JPH0121531B2 - - Google Patents

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JPH0121531B2
JPH0121531B2 JP56195575A JP19557581A JPH0121531B2 JP H0121531 B2 JPH0121531 B2 JP H0121531B2 JP 56195575 A JP56195575 A JP 56195575A JP 19557581 A JP19557581 A JP 19557581A JP H0121531 B2 JPH0121531 B2 JP H0121531B2
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magnetic
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ppm
roll
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Tsutomu Okita
Kyoichi Naruo
Akira Ushimaru
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Fuji Photo Film Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/068Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using ionising radiations (gamma, X, electrons)
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • GPHYSICS
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    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録材料に関し、特に電磁変換特
性に優れかつ良好な耐摩耗性を有する磁気記録材
料に関するものである。 現在、一般に広く使用されている磁気記録材料
は、結合剤として塩酢ビ系樹脂、塩ビ−塩化ビニ
リデン系樹脂、セルロース樹脂、アセタール樹
脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリルブタジエン
樹脂等の熱可塑性樹脂を単独あるいは混合して用
いる方法があるが、この方法では、磁性層の耐摩
耗性が劣り磁気テープの走行経路を汚してしまう
という欠点を有していた。 また、メラミン樹脂、尿素樹脂などの熱硬化性
樹脂を用いる方法あるいは上記熱可塑性樹脂に化
学反応による架橋性の結合剤、例えばイソシアネ
ート化合物、エポキシ化合物などを添加する方法
が知られている。しかし、架橋性の結合剤を用い
ると、(1)磁性体を分散させた樹脂溶液の貯蔵安定
性が悪い。即ち、ポツトライフが短かいという欠
点を有し磁性塗液物性の均一性、ひいては、磁気
テープの均質性が来てないという欠点及び(2)塗布
乾燥後に塗膜の硬化のために熱処理工程が必要で
あり、製品化までに長時間を要するという大きな
欠点を有していた。 これらの欠点を防止するため、アクリル酸エス
テル系のオリゴマーとモノマーを結合剤として用
い、乾燥後に電子線照射によつて硬化せしめる磁
気材料の製造方法が特公昭47−12423号、特開昭
47−15104号、特開昭50−77433号、特開昭56−
25235号等に開示されている。しかしながら、上
記特許に記載された製造方法では高度な電磁変換
特性と良好な耐摩耗性を有する磁気記録材料は得
られなかつた。 近年特に高度な電気特性が要求され、このため
磁性層は表面が平滑でなければドロツプアウトの
原因となり出力低下を起こしたり、雑音(ノイ
ズ)の原因となつたりするのである。即ち磁性層
表面の極めて平滑な磁気記録材料が要求されるの
である。この目的のために磁気記録材料は、塗膜
乾燥後に平滑化処理を施すが、上記特開昭47−
12423号、特開昭47−15104号、特開昭50−77433
号に開示された方法即ち電子線硬化後に平滑化処
理を行う方法では、充分な平滑性が得られず、電
磁変換特性上ノイズが大きいという欠点を有して
いた。また、特開昭56−25235号に開示された方
法、即ち、塗布乾燥後予備照射を行ない次いで平
滑化処理し更に電子線硬化を行なうという方法で
は、用いるバインダーの種類によつて予備照射の
線量を適切に選ばなければならず、予備硬化のコ
ントロールが容易でないという欠点を有してい
た。またこれらの方法は、耐摩耗性も良好でない
という欠点を有している。この原因としては硬化
した磁性層バインダーが平滑化処理によつてミク
ロな破壊が発生しているからであると推定され
る。 本発明者等は熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂を用い
る方法、及び化学反応による架橋性の結合剤を添
加する方法、更に電子線架橋による硬化性結合剤
を用いる方法、等の従来技術の欠点を改良するた
め鋭意研究を重ねた結果本発明に到達したもので
ある。 本発明の目的は、第1に、電磁変換特性の優れ
た磁気テープを提供することであり、第2に、力
学的性質の優れた磁性層を有する磁気テープを提
供することであり、第3に、磁性塗液の貯蔵安定
性が良好で均質な磁気テープを提供することであ
り、第4に、耐摩耗性の優れた磁気テープを提供
することであり、第5に、塗膜の硬化のための熱
処理工程が不要な磁気テープを提供することであ
る。 本発明の上記の目的は、電子線照射による重合
が可能な不飽和結合を有する化合物と該化合物を
溶解する有機溶剤と強磁性微粉末を含む組成物を
支持体上に塗布し、酸素濃度10000ppm以上の雰
囲気で電子線を照射し次いで鏡面による平滑化処
理を施した後酸素濃度3000ppm以下の雰囲気で電
子線照射することを特徴とする磁気記録材料によ
つて達成される。酸素濃度10000ppm以上好まし
くは50000ppm以上の雰囲気で電子線を照射する
ことによつて平滑化処理による磁性層表面の平滑
性が驚くほど向上し、その後酸素濃度3000ppm以
下で好ましくは1000ppm以下更に好ましくは
500ppm以下の雰囲気で電子線照射することによ
つて、電磁変換特性の優れた耐摩耗性の良好な磁
気記録材料が得られた。この理由として酸素濃度
10000ppm以上の雰囲気で電子線を照射すると、
表面及び表面近傍の磁性層バインダーは硬化せ
ず、平滑化処理を施すと磁性層表面の平滑性が向
上し、3000ppm以下の酸素濃度雰囲気では照射す
る電子線によつて硬化するためと考えられる。 電子線による重合が可能な不飽和結合を有する
化合物としては、例えばビニルないしビニリデン
炭素・炭素二重結合を好ましくは複数個有する化
合物であり、アククロイル基、アクリルアミド
基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエ
ーテル基等を含む化合物及び不飽和ポリエステル
である。 特に好ましくは、アクリロイル、メタクリロイ
ル基を直鎖の両末端に有する化合物であり、これ
らはA.Vrancken“Fatipec Congress”1119
(1972)に引用されている。例えば、 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポ
リウレタン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエー
テル骨格、ポリカボネート骨格であつてもあるい
はこれらの混合された骨格でもよい。また例示し
た化合物の末端がメタクリロイル基でもよい。分
子量は約1000〜20000が好ましい。 強磁性粉末としては、強磁性酸化鉄微粉末、強
磁性二酸化クロム微粉末、強磁性合金粉末などが
使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針状
比は、2/1〜20/1程度、好ましくは5/1以
上平均長は0.2〜2.0μm程度の範囲が有効である。
強磁性合金粉末は金属分が75wt%以上であり、
金属分の80wt%が強磁性金属(即ち、Fe、Co、
Ni、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni)
で長径が約1.0μm以下の粒子である。 更に、これらの組成物には不飽和の炭素−炭素
不飽和結合を分子内に有するモノマーを添加する
ことができる。かかるモノマーとしては、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、ア
クリル酸メチル及びその同族体であるアクリル酸
アルキルエステル、メタクリル酸メチル及びその
同族体であるメタクリル酸アルキルエステル、ス
チレン及びその同族体であるα−メチルスチレ
ン、β−クロルスチレンなど、アクリルニトリ
ル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル
などが挙げられる。分子内に不飽和結合が2個以
上あつてもよい。この化合物の例としては「感光
性樹脂データー集」(株)綜合化学研究所昭和43年12
月刊行235〜236頁に掲載されている化合物が挙げ
られる。特に、ポリオールの不飽和エステル類、
例えばエチレンジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、グリセロールトリメタク
リレート、エチレンジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラメタクリレートなど及びエポ
キシ環を有するグリシジルメタクリレートなどが
好ましい。分子内に不飽和結合が1個の化合物と
2個以上の化合物を混合して用いてもよい。 有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチル
エーテル等のエステル系;エーテル、グリコール
ジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテ
ル、ジオキサン等のグリコールエーテル系;ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;
メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩
化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリ
ン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素等のも
のが使用できる。 本発明の組成物は、ポリマー(モノマーを併用
する場合は、ポリマーとモノマーの総和)/強磁
性粉末が重量比で2/1〜1/20が好ましく、更
に好ましくは1/1〜1/10である。この範囲を
外れると電気特性が大巾に低下したり耐摩耗性の
大巾な低下が生じる。 モノマーを添加する場合ポリマーとの比は、ポ
リマー/モノマー=2/8以上が好ましい。この
範囲を外れると硬化は多大なエネルギーが必要と
される。 また、本発明の塗布組成液には、潤滑剤、分散
剤、研摩剤、防錆剤、帯電防止剤などの添加剤を
加えてもよい。特に潤滑剤は、飽和及び不飽和の
高級脂肪酸、脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミ
ド、高級アルコール、シリコンオイル、鉱油、食
物油、フツソ系化合物などがあり、これらは塗布
液調製時に添加してもよく、また平滑化処理の前
あるいは後で、あるいは第2段の電子線硬化後に
有機溶剤に溶解してあるいはそのまま磁性層表面
に塗布あるいは、噴霧してもよい。 塗布組成物を調製する際には、磁性粉末及び上
述の各成分は全て同時に、あるいは個々順次に混
練機に投入される。このとき分散剤を磁性粉末と
共に添加してもよい。 組成物の混練分散には各種の混練機が使用され
る。例えば二本ロールミル、三本ロールミル、ボ
ールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラ
イダー、Szegvariアトライター、高速インペラ
ー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、
デイスパー、ニーダー、高速ミキサーホメモジナ
イザー、超音波分散機などである。 混練分散に関する技術は、T.C.PATTON
“Paint Flow and Pigment Dispersion”(1964
年、JohnWiley&Sons社発行)に述べられてい
る。又、米国特許第2581414号、同2855156号にも
述べられている。 支持体上へ前記の磁気記録層を塗布する方法と
してはエアードクターコート、ブレードコート、
エアナイフコート、スクイズコート、含浸コー
ト、リバースロールコート、トランスフアーロー
ルコート、グラビヤコート、キスコート、キヤス
トコート、スプレイコート、スピンコート等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具
体的説明は「コーデイング工学」253頁〜277頁
(昭和46年3月20日朝倉書店発行)に詳細に記載
されている。 磁性層の厚味は乾燥厚味で約0.5〜15μmの範囲
となるように塗布する。この乾燥厚味は磁気記録
体の用途、形状、規格などにより決められる。 このような方法により、支持体上に塗布された
磁性層は、必要により、前記のように層中の磁性
粉末を配向させる処理を施し乾燥する。 配向処理は下記の条件で行なうことができる。 配向磁場は交流または直流で約500〜3000Oe程
度である。 強磁性粉末の配向方向は、その用途により定め
られる。即ち、サウンドテープ、小型ビデオテー
プ、メモリーテープなどの場合にはテープの長さ
方向に平行であり、放送用ビデオテープなどの場
合には長さ方向に対して、30゜乃至90゜の傾きをも
つて配向される。 配向後の磁性層の乾燥温度は約50〜120℃程度、
好ましくは70〜100℃、特に好ましくは80〜90℃
で、空気流量は1〜5Kl/m2、好ましくは2〜3
Kl/m2で、乾燥時間は約30秒〜10分間程度、好ま
しくは1〜5分である。 乾燥前に塗膜表面のスムーズニング処理を施し
てもよい。この方法としてはマグネツトスムーザ
ー、スムーズニングコイル、スムーズニングブレ
ード、スムーズニングブランケツト等の方法が必
要に応じて使用される。 前記の支持体の素材としては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン等のポリオレフイン類;セルローストリ
アセテート、セルロースダイアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースアセテー
トプロピオネート等のセルロース誘導体;ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹
脂;ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド
イミド等プラスチツクの他に用途に応じてアルミ
ニウム、銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁
性合金などの非磁性金属類;紙、バライタまたは
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−ブテ
ン共重合体などの炭素数2〜10のα−ポリオレフ
イン類を塗布またはラミネートした紙などの紙類
も使用できる。これらの非磁性支持体は使用目的
に応じて透明あるいは不透明であつても良い。 又、非磁性支持体の形態はフイルム、テープ、
シート、デイスク、カード、ドラム等いずれでも
良く、形態に応じて種々の材料が必要に応じて選
択される。 これらの非磁性支持体の厚みはフイルム、テー
プ、シート状の場合は約1〜50μm程度好ましく
は2〜25μmである。又、デイスク、カード状の
場合は0.5〜2mm程度であり、ドラム状の場合は
円筒状とし、使用するレコーダーに応じその型は
決められる。 又、本発明の支持体は帯電防止、転写防止、ワ
ウフラツターの防止、磁気記録体の強度向上、バ
ツク面のマツト化等の目的で、磁性層を設けた側
の反面の面(バツク面)がいわゆるバツクコート
(backcoat)されていてもよい。 磁性層表面の平滑化処理には鏡面ロールと鏡面
ロールとによるカレンダリング処理あるいは鏡面
ロールと弾性ロールとによるカレンダリング処理
が用いられる。 例えば鏡面ロールとしてはメタルロール、弾性
ロールとしてはコツトンロールまたは合成樹脂
(たとえばナイロン、ポリウレタンなど)ロール
を用いることができる。 カレンダーの条件は約25〜100Kg/cm2のロール
間圧力で、約10〜150℃、特に好ましくは10〜70
℃の表面で、5〜200m/minの処理温度で1〜
30段で行なうのが好ましい。温度及び圧力がこれ
らの上限以上になると磁性層が剥落したり支性体
が変形したり悪影響がある。又、処理速度が約5
m/min以下だと表面平滑化の効果が得られな
く、約200m/min以上だと処理操作が困難とな
る。 これらの表面平滑化処理については米国特許
2688567号;同2998325号;同3783023号;西独公
開特許(OLS)2405222号;特開昭49−53631号、
同50−10337号、同50−99506号、同51−92606号、
同50−102049号、同51−103404号、特公昭52−
17404号などに記載されている。 本発明の方法において、鏡面ロールによる平滑
化処理は、支持体上の塗布層から有機溶剤を除去
した後に行なわれる。この場合、有機溶剤は完全
に除去されてもよいし、一部除去されてもよい。
例えば、塗布層を放置又は通常の条件で乾燥して
有機溶剤の一部又は全部を除去した後、平滑化処
理を施すこともできる。 電子線加速器としてはバンデグラーフ型のスキ
ヤニング方式、ダブルスキヤニング方式あるいは
カーテンビーム方式が採用できる。 電子線特性としては加速電圧が100〜1000KV
好ましくは150〜700KVである。加速電圧が
100KV以下の場合は、エネルギーの透過量が不
足し1000KVを超えると重合に使われるエネルギ
ー効率が低下し経済的でない。第1段照射、第2
段照射とも吸収線量としてはそれぞれ0.1〜20メ
ガラツド、好ましくは0.1〜10メガラツドである。
吸収線量として、0.1メガラツド以下では硬化反
応が不充分で磁性層強度が得られず、20メガラツ
ド以上になると、硬化に使用されるエネルギー効
率が低下したり、被照射体が発熱し、特にプラス
テイツク支持体が変形するので好ましくない。 以下に本発明を実施例および比較例により更に
具体的に説明する。ここに示す成分、割合、操作
順序等は、本発明の精神から逸脱しない範囲にお
いて変更しうるものであることは本業界に携わる
ものにとつては容易に理解されることである。 従つて、本発明は、下記の実施例に制限される
べきではない。尚、以下の実施例および比較例に
おいて「部」はすべて「重量部」を示す。 実施例 1 γ−Fe2O3 100部 ウレタン系アクリレートオリゴマー(米国特許 第4092173号の実施例1と同様にして調製した)
10部 ジエチレングリコールジアクリレート 5部 ニトロセルロース(粘度RS1/2H) 10部 エステル型ポリウレタン(分子量約30000) 5部 ミリスチン酸 1部 ブチルステアレート 1部 メチルエチルケトン 300部 上記成分をボールミルで50時間混練して得られ
た磁性塗液を20μのポリエチレンテレフタレート
支持体上に、ドクターブレードを用いて乾燥膜厚
が8μになるように塗布しコバルト磁石を用いて
配向させたのち、溶剤を乾燥(100℃1分間)さ
せた。次いで酸素濃度15000ppmの雰囲気で加速
電圧150KVで1Mradの吸収線量になるように照
射した。このあとでコツトンロールと鏡面ロール
の群からなる5段のカレンダーで平滑化処理(ロ
ール温度60℃、圧力100Kg/cm2)を行つた。 更に酸素濃度500ppmで加速電圧150KV、
2Mradの吸収線量になるように照射した。この
サンプルをNo.1とする。 比較例 1 実施例1に於て第1段の電子線照射を酸素濃度
500ppmで行なつた。このサンプルをNo.2とする。 比較例 2 実施例1に於て、第1段の照射を酸素濃度
500ppmで加速電圧150KV、3Mradの吸収線量に
なるようにして行ない平滑化処理後の第2段照射
は施さなかつた。このサンプルをNo.3とする。 比較例 3 比較例1で平滑化処理を施さなかつた。 このサンプルをNo.4とする。 実施例 2 実施例1の塗布液を以下の液にかえて実施例1
と同様の処理をした。このサンプルNo.5とする。 γ−Fe2O3 100部 エステルアクリレートオリゴマー (東亜合成(株)製アロニクスM6100) 10部 ジエチレングリコールジアクリレート 5部 ニトロセルロース(粘度RS1/2H) 7.5部 エステル型ポリウレタン(分子量約30000)7.5部 ミリスチン酸 1部 ブチルステアレート 1部 メチルエチルケトン 300部 結果を第1表に示す。
【表】 スチル耐久性の測定方法 VHSビデオテープレコーダー(日本ビクター
株式会社製、HR3600型)を用いてビデオテープ
(各サンプル)に一定のビデオ信号を記録し、再
生した静止画像が鮮明さを失なうまでの時間を示
す(23℃、65%RH)。 カラー信号はNo.3サンプルを標準試料とした。 好ましい実施態様としては以下のことが挙げら
れる。 (1) 特許請求の範囲に於て、第1段の電子線照射
が100〜1000KV、吸収線量0.1〜10メガラツド
である磁気記録材料の製造方法。 (2) 特許請求の範囲に於て、鏡面による平滑化処
理が圧力25〜100Kg/cm2温度が10〜100℃である
鏡面ロールと弾性ロールによる1〜30段のカレ
ンダーによる処理である磁気記録材料の製造方
法。 (3) 特許請求の範囲に於て第2段の電子線照射が
100〜1000KV吸収線量0.1〜10メガラツドであ
る磁気記録材料の製造方法。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 電子線照射による重合が可能な不飽和結合を
    有する化合物と該化合物を溶解する有機溶剤と強
    磁性微粉末を含む組成物を支持体上に塗布したの
    ち、酸素濃度10000ppm以上の雰囲気で電子線照
    射し、次いで鏡面による平滑化処理を施した後酸
    素濃度3000ppm以下の雰囲気で電子線照射するこ
    とを特徴とする磁気記録材料の製造方法。
JP56195575A 1981-12-07 1981-12-07 磁気記録材料の製造方法 Granted JPS5897132A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56195575A JPS5897132A (ja) 1981-12-07 1981-12-07 磁気記録材料の製造方法
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