JPH01290142A - 光学的情報記録原盤の製造方法 - Google Patents
光学的情報記録原盤の製造方法Info
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- JPH01290142A JPH01290142A JP63120949A JP12094988A JPH01290142A JP H01290142 A JPH01290142 A JP H01290142A JP 63120949 A JP63120949 A JP 63120949A JP 12094988 A JP12094988 A JP 12094988A JP H01290142 A JPH01290142 A JP H01290142A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は光ビームを用いて情報の記録および／または再
生を行う光ディスク、光カード等の光学的情報記録媒体
およびその製造に供する原盤の製造方法に関する。
生を行う光ディスク、光カード等の光学的情報記録媒体
およびその製造に供する原盤の製造方法に関する。
［従来の技術］
集光したレーザビームにより情報を記録及び／又は再生
する光学的情報記録媒体の一例として表面に微細な凹凸
構造を有するものがある。表面の微細な凹凸構造とは、
予め設けられた番地等の情報信号及び／又は新たに設け
られる記録信号のピットの寸法よりも小さい凹凸構造で
あって、該凹凸構造の個々が、情報信号及び／又は記録
信号のビットを通常は意味せず、いわばバックグラウン
ドと称されるものである。そして、通常、該凹凸構造は
、光学的情報記録媒体の反射率を低下せしめる。
する光学的情報記録媒体の一例として表面に微細な凹凸
構造を有するものがある。表面の微細な凹凸構造とは、
予め設けられた番地等の情報信号及び／又は新たに設け
られる記録信号のピットの寸法よりも小さい凹凸構造で
あって、該凹凸構造の個々が、情報信号及び／又は記録
信号のビットを通常は意味せず、いわばバックグラウン
ドと称されるものである。そして、通常、該凹凸構造は
、光学的情報記録媒体の反射率を低下せしめる。
光学的情報記録媒体上には、案内溝及び／又は情報信号
部などの、バックグラウンドとは光学的性質（例えば反
射率）が異なる部分を設けなければならない。そして、
上記案内溝および／または情報信号部は、バックグラウ
ンドの反射率よりも高い反射率を有することが望ましい
場合がある。
部などの、バックグラウンドとは光学的性質（例えば反
射率）が異なる部分を設けなければならない。そして、
上記案内溝および／または情報信号部は、バックグラウ
ンドの反射率よりも高い反射率を有することが望ましい
場合がある。
バックグラウンドの反射率よりも高い反射率の部分を形
成するためには上記微細な凹凸構造をなくしてしまうか
、または凹凸の深さを浅くすれば良いことはよく知られ
ている。このために従来より、第２図に示すように、ガ
ラス盤１７上に積層されたフォトレジスト層１６に強力
なレーザ光を照射したのちｌこ、ガラス盤表面に達する
までフォトレジストを現像して凹部１５を形成する方法
がある。
成するためには上記微細な凹凸構造をなくしてしまうか
、または凹凸の深さを浅くすれば良いことはよく知られ
ている。このために従来より、第２図に示すように、ガ
ラス盤１７上に積層されたフォトレジスト層１６に強力
なレーザ光を照射したのちｌこ、ガラス盤表面に達する
までフォトレジストを現像して凹部１５を形成する方法
がある。
［発明が解決しようとする課題］
上記従来技術では、強力なレーザ光を用いなければなら
ないために、照射により形成される凹部の幅が広くなり
がちであり、高密度で該案内溝等を形成することは困難
であった。しかも、フォトレジストの現像工程において
凹部１５の深さを決定する因子はフォトレジストの厚さ
及び現像による膜減り、さらに微細な凹凸構造の形成工
程における膜減りなどもあり、所望の凹部の深さを得る
ことは難しい。また、極めて深い凹部はそれだけ構造が
複雑で、製造はより困難であった。
ないために、照射により形成される凹部の幅が広くなり
がちであり、高密度で該案内溝等を形成することは困難
であった。しかも、フォトレジストの現像工程において
凹部１５の深さを決定する因子はフォトレジストの厚さ
及び現像による膜減り、さらに微細な凹凸構造の形成工
程における膜減りなどもあり、所望の凹部の深さを得る
ことは難しい。また、極めて深い凹部はそれだけ構造が
複雑で、製造はより困難であった。
更に、かかる従来法で製造した原盤から得られた光学的
情報記録媒体では、記録／再生時に、バックグラウンド
部とレーザ光照射部との間に位相差を生じ反射率が低下
する結果、所望の反射率が得られない問題があった。こ
れは、該光学的情報記録原盤より製造された光学的情報
記録媒体の記録および再生時にトラッキング不良をきた
すものである。
情報記録媒体では、記録／再生時に、バックグラウンド
部とレーザ光照射部との間に位相差を生じ反射率が低下
する結果、所望の反射率が得られない問題があった。こ
れは、該光学的情報記録原盤より製造された光学的情報
記録媒体の記録および再生時にトラッキング不良をきた
すものである。
本発明は上記問題点を鑑みてなされたものであって、湿
式の現像工程を必要とせずにバックグラウンド部よりも
高反射率の部分を形成でき、かつ、簡略な製造工程であ
ることを特徴とする光学的情報記録原盤の製造方法と、
上記原盤により製造される記録および再生時に良好なト
ラッキング特性を示すとともに、再生時に良質の情報信
号および記録信号を出力し得る光学的情報記録媒体を提
供することを目的とする。
式の現像工程を必要とせずにバックグラウンド部よりも
高反射率の部分を形成でき、かつ、簡略な製造工程であ
ることを特徴とする光学的情報記録原盤の製造方法と、
上記原盤により製造される記録および再生時に良好なト
ラッキング特性を示すとともに、再生時に良質の情報信
号および記録信号を出力し得る光学的情報記録媒体を提
供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明に係る光学的情報記録原盤の製造方法は、表面に
微細な凹凸構造をすでに有する基板に集光レーザ光等の
ビームを照射し、照射部の該凹凸構造を非照射部に比べ
平坦にし、レーザ光未照射部とレーザ光照射部とが互い
に異なった表面構造を形成することにより案内溝及び／
又は情報信号部を設けることを特徴とするものである。
微細な凹凸構造をすでに有する基板に集光レーザ光等の
ビームを照射し、照射部の該凹凸構造を非照射部に比べ
平坦にし、レーザ光未照射部とレーザ光照射部とが互い
に異なった表面構造を形成することにより案内溝及び／
又は情報信号部を設けることを特徴とするものである。
すなわち、案内溝及び／又は情報信号部は、表面に微細
な凹凸構造を有する上記基板に、集光レーザ光を照射し
、照射部の該凹凸部を熔融及び／又は熱分解することに
よって刻設される。尚、ここに云う熱分解とは、昇華現
像を包括したガス化も含むものである。
な凹凸構造を有する上記基板に、集光レーザ光を照射し
、照射部の該凹凸部を熔融及び／又は熱分解することに
よって刻設される。尚、ここに云う熱分解とは、昇華現
像を包括したガス化も含むものである。
本発明に係る光学的情報記録原盤の製造方法の一例を示
す断面蓄略図を第１図に示す。（ａ）は表面に微細な凹
凸構造２１を有する基板２０に集光レーザ光２２を照射
し、若干熔融せしめて、より平坦な凹凸構造２３を形成
する場合、（ｂ）は、該照射部を平滑平面２４に加工し
、位相差による反射率低下を防止する場合、（ｃ）は更
に高温、高熱量を加えて熱分解を伴なうことにより凹部
２５を形成する場合である。
す断面蓄略図を第１図に示す。（ａ）は表面に微細な凹
凸構造２１を有する基板２０に集光レーザ光２２を照射
し、若干熔融せしめて、より平坦な凹凸構造２３を形成
する場合、（ｂ）は、該照射部を平滑平面２４に加工し
、位相差による反射率低下を防止する場合、（ｃ）は更
に高温、高熱量を加えて熱分解を伴なうことにより凹部
２５を形成する場合である。
基板２Ｇは集光レーザ光を吸収し、熔融及び／又は熱分
解する材料であれば特に限定されるものではない。例え
ば、ガラス盤、金属盤、セラミックス盤等の上にフォト
レジストを積層すればよい。
解する材料であれば特に限定されるものではない。例え
ば、ガラス盤、金属盤、セラミックス盤等の上にフォト
レジストを積層すればよい。
フォトレジストの例として、ノボラック系ポジ型フォト
レジストの場合、（１）解像度、コントラストを高める
ために、ベースレジンの分子量を低くして且つ分子量分
布も狭くした系、（２）耐ボストベーク特性、即ち耐熱
性を高めるためにベースレジンの分子量を高くして且つ
クロスリンク剤を加えた系に分けることができるが、両
者共、１２０℃以上、より好ましくは１５０℃以上に加
熱することにより流動現象を開始する。従って、発振波
長３２５ｎ＋＊のＨｅ−Ｃｄレーザ光の如き集光レーザ
光を上述の微細な凹凸構造に照射し、走査することによ
り、該照射部の凹凸構造をより平坦にすることが可能と
なる。つまり、案内溝及び又は情報信号部を形成するた
めにフォトレジストの現像工程を必要としない。また基
板２０は上記ガラス盤等の上に、レーザ光を吸収する着
色剤で着色されたポリメチルメタクリレート等の高分子
物質を積層してもよく、上記着色高分子物質のみで基板
２０を形成してもよい。着色剤としてはカーボンブラッ
ク、アニリンブラック、Ｉ−フェニルアゾ−２−ナフト
ール、フェニルアゾ−２−レゾルシノール等を挙げろこ
とができ、使用するレーザ光の波長及び分散媒との相溶
性を考慮ｊ１、幅広く選択することができる。
レジストの場合、（１）解像度、コントラストを高める
ために、ベースレジンの分子量を低くして且つ分子量分
布も狭くした系、（２）耐ボストベーク特性、即ち耐熱
性を高めるためにベースレジンの分子量を高くして且つ
クロスリンク剤を加えた系に分けることができるが、両
者共、１２０℃以上、より好ましくは１５０℃以上に加
熱することにより流動現象を開始する。従って、発振波
長３２５ｎ＋＊のＨｅ−Ｃｄレーザ光の如き集光レーザ
光を上述の微細な凹凸構造に照射し、走査することによ
り、該照射部の凹凸構造をより平坦にすることが可能と
なる。つまり、案内溝及び又は情報信号部を形成するた
めにフォトレジストの現像工程を必要としない。また基
板２０は上記ガラス盤等の上に、レーザ光を吸収する着
色剤で着色されたポリメチルメタクリレート等の高分子
物質を積層してもよく、上記着色高分子物質のみで基板
２０を形成してもよい。着色剤としてはカーボンブラッ
ク、アニリンブラック、Ｉ−フェニルアゾ−２−ナフト
ール、フェニルアゾ−２−レゾルシノール等を挙げろこ
とができ、使用するレーザ光の波長及び分散媒との相溶
性を考慮ｊ１、幅広く選択することができる。
なお、基板材料としては特に、感光性を示すキノンジア
ジドをスルホン酸基を介して結合させたノボラック樹脂
を主成分とするポジ型フォトレジストが有効であり、更
に、光吸収性着色剤を含有することにより一層好適に用
いることができる。
ジドをスルホン酸基を介して結合させたノボラック樹脂
を主成分とするポジ型フォトレジストが有効であり、更
に、光吸収性着色剤を含有することにより一層好適に用
いることができる。
上記原盤から例えば電鋳法により得られたニッケルスタ
ンパ−を金型として用いて得られた光学的情報記録一体
は、案内溝及び／又は情報信号部を設けた部位と該部位
以外の部位とは異なった表面形状を有する。ここで、上
記スタンバ−に再度電鋳工程を施すことによって得られ
る金型を用いて複製すると、第１図に示した形状に嵌合
するレプリカを得ることも可能となる。すなわち・・・
凹凸の反転した光学的情報記録媒体が得られるので、案
内溝及び／又は情報信号部は、上述のレーザ光２２が照
射された部位ではなく、未照射部位であっても良い。
ンパ−を金型として用いて得られた光学的情報記録一体
は、案内溝及び／又は情報信号部を設けた部位と該部位
以外の部位とは異なった表面形状を有する。ここで、上
記スタンバ−に再度電鋳工程を施すことによって得られ
る金型を用いて複製すると、第１図に示した形状に嵌合
するレプリカを得ることも可能となる。すなわち・・・
凹凸の反転した光学的情報記録媒体が得られるので、案
内溝及び／又は情報信号部は、上述のレーザ光２２が照
射された部位ではなく、未照射部位であっても良い。
期的であっても良いが、その粗さ（凹部及び凸部の水平
方向の２次元的な形状の最大長さ及び垂直方向の深さ）
は、記録及び／再生に使用する光ビームの波長以下に設
定されることが好ましい。な微細粒子による物理的ドラ
イエツチング等の方法により形成することができる。特
にフォトレジストを塗布した基板はＡｒ”レーザ又はＦ
ｌｅ−Ｃｄレーザ等から出射されるレーザビームを（３
）擦りガラス等の拡散板に照射および透過させることに
より、所謂スペックルパターンの潜像を形成した後、現
象処理を行う方法、（４）上述のコヒーレントな平行レ
ーザビームを２方向から照射するレーザ干渉露光法によ
りいわゆるグレーティング状の潜像を形成した後、現像
処理を行う方法等により形成することができるので、よ
り好適に用いることができる。
方向の２次元的な形状の最大長さ及び垂直方向の深さ）
は、記録及び／再生に使用する光ビームの波長以下に設
定されることが好ましい。な微細粒子による物理的ドラ
イエツチング等の方法により形成することができる。特
にフォトレジストを塗布した基板はＡｒ”レーザ又はＦ
ｌｅ−Ｃｄレーザ等から出射されるレーザビームを（３
）擦りガラス等の拡散板に照射および透過させることに
より、所謂スペックルパターンの潜像を形成した後、現
象処理を行う方法、（４）上述のコヒーレントな平行レ
ーザビームを２方向から照射するレーザ干渉露光法によ
りいわゆるグレーティング状の潜像を形成した後、現像
処理を行う方法等により形成することができるので、よ
り好適に用いることができる。
［実施例コ
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
実施例
ガラス円盤上にポジ型フォトレジストをスピンコード法
により１．２μｍの厚さで塗布した後、８０℃にて３０
分間プリベークを行った。次に該フォトレジスト表面を
アルゴンガスでスパッタエツチングし、水平方向の２次
元的な形状の最大長さ及び垂直方向の深さが各々約０．
４Ｈ１約０．５μ−である微細な凹凸を有する基板を作
製した。引き続き、該基盤を回転させ、集光したＨｅ
−Ｃｄレーザ光を半径方向に移動させることにより、第
１図（ｂ）に示す形状の光学的情報記録原盤を作製した
。この際、微細な凹凸構造部位２１の平均的な表面レベ
ルと平滑部位２４の表面レベルとの距離は約７０ｎｍで
あった。
により１．２μｍの厚さで塗布した後、８０℃にて３０
分間プリベークを行った。次に該フォトレジスト表面を
アルゴンガスでスパッタエツチングし、水平方向の２次
元的な形状の最大長さ及び垂直方向の深さが各々約０．
４Ｈ１約０．５μ−である微細な凹凸を有する基板を作
製した。引き続き、該基盤を回転させ、集光したＨｅ
−Ｃｄレーザ光を半径方向に移動させることにより、第
１図（ｂ）に示す形状の光学的情報記録原盤を作製した
。この際、微細な凹凸構造部位２１の平均的な表面レベ
ルと平滑部位２４の表面レベルとの距離は約７０ｎｍで
あった。
次に上記方法で製造した該光学的情報記録原盤から通常
の電鋳法により製造されたニッケルスタンパ−を用いて
ポリカーボネート板の射出成型を行いプラスチックレプ
リカを作製し、引き続いて該プラスチックレプリカ上へ
金属記録薄膜の成膜を行い光ディスクを作製した。
の電鋳法により製造されたニッケルスタンパ−を用いて
ポリカーボネート板の射出成型を行いプラスチックレプ
リカを作製し、引き続いて該プラスチックレプリカ上へ
金属記録薄膜の成膜を行い光ディスクを作製した。
該光ディスクの微細な凹凸構造部位２１を、スリービー
ム方式でトラッキングしながら試験信号を記録した後に
再生したところ、記録部位の反射率は未記録部位の反射
率よりも増大していたが、良好なトラッキング特性及び
再生信号特性を示した。
ム方式でトラッキングしながら試験信号を記録した後に
再生したところ、記録部位の反射率は未記録部位の反射
率よりも増大していたが、良好なトラッキング特性及び
再生信号特性を示した。
又、記録後の該光ディスクをプッシュプル方式で再生し
ても、同様に、良好なトラッキング特性及び再生信号特
性を示した。
ても、同様に、良好なトラッキング特性及び再生信号特
性を示した。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明によれば、光学的情報記
録原盤を簡略化された工程で、制御性良く製造すること
ができ、この原盤から得られた光学的情報記録媒体は良
好なトラッキング特性および再生信号特性を示す。
録原盤を簡略化された工程で、制御性良く製造すること
ができ、この原盤から得られた光学的情報記録媒体は良
好なトラッキング特性および再生信号特性を示す。
第１図（ａ）ないしくｃ）は本発明に係る光学的情報記
録原盤の１つの例を示す部分断面図、第２図は光学的情
報記録原盤の従来例を示す断面図である。 ２０・・・基 板、 ２１・・・微細な凹凸構造、
２２・・・集光レーザ光。 特許出願人 株式会社 り ラ レ
録原盤の１つの例を示す部分断面図、第２図は光学的情
報記録原盤の従来例を示す断面図である。 ２０・・・基 板、 ２１・・・微細な凹凸構造、
２２・・・集光レーザ光。 特許出願人 株式会社 り ラ レ
Claims (3)
- （１）表面に微細な凹凸構造を有する基板に光ビームを
照射し、照射部の上記凹凸構造を熔融および／または熱
分解することによつて、照射部の凹凸構造の深さを非照
射部の凹凸構造の深さよりも小さく形成することにより
案内溝および／または情報信号部を設けることを特徴と
する光学的情報記録原盤の製造方法。 - （２）上記基板が上記光ビームを吸収する着色剤を含有
していることを特徴とする請求項１記載の光学的情報記
録原盤の製造方法。 - （３）請求項１または２記載の方法により製造された光
学的情報記録原盤を用いて複製製造された光学的情報記
録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63120949A JP2728676B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学的情報記録原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63120949A JP2728676B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学的情報記録原盤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01290142A true JPH01290142A (ja) | 1989-11-22 |
| JP2728676B2 JP2728676B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=14798961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63120949A Expired - Lifetime JP2728676B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学的情報記録原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2728676B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6083667A (en) * | 1994-10-21 | 2000-07-04 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical recording medium |
| KR100667771B1 (ko) * | 2004-11-10 | 2007-01-11 | 삼성전자주식회사 | 정보 저장 매체 제작용 기록 마스터 및 그 제조 방법 |
| JPWO2025239440A1 (ja) * | 2024-05-16 | 2025-11-20 | ||
| JPWO2025239439A1 (ja) * | 2024-05-16 | 2025-11-20 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63239630A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 光記録媒体およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-05-17 JP JP63120949A patent/JP2728676B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63239630A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 光記録媒体およびその製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6083667A (en) * | 1994-10-21 | 2000-07-04 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical recording medium |
| KR100667771B1 (ko) * | 2004-11-10 | 2007-01-11 | 삼성전자주식회사 | 정보 저장 매체 제작용 기록 마스터 및 그 제조 방법 |
| JPWO2025239440A1 (ja) * | 2024-05-16 | 2025-11-20 | ||
| JPWO2025239439A1 (ja) * | 2024-05-16 | 2025-11-20 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2728676B2 (ja) | 1998-03-18 |
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