JPH0442505A - 焼結体バリスタ素子の製造方法 - Google Patents
焼結体バリスタ素子の製造方法Info
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- JPH0442505A JPH0442505A JP2151129A JP15112990A JPH0442505A JP H0442505 A JPH0442505 A JP H0442505A JP 2151129 A JP2151129 A JP 2151129A JP 15112990 A JP15112990 A JP 15112990A JP H0442505 A JPH0442505 A JP H0442505A
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- varistor
- single crystal
- sintered
- zinc oxide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、例えば二端子素子型の液晶表示装置の非線形
素子として用いて好適な焼結体バリスタ素子の製造方法
に関するものである。
素子として用いて好適な焼結体バリスタ素子の製造方法
に関するものである。
[従来の技術]
現在、例えば液晶テレビの画像表示袋!には大別して単
純マトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがある
。単純マトリクス方式は直角をなして設けられた二組の
帯状電極群(行電極群と列電極群)の間に複数の液晶画
素を行列状に配して接続したものであり、これら帯状電
極間に駆動回路によって所定の電圧を印加して液晶画素
を作動させる。この方式は、構造が簡単なため低価格で
システふを実現できるという利点があるが、各液晶画素
でのクロストークが生じるため画素のフントラストが低
く、液晶テレビの画像表示を行う際、画質の低下は避け
られないものであった。これに対し、アクティブマトリ
クス方式は各液晶画素毎にスイッチング素子を設けて電
圧を保持するものであり、液晶表示装置を時分割駆動し
ても液晶画素が選択時の電圧を保持することができるた
め、表示容量の増大が可能で、コントラスト等の画質に
関する特性が良く、液晶テレビの高画質画像表示を実現
できるものである。しかしながら、アクティブマトリク
ス方式にあっては構造が複雑となって製造コストが高く
なってしまうという欠点があった0例えば、スイッチン
グ素子として薄膜トランジスタを用いるTFT型では、
その製造工程において5枚以上のフォトマスクを用いて
5層以上の薄膜を重ねるため、製品歩留まりを上げるこ
とが困難である。
純マトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがある
。単純マトリクス方式は直角をなして設けられた二組の
帯状電極群(行電極群と列電極群)の間に複数の液晶画
素を行列状に配して接続したものであり、これら帯状電
極間に駆動回路によって所定の電圧を印加して液晶画素
を作動させる。この方式は、構造が簡単なため低価格で
システふを実現できるという利点があるが、各液晶画素
でのクロストークが生じるため画素のフントラストが低
く、液晶テレビの画像表示を行う際、画質の低下は避け
られないものであった。これに対し、アクティブマトリ
クス方式は各液晶画素毎にスイッチング素子を設けて電
圧を保持するものであり、液晶表示装置を時分割駆動し
ても液晶画素が選択時の電圧を保持することができるた
め、表示容量の増大が可能で、コントラスト等の画質に
関する特性が良く、液晶テレビの高画質画像表示を実現
できるものである。しかしながら、アクティブマトリク
ス方式にあっては構造が複雑となって製造コストが高く
なってしまうという欠点があった0例えば、スイッチン
グ素子として薄膜トランジスタを用いるTFT型では、
その製造工程において5枚以上のフォトマスクを用いて
5層以上の薄膜を重ねるため、製品歩留まりを上げるこ
とが困難である。
上記のようなことから、コントラスト等の画質に関する
特性が良くかつ構造簡単にして低コストな方式の液晶表
示装置の実現が望まれており、このような要求を実現す
る方式として焼結体バリスタ素子を用いた二端子素子型
液晶表示装置が注目されている。
特性が良くかつ構造簡単にして低コストな方式の液晶表
示装置の実現が望まれており、このような要求を実現す
る方式として焼結体バリスタ素子を用いた二端子素子型
液晶表示装置が注目されている。
二端子素子型の液晶表示装置は単純マ) IJクス方式
に改良を加えて、第7図に示すように行電極1と列電極
2との間に液晶画素4と所定のしきい値電圧で導通する
焼結体バリスタ素子とを電気的に直列に配して接続した
ものであり、第8図に示すような焼結体バリスタ素子3
の非線形な電流−電圧特性を利用したものである。すな
わち、単純マトリクス方式における時分割駆動では、第
9図に示すように液晶画素がオン(光透過率が90%)
する電圧V、。とオフ(光透過率が10%)する電圧V
l<1との比T (”V*o/V’++=(V+o+A
V)/V、。)から、各液晶画素間のクロストークを生
ずることなく許容される最大の走査線数N■axは、N
IIax −((y”+ 1)/D”−1))”であり
、Tの値が小さい方が走査線数が多くなって液晶テレビ
表示に有利である。これに対し、二端子素子型では、焼
結体バリスタ素子3によりそのしきい値電圧Vvを超え
た分の電圧が液晶画素4に印加されるようにして、焼結
体バリスタ素子を設けない場合の液晶画素の動作電圧(
第10図(a)参照)を焼結体バリスタ素子を設けるこ
とによってそのしきい値電圧Vvだけ高くしている(第
10図(ロ)参照)、この結果、前記γΦ値は■、。/
’ V I。
に改良を加えて、第7図に示すように行電極1と列電極
2との間に液晶画素4と所定のしきい値電圧で導通する
焼結体バリスタ素子とを電気的に直列に配して接続した
ものであり、第8図に示すような焼結体バリスタ素子3
の非線形な電流−電圧特性を利用したものである。すな
わち、単純マトリクス方式における時分割駆動では、第
9図に示すように液晶画素がオン(光透過率が90%)
する電圧V、。とオフ(光透過率が10%)する電圧V
l<1との比T (”V*o/V’++=(V+o+A
V)/V、。)から、各液晶画素間のクロストークを生
ずることなく許容される最大の走査線数N■axは、N
IIax −((y”+ 1)/D”−1))”であり
、Tの値が小さい方が走査線数が多くなって液晶テレビ
表示に有利である。これに対し、二端子素子型では、焼
結体バリスタ素子3によりそのしきい値電圧Vvを超え
た分の電圧が液晶画素4に印加されるようにして、焼結
体バリスタ素子を設けない場合の液晶画素の動作電圧(
第10図(a)参照)を焼結体バリスタ素子を設けるこ
とによってそのしきい値電圧Vvだけ高くしている(第
10図(ロ)参照)、この結果、前記γΦ値は■、。/
’ V I。
から(VV+VI。)/ (Vv +V+・)に改善さ
れ、T値の低下によって最大走査線数N1axの増加が
図られ、良質な液晶表示を実現することができる。
れ、T値の低下によって最大走査線数N1axの増加が
図られ、良質な液晶表示を実現することができる。
第2図〜第6図には一般的な二端子素子型の液晶表示装
置を示す。
置を示す。
第2図に示すように、行電極11それぞれに対して多数
の画素電極12が一定の間隔dをもって設けられ、行電
極11と画素電極12とは各焼結体バリスタ素子13で
一定のしきい値電圧Vvをもって接続されている。液晶
画素−つについてみると、第3図及び第4図に示すよう
に、下側ガラス基板10上に行電極11と画素電極12
とを所定の間隔dを隔てて設け、これら行電極11と画
素電極12とを酸化亜鉛(ZnO)からなる焼結体バリ
スタ素子で接続しである。そして、これらの上部を液晶
14で満たし、さらに、列電極15、カラーフィルタ1
6、上側ガラス基板17を設けである。焼結体バリスタ
素子13は、第6図に詳示するように、ZnO単結晶粒
子131の表面をMn、Co酸化物等の無機質絶縁膜1
32で被覆したバリスタ粒子13aからなり、第5図に
詳示するように、これらバリスタ粒子13aをガラスフ
リッ) 13bで焼結したものである。このような焼結
体バリスタ素子13においては、粒径的5μmのバリス
タ粒子1個あたり約3■のしきい値電圧が得られる。し
たがって、行電極11と画素電極12との間隔dを25
μmに設定すれば、この間隔d内に存在する実質的に直
列5個のバリスタ粒13aを介して行電極11と画素電
極12とが接続され、コレラ電極11.12間には5個
X3V=15Vのしきい値電圧が得られる。
の画素電極12が一定の間隔dをもって設けられ、行電
極11と画素電極12とは各焼結体バリスタ素子13で
一定のしきい値電圧Vvをもって接続されている。液晶
画素−つについてみると、第3図及び第4図に示すよう
に、下側ガラス基板10上に行電極11と画素電極12
とを所定の間隔dを隔てて設け、これら行電極11と画
素電極12とを酸化亜鉛(ZnO)からなる焼結体バリ
スタ素子で接続しである。そして、これらの上部を液晶
14で満たし、さらに、列電極15、カラーフィルタ1
6、上側ガラス基板17を設けである。焼結体バリスタ
素子13は、第6図に詳示するように、ZnO単結晶粒
子131の表面をMn、Co酸化物等の無機質絶縁膜1
32で被覆したバリスタ粒子13aからなり、第5図に
詳示するように、これらバリスタ粒子13aをガラスフ
リッ) 13bで焼結したものである。このような焼結
体バリスタ素子13においては、粒径的5μmのバリス
タ粒子1個あたり約3■のしきい値電圧が得られる。し
たがって、行電極11と画素電極12との間隔dを25
μmに設定すれば、この間隔d内に存在する実質的に直
列5個のバリスタ粒13aを介して行電極11と画素電
極12とが接続され、コレラ電極11.12間には5個
X3V=15Vのしきい値電圧が得られる。
[発明が解決しようとする課B]
特に、画質の良好な二端子素子型液晶表示装置を実現す
るためには、焼結体バリスタ素子13が高性能を有し安
定性が高くかつその性能が素子間で一定している必要が
ある。このためには、第6図に示したバリスタ粒子13
aを形成する際、ZnO単結晶粒子131の表面を無機
質絶縁膜132で一定の厚みに被膜する必要がある。
るためには、焼結体バリスタ素子13が高性能を有し安
定性が高くかつその性能が素子間で一定している必要が
ある。このためには、第6図に示したバリスタ粒子13
aを形成する際、ZnO単結晶粒子131の表面を無機
質絶縁膜132で一定の厚みに被膜する必要がある。
従来より焼結体バリスタ素子13は、酸化亜鉛の微粉末
を加熱して焼結させて多結晶化した後、当該焼結多結晶
体を粉砕、分級して酸化亜鉛単結晶粒子粉末を得、当該
酸化亜鉛単結晶粒子を熱処理して角取りした後、当該酸
化亜鉛単結晶粒子の表面をMn、Co#化物絶縁膜等の
無機質絶縁膜で被覆してバリスタ粒子粉末を形成し、当
該バリスタ粒子粉末にガラスフリットと有機バインダを
加えてペースト化し、当該ペーストを絶縁基板上に印刷
塗布した後に焼成して得ていた。
を加熱して焼結させて多結晶化した後、当該焼結多結晶
体を粉砕、分級して酸化亜鉛単結晶粒子粉末を得、当該
酸化亜鉛単結晶粒子を熱処理して角取りした後、当該酸
化亜鉛単結晶粒子の表面をMn、Co#化物絶縁膜等の
無機質絶縁膜で被覆してバリスタ粒子粉末を形成し、当
該バリスタ粒子粉末にガラスフリットと有機バインダを
加えてペースト化し、当該ペーストを絶縁基板上に印刷
塗布した後に焼成して得ていた。
しかしながら、このような従来技術では、一定の厚みの
被膜を有するバリスタ粒子を収率よく製造する事ができ
ず液晶表示装置の低コスト化や性能向上が困難であると
いう問題があった。
被膜を有するバリスタ粒子を収率よく製造する事ができ
ず液晶表示装置の低コスト化や性能向上が困難であると
いう問題があった。
本発明は、上記従来の事情に鑑みなされたもので、無機
質絶縁膜で一定の厚みに被膜したバリスタ粒子を効率よ
く製造でき高性能且つその性能が素子間で一定した焼結
体バリスタ素子を容易に量産する事を目的とする。
質絶縁膜で一定の厚みに被膜したバリスタ粒子を効率よ
く製造でき高性能且つその性能が素子間で一定した焼結
体バリスタ素子を容易に量産する事を目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明の焼結体バリスタ素子の製造方法は、酸化亜鉛の
微粉末を加熱して焼結させた後、当該焼結体を粉砕、分
級して酸化亜鉛単結晶粒子粉−末を得、当該酸化亜鉛単
結晶粒子を再度焼成して球状化した後、当該酸化亜鉛単
結晶粒子に金属酸化物を添加し、混合した後、1250
℃〜1300℃で30分以上加熱することにより、当該
酸化亜鉛単結晶粒子の表面を無機質絶縁膜で被膜してバ
リスタ粒子粉末を形成し、当該バリスター粒子粉末にガ
ラスフリットと有機バインダーを加えてペースト化し、
当該ペーストを絶縁基板上に印刷塗布した後に焼成して
焼結体バリスタ素子を得ることを特徴とする。
微粉末を加熱して焼結させた後、当該焼結体を粉砕、分
級して酸化亜鉛単結晶粒子粉−末を得、当該酸化亜鉛単
結晶粒子を再度焼成して球状化した後、当該酸化亜鉛単
結晶粒子に金属酸化物を添加し、混合した後、1250
℃〜1300℃で30分以上加熱することにより、当該
酸化亜鉛単結晶粒子の表面を無機質絶縁膜で被膜してバ
リスタ粒子粉末を形成し、当該バリスター粒子粉末にガ
ラスフリットと有機バインダーを加えてペースト化し、
当該ペーストを絶縁基板上に印刷塗布した後に焼成して
焼結体バリスタ素子を得ることを特徴とする。
[作用]
本発明では、無機質絶縁膜を酸化亜鉛単結晶粒子に被膜
する工程において、酸化亜鉛単結晶粒子に金属酸化物を
添加し、混合した後、1250〜1300℃で30分以
上加熱焼成する事により無機質絶縁膜で一定の厚みに被
膜したバリスタ粒子を効率よく製造でき高性能且つその
性能が素子間で一定した焼結体バリスタ素子を容易にし
ている。
する工程において、酸化亜鉛単結晶粒子に金属酸化物を
添加し、混合した後、1250〜1300℃で30分以
上加熱焼成する事により無機質絶縁膜で一定の厚みに被
膜したバリスタ粒子を効率よく製造でき高性能且つその
性能が素子間で一定した焼結体バリスタ素子を容易にし
ている。
[実施例]
本発明に係わる焼結体バリスタ素子の製造方法を実施例
に基づいて具体的に説明する。
に基づいて具体的に説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係わる製造方法の工程図
である。
である。
まず、造粒工程101において原料である市販の酸化亜
鉛(ZnO)の微粉末(粒径0.5μm程度)を造粒す
る。
鉛(ZnO)の微粉末(粒径0.5μm程度)を造粒す
る。
次いで、焼結工程102において、このZnO微粉末を
1150℃〜1250℃で2時間以上加熱して焼結させ
、平均粒径が7μm〜8μmの単結晶粒を含んだ多結晶
体に結晶化させる0次いで、粉砕工程103において、
乳鉢等を用いて多結晶体を粉砕してZnO単結晶粉末と
する。次いで、分級工程1゜4において、空気分級機を
用いて5μm〜10μmの粒径のZnO単結晶粒子を2
0%で得た。
1150℃〜1250℃で2時間以上加熱して焼結させ
、平均粒径が7μm〜8μmの単結晶粒を含んだ多結晶
体に結晶化させる0次いで、粉砕工程103において、
乳鉢等を用いて多結晶体を粉砕してZnO単結晶粉末と
する。次いで、分級工程1゜4において、空気分級機を
用いて5μm〜10μmの粒径のZnO単結晶粒子を2
0%で得た。
そして、角取り焼成工程105において、950″C〜
1050℃で1時間〜3時間加熱して、ZnO単結晶粒
に表面部分だけを溶融させ、ZnO単結晶粒の角を取っ
て球状化させる。
1050℃で1時間〜3時間加熱して、ZnO単結晶粒
に表面部分だけを溶融させ、ZnO単結晶粒の角を取っ
て球状化させる。
次いで、金属酸化物添加・焼成工程106において、Z
nO単結晶粉体に、MnCO5、Co*osを各0゜5
++o1%添加し、1250〜13oo℃で30分以上
焼成する。これによって第6図に示したように、ZnO
単結晶粒子131の表面にMnO2及びCo、O,絶縁
膜132を一定の厚みで被覆したバリスタ粒子13aが
形成される。なお、焼成によってバリスタ粒子同士が多
少融着してしまうので、粉取り工程107において乳鉢
等で軽く解しバリスタ粒子粉末とする0次いで、インキ
化工程108において、ガラスフリフト、有機バインダ
ーとしてエチルセルロース、そして有機溶剤としてカル
ピトールを添加し、混合してペースト化する。
nO単結晶粉体に、MnCO5、Co*osを各0゜5
++o1%添加し、1250〜13oo℃で30分以上
焼成する。これによって第6図に示したように、ZnO
単結晶粒子131の表面にMnO2及びCo、O,絶縁
膜132を一定の厚みで被覆したバリスタ粒子13aが
形成される。なお、焼成によってバリスタ粒子同士が多
少融着してしまうので、粉取り工程107において乳鉢
等で軽く解しバリスタ粒子粉末とする0次いで、インキ
化工程108において、ガラスフリフト、有機バインダ
ーとしてエチルセルロース、そして有機溶剤としてカル
ピトールを添加し、混合してペースト化する。
次いで、印刷工程109において、ペースト化したバリ
スタ粒子粉末を第4図に示したように酸化インジュウム
ー酸化錫(ITO)がら成る行電極11及び画素電極1
2が予め設けられているガラス基板上にこのペーストを
250メツシユのスクリーン印刷版を用いて所定形状に
印刷塗布し、これを空気中で420℃で1時間加熱して
乾燥固化させる。その結果、第5図に示したように、互
いに接触したバリスタ粒子13aをガラスフリット13
bで固めた焼結体バリスター素子を得る。
スタ粒子粉末を第4図に示したように酸化インジュウム
ー酸化錫(ITO)がら成る行電極11及び画素電極1
2が予め設けられているガラス基板上にこのペーストを
250メツシユのスクリーン印刷版を用いて所定形状に
印刷塗布し、これを空気中で420℃で1時間加熱して
乾燥固化させる。その結果、第5図に示したように、互
いに接触したバリスタ粒子13aをガラスフリット13
bで固めた焼結体バリスター素子を得る。
上記のようにして得られた本発明のバリスタ素子の電気
特性について述べる。周知のようにバリスタの電流−電
圧特性は次式で示される。
特性について述べる。周知のようにバリスタの電流−電
圧特性は次式で示される。
1 =KV“
ここで、■はバリスタ素子に流れる電流、■はバリスタ
素子の電極間の電圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する
定数、αは電圧非直線特性の指数を示しており、この電
圧非直線指数α(通常α値と呼ばれる)は大きいほど、
バリスタ特性が優れていることになる0本実施例では、
I = 10−”(A)及び! = 10−’(A)に
おける傾きからα値を求めた。(以下、余白) 、th表−仁1JLL 第1表は添加物添加焼成後のα値を示したものである。
素子の電極間の電圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する
定数、αは電圧非直線特性の指数を示しており、この電
圧非直線指数α(通常α値と呼ばれる)は大きいほど、
バリスタ特性が優れていることになる0本実施例では、
I = 10−”(A)及び! = 10−’(A)に
おける傾きからα値を求めた。(以下、余白) 、th表−仁1JLL 第1表は添加物添加焼成後のα値を示したものである。
これに示されるように、焼成温度を1200℃以下とす
ると適当なα値が得られない結果となった。叉1350
℃以上になると酸化亜鉛粒子が昇華し始める為好ましく
ない。しかし本発明を用いた場合α値が、12〜22と
いう値を得る事ができる為、高性能且つその性能が素子
間で一定した焼結体バリスタ素子を得る事ができる。
ると適当なα値が得られない結果となった。叉1350
℃以上になると酸化亜鉛粒子が昇華し始める為好ましく
ない。しかし本発明を用いた場合α値が、12〜22と
いう値を得る事ができる為、高性能且つその性能が素子
間で一定した焼結体バリスタ素子を得る事ができる。
なお、上記の実施例においては、無機物絶縁膜となる金
属酸化物としてMnCO3、co!O8を例にとり説明
したが、それ以外の金属としてSr。
属酸化物としてMnCO3、co!O8を例にとり説明
したが、それ以外の金属としてSr。
Nb、Ge、等を含有する金属酸化物を用いても差し支
えないことはもちろんである。
えないことはもちろんである。
また、本発明は液晶表示装置用の焼結体バリスタ素子の
みならず、一般的に用いられる焼結体バリスタ素子とし
ても勿論適用することができる。
みならず、一般的に用いられる焼結体バリスタ素子とし
ても勿論適用することができる。
[発明の効果]
以上詳細に説明したように、本発明によれば、無機質絶
縁膜を酸化亜鉛の単結晶粒子に被膜する工程において、
酸化亜鉛単結晶粒子に金属酸化物を添加し、混合した後
、1250〜1300°Cで30分以上加熱焼成するよ
うにしたため、無機質絶縁膜で一定の厚みに被膜したバ
リスタ粒子を効率よく製造でき高性能且つその性能が素
子間で一定した焼結体バリスタ素子の量産を容易に実現
する事ができる。従って、むらのない、鮮明な画像表示
を達成する液晶表示装置を得ることが可能と法の一実施
例を工程順に示す説明図、第2図は一般的な液晶表示装
置の電極形状の一例を示す平面図、第3図は一般的な液
晶表示装置の一画素の拡大平面図、第4図はバリスタ素
子を用いた液晶表示装置の一例を示す断面図、第5図は
第4図中のバリスタ素子要部の拡大図、第6図はバリス
タ粒子の断面図、第7図は二端子素子型液晶表示装置の
等価回路図、第8図は焼結体バリスタ素子の電圧−電流
特性を示すグラフ図、第9図は単純マトリックス方式の
液晶画素の動作特性を示すグラフ図、第1θ図(a)
、(b)はそれぞれ焼結体バリスタ素子を用いないとき
と、用いたときの液晶画素の動作特性を示すグラフであ
る。
縁膜を酸化亜鉛の単結晶粒子に被膜する工程において、
酸化亜鉛単結晶粒子に金属酸化物を添加し、混合した後
、1250〜1300°Cで30分以上加熱焼成するよ
うにしたため、無機質絶縁膜で一定の厚みに被膜したバ
リスタ粒子を効率よく製造でき高性能且つその性能が素
子間で一定した焼結体バリスタ素子の量産を容易に実現
する事ができる。従って、むらのない、鮮明な画像表示
を達成する液晶表示装置を得ることが可能と法の一実施
例を工程順に示す説明図、第2図は一般的な液晶表示装
置の電極形状の一例を示す平面図、第3図は一般的な液
晶表示装置の一画素の拡大平面図、第4図はバリスタ素
子を用いた液晶表示装置の一例を示す断面図、第5図は
第4図中のバリスタ素子要部の拡大図、第6図はバリス
タ粒子の断面図、第7図は二端子素子型液晶表示装置の
等価回路図、第8図は焼結体バリスタ素子の電圧−電流
特性を示すグラフ図、第9図は単純マトリックス方式の
液晶画素の動作特性を示すグラフ図、第1θ図(a)
、(b)はそれぞれ焼結体バリスタ素子を用いないとき
と、用いたときの液晶画素の動作特性を示すグラフであ
る。
11・・・行電極 12・・・画素電極 13・・
・焼結体バリスタ素子 13a・・・パリス粒子
13b・・・ガラスフリット14・・・液晶 15・
・・列電極131・・・ZnO単結晶粒子 132・
・・無機質絶縁膜第1図は本発明の焼結体バリスタ素子
の製造方(2nO照料粉〕 ↓ 口11下102 ↓ 「[1上110 第1図 第3図 第4図 第5図 第2図 第6図 第7図 第8図
・焼結体バリスタ素子 13a・・・パリス粒子
13b・・・ガラスフリット14・・・液晶 15・
・・列電極131・・・ZnO単結晶粒子 132・
・・無機質絶縁膜第1図は本発明の焼結体バリスタ素子
の製造方(2nO照料粉〕 ↓ 口11下102 ↓ 「[1上110 第1図 第3図 第4図 第5図 第2図 第6図 第7図 第8図
Claims (1)
- (1)酸化亜鉛の微粉末を加熱して焼結体とし、該焼結
体を粉砕、分級して粒径5μm〜10μmの酸化亜鉛単
結晶粒子を得、該酸化亜鉛単結晶粒子に、焼結して絶縁
性被膜となる金属酸化物を添加し、混合した後、125
0℃〜1300℃で30分以上加熱することにより、該
酸化亜鉛単結晶粒子の表面を無機質絶縁膜で被膜してバ
リスタ粒子粉末を形成し、当該バリスター粒子粉末にガ
ラスフリットと有機バインダーを加えてペースト化し、
当該ペーストを絶縁基板上に印刷塗布した後に焼成して
焼結体バリスタ素子を得ることを特徴とする焼結体バリ
スタ素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2151129A JPH0442505A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 焼結体バリスタ素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2151129A JPH0442505A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 焼結体バリスタ素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0442505A true JPH0442505A (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=15512001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2151129A Pending JPH0442505A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 焼結体バリスタ素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0442505A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2022071303A1 (ja) * | 2020-10-02 | 2022-04-07 |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP2151129A patent/JPH0442505A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2022071303A1 (ja) * | 2020-10-02 | 2022-04-07 | ||
| WO2022071303A1 (ja) * | 2020-10-02 | 2022-04-07 | Dic株式会社 | 酸化亜鉛粒子、酸化亜鉛粒子の製造方法及び樹脂組成物 |
| CN116249744A (zh) * | 2020-10-02 | 2023-06-09 | Dic株式会社 | 氧化锌颗粒、氧化锌颗粒的制造方法和树脂组合物 |
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