JPH01157948A - 新規なα，β−不飽和ケトン化合物 - Google Patents
新規なα，β−不飽和ケトン化合物Info
- Publication number
- JPH01157948A JPH01157948A JP31645787A JP31645787A JPH01157948A JP H01157948 A JPH01157948 A JP H01157948A JP 31645787 A JP31645787 A JP 31645787A JP 31645787 A JP31645787 A JP 31645787A JP H01157948 A JPH01157948 A JP H01157948A
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- JP
- Japan
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- ketone compound
- beta
- unsaturated ketone
- novel alpha
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なα、β−不飽和ケトン化合物に関するも
のである。さらに詳しくは、特願昭６２−１６７５２６
号、特願昭６２−１６７６１１８号、特願昭６２−１６
９５４８号、特願昭６２−１８１７４４号、特許６２−
１８５２８４号等に記載の除草剤を製造する上で有用な
製造原料である一般式〔■〕 〔式中、Ｘは低級ハロアルキル基または低級ハロアルコ
キシ基を表わし、Ｒ１およびＲ２は水素原子またはメチ
ル基を表わす。〕で示されるａ、β−不飽和ケトン（以
下、本発明化合物と記す。）を提供するものである。
のである。さらに詳しくは、特願昭６２−１６７５２６
号、特願昭６２−１６７６１１８号、特願昭６２−１６
９５４８号、特願昭６２−１８１７４４号、特許６２−
１８５２８４号等に記載の除草剤を製造する上で有用な
製造原料である一般式〔■〕 〔式中、Ｘは低級ハロアルキル基または低級ハロアルコ
キシ基を表わし、Ｒ１およびＲ２は水素原子またはメチ
ル基を表わす。〕で示されるａ、β−不飽和ケトン（以
下、本発明化合物と記す。）を提供するものである。
まず、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は一般式［’Ｉ〕
〔式中、Ｘ 、 Ｒ’およびＲ２は前記と同じ意味を表
わす。〕 で示されるアルデヒド化合物と１−トリフェニルホスホ
ラニリデン−２−プロパノンとを反応させることにより
製造することができる。該反応は通常不活性溶媒中で行
われ、反応温度は０°Ｃから使用される溶媒の沸点の範
囲まで、反応時間は１〜１０時間が一般的である。用い
られる溶媒としては例えば、テトラヒドロフラン、ベン
ゼン、トルエン、クロロホルム、ジクロロエタン、酢酸
エチル等があげられる。
わす。〕 で示されるアルデヒド化合物と１−トリフェニルホスホ
ラニリデン−２−プロパノンとを反応させることにより
製造することができる。該反応は通常不活性溶媒中で行
われ、反応温度は０°Ｃから使用される溶媒の沸点の範
囲まで、反応時間は１〜１０時間が一般的である。用い
られる溶媒としては例えば、テトラヒドロフラン、ベン
ゼン、トルエン、クロロホルム、ジクロロエタン、酢酸
エチル等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、−段線ＣＩ〕で示される
化合物１当量に対して１−トリフェニルホスホラニリデ
ン−２−プロパノンハ通常１〜１．１当量である。反応
終了後は溶媒を減圧下に除去し、ジエチルエーテル、ヘ
キサン等の有機溶媒で目的物を抽出し、副生じたトリフ
ェニルホスフィンオキシトをろ去するなどの通常の後処
理を行う。必要によりクロマトグラフィーなどの操作を
行うこともできる。
化合物１当量に対して１−トリフェニルホスホラニリデ
ン−２−プロパノンハ通常１〜１．１当量である。反応
終了後は溶媒を減圧下に除去し、ジエチルエーテル、ヘ
キサン等の有機溶媒で目的物を抽出し、副生じたトリフ
ェニルホスフィンオキシトをろ去するなどの通常の後処
理を行う。必要によりクロマトグラフィーなどの操作を
行うこともできる。
このようにして得られる本発明化合物のいくつかを第１
表に示す。
表に示す。
第１表
２−ＣＦｓ ＨＨ
ＣＨｌ Ｈ
ＨＣＨ。
ＣＨｘ ＣＨｓ
８−ＣＦｓ ＨＨ
ＣＨｓ Ｈ
ＨＣＨｘ
ＣＨＩ ＣＨｘ
４−ＣＦ、 ＨＨ
ＣＨｘ Ｈ
ＨＣＨｘ
ＣＨｓ ＣＨｓ
４−ＣＦ２ＨＨＨ
ＣＨＩ Ｈ
Ｘ Ｒ’ Ｒ”
４−ＣＦｓＨＨＣＨｘ
ＣＨｓ ＣＨ。
４−ＯＣＦｘ ＨＨ
ＨＣＨ。
ＣＨＸ Ｈ
ＣＨＳ ＣＨＸ
４−ＯＣＦ２ＨＨＨ
ＨＣＨｓ
ＣＨｉ Ｈ
ＣＨＩ ＣＨｓ
４−ＯＣＦ２ＣＦ２ＨＨＨ
ＨＣＨ。
ＣＨＩ Ｈ
ＣＨｓ ＣＨｍ
本発明化合物を製造する際の原料化合物である一般式〔
Ｉ〕で示される化合物は下記のようにして製造すること
ができる。
Ｉ〕で示される化合物は下記のようにして製造すること
ができる。
〔式中、Ｘ 、 Ｒ’およびＲ２は前記と同じ意味を表
わす。〕 即チ、置換ベンゼンチオールとα、β−不飽和アルデヒ
ドとを塩基触媒の存在下に付加反応を行わせることによ
り製造することができる。
わす。〕 即チ、置換ベンゼンチオールとα、β−不飽和アルデヒ
ドとを塩基触媒の存在下に付加反応を行わせることによ
り製造することができる。
本発明化合物は下記の経路により、有用な除草性化合物
に導くことができる。
に導くことができる。
〔式中、Ｘ 、 Ｒ’およびＲ２は前記と同じ意味をｉ
わし、Ｒ１は低級アルキル基または低級アルコキシメチ
ル基を表わし Ｒ４はアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基または、ハロアルケニル基を表わす。〕 即ち、本発明化合物をマロン酸ジエステルと金属アルコ
キシドの存在下に反応させて環化し、次にアルカリ溶液
中で加水分解さらに脱炭酸を行い、次いで４−ジメチル
アミノピリジン等の触媒の存在下にアセトニトリル等の
不活性溶媒中で酸無水物と反応させることによってアシ
ル化反応を行い、最後にｏ−２換ヒドロキシルアミンと
反応させることにより除草性化合物に導かれる。
わし、Ｒ１は低級アルキル基または低級アルコキシメチ
ル基を表わし Ｒ４はアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基または、ハロアルケニル基を表わす。〕 即ち、本発明化合物をマロン酸ジエステルと金属アルコ
キシドの存在下に反応させて環化し、次にアルカリ溶液
中で加水分解さらに脱炭酸を行い、次いで４−ジメチル
アミノピリジン等の触媒の存在下にアセトニトリル等の
不活性溶媒中で酸無水物と反応させることによってアシ
ル化反応を行い、最後にｏ−２換ヒドロキシルアミンと
反応させることにより除草性化合物に導かれる。
次に、具体例にて本発明化合物の製造例を示すが、本発
明は下記の例のみに限定されるものではない。
明は下記の例のみに限定されるものではない。
製造例１
１ＯＮの８−（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）
プロピオンアルデヒドと１５Ｎの１−トリフェニルホス
ホラニリデン−２−プロパノンとを５０−のクロロホル
ムに溶かし水冷下で８時間攪拌した。次いで減圧下にク
ロロホルムを除去し、残渣にジエチルエーテルを加えて
不溶物をろ去した。ろ液よりエーテルを減圧下に除去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：ａ）にて処理し、９．
９ｆの６〜（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）−
３−ヘキセン−２−オンを得た。
プロピオンアルデヒドと１５Ｎの１−トリフェニルホス
ホラニリデン−２−プロパノンとを５０−のクロロホル
ムに溶かし水冷下で８時間攪拌した。次いで減圧下にク
ロロホルムを除去し、残渣にジエチルエーテルを加えて
不溶物をろ去した。ろ液よりエーテルを減圧下に除去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：ａ）にて処理し、９．
９ｆの６〜（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）−
３−ヘキセン−２−オンを得た。
’ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｔ、 ）
δ（ｐｐｍ） ７．４６（４Ｈ，ＡＢｑ）、６．７９（
ＩＨ，ｄｔ）、６．１１（ＩＨ，ｄ）、１１１．８〜２
．５ （４Ｈ、ｍ ）、２．２２（８Ｈ。
ＩＨ，ｄｔ）、６．１１（ＩＨ，ｄ）、１１１．８〜２
．５ （４Ｈ、ｍ ）、２．２２（８Ｈ。
Ｓ）
上記の方法に準じて製造された本発明化合物のいくつか
を第２表に示す。
を第２表に示す。
第 ２ 表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは低級ハロアルキル基または低級ハロアルコ
キシ基を表わし、Ｒ＾１およびＲ＾２は水素原子または
メチル基を表わす。〕 で示されるα，β−不飽和ケトン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31645787A JP2513258B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規なα，β−不飽和ケトン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31645787A JP2513258B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規なα，β−不飽和ケトン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01157948A true JPH01157948A (ja) | 1989-06-21 |
| JP2513258B2 JP2513258B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=18077306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31645787A Expired - Lifetime JP2513258B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規なα，β−不飽和ケトン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2513258B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5101076A (en) * | 1988-01-07 | 1992-03-31 | Sumitomo Chemical Company, Limited | β-hydroxyketone and its production |
| US5403812A (en) * | 1990-10-19 | 1995-04-04 | Basf Aktiengesellschaft | Unsaturated cyclohexenone oxime ethers and herbicidal compositions thereof |
-
1987
- 1987-12-14 JP JP31645787A patent/JP2513258B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5101076A (en) * | 1988-01-07 | 1992-03-31 | Sumitomo Chemical Company, Limited | β-hydroxyketone and its production |
| US5403812A (en) * | 1990-10-19 | 1995-04-04 | Basf Aktiengesellschaft | Unsaturated cyclohexenone oxime ethers and herbicidal compositions thereof |
| US5407896A (en) * | 1990-10-19 | 1995-04-18 | Basf Aktiengesellschaft | Unsaturated cyclohexenone oxime ethers and herbicidal compositions thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2513258B2 (ja) | 1996-07-03 |
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