分を遠心力によつて基板上から吹き飛ば
すようにしたものである。ここで３は基板を所定
の位置に埋設するための円板から僅に突出した円
板と同一材料の枠状の部材で、４は円板１を設置
する塩化ビニールの筐体である。前記筐体には基
板から吹き飛ばされた水分を集めて排出するため
の排出口５が設けられている。
面図で第１図は第２図のＡ−A′線に沿つた断面
図である。第１図・第２図に示すように従来の構
造のスピンドライヤは高速回転する塩化ビニル製
の円板１上に上記洗浄したガラス基板２を埋設
し、前記円板を高速回転させることで基板上に付
着した水分を遠心力によつて基板上から吹き飛ば
すようにしたものである。ここで３は基板を所定
の位置に埋設するための円板から僅に突出した円
板と同一材料の枠状の部材で、４は円板１を設置
する塩化ビニールの筐体である。前記筐体には基
板から吹き飛ばされた水分を集めて排出するため
の排出口５が設けられている。
ところがこのような従来構造のスピンドライヤ
を用いて基板上の水分を吹き飛ばして乾燥する場
合、前記円板の周辺が大気を高速で切断する形と
なり、このため円板の周辺に乱気流が発生し、こ
の乱気流によつて筐体４の内壁に吹き飛ばされた
基板上の霧状の水分が再び基板上に再着して基板
を汚染するといつた不都合を生じる。
を用いて基板上の水分を吹き飛ばして乾燥する場
合、前記円板の周辺が大気を高速で切断する形と
なり、このため円板の周辺に乱気流が発生し、こ
の乱気流によつて筐体４の内壁に吹き飛ばされた
基板上の霧状の水分が再び基板上に再着して基板
を汚染するといつた不都合を生じる。
本考案は前述した欠点を除去し、回転部材を高
速回転させて基板上に付着した水分を吹き飛ばし
て基板を乾燥させるスピンドライヤにおいて、回
転部材の周辺に乱気流が発生しないようにし、も
つて筐体の内壁面に吹きとばされた水分が基板上
に再付着して基板を汚染することがないような新
規なスピンドライヤの提供を目的とするものであ
る。
速回転させて基板上に付着した水分を吹き飛ばし
て基板を乾燥させるスピンドライヤにおいて、回
転部材の周辺に乱気流が発生しないようにし、も
つて筐体の内壁面に吹きとばされた水分が基板上
に再付着して基板を汚染することがないような新
規なスピンドライヤの提供を目的とするものであ
る。
かかる目的を達成するためのスピンドライヤは
基板埋設部を所定位置に有し、該埋設部に基板を
埋設して高速回転する円板と、 遠心力により吹き飛ばされた水分を集めて排出
する複数の排出口が設けられた、該円板を設置す
る円筒状の筐体を有するスピンドライヤに於い
て、前記円板の接線と合致し、あるいは接線と所
定の角度Θをなすよう前記円板の周辺部に略垂直
方向に複数個の平板を略等間隔に、その上部を該
円板の上面より僅かに突出させて付設したことを
特徴とするものである。
基板埋設部を所定位置に有し、該埋設部に基板を
埋設して高速回転する円板と、 遠心力により吹き飛ばされた水分を集めて排出
する複数の排出口が設けられた、該円板を設置す
る円筒状の筐体を有するスピンドライヤに於い
て、前記円板の接線と合致し、あるいは接線と所
定の角度Θをなすよう前記円板の周辺部に略垂直
方向に複数個の平板を略等間隔に、その上部を該
円板の上面より僅かに突出させて付設したことを
特徴とするものである。
以下図面を用いて本考案の一実施例につき詳細
に説明する。
に説明する。
第４図は本考案に係るスピンドライヤの平面図
第３図は前記平面図のＡ−A′線に沿つた断面図
である。図示するように本考案のスピンドライヤ
は回転部材となる塩化ビニールの円板１１の周辺
において該円板の接線方向に沿うようにするかま
たは接線方向から30゜以内の角度で切削溝を設け、
該切削溝に塩化ビニール製の平板１２を前記円板
に対して垂直方向に所定の間隔を距ててはめ込む
ようにしたものである。ここで前記平板の上部は
円板の上面より僅かに突出しておくようにする。
第３図は前記平面図のＡ−A′線に沿つた断面図
である。図示するように本考案のスピンドライヤ
は回転部材となる塩化ビニールの円板１１の周辺
において該円板の接線方向に沿うようにするかま
たは接線方向から30゜以内の角度で切削溝を設け、
該切削溝に塩化ビニール製の平板１２を前記円板
に対して垂直方向に所定の間隔を距ててはめ込む
ようにしたものである。ここで前記平板の上部は
円板の上面より僅かに突出しておくようにする。
この平板数量および大きさは円板の直径や円板
の回転速度に応じて定宜定めるとよい。
の回転速度に応じて定宜定めるとよい。
このようにすれば前記円板が高速回転する間に
平板の間を通つて大気が筐体１３の内壁面に向つ
て層流の形となつて流れるために、前記内壁面に
飛来する基板上の霧状の水分は、内壁面に衝突し
て再び基板上に再付着するようなことがなくな
り、基板が清浄な状態で素早く乾燥することが可
能となる。
平板の間を通つて大気が筐体１３の内壁面に向つ
て層流の形となつて流れるために、前記内壁面に
飛来する基板上の霧状の水分は、内壁面に衝突し
て再び基板上に再付着するようなことがなくな
り、基板が清浄な状態で素早く乾燥することが可
能となる。
また前記筐体１３の内壁面と円板１１の間にス
テンレス製のメツシユ１４を円板の周囲に沿うよ
うに設置すれば、該メツシユに基板上から飛来す
る微少な水滴が付着するようになり、より効果的
である。
テンレス製のメツシユ１４を円板の周囲に沿うよ
うに設置すれば、該メツシユに基板上から飛来す
る微少な水滴が付着するようになり、より効果的
である。
以上述べたように本考案のスピンドライヤを用
いれば、基板が素早く清浄な状態で乾燥できるの
で、マスク製造の際のガラス基板の乾燥に用いて
極めて効果的である。
いれば、基板が素早く清浄な状態で乾燥できるの
で、マスク製造の際のガラス基板の乾燥に用いて
極めて効果的である。
更に本考案のスピンドライヤは前述のガラス基
板のみならずSi等の半導体基板の洗浄後の乾燥に
用いることも出来るのは勿論である。
板のみならずSi等の半導体基板の洗浄後の乾燥に
用いることも出来るのは勿論である。
第１図および第２図は従来のスピンドライヤの
断面図および平面図で、第３図および第４図は本
考案のスピンドライヤの断面図および平面図であ
る。 図において１は円板、２はガラス基板、３は
枠、４は筐体、５は排出口、１１は円板、１２は
平板、１３は筐体、１４はメツシユを示す。
断面図および平面図で、第３図および第４図は本
考案のスピンドライヤの断面図および平面図であ
る。 図において１は円板、２はガラス基板、３は
枠、４は筐体、５は排出口、１１は円板、１２は
平板、１３は筐体、１４はメツシユを示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 基板埋設部を所定位置に有し、該埋設部に基
板を埋設して高速回転する円板と、 遠心力により吹き飛ばされた水分を集めて排
出する複数の排出口が設けられた、該円板を設
置する円筒状の筐体を有するスピンドライヤに
於いて、前記円板の接線と合致し、あるいは接
線と所定の角度Θをなすよう前記円板の周辺部
に略垂直方向に複数個の平板を略等間隔に、そ
の上部を該円板の上面より僅かに突出させて付
設したことを特徴とするスピンドライヤ。 (2) 上記角度Θが0゜＜Θ≦30゜であることを特徴
とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のス
ピンドライヤ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16701280U JPH0113995Y2 (ja) | 1980-11-21 | 1980-11-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16701280U JPH0113995Y2 (ja) | 1980-11-21 | 1980-11-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5789193U JPS5789193U (ja) | 1982-06-01 |
| JPH0113995Y2 true JPH0113995Y2 (ja) | 1989-04-24 |
Family
ID=29525653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16701280U Expired JPH0113995Y2 (ja) | 1980-11-21 | 1980-11-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0113995Y2 (ja) |
-
1980
- 1980-11-21 JP JP16701280U patent/JPH0113995Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5789193U (ja) | 1982-06-01 |
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