JPH01258682A - 7―/D(―)アルフア―アミノ―アルフア―(p―ヒドロキシフエニル)アセトアミド/―3―メチル―3―セフエム―4―カルボン酸―水化物の製造方法 - Google Patents
7―/D(―)アルフア―アミノ―アルフア―(p―ヒドロキシフエニル)アセトアミド/―3―メチル―3―セフエム―4―カルボン酸―水化物の製造方法Info
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- JPH01258682A JPH01258682A JP1041988A JP4198889A JPH01258682A JP H01258682 A JPH01258682 A JP H01258682A JP 1041988 A JP1041988 A JP 1041988A JP 4198889 A JP4198889 A JP 4198889A JP H01258682 A JPH01258682 A JP H01258682A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は7−/D(−)アルファーアミノ−アルファー
(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−メチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸−水化物(mono
hydrate)の製造方法に関する。
(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド/−3−メチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸−水化物(mono
hydrate)の製造方法に関する。
本発明を要約すれば、7−/D(−)アルファーアミノ
−アルファー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
/−3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸−水化
物の製造において、7−/D(−)アルファーベンジル
オキシカルボニルアミノ−アルファー(p−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セフェム−
4−カルボン酸を可溶化し、こうして得られた溶液を適
当な溶剤中で水素添加分解し、及び水で沈殿させること
により所望の生成物を単離することによって製造するこ
とである。
−アルファー(p−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
/−3−メチル−3−セフェム−4−カルボン酸−水化
物の製造において、7−/D(−)アルファーベンジル
オキシカルボニルアミノ−アルファー(p−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セフェム−
4−カルボン酸を可溶化し、こうして得られた溶液を適
当な溶剤中で水素添加分解し、及び水で沈殿させること
により所望の生成物を単離することによって製造するこ
とである。
7−/D(−)アルファーアミノ−アルファー(p−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド/−3−メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸は国際共通名称(I nLe
rnational Common N ame
−D CI )では“セファドロキシル(cephad
roxil)“として知られている、経口的に活性な半
合成的なセファロスポリンであり、本物質は本明細書及
び特許請求の範囲において上記の名称で示される。ベル
ギー特許第853.974号は、以後本明細書において
“セファドロキシル−水化物”として示される7−/D
(−)アルファーアミノ−アルファー(p−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド/−3−メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸−水化物は、下記式 によって表されることを記載している。
ドロキシフェニル)アセトアミド/−3−メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸は国際共通名称(I nLe
rnational Common N ame
−D CI )では“セファドロキシル(cephad
roxil)“として知られている、経口的に活性な半
合成的なセファロスポリンであり、本物質は本明細書及
び特許請求の範囲において上記の名称で示される。ベル
ギー特許第853.974号は、以後本明細書において
“セファドロキシル−水化物”として示される7−/D
(−)アルファーアミノ−アルファー(p−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド/−3−メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸−水化物は、下記式 によって表されることを記載している。
セファドロキシル−水化物は製薬学的な形態として特に
有用な、安定な形態のセファドロキシルであるという利
点を有している。上に挙げたベルギー特許によれば、セ
ファドロキシル−水化物はa)7−アミノ−3−デスア
セトキシセファロスポラン酸を充分に無水である中性溶
剤中でシリル化し; b)かくして得られたシリル化された7−アミノ−3−
デスアセトキシセファロスポラン酸を充分に無水である
中性溶剤中でD(−)−アルファーアミノ−アルファー
(p−ヒドロキシフェニル)アセチルクロリド塩酸塩で
酸受容体の存在下にアシル化し; C)工程(b)のアシル化生成物の加水分解又はアルコ
リシスによってシリル基を除去し:及びd)−溶液のp
H値を高い値とし、ジメチルホルムアミドで溶媒化物を
形成し、その後それからセファドロキシル−水化物を単
離するかニ ー又は溶液のpHを上げて水で処理することにより生成
物を単離するか のいずれかの方法で所望の一水化物を形成することから
成る方法によって製造されている。
有用な、安定な形態のセファドロキシルであるという利
点を有している。上に挙げたベルギー特許によれば、セ
ファドロキシル−水化物はa)7−アミノ−3−デスア
セトキシセファロスポラン酸を充分に無水である中性溶
剤中でシリル化し; b)かくして得られたシリル化された7−アミノ−3−
デスアセトキシセファロスポラン酸を充分に無水である
中性溶剤中でD(−)−アルファーアミノ−アルファー
(p−ヒドロキシフェニル)アセチルクロリド塩酸塩で
酸受容体の存在下にアシル化し; C)工程(b)のアシル化生成物の加水分解又はアルコ
リシスによってシリル基を除去し:及びd)−溶液のp
H値を高い値とし、ジメチルホルムアミドで溶媒化物を
形成し、その後それからセファドロキシル−水化物を単
離するかニ ー又は溶液のpHを上げて水で処理することにより生成
物を単離するか のいずれかの方法で所望の一水化物を形成することから
成る方法によって製造されている。
予め適当な溶剤中に溶解した7−/D(−)アルファー
ベンジルオキシカルボニルアミノ−アルファー(p−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(米国特許第3,489,75
2号中に開示された)を水素添加分解し、そして触媒を
除去した後、ある程度酸性化した水で沈殿させることに
よって所望の生成物を単離することにより、同等中間的
な溶媒化物を製造することなく又は溶液のpHを上げる
よりも下げることで、直接にセファドロキシル−水化物
を得ることが可能であることが新規に見出だされた。
ベンジルオキシカルボニルアミノ−アルファー(p−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(米国特許第3,489,75
2号中に開示された)を水素添加分解し、そして触媒を
除去した後、ある程度酸性化した水で沈殿させることに
よって所望の生成物を単離することにより、同等中間的
な溶媒化物を製造することなく又は溶液のpHを上げる
よりも下げることで、直接にセファドロキシル−水化物
を得ることが可能であることが新規に見出だされた。
更にこの方法により、セファドロキシル−水化物は特別
な精製操作を必要とすることなく、優れた収率で得られ
ることが見出だされた。
な精製操作を必要とすることなく、優れた収率で得られ
ることが見出だされた。
従って本発明は:
(a)下記式
%式%)
カルボン酸を、シリル化(sililation)又は
有機塩基で塩化(salification)すること
により、セファドロキシルと溶媒化物(solvate
)を形成することのない、有機溶剤中で可溶化し、 (b)かくして得られた溶液を接触的水素添加分解処理
し、及び触媒を除去後、 (c)約pH4の水で沈殿させ且つ濾過することにより
セファドロキシル−水化物を単離することを特徴とする
式Iのセファドロキシル−水化物の製造方法に関する。
有機塩基で塩化(salification)すること
により、セファドロキシルと溶媒化物(solvate
)を形成することのない、有機溶剤中で可溶化し、 (b)かくして得られた溶液を接触的水素添加分解処理
し、及び触媒を除去後、 (c)約pH4の水で沈殿させ且つ濾過することにより
セファドロキシル−水化物を単離することを特徴とする
式Iのセファドロキシル−水化物の製造方法に関する。
工程(a)における化合物■の可溶化は、10℃ないし
50℃、好適には30ないし35℃の温度で10分ない
し4時間、好適には約1時間にわたってシリル化するこ
とにより行うことができる。
50℃、好適には30ないし35℃の温度で10分ない
し4時間、好適には約1時間にわたってシリル化するこ
とにより行うことができる。
特に好適なシリル化剤はモノトリメチルシリルアセトア
ミド(M S A )、ビス−トリメチルシリルアセト
アミド(BSA)、ビス−トリメチルシリル尿素(BS
U)及びヘキサメチルジシラザン(HMDS)である。
ミド(M S A )、ビス−トリメチルシリルアセト
アミド(BSA)、ビス−トリメチルシリル尿素(BS
U)及びヘキサメチルジシラザン(HMDS)である。
シリル化剤は計算量に対し最高約15%過剰な量で使用
される。
される。
工程(a)における化合物■の可溶化は又有機塩基、例
えばトリメチルアミン又はトリエチルアミンで塩化する
ことにより行うことができる。
えばトリメチルアミン又はトリエチルアミンで塩化する
ことにより行うことができる。
使用される溶剤は極性又は非極性のいずれかであり、及
び水と混和性であることが好ましい。
び水と混和性であることが好ましい。
適当な溶剤は例えばジメトキシエタン、イソブチルメチ
ルケトン及びアセトンであるが、好適な溶剤はジオキサ
ンである。
ルケトン及びアセトンであるが、好適な溶剤はジオキサ
ンである。
一般に有機溶剤は、メタノール及びジメチルホルムアミ
ドの場合に溶媒化物が生じるよ)に、セファドロキシル
と溶媒化物を形成するものでなければ、任意の有機溶剤
を使用することができる。
ドの場合に溶媒化物が生じるよ)に、セファドロキシル
と溶媒化物を形成するものでなければ、任意の有機溶剤
を使用することができる。
工程(b)の水素添加分解は、工程(a)において得ら
れた透明な溶液について、適当な基材上に、より好適に
は炭酸カルシウム上に、5ないし10%、好適には10
%の濃度に担持された水素添加触媒、好適にはパラジウ
ムの存在において、好適には室温で水素を用いて行なわ
れる。
れた透明な溶液について、適当な基材上に、より好適に
は炭酸カルシウム上に、5ないし10%、好適には10
%の濃度に担持された水素添加触媒、好適にはパラジウ
ムの存在において、好適には室温で水素を用いて行なわ
れる。
好適な一具体化例によれば、水素添加分解は水素添加触
媒、好適には適当な基材上に、より好適には炭素を担体
とした5ないし10%、好適には5%の濃度のパラジウ
ムの存在において、水素供与体としてシクロヘキセン又
はシクロへキサジエンを用いて実施することができる。
媒、好適には適当な基材上に、より好適には炭素を担体
とした5ないし10%、好適には5%の濃度のパラジウ
ムの存在において、水素供与体としてシクロヘキセン又
はシクロへキサジエンを用いて実施することができる。
一般に2ないし4時間後に水素添加分解は完結する。単
純な濾過により触媒を除去した後、セファドロキシル−
水化物は、工程(c)において、反応混合物に水を添加
し、得られた沈殿を濾過することにより単離される。
純な濾過により触媒を除去した後、セファドロキシル−
水化物は、工程(c)において、反応混合物に水を添加
し、得られた沈殿を濾過することにより単離される。
化合物■の可溶化が工程(a)においてシリル化により
行なわれた時には、工程(c)は前記のように、単に水
を加えることによって行なわれるが、これは水素添加分
解の末期における溶液のpHが事実上pH約4であって
、セファドロキシル−水化物の等電点にあるからである
。
行なわれた時には、工程(c)は前記のように、単に水
を加えることによって行なわれるが、これは水素添加分
解の末期における溶液のpHが事実上pH約4であって
、セファドロキシル−水化物の等電点にあるからである
。
これと対照的に、化合物■の可溶化が工程(a)におい
て塩化によって行なわれる時には、水素添加分解の末期
に得られる溶液のpHを約7から4まで下げることが推
奨される。後者の場合には、工程(b)の水素添加分解
から得られる透明な溶液は適当な溶剤、好適にはアセト
ンに添加され、その際pHを約4に保持するために、塩
酸で酸性化された水が同時に、例えば10:lの比率で
添加される。こうした工程は特に工業用どして適してい
る。操作は好適にはlOないし15℃の温度で行なわれ
る。
て塩化によって行なわれる時には、水素添加分解の末期
に得られる溶液のpHを約7から4まで下げることが推
奨される。後者の場合には、工程(b)の水素添加分解
から得られる透明な溶液は適当な溶剤、好適にはアセト
ンに添加され、その際pHを約4に保持するために、塩
酸で酸性化された水が同時に、例えば10:lの比率で
添加される。こうした工程は特に工業用どして適してい
る。操作は好適にはlOないし15℃の温度で行なわれ
る。
下記の実施例は本発明を説明するものであって、本発明
を限定するものではない。
を限定するものではない。
製造方法
80mQの塩化メチレン中に懸濁した0、075モルの
7−アミノ−3−デスアセトキシセファロスポラン酸の
懸濁物に、0.225モルのへキサメチルジシラザンを
添加する。
7−アミノ−3−デスアセトキシセファロスポラン酸の
懸濁物に、0.225モルのへキサメチルジシラザンを
添加する。
加熱して5時間還流した後、反応混合物を一20℃に冷
却し、次いで0.15モルのN、N−ジメチルアニリン
を添加し、及び引き続き0.1モルのD(−)−アルフ
ァーベンジルオキシカルボニルアミノ−アル7アー 酸の塩化物を添加する。
却し、次いで0.15モルのN、N−ジメチルアニリン
を添加し、及び引き続き0.1モルのD(−)−アルフ
ァーベンジルオキシカルボニルアミノ−アル7アー 酸の塩化物を添加する。
混合物を一20℃ないし、−25℃で2時間撹拌し、次
いで温度を約2時間以上かけて+20℃とし、この温度
6−更に2時間保持する。
いで温度を約2時間以上かけて+20℃とし、この温度
6−更に2時間保持する。
反応混合物を40rmQの水で処理すると有機相が分離
し、そして炭酸水素すl・リウムの8%水溶液(W/V
)で抽出する。
し、そして炭酸水素すl・リウムの8%水溶液(W/V
)で抽出する。
pH3に希釈した塩酸で酸性としだ水相から、結晶性の
生成物が得られ、これを濾過し、水洗し、35℃で且つ
減圧下で乾燥する。こうして7−/D(−)アルファー
ベンジルオキシ力ルポニルアミノーアルファー(p−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸が理論量の86%の収率で得ら
れる;融点118−121’o(分解) 赤外(KBr中)及びLH−NMR(DMSO−d、)
スペクトルは前掲の化合物と一致している。
生成物が得られ、これを濾過し、水洗し、35℃で且つ
減圧下で乾燥する。こうして7−/D(−)アルファー
ベンジルオキシ力ルポニルアミノーアルファー(p−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド/3−メチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸が理論量の86%の収率で得ら
れる;融点118−121’o(分解) 赤外(KBr中)及びLH−NMR(DMSO−d、)
スペクトルは前掲の化合物と一致している。
実施例 1
(a)55+m(2のジオキサンに懸濁させた、上記製
造の部で得られた化合物0.028モルの懸濁物に0.
070モルのビス−トリメチルシリルアセトアミドを添
加する750℃で15分間撹拌した後に透明な溶液が得
られる。
造の部で得られた化合物0.028モルの懸濁物に0.
070モルのビス−トリメチルシリルアセトアミドを添
加する750℃で15分間撹拌した後に透明な溶液が得
られる。
(b)こうして得られた溶液に炭酸カルシウムを担体と
する10%パラジウム0.8gを添加し、混合物を35
ないし40°Cで3.5barにおいて3時間水素添加
し−次いで水素の吸収の終了後、触媒を濾過する。
する10%パラジウム0.8gを添加し、混合物を35
ないし40°Cで3.5barにおいて3時間水素添加
し−次いで水素の吸収の終了後、触媒を濾過する。
(c)透明な溶液に24rsQの水を添加し、溶液を5
℃に15時間放置する。結晶性生成物を濾過し、35罰
の冷水及び最後にアセトンで洗浄する。
℃に15時間放置する。結晶性生成物を濾過し、35罰
の冷水及び最後にアセトンで洗浄する。
30℃及び減圧下で乾燥した後、標準試料と同一なセフ
ァドロキシル−水化物が89%の収率で得られる。
ァドロキシル−水化物が89%の収率で得られる。
:i!KN 2
(a)80mffのメチル−イソブチル−ケトン中に溶
かした、製造の部で得られた0、03モルの化合物の溶
液に、0.033モルのトリエチルアミンを撹拌しなが
ら添加する。
かした、製造の部で得られた0、03モルの化合物の溶
液に、0.033モルのトリエチルアミンを撹拌しなが
ら添加する。
(b)こうして得られた溶液に炭酸カルシウムを担体と
する10%パラジウム0.2gを添加し、混合物を室温
で加圧下に水素添加する。
する10%パラジウム0.2gを添加し、混合物を室温
で加圧下に水素添加する。
2時間後水素の吸収が終了し、そして触媒を濾過する。
(c)透明な溶液を1時間にわたって10ないし15℃
で235IQのアセトン中に層側し、同時にアセトン溶
液に10%の塩化水素を含む水を添加し、水−アセトン
溶液のptI値を約4に保持する。
で235IQのアセトン中に層側し、同時にアセトン溶
液に10%の塩化水素を含む水を添加し、水−アセトン
溶液のptI値を約4に保持する。
混合物を2時間撹拌し、必要に応じて塩酸(l:10)
を添加してpHを4に調節する。
を添加してpHを4に調節する。
結晶性生成物を集め、アセトンで洗浄し、減圧下で30
℃で乾燥する。
℃で乾燥する。
こうしてセファドロキシル−水化物は理論量に対し90
%の収率で得られる。
%の収率で得られる。
実施例 3
(a)55m+2のジメトギシエタンに懸濁させた、製
造の部で得られた0、028モルの生成物の懸濁物に、
0.07モルのへキサメチルジシラザンを添加する;1
5分間撹拌後、透明な溶液が得られる。
造の部で得られた0、028モルの生成物の懸濁物に、
0.07モルのへキサメチルジシラザンを添加する;1
5分間撹拌後、透明な溶液が得られる。
(b)こうして得られた溶液に3Qmffのシクロヘキ
センを添加し、そして窒素気流下で撹拌しながら炭素を
担体とした5%パラジウム0.9gを添加する。3時間
撹拌した後に触媒を濾過して除去する。
センを添加し、そして窒素気流下で撹拌しながら炭素を
担体とした5%パラジウム0.9gを添加する。3時間
撹拌した後に触媒を濾過して除去する。
(C)こうして得られた透明な溶液に30+1αの水を
添加する。実施例1 (C)と同様に操作することによ
り、理論値の92%の収率でセファドロキシル−水化物
が得られる。
添加する。実施例1 (C)と同様に操作することによ
り、理論値の92%の収率でセファドロキシル−水化物
が得られる。
本発明の主なる特徴及び態様は下記の通りである。
1、下記式:
を有するセファドロキシル−水化物の製造方法において
、 (a)下記式: %式%() を有する7−/D(=)アルファーベンジルオキシカル
ボニルアミノ−アルファー(p−ヒドロキシフェニル)
アセトアミド/3−メチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸をシリル化又は有機塩基で塩化することによりセフ
ァドロキシルと溶媒化物を形成しない有機溶剤中に可溶
化し; (b)こうして得られた溶液を接触水素添加処理し、及
び触媒を除去後、 (c)約4のI)Hの水で沈殿させ、及び濾過すること
によってセファドロキシル−水化物を単離する工程を特
徴とする方法。
、 (a)下記式: %式%() を有する7−/D(=)アルファーベンジルオキシカル
ボニルアミノ−アルファー(p−ヒドロキシフェニル)
アセトアミド/3−メチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸をシリル化又は有機塩基で塩化することによりセフ
ァドロキシルと溶媒化物を形成しない有機溶剤中に可溶
化し; (b)こうして得られた溶液を接触水素添加処理し、及
び触媒を除去後、 (c)約4のI)Hの水で沈殿させ、及び濾過すること
によってセファドロキシル−水化物を単離する工程を特
徴とする方法。
2、工程(a)の可溶化がモノトリメチルシリルアセト
アミド、ビス−トリメチルシリルアセトアミド、ビス−
トリメチルシリル尿素及びヘキサメチルジシラザンの中
から選択されたシリル化剤でシリル化することによって
行なわれる上記lに記載の方法。
アミド、ビス−トリメチルシリルアセトアミド、ビス−
トリメチルシリル尿素及びヘキサメチルジシラザンの中
から選択されたシリル化剤でシリル化することによって
行なわれる上記lに記載の方法。
3、工程(a)の可溶化がトリメチルアミン又はトリエ
チルアミンで塩化(sa、1ification)する
ことにより行なわれる上記1に記載の方法。
チルアミンで塩化(sa、1ification)する
ことにより行なわれる上記1に記載の方法。
4.7−/D(−)アルファーベンジルオキシカルボニ
ルアミノ/−アルファー(p−ヒドロキシフェニル)ア
セトアミド 3−メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸の可溶化がジオキサン、ジメトキシエタン、アセトン
、及びメチルイソブチルケトンの中から選択された溶剤
中で行なわれる上記工ないし3に記載の方法。
ルアミノ/−アルファー(p−ヒドロキシフェニル)ア
セトアミド 3−メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸の可溶化がジオキサン、ジメトキシエタン、アセトン
、及びメチルイソブチルケトンの中から選択された溶剤
中で行なわれる上記工ないし3に記載の方法。
56エ程(b)において接触水素添加分解が工程(a)
から生じる反応溶液について直接に接触水素添加により
行なわれる上記lないし4のいずれかに記載の方法。
から生じる反応溶液について直接に接触水素添加により
行なわれる上記lないし4のいずれかに記載の方法。
6、炭酸カルシウム上のパラジウムが触媒として使用さ
れる上記5に記載の方法。
れる上記5に記載の方法。
7、炭酸カルシウム上のパラジウムの濃度が10%であ
る上記5に記載の方法。
る上記5に記載の方法。
8、接触水素添加が水素供与体としてシクロヘキセン又
はシクロへキサジエンを用いることにより行なわれる上
記lないし3に記載の方法。
はシクロへキサジエンを用いることにより行なわれる上
記lないし3に記載の方法。
9、炭素上のパラジウムが触媒として使用される上記8
に記載の方法。
に記載の方法。
10、炭素上のパラジウムの濃度が5%である上記9に
記載の方法。
記載の方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) を有するセファドロキシル一水化物の製造方法において
、 (a)下記式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) を有する7−/D(−)アルファ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−アルファ−(p−ヒドロキシフェニル)
アセトアミド/3−メチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸をシリル化又は有機塩基で塩化することにより、セ
ファドロキシルと溶媒化物を形成しない有機溶剤中に可
溶化し; (b)こうして得られた溶液を接触水素添加処理し、次
いで触媒を除去後、 (c)約4のpHの水で沈殿させて及び濾過することに
よってセファドロキシル一水化物を単離する工程を特徴
とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT19512A/88 | 1988-02-24 | ||
| IT8819512A IT1233863B (it) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | Procedimento per la preparazione dell'acido 7-(d(-)-alfa-amino-alfa- (p-idrossifenil)acetamido)-3-metil-3-cefem-4-carbossilico monoidrato |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01258682A true JPH01258682A (ja) | 1989-10-16 |
| JP2723591B2 JP2723591B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=11158663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1041988A Expired - Lifetime JP2723591B2 (ja) | 1988-02-24 | 1989-02-23 | 7―/D(―)アルフア―アミノ―アルフア―(p―ヒドロキシフエニル)アセトアミド/―3―メチル―3―セフエム―4―カルボン酸―水化物の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5003064A (ja) |
| JP (1) | JP2723591B2 (ja) |
| CN (1) | CN1022628C (ja) |
| IT (1) | IT1233863B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102268019B (zh) * | 2011-07-15 | 2013-07-10 | 海南美大制药有限公司 | 一种头孢羟氨苄化合物及其制法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3489751A (en) * | 1967-09-05 | 1970-01-13 | Bristol Myers Co | 7-amino-cephalosporanic and decephalosporanic acid derivatives |
| GB1532682A (en) * | 1976-04-27 | 1978-11-22 | Bristol Myers Co | Process for the preparation of cephadroxil |
-
1988
- 1988-02-24 IT IT8819512A patent/IT1233863B/it active
-
1989
- 1989-02-23 US US07/314,026 patent/US5003064A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-23 JP JP1041988A patent/JP2723591B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-24 CN CN89102026.8A patent/CN1022628C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1022628C (zh) | 1993-11-03 |
| CN1036768A (zh) | 1989-11-01 |
| IT8819512A0 (it) | 1988-02-24 |
| IT1233863B (it) | 1992-04-21 |
| JP2723591B2 (ja) | 1998-03-09 |
| US5003064A (en) | 1991-03-26 |
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