JPH01313342A - シリカ系ガラスの製造方法 - Google Patents
シリカ系ガラスの製造方法Info
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- JPH01313342A JPH01313342A JP14063588A JP14063588A JPH01313342A JP H01313342 A JPH01313342 A JP H01313342A JP 14063588 A JP14063588 A JP 14063588A JP 14063588 A JP14063588 A JP 14063588A JP H01313342 A JPH01313342 A JP H01313342A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0071—Compositions for glass with special properties for laserable glass
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- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザー発振用ガラスに用いられる高純度、
尚均質性の大型シリカ系ガラスを安価に提供することが
1%ぎるシリカ系ガラスの製造方法に関するもの!ある
。
尚均質性の大型シリカ系ガラスを安価に提供することが
1%ぎるシリカ系ガラスの製造方法に関するもの!ある
。
シリコンアルコキシドの加水分解、縮重合反応により得
られた湿潤ゲルを乾燥し、これを焼成することKより高
純度シリカ系ガラスを製造する試みは多く行なわれてい
る。(例えば、特開昭61−10<5428号、特開昭
55−167143号、”BetterCeramic
s ’l’hrough Chemistry” Vo
l、 52゜PA7〜58)中1も、特開昭61−10
6428号は、金属アルコキシド?溶媒!希釈し、アン
モニアを含む水を添加してゾル溶液ケ生成させた後、乾
燥し又多孔質ゲル体を形成させ、この多孔質ゲル体?高
温処理し、透明ガラス化するガラスの製造方法1ある。
られた湿潤ゲルを乾燥し、これを焼成することKより高
純度シリカ系ガラスを製造する試みは多く行なわれてい
る。(例えば、特開昭61−10<5428号、特開昭
55−167143号、”BetterCeramic
s ’l’hrough Chemistry” Vo
l、 52゜PA7〜58)中1も、特開昭61−10
6428号は、金属アルコキシド?溶媒!希釈し、アン
モニアを含む水を添加してゾル溶液ケ生成させた後、乾
燥し又多孔質ゲル体を形成させ、この多孔質ゲル体?高
温処理し、透明ガラス化するガラスの製造方法1ある。
このようなゾル及びゲルを経由してガラスなどを得る方
法は、ゾルゲル法と称され、従来の溶融法に比べ、高品
IJI(高純度、高均質性)のガラスが得られ、かつ従
来の1ノーザーガラス母材の製造に用いられている気相
法や溶融法を作製される高純度シリカ系ガラスよりも安
価フしかも短期間にて製造fきる利点を有している。
法は、ゾルゲル法と称され、従来の溶融法に比べ、高品
IJI(高純度、高均質性)のガラスが得られ、かつ従
来の1ノーザーガラス母材の製造に用いられている気相
法や溶融法を作製される高純度シリカ系ガラスよりも安
価フしかも短期間にて製造fきる利点を有している。
しかし、ゾルゲル法によるシリカ系ガラスの製造におい
ては、以下に挙げるような問題があった。
ては、以下に挙げるような問題があった。
■ 湿潤ゲルの乾燥時、溶媒の蒸発と共圧クラック、割
れが発生する。
れが発生する。
■ ゲルを加熱し、ガラス化する過程〒残存有機成分の
バーンアウト時にクラック、割れが発生し、ρ・つ残存
OH基に起因する発泡現象が発生する。
バーンアウト時にクラック、割れが発生し、ρ・つ残存
OH基に起因する発泡現象が発生する。
■ シリカ−他成分系ガラスの場合、他成分のアルコキ
シド(例えば希土類元素のアルコキシド)の加水分解速
度がシリコンアルコキシPのそれに比べ早い場合には、
沈殿を生じたり、不均一な組成となり、クラック割れの
原因となる。
シド(例えば希土類元素のアルコキシド)の加水分解速
度がシリコンアルコキシPのそれに比べ早い場合には、
沈殿を生じたり、不均一な組成となり、クラック割れの
原因となる。
これらの問題は、先に述べた為純度ν)シリカ系ガラス
の製造方法に於いては完全に解決されているものとは言
い難く、このため得られるガラスの大きさ及び製造工程
の短縮化という点〒限界がある。本発明はこれらの問題
点を解決し、大型t、クラック、割れがない高品質のシ
リカ系ガラスを提供しようとするもの′t%ある。
の製造方法に於いては完全に解決されているものとは言
い難く、このため得られるガラスの大きさ及び製造工程
の短縮化という点〒限界がある。本発明はこれらの問題
点を解決し、大型t、クラック、割れがない高品質のシ
リカ系ガラスを提供しようとするもの′t%ある。
(問題点を解決するだめの手段〕
本発明は、前述の問題点ヲ解決jるために研究を行ない
、希土類元素のアルコキシドぞα、β−不飽和カルボニ
ル化合物により、そのアルコキシ基の少なくとも1つを
置換、キレート化することKより安定化し、シリコンの
アルコキシトド加水分解違反を近づけること↑希土類元
素のアルコキシドの加水分解生成物を単独に析出させる
ことなく均質なゲルが得られ、更にこの乾燥ゲルヶ焼結
することにより、大型fクラック、割れがない尚純度の
シリカ系ガラスが得られることを見出し、本発明を完成
した。
、希土類元素のアルコキシドぞα、β−不飽和カルボニ
ル化合物により、そのアルコキシ基の少なくとも1つを
置換、キレート化することKより安定化し、シリコンの
アルコキシトド加水分解違反を近づけること↑希土類元
素のアルコキシドの加水分解生成物を単独に析出させる
ことなく均質なゲルが得られ、更にこの乾燥ゲルヶ焼結
することにより、大型fクラック、割れがない尚純度の
シリカ系ガラスが得られることを見出し、本発明を完成
した。
なお、その際、出発原料としてシリコンアルコキシドの
多量体?含むシリカ系ガラス組成物前駆体を利用するこ
とKより、大型の易焼結性の乾燥ゲルがクラック割れの
発生なく得られ、大型ツクラック、割れがない高純度の
シリカ系ガラスがより容易に得られる。
多量体?含むシリカ系ガラス組成物前駆体を利用するこ
とKより、大型の易焼結性の乾燥ゲルがクラック割れの
発生なく得られ、大型ツクラック、割れがない高純度の
シリカ系ガラスがより容易に得られる。
本発明に使用する希土類元素のアルコキシドは、−紋穴
M((J)L)、において、Hがアルキル基、アリール
基、ビニル基またはキレートを形成する有機残基で、N
1が希土類元素f、例えはネオジム、セリウム、サマリ
ウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ホル
ミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテ
チウムのうちの少なくとも1ff[以上の金属である。
M((J)L)、において、Hがアルキル基、アリール
基、ビニル基またはキレートを形成する有機残基で、N
1が希土類元素f、例えはネオジム、セリウム、サマリ
ウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ホル
ミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテ
チウムのうちの少なくとも1ff[以上の金属である。
希土類元素のアルコキシドの安定化に用いるα。
β−不飽和カルボニル化合物としては、アセチルアセト
/、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセチルア
セトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸n−ジチル、ア
セトピルビン酸エチルナトのβ−ジケトン化奮物、シア
ン酢酸エチル、シアツブaピオン酸エチルなどのシアノ
カル/yll化合物、ホルミル酢酸エチルなどのアルデ
ヒPカルIン酸化合物、及びアクリル酸エチル、メタク
リル酸エチルなどの不飽和カルぜン酸化合物が挙げられ
る。
/、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセチルア
セトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸n−ジチル、ア
セトピルビン酸エチルナトのβ−ジケトン化奮物、シア
ン酢酸エチル、シアツブaピオン酸エチルなどのシアノ
カル/yll化合物、ホルミル酢酸エチルなどのアルデ
ヒPカルIン酸化合物、及びアクリル酸エチル、メタク
リル酸エチルなどの不飽和カルぜン酸化合物が挙げられ
る。
本発明においてシリコンアルコキシドとして多量体を用
いる場合には、数分子ないし数十分子重合した重合体を
用いる。
いる場合には、数分子ないし数十分子重合した重合体を
用いる。
使用するシリコンアルコキシド多検体は、シリコンアル
コキシド全音に対し60モル%以上ニオいてその効果が
認められ、これ以下マあると効果が少ない。特に使用す
るシリコンアルコキシドの全てが3〜50量体の多量体
のみ)構成される場合、より好ましい効果が得られる。
コキシド全音に対し60モル%以上ニオいてその効果が
認められ、これ以下マあると効果が少ない。特に使用す
るシリコンアルコキシドの全てが3〜50量体の多量体
のみ)構成される場合、より好ましい効果が得られる。
シリカ系ガラス組成前IJA俸はその外にリンのアルコ
キシドやアルミニウムのアルコキシドなどを含ませるこ
とがtぎる。
キシドやアルミニウムのアルコキシドなどを含ませるこ
とがtぎる。
これらのシリコンアルコキシド及び希土類元素のアルコ
キシドを含むシリカ糸ガラス組成前駆体を加水分解する
にさいしてはシリコンアルコキシド又は希土類元素アル
コキシドは有機溶媒に溶か丁ようにしてもよい。
キシドを含むシリカ糸ガラス組成前駆体を加水分解する
にさいしてはシリコンアルコキシド又は希土類元素アル
コキシドは有機溶媒に溶か丁ようにしてもよい。
シリコンアルコキシド及び希土類元素のアルコキシドの
加水分解は常法により行うが、使用する水の量はアルコ
キシPのアルコキシ基の数に対し0.5〜2倍モル使用
jろのが好ましい。加水分解により得られたゾルは縮重
合させてゲルとする。
加水分解は常法により行うが、使用する水の量はアルコ
キシPのアルコキシ基の数に対し0.5〜2倍モル使用
jろのが好ましい。加水分解により得られたゾルは縮重
合させてゲルとする。
縮重合は数時間ないし数日熟成させることにより竹うこ
とができる。加水分解及び縮重合にさいして触媒を用い
ればその時間が短縮される。触媒としては塩基が用いら
れる。
とができる。加水分解及び縮重合にさいして触媒を用い
ればその時間が短縮される。触媒としては塩基が用いら
れる。
得られたゲルケ乾燥して乾燥ゲルとjるが、そのさいに
はクラック、割れが生じないようにゆるやかに乾燥する
のが好ましい。例えば、60〜80℃の温度で段階市に
乾燥した後最終的に150℃に加熱して乾燥する。乾燥
したゲルを900〜1400”CTflt、W:、 L
、てシリカ系ガラスな得ることがマきる。
はクラック、割れが生じないようにゆるやかに乾燥する
のが好ましい。例えば、60〜80℃の温度で段階市に
乾燥した後最終的に150℃に加熱して乾燥する。乾燥
したゲルを900〜1400”CTflt、W:、 L
、てシリカ系ガラスな得ることがマきる。
本発明により、大型tクラック、割れのないシリカ系ガ
ラスが得られ、これは希土類元素を含有しているため、
レーザー発振用ガラスなどに用いることがマきる。
ラスが得られ、これは希土類元素を含有しているため、
レーザー発振用ガラスなどに用いることがマきる。
本発明の特徴は、ゾルーゲル法〒シリカ系ガラスを製造
するに当り、ドーパント!ある希土類元素アルコキシド
の加水分解速度の調整及び溶媒に対する貯解度の向上を
はかるため、α、β−不飽和力ルIニル化合物と希土類
アルコキシドとを反応させ、一部置換もしくはキレート
化し、安定化させ、これとシリコンアルコキシドと?同
時に加水分解、重縮合反応させることにより均質!、孔
径の揃った、比較的大きな気孔な有する強固な湿潤ゲル
が得られる点fある。
するに当り、ドーパント!ある希土類元素アルコキシド
の加水分解速度の調整及び溶媒に対する貯解度の向上を
はかるため、α、β−不飽和力ルIニル化合物と希土類
アルコキシドとを反応させ、一部置換もしくはキレート
化し、安定化させ、これとシリコンアルコキシドと?同
時に加水分解、重縮合反応させることにより均質!、孔
径の揃った、比較的大きな気孔な有する強固な湿潤ゲル
が得られる点fある。
その結果、希土類アルコキシドの加水分解生成物のfx
、殿などの電蝕析出が抑制され、均宵なシリカ糸ゲルが
得られる。またそのゲルが気孔径の大きいことに起因し
て、乾燥過程fゲルの気孔からの残存、液分の蒸発によ
る毛細管応力が軽減され、気孔の孔径が揃っているとと
に起因して、応力の分布が一様となり、クラック、割れ
の発生が抑制される。
、殿などの電蝕析出が抑制され、均宵なシリカ糸ゲルが
得られる。またそのゲルが気孔径の大きいことに起因し
て、乾燥過程fゲルの気孔からの残存、液分の蒸発によ
る毛細管応力が軽減され、気孔の孔径が揃っているとと
に起因して、応力の分布が一様となり、クラック、割れ
の発生が抑制される。
以下実施例により本発明の詳細な説明する。ただし、本
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
実施例1
ネオジムトリエトキシド0.6Iをエタノール100C
Cに添加し、これにアセチルアセトン10ccを混合し
80℃↑加PA遼ηCを行うこと罠より黄緑色の透明溶
液を得た。この溶液にシリコンエトキシドの4〜6−w
体、平均5甲体2511エタノール30cc、水7 c
c、ピペリジ73.5 ccを加え、常温1攪拌、反s
6させてグル化させた後、60℃を一日熟成した。これ
を60〜80℃の温度′1%段階的に乾燥した恢iso
’cに加熱してクラックのない乾燥ゲルを得た。この乾
燥ゲルのi3 E ’l’法による細孔半径のピークは
80Aと比較的大きな値を示した。
Cに添加し、これにアセチルアセトン10ccを混合し
80℃↑加PA遼ηCを行うこと罠より黄緑色の透明溶
液を得た。この溶液にシリコンエトキシドの4〜6−w
体、平均5甲体2511エタノール30cc、水7 c
c、ピペリジ73.5 ccを加え、常温1攪拌、反s
6させてグル化させた後、60℃を一日熟成した。これ
を60〜80℃の温度′1%段階的に乾燥した恢iso
’cに加熱してクラックのない乾燥ゲルを得た。この乾
燥ゲルのi3 E ’l’法による細孔半径のピークは
80Aと比較的大きな値を示した。
また、細孔半径のピークは非常に鋭く、孔径の大きさが
揃っている。このゲルを1200℃で5時間焼成jるこ
とにより、Nd2(J3−8i(J2系ガラスを得た。
揃っている。このゲルを1200℃で5時間焼成jるこ
とにより、Nd2(J3−8i(J2系ガラスを得た。
実施例2
ネオジムトリエトキシド0.3Iiを2−エトキシエタ
ノール50ccに加え、これにアセト酢醜エチル10c
cを混合し、80℃で加熱還流を行うことにより黄緑色
の透明溶液を得た。この溶液にシリコンテトラメトキシ
ド53cc、メタノール53cc。
ノール50ccに加え、これにアセト酢醜エチル10c
cを混合し、80℃で加熱還流を行うことにより黄緑色
の透明溶液を得た。この溶液にシリコンテトラメトキシ
ド53cc、メタノール53cc。
水6ccを加え、常温1’2hr攪拌した後、さらに水
20ccを混合してゲル化させた後60℃″I%1日熟
成した。これを60〜80℃の温度で段階的に乾燥した
後150℃に加熱してクラックのない乾fiゲルを得た
。このゲルを1200℃15時間焼成fることによりN
a2U、−8iU2系ガラスを得た。
20ccを混合してゲル化させた後60℃″I%1日熟
成した。これを60〜80℃の温度で段階的に乾燥した
後150℃に加熱してクラックのない乾fiゲルを得た
。このゲルを1200℃15時間焼成fることによりN
a2U、−8iU2系ガラスを得た。
本発明によれば、他のシリカ系ガラスの製造方法に比べ
以下の利点を有する。
以下の利点を有する。
■ 希土類アルコキシドを安定化するため、希土類アル
コキシドのシリコンアルコキシドとの同時加水分解が可
能となり、希土類元素株が高分散したシリカ系ガラスが
得られる。
コキシドのシリコンアルコキシドとの同時加水分解が可
能となり、希土類元素株が高分散したシリカ系ガラスが
得られる。
■ ゲルの乾燥時、またはその焼成時にクラック、割れ
が入ることがないので大型のシリカ系ガラス製品が得ら
れる。
が入ることがないので大型のシリカ系ガラス製品が得ら
れる。
■ 2000℃の高温を要する溶融法に比し、900〜
1400℃という低温で製造することが!きるの1、省
エネルギーが達成され、それ!いて高純度、高品質とい
うシリカ系ガラス製品が得られる。
1400℃という低温で製造することが!きるの1、省
エネルギーが達成され、それ!いて高純度、高品質とい
うシリカ系ガラス製品が得られる。
■ レーザーガラス母材を製造するKさいして、従来用
いられてきた溶融法または気相法に比べて原料コストが
安く、収率良く製造することがfきる。また、工程も簡
便t、同等の品質の製品を安価に得ることが1きる。
いられてきた溶融法または気相法に比べて原料コストが
安く、収率良く製造することがfきる。また、工程も簡
便t、同等の品質の製品を安価に得ることが1きる。
代理人 弁理士(8107)佐々木 清 隆(ほか6名
) −ゝ゛
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Claims (3)
- (1)シリコンアルコキシドと希土類元素のアルコキシ
ドを含むシリカ系ガラス組成物前駆体を加水分解、縮重
合を生じせしめてゲルとし、これを加熱してシリカ系ガ
ラスを得る方法に於いて、希土類元素のアルコキシドの
アルコキシド基の少なくとも1つ以上をα,β−不飽和
カルボニル化合物により安定させることを特徴とするシ
リカ糸ガラスの製造方法。 - (2)使用するシリコンアルコキシドが3〜50の重合
度を有する多量体を含むことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のシリカ系ガラスの製造方法。 - (3)使用する希土類元素のアルコキシドは、一般式M
(OR)_3において、Rがアルキル基、アリール基、
ビニル基またはキレートを形成する残基で、Mがネオジ
ム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウ
ム、テルビウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、
イッテルビウム、ルテチウムのうちの少なくとも1種以
上の金属であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
または第2項記載のシリカ系ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14063588A JPH01313342A (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14063588A JPH01313342A (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01313342A true JPH01313342A (ja) | 1989-12-18 |
| JPH0442335B2 JPH0442335B2 (ja) | 1992-07-13 |
Family
ID=15273271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14063588A Granted JPH01313342A (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01313342A (ja) |
-
1988
- 1988-06-09 JP JP14063588A patent/JPH01313342A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0442335B2 (ja) | 1992-07-13 |
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