JPH01154125A - アクティブマトリクス基板の製造方法 - Google Patents

アクティブマトリクス基板の製造方法

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JPH01154125A
JPH01154125A JP62313661A JP31366187A JPH01154125A JP H01154125 A JPH01154125 A JP H01154125A JP 62313661 A JP62313661 A JP 62313661A JP 31366187 A JP31366187 A JP 31366187A JP H01154125 A JPH01154125 A JP H01154125A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
varistor
powder
zno
electrode
active matrix
Prior art date
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Pending
Application number
JP62313661A
Other languages
English (en)
Inventor
Hoki Haba
方紀 羽場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Meidensha Corp, Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd filed Critical Meidensha Corp
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Publication of JPH01154125A publication Critical patent/JPH01154125A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 A、産業上の利用分野 本発明は、アクティブマトリクス基板の製造方法に関す
る。
B1発明の概要 本発明は、ZnOバリスタ形のアクティブマトリクス基
板の製造方法において、 ZnO粉末とBltO3等の添加物とを混合し焼成を繰
り返してバリスタ粉末とし、これとガラスフリットとを
混合分級して得たスラリを透明電極と一方の電極とを付
けたガラス基板上に塗布し、その後に他方の電極を形成
することにより、ZnOの粒径分布の相違による動作特
性のばらつきを防止したものである。
C1従来の技術 液晶デイスプレーを行う液晶パネルは、パネルを構成す
る複数の画素と、夫々の画素を個別に駆動する駆動手段
とで構成される。
駆動手段による駆動方式のひとつにアクティブマトリク
ス駆動方式があり、この方式には電界効果トランジスタ
(3端子)形のものと、非線形素子(2端子)形のもの
とがある。
電界効果トランジスタ形のものとして、例えばa−9i
形T F T (thin film transis
tor)がある(第3図参照)。図中、1.2はガラス
、3゜4は偏光板、5はSiO2,6は透明電極、7は
ゲート、8はλ−Si、9はソース、IOはドレイン、
11は液晶であり、図中の下方から光が照射される。a
−S i形TPTは低温プロセスで作ることができ、低
価格であるというメリットがある。
非線形素子形のものとしては、例えばZnOバリスタが
ある(第4図参照)。図中12はZ、 n Oバリスタ
、13.14は電極であり、その他の部分のうち第3図
に付されている符号と同一符号の;T分は同一部分であ
る。ZnOバリスタは、製作が容易でコストが安く、し
かも動作特性の温度依存性が極めて小さいというメリッ
トがある。
D1発明が解決しようとする問題点 ところが、電界効果トランジスタ形の駆動方式では各F
ETが相互に分離しているために製作工程カリ9雑であ
り、−ヶのPETが不良であれば全体として使用不可能
となり、歩留りが悪いという問題がある。一方、ZnO
バリスタにおいてはZnOの粒径分布が相違するために
動作特性がばらつくという問題がある。
そこで本発明は斯かる問題を解決し、ZnOの粒径分布
のばらつきのないアクティブマトリクス基板の製造方法
を提供することを目的とする。
E 問題点を解決するための手段 斯かる目的を達成するための本発明の構成は、ZnO粉
末とBtt03等を粉砕した添加物と水とを混合して仮
焼成し、この焼成物を粉砕して本焼成することによって
バリスタ粉末を作り、バリスタ粉末とガラスフリットと
を粉砕混合して粒度の揃ったバリスタ粉末のみに分級し
、これを高粘度のスラリとして、予め透明電極と一方の
電極とを付けたガラス基板上であって透明電極を除いた
部分に塗布し、その後に透明電極と接続させて他方の電
極を形成したことを特徴とする。
F、実施例 以下、本発明によるアクティブマトリクス基板の製造方
法の実施例を説明する。なお、本発明は前述したZnO
バリスタ形のアクティブマトリクス基板と同じ構成の基
板の製造方法に関するものなので、同一部分には同一符
号を付し、第1図のフローチャートに基づいて説明する
まず、ZnO粉末にPVAと分散剤と水とを加えて液分
散する一方、B j eo 3. B to 3. S
 ! Ot。
M n Ovなどの添加物に水を加えて粉砕し、これを
混合する。この混合したものを造粒して成形し、900
〜1300°Cで仮焼成して母材料を作り、母材料をボ
ールミル又はバイブロミルを用いて数lOμmの粒子と
なるように粉砕して再び成形する。
このようにして粒径かそろいZnOバリスタ特性が出る
バリスタ粉末に融点が400°C前後のガラスフリット
を加えるとともに投入すべきパイン5μm以下の分級に
よって粒度調整し、粒径の揃ったバリスタ粉末のみとす
る。このあと、投入す−とする。
一方、第2図(a)に示すようにガラスlの表面に透明
電極6と一方の電極14とを予め付着させておき、スク
リーン印刷法によって透明電極6を除いたガラス1の表
面にスラリーを10〜30μmの厚さに塗布し、ガラス
が溶ける温度よりもlOoC高い温度で焼結させる。す
ると、第2図(b)に示すZnOバリスタ12が形成さ
れる。
このあとは、不要部分におおいを被せて蒸着るスパッタ
等により他方の電極13を形成すれば、第2図(c)に
示すアクティブマトリクス基板が完成する。
以後は従来と同様に製作を進めて液晶11やガラス2等
を設ければ、液晶素子ができ上がる。
G1発明の詳細 な説明したように本発明によるアクティブマトリクス基
板の製造方法によれば、ガラスフリットを加えて分級に
よりZnOバリスタの粒度調整をしたので、粒径分布の
ばらつきのないアクティブマトリクス基板を得ることが
でき、動作特性のばらつきが生じない。また、Z n 
O−B i tos系非直線抵抗体はすぐれ−た非直線
性を有するので液晶駆動に必要なしきい値電圧を3〜4
Vに簡単に調整でき、多結晶焼結体であるために劣化の
問題が生じず、ZnOは電子の移動度がa−Sfに比べ
て大きく高速動作が可能である。更に、スクリーン印刷
−回塗りのみでダイオード成形ができるため、複雑なプ
ロセスを要せず大面積化が容易である。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明によるアクティブマトリクス基
板の製造方法に係り、第1図はフローチャート図、第2
図は(a)、(b)、(c)は説明図、第3図、第4図
は従来の技術に係り、第3図はa−8i形TPTの液晶
素子の構成図、第4図はZnOバリスタ形の液晶素子の
構成図である。 l・・・ガラス、6・・・透明電極、12・・・ZnO
バリスタ、13.14・・・電極。 1 : がラス 6:  tL日月t1ンヒ 12:Zno バリスタ 13.14 :電極

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ZnO粉末とBi_2O_3等を粉砕した添加物と水と
    を混合して仮焼成し、この焼成物を粉砕して本焼成する
    ことによってバリスタ粉末を作り、バリスタ粉末とガラ
    スフリットとを粉砕混合して粒度の揃ったバリスタ粉末
    のみに分級し、これを高粘度のスラリとして、予め透明
    電極と一方の電極とを付けたガラス基板上であって透明
    電極を除いた部分に塗布し、その後に透明電極と接続さ
    せて他方の電極を形成したことを特徴とするアクティブ
    マトリクス基板の製造方法。
JP62313661A 1987-12-11 1987-12-11 アクティブマトリクス基板の製造方法 Pending JPH01154125A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2684221A1 (fr) * 1991-11-26 1993-05-28 Thomson Csf Procede de fabrication d'ecrans d'affichage a matrice active, notamment de grandes dimensions.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2684221A1 (fr) * 1991-11-26 1993-05-28 Thomson Csf Procede de fabrication d'ecrans d'affichage a matrice active, notamment de grandes dimensions.

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