JPH01313342A - シリカ系ガラスの製造方法 - Google Patents

シリカ系ガラスの製造方法

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JPH01313342A
JPH01313342A JP14063588A JP14063588A JPH01313342A JP H01313342 A JPH01313342 A JP H01313342A JP 14063588 A JP14063588 A JP 14063588A JP 14063588 A JP14063588 A JP 14063588A JP H01313342 A JPH01313342 A JP H01313342A
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毅 藤山
Makoto Hori
誠 堀
Yoshitaka Nomiya
野宮 好尭
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KOROIDO RES KK
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00Compositions for glass with special properties
    • C03C4/0071Compositions for glass with special properties for laserable glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、レーザー発振用ガラスに用いられる高純度、
尚均質性の大型シリカ系ガラスを安価に提供することが
1%ぎるシリカ系ガラスの製造方法に関するもの!ある
〔従来の技術〕
シリコンアルコキシドの加水分解、縮重合反応により得
られた湿潤ゲルを乾燥し、これを焼成することKより高
純度シリカ系ガラスを製造する試みは多く行なわれてい
る。(例えば、特開昭61−10<5428号、特開昭
55−167143号、”BetterCeramic
s ’l’hrough Chemistry” Vo
l、 52゜PA7〜58)中1も、特開昭61−10
6428号は、金属アルコキシド?溶媒!希釈し、アン
モニアを含む水を添加してゾル溶液ケ生成させた後、乾
燥し又多孔質ゲル体を形成させ、この多孔質ゲル体?高
温処理し、透明ガラス化するガラスの製造方法1ある。
このようなゾル及びゲルを経由してガラスなどを得る方
法は、ゾルゲル法と称され、従来の溶融法に比べ、高品
IJI(高純度、高均質性)のガラスが得られ、かつ従
来の1ノーザーガラス母材の製造に用いられている気相
法や溶融法を作製される高純度シリカ系ガラスよりも安
価フしかも短期間にて製造fきる利点を有している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、ゾルゲル法によるシリカ系ガラスの製造におい
ては、以下に挙げるような問題があった。
■ 湿潤ゲルの乾燥時、溶媒の蒸発と共圧クラック、割
れが発生する。
■ ゲルを加熱し、ガラス化する過程〒残存有機成分の
バーンアウト時にクラック、割れが発生し、ρ・つ残存
OH基に起因する発泡現象が発生する。
■ シリカ−他成分系ガラスの場合、他成分のアルコキ
シド(例えば希土類元素のアルコキシド)の加水分解速
度がシリコンアルコキシPのそれに比べ早い場合には、
沈殿を生じたり、不均一な組成となり、クラック割れの
原因となる。
これらの問題は、先に述べた為純度ν)シリカ系ガラス
の製造方法に於いては完全に解決されているものとは言
い難く、このため得られるガラスの大きさ及び製造工程
の短縮化という点〒限界がある。本発明はこれらの問題
点を解決し、大型t、クラック、割れがない高品質のシ
リカ系ガラスを提供しようとするもの′t%ある。
(問題点を解決するだめの手段〕 本発明は、前述の問題点ヲ解決jるために研究を行ない
、希土類元素のアルコキシドぞα、β−不飽和カルボニ
ル化合物により、そのアルコキシ基の少なくとも1つを
置換、キレート化することKより安定化し、シリコンの
アルコキシトド加水分解違反を近づけること↑希土類元
素のアルコキシドの加水分解生成物を単独に析出させる
ことなく均質なゲルが得られ、更にこの乾燥ゲルヶ焼結
することにより、大型fクラック、割れがない尚純度の
シリカ系ガラスが得られることを見出し、本発明を完成
した。
なお、その際、出発原料としてシリコンアルコキシドの
多量体?含むシリカ系ガラス組成物前駆体を利用するこ
とKより、大型の易焼結性の乾燥ゲルがクラック割れの
発生なく得られ、大型ツクラック、割れがない高純度の
シリカ系ガラスがより容易に得られる。
本発明に使用する希土類元素のアルコキシドは、−紋穴
M((J)L)、において、Hがアルキル基、アリール
基、ビニル基またはキレートを形成する有機残基で、N
1が希土類元素f、例えはネオジム、セリウム、サマリ
ウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ホル
ミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテ
チウムのうちの少なくとも1ff[以上の金属である。
希土類元素のアルコキシドの安定化に用いるα。
β−不飽和カルボニル化合物としては、アセチルアセト
/、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセチルア
セトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸n−ジチル、ア
セトピルビン酸エチルナトのβ−ジケトン化奮物、シア
ン酢酸エチル、シアツブaピオン酸エチルなどのシアノ
カル/yll化合物、ホルミル酢酸エチルなどのアルデ
ヒPカルIン酸化合物、及びアクリル酸エチル、メタク
リル酸エチルなどの不飽和カルぜン酸化合物が挙げられ
る。
本発明においてシリコンアルコキシドとして多量体を用
いる場合には、数分子ないし数十分子重合した重合体を
用いる。
使用するシリコンアルコキシド多検体は、シリコンアル
コキシド全音に対し60モル%以上ニオいてその効果が
認められ、これ以下マあると効果が少ない。特に使用す
るシリコンアルコキシドの全てが3〜50量体の多量体
のみ)構成される場合、より好ましい効果が得られる。
シリカ系ガラス組成前IJA俸はその外にリンのアルコ
キシドやアルミニウムのアルコキシドなどを含ませるこ
とがtぎる。
これらのシリコンアルコキシド及び希土類元素のアルコ
キシドを含むシリカ糸ガラス組成前駆体を加水分解する
にさいしてはシリコンアルコキシド又は希土類元素アル
コキシドは有機溶媒に溶か丁ようにしてもよい。
シリコンアルコキシド及び希土類元素のアルコキシドの
加水分解は常法により行うが、使用する水の量はアルコ
キシPのアルコキシ基の数に対し0.5〜2倍モル使用
jろのが好ましい。加水分解により得られたゾルは縮重
合させてゲルとする。
縮重合は数時間ないし数日熟成させることにより竹うこ
とができる。加水分解及び縮重合にさいして触媒を用い
ればその時間が短縮される。触媒としては塩基が用いら
れる。
得られたゲルケ乾燥して乾燥ゲルとjるが、そのさいに
はクラック、割れが生じないようにゆるやかに乾燥する
のが好ましい。例えば、60〜80℃の温度で段階市に
乾燥した後最終的に150℃に加熱して乾燥する。乾燥
したゲルを900〜1400”CTflt、W:、 L
、てシリカ系ガラスな得ることがマきる。
本発明により、大型tクラック、割れのないシリカ系ガ
ラスが得られ、これは希土類元素を含有しているため、
レーザー発振用ガラスなどに用いることがマきる。
〔作 用〕
本発明の特徴は、ゾルーゲル法〒シリカ系ガラスを製造
するに当り、ドーパント!ある希土類元素アルコキシド
の加水分解速度の調整及び溶媒に対する貯解度の向上を
はかるため、α、β−不飽和力ルIニル化合物と希土類
アルコキシドとを反応させ、一部置換もしくはキレート
化し、安定化させ、これとシリコンアルコキシドと?同
時に加水分解、重縮合反応させることにより均質!、孔
径の揃った、比較的大きな気孔な有する強固な湿潤ゲル
が得られる点fある。
その結果、希土類アルコキシドの加水分解生成物のfx
、殿などの電蝕析出が抑制され、均宵なシリカ糸ゲルが
得られる。またそのゲルが気孔径の大きいことに起因し
て、乾燥過程fゲルの気孔からの残存、液分の蒸発によ
る毛細管応力が軽減され、気孔の孔径が揃っているとと
に起因して、応力の分布が一様となり、クラック、割れ
の発生が抑制される。
〔実施例〕
以下実施例により本発明の詳細な説明する。ただし、本
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
実施例1 ネオジムトリエトキシド0.6Iをエタノール100C
Cに添加し、これにアセチルアセトン10ccを混合し
80℃↑加PA遼ηCを行うこと罠より黄緑色の透明溶
液を得た。この溶液にシリコンエトキシドの4〜6−w
体、平均5甲体2511エタノール30cc、水7 c
c、ピペリジ73.5 ccを加え、常温1攪拌、反s
6させてグル化させた後、60℃を一日熟成した。これ
を60〜80℃の温度′1%段階的に乾燥した恢iso
’cに加熱してクラックのない乾燥ゲルを得た。この乾
燥ゲルのi3 E ’l’法による細孔半径のピークは
80Aと比較的大きな値を示した。
また、細孔半径のピークは非常に鋭く、孔径の大きさが
揃っている。このゲルを1200℃で5時間焼成jるこ
とにより、Nd2(J3−8i(J2系ガラスを得た。
実施例2 ネオジムトリエトキシド0.3Iiを2−エトキシエタ
ノール50ccに加え、これにアセト酢醜エチル10c
cを混合し、80℃で加熱還流を行うことにより黄緑色
の透明溶液を得た。この溶液にシリコンテトラメトキシ
ド53cc、メタノール53cc。
水6ccを加え、常温1’2hr攪拌した後、さらに水
20ccを混合してゲル化させた後60℃″I%1日熟
成した。これを60〜80℃の温度で段階的に乾燥した
後150℃に加熱してクラックのない乾fiゲルを得た
。このゲルを1200℃15時間焼成fることによりN
a2U、−8iU2系ガラスを得た。
〔発明の効果〕
本発明によれば、他のシリカ系ガラスの製造方法に比べ
以下の利点を有する。
■ 希土類アルコキシドを安定化するため、希土類アル
コキシドのシリコンアルコキシドとの同時加水分解が可
能となり、希土類元素株が高分散したシリカ系ガラスが
得られる。
■ ゲルの乾燥時、またはその焼成時にクラック、割れ
が入ることがないので大型のシリカ系ガラス製品が得ら
れる。
■ 2000℃の高温を要する溶融法に比し、900〜
1400℃という低温で製造することが!きるの1、省
エネルギーが達成され、それ!いて高純度、高品質とい
うシリカ系ガラス製品が得られる。
■ レーザーガラス母材を製造するKさいして、従来用
いられてきた溶融法または気相法に比べて原料コストが
安く、収率良く製造することがfきる。また、工程も簡
便t、同等の品質の製品を安価に得ることが1きる。
代理人 弁理士(8107)佐々木 清 隆(ほか6名
)     −ゝ゛

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シリコンアルコキシドと希土類元素のアルコキシ
    ドを含むシリカ系ガラス組成物前駆体を加水分解、縮重
    合を生じせしめてゲルとし、これを加熱してシリカ系ガ
    ラスを得る方法に於いて、希土類元素のアルコキシドの
    アルコキシド基の少なくとも1つ以上をα,β−不飽和
    カルボニル化合物により安定させることを特徴とするシ
    リカ糸ガラスの製造方法。
  2. (2)使用するシリコンアルコキシドが3〜50の重合
    度を有する多量体を含むことを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載のシリカ系ガラスの製造方法。
  3. (3)使用する希土類元素のアルコキシドは、一般式M
    (OR)_3において、Rがアルキル基、アリール基、
    ビニル基またはキレートを形成する残基で、Mがネオジ
    ム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウ
    ム、テルビウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、
    イッテルビウム、ルテチウムのうちの少なくとも1種以
    上の金属であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    または第2項記載のシリカ系ガラスの製造方法。
JP14063588A 1988-06-09 1988-06-09 シリカ系ガラスの製造方法 Granted JPH01313342A (ja)

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