JPH0136830B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
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Description
本発明は、一般式1
[式中Rは
(CH3)3Si−基、
【式】基(基中、R1、R2は水素または
炭素数1〜7個のアルキル基を示し、R3は炭素
数1〜7個のアルキル基を示す)または
数1〜7個のアルキル基を示す)または
【式】基を示す]
で表わされる化合物に関する。
さらに、本発明は一般式1の化合物を製造する
にあたり、式2 の4−エチレンジオキシ−2,6,6−トリメチ
ル−2−シクロヘキセン−1−オンを一般式3 (式中、Mはアルカリ金属またはハロゲン化マグ
ネシウム基を示し、Rは一般式1におけるRと同
じ意味をもつ)で表わされる有機金属化合物と反
応させることを特徴とする製造法にも関する。 上記一般式1で示されるアセチレン誘導体は香
料として価値のある4−ヒドロキシ−4−〔(E)−
3−ヒドロキシ−1−ブテニル)−3,5,5−
トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン(慣
用名ブルメノールA)を製造するための中間体と
して有用である。 従来、式2の4−エチレンジオキシ−2,6,
6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
のケトンに、アセチレンの求核反応を利用して3
−ブチン−2−オールの構造単位を導入する方法
としては、次の方法が提案されている。 (1) Helv.Chim.Acta、57、2087(1974) しかし、この方法は3−ブチン−2−オールの
水酸基が遊離の状態で反応を行なうため、アセチ
レン部分のほかに水酸基の部分でも塩基を消費す
るため経済性に劣る。また、比較的低分子量の3
−ブチン−2−オールの2つの部位が金属塩の構
造をとるため有機溶媒に対する溶解性が低くな
り、塩の析出など反応の操作性に劣る。 また、本発明者らは、J.Chem.Soc.(C)、404
(1971)に記載された方法に従つて3−ブチン−
2−オールと臭化エチルマグネシウムから誘導さ
れる対応するハロゲン化マグネシウムの塩を使用
したところ、1,2−付加体4のほかに、1,4
−付加体、 いわゆるMichael付加体5が生成する不利益が
確認された。特に、ベンゼンなどの炭化水素溶媒
を使用した時には、1,4−付加体5が主生成物
となる。 本発明者らは、上記の欠点あるいは不利益を克
服すべく研究を行なつた結果、本発明に到達し
た。 本発明方法は、式2の化合物に炭素4個を伸ば
す成分として、水酸基が保護された一般式3の有
機金属化合物を使用する点に特徴がある。一般式
3の化合物を使用することにより、使用する塩基
を減少させることができる。また、反応試薬の溶
解性が改善されるため、反応の操作性が良くな
る。さらに、一般式3の化合物を使用することに
より、1,4−付加体の生成がほとんど抑制で
き、場合によつてはまつたく検出されない。 本発明方法は、式2の化合物に一般式3の有機
金属化合物を作用させることよりなる。有機金属
化合物3のMとしてはアルカリ金属、好ましくは
Li、Na、Kaまたはハロゲン化マグネシウム基、
好ましくは塩化マグネシウム、臭化マグネシウ
ム、ヨウ化マグネシウム基である。通常、ハロゲ
ン化マグネシウム基が好んで使用される。反応溶
媒としてはエーテル系溶媒、好ましくはジエチル
エーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレング
リコールジメチルエーテルまたは炭化水素溶媒、
好ましくはベンゼン、トルエン、キシレンまたは
液体アンモニアなどが使用される。反応温度は−
40〜100℃、好ましくは−40〜60℃である。 一般式3の有機金属化合物のRとしては、
(CH3)3Si−、
にあたり、式2 の4−エチレンジオキシ−2,6,6−トリメチ
ル−2−シクロヘキセン−1−オンを一般式3 (式中、Mはアルカリ金属またはハロゲン化マグ
ネシウム基を示し、Rは一般式1におけるRと同
じ意味をもつ)で表わされる有機金属化合物と反
応させることを特徴とする製造法にも関する。 上記一般式1で示されるアセチレン誘導体は香
料として価値のある4−ヒドロキシ−4−〔(E)−
3−ヒドロキシ−1−ブテニル)−3,5,5−
トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン(慣
用名ブルメノールA)を製造するための中間体と
して有用である。 従来、式2の4−エチレンジオキシ−2,6,
6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
のケトンに、アセチレンの求核反応を利用して3
−ブチン−2−オールの構造単位を導入する方法
としては、次の方法が提案されている。 (1) Helv.Chim.Acta、57、2087(1974) しかし、この方法は3−ブチン−2−オールの
水酸基が遊離の状態で反応を行なうため、アセチ
レン部分のほかに水酸基の部分でも塩基を消費す
るため経済性に劣る。また、比較的低分子量の3
−ブチン−2−オールの2つの部位が金属塩の構
造をとるため有機溶媒に対する溶解性が低くな
り、塩の析出など反応の操作性に劣る。 また、本発明者らは、J.Chem.Soc.(C)、404
(1971)に記載された方法に従つて3−ブチン−
2−オールと臭化エチルマグネシウムから誘導さ
れる対応するハロゲン化マグネシウムの塩を使用
したところ、1,2−付加体4のほかに、1,4
−付加体、 いわゆるMichael付加体5が生成する不利益が
確認された。特に、ベンゼンなどの炭化水素溶媒
を使用した時には、1,4−付加体5が主生成物
となる。 本発明者らは、上記の欠点あるいは不利益を克
服すべく研究を行なつた結果、本発明に到達し
た。 本発明方法は、式2の化合物に炭素4個を伸ば
す成分として、水酸基が保護された一般式3の有
機金属化合物を使用する点に特徴がある。一般式
3の化合物を使用することにより、使用する塩基
を減少させることができる。また、反応試薬の溶
解性が改善されるため、反応の操作性が良くな
る。さらに、一般式3の化合物を使用することに
より、1,4−付加体の生成がほとんど抑制で
き、場合によつてはまつたく検出されない。 本発明方法は、式2の化合物に一般式3の有機
金属化合物を作用させることよりなる。有機金属
化合物3のMとしてはアルカリ金属、好ましくは
Li、Na、Kaまたはハロゲン化マグネシウム基、
好ましくは塩化マグネシウム、臭化マグネシウ
ム、ヨウ化マグネシウム基である。通常、ハロゲ
ン化マグネシウム基が好んで使用される。反応溶
媒としてはエーテル系溶媒、好ましくはジエチル
エーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレング
リコールジメチルエーテルまたは炭化水素溶媒、
好ましくはベンゼン、トルエン、キシレンまたは
液体アンモニアなどが使用される。反応温度は−
40〜100℃、好ましくは−40〜60℃である。 一般式3の有機金属化合物のRとしては、
(CH3)3Si−、
【式】CH3OCH2
−、CH3CH2OCH2−、
【式】などが
好んで使用される。一般式3の有機金属化合物は
通常、一般式3でMが水素の化合物に塩基を作用
させることにより製造される。塩基としては、
NaH、LiNH2、NaNH2、グリニヤー試薬など
が使用され、グリニヤー試薬としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、ビニル、アリルグリ
ニヤー試薬などが好んで使用される。一般式3の
有機金属誘導は、式2の4−エチレンジオキシ−
2,6,6−トリメチル−2−シクロヘキセン−
1−オン1モルに対して、通常1〜4倍モルを使
用する。好ましくは1〜2倍モルである。 このようにして製造された上記の一般式1の化
合物はすべて新規化合物である。 一般式1の化合物は次いで、MAlHn(OR4)4-o
(式中、Mはアルカリ金属を示し、R4は炭素数1
〜7個のアルキル基または酸素置換アルキル基を
示し、酸素置換とは、酸素原子の介在により炭素
骨格の連続が中断されていることを意味する。n
は1〜3の整数を示す)により三重結合をトラン
ス二重結合に還元したのち、酸加水分解すること
により4−ヒドロキシ−4−〔(E)−3−ヒドロキ
シ−1−ブテニル〕−3,5,5−トリメチル−
2−シクロヘキセン−1−オンに誘導できる。 還元反応の溶媒としては、還元剤の活性水素を
失活させないものであれば特に限定されないが、
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエー
テル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジオキサンおよびこれらの任意の混合系など
が使用される。還元剤MAln(OR4)4-oのMはアル
カリ金属であり、好ましくはLi、Na、Kである。
R4としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、2−メトキシエチル、2−エトキシエ
チル基などが好ましい。nは1〜3の整数であ
り、好ましくはn=2である。好ましい還元剤の
具体例としては、NaAlH2(OCH2CH2OCH3)2、
NaAlH2(OCH3)2、NaAlH2(OC2H5)2、
NaAlH2(O−n−Pr)2、NaAlH2(O−i−
Pr)2、NaAlH2(O−n−Bu)2、NaAlH2(O−i
−Bu)2、NaAlH2(O−t−Bu)2などがあげられ
る。還元剤の使用量は、一般式1の化合物1モル
に対して1〜10倍モル、好ましくは1〜4倍モル
である。還元温度は−30〜50℃、好ましくは−10
〜20℃である。 酸加水分解は無機または有機系の酸を用いて行
なう。酸としては硫酸、塩酸、りん酸、過塩素
酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シユウ酸などが
好んで使用される。加水分解に用いる溶媒として
は、還元生成物と上記の酸を溶解し、酸の活性を
低下させないものであれば特に限定されないが、
メタノール、エタノール、プロパノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、1,2−ジメトキシエタン、酢酸メチル、
酢酸エチル、水あるいはこれらの混合溶媒が好ん
で使用される。加水分解温度度は−30〜100℃、
好ましくは−10〜40℃である。 次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 1 (1) アセチレン誘導体1〔R=−Si(CH3)3〕の製
造 テトラヒドロフラン(25ml)に金属マグネシ
ウム(820mg、33.7mmol)を加え、氷冷下に
臭化エチレン(3.23g、29.6mmol)のテトラ
ヒドロフラン(7ml)溶液を35分かけて滴下す
る。滴下終了後1時間撹拌する。このエチルグ
リニヤー試薬の溶液に、2−トリメチルシリル
オキシ−3−ブチン(4.43g、30.9mmol)を
滴下する。ここへ4−エチレンジオキシ−2,
6,6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1
−オン2(3.92g、20.0mmol)を一度に加え、
40℃で1時間撹拌する。反応混合物を水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層は水洗した
のち、力媒を留去し、化合物1〔R=−Si
(CH3)3〕(6.79g、96%)を得た。1,4−付
加体は検出されなかつた。 このもののスペクトルデータは次の通りであ
る。 IR(液膜) 3470、1670、1245、1090、840、750cm-1 1H−NMR(CDCl3)δ 0.15(s、9H)、1.08(s、3H)、1.13(s、
3H)、1.41(d、J=6Hz、3H)、1.8〜2.1
(m、5H)、3.92(A2B2、4H)、4.54(q、J
=6Hz、2H)、5.35(br.s、1H) (2) 4−ヒドロキシ−4−〔(E)−3−ヒドロキシ
−1−ブテニル〕−3,5,5−トリメチル−
2−シクロヘキセン−1−オンの製造 上記化合物1〔R=−Si(OH3)3〕(6.79g、
19.3mmol)をテトラヒドロフラン(62ml)に
溶かし、氷冷下に撹拌しながらNaAlH2
(OCH2CH2OCH3)2の70%トルエン溶液(21.8
ml)を滴下する。滴下終了後、室温に戻し1時
間撹拌する。反応混合物を氷水中に加え、酢酸
エチルで抽出する。有機層は水洗し、溶媒を留
去する。残渣にアセトン(70ml)と1N−塩酸
(14ml)を加え、1時間撹拌する。反応混合液
を炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチ
ルで抽出する。有機層は水洗し、溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(酢酸エチル)で分離し、4−ヒドロキシ−
4−〔(E)−3−ヒドロキシ−1−ブテニル〕−
3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン
−1−オン(3.244g、2からの収率72%)を
得た。このものは標品と 1H−NMR、IRおよ
びマススペクトルが完全に一致した。 実施例 2 (1) アセチレン誘導体1
通常、一般式3でMが水素の化合物に塩基を作用
させることにより製造される。塩基としては、
NaH、LiNH2、NaNH2、グリニヤー試薬など
が使用され、グリニヤー試薬としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、ビニル、アリルグリ
ニヤー試薬などが好んで使用される。一般式3の
有機金属誘導は、式2の4−エチレンジオキシ−
2,6,6−トリメチル−2−シクロヘキセン−
1−オン1モルに対して、通常1〜4倍モルを使
用する。好ましくは1〜2倍モルである。 このようにして製造された上記の一般式1の化
合物はすべて新規化合物である。 一般式1の化合物は次いで、MAlHn(OR4)4-o
(式中、Mはアルカリ金属を示し、R4は炭素数1
〜7個のアルキル基または酸素置換アルキル基を
示し、酸素置換とは、酸素原子の介在により炭素
骨格の連続が中断されていることを意味する。n
は1〜3の整数を示す)により三重結合をトラン
ス二重結合に還元したのち、酸加水分解すること
により4−ヒドロキシ−4−〔(E)−3−ヒドロキ
シ−1−ブテニル〕−3,5,5−トリメチル−
2−シクロヘキセン−1−オンに誘導できる。 還元反応の溶媒としては、還元剤の活性水素を
失活させないものであれば特に限定されないが、
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエー
テル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジオキサンおよびこれらの任意の混合系など
が使用される。還元剤MAln(OR4)4-oのMはアル
カリ金属であり、好ましくはLi、Na、Kである。
R4としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、2−メトキシエチル、2−エトキシエ
チル基などが好ましい。nは1〜3の整数であ
り、好ましくはn=2である。好ましい還元剤の
具体例としては、NaAlH2(OCH2CH2OCH3)2、
NaAlH2(OCH3)2、NaAlH2(OC2H5)2、
NaAlH2(O−n−Pr)2、NaAlH2(O−i−
Pr)2、NaAlH2(O−n−Bu)2、NaAlH2(O−i
−Bu)2、NaAlH2(O−t−Bu)2などがあげられ
る。還元剤の使用量は、一般式1の化合物1モル
に対して1〜10倍モル、好ましくは1〜4倍モル
である。還元温度は−30〜50℃、好ましくは−10
〜20℃である。 酸加水分解は無機または有機系の酸を用いて行
なう。酸としては硫酸、塩酸、りん酸、過塩素
酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シユウ酸などが
好んで使用される。加水分解に用いる溶媒として
は、還元生成物と上記の酸を溶解し、酸の活性を
低下させないものであれば特に限定されないが、
メタノール、エタノール、プロパノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、1,2−ジメトキシエタン、酢酸メチル、
酢酸エチル、水あるいはこれらの混合溶媒が好ん
で使用される。加水分解温度度は−30〜100℃、
好ましくは−10〜40℃である。 次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 1 (1) アセチレン誘導体1〔R=−Si(CH3)3〕の製
造 テトラヒドロフラン(25ml)に金属マグネシ
ウム(820mg、33.7mmol)を加え、氷冷下に
臭化エチレン(3.23g、29.6mmol)のテトラ
ヒドロフラン(7ml)溶液を35分かけて滴下す
る。滴下終了後1時間撹拌する。このエチルグ
リニヤー試薬の溶液に、2−トリメチルシリル
オキシ−3−ブチン(4.43g、30.9mmol)を
滴下する。ここへ4−エチレンジオキシ−2,
6,6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1
−オン2(3.92g、20.0mmol)を一度に加え、
40℃で1時間撹拌する。反応混合物を水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層は水洗した
のち、力媒を留去し、化合物1〔R=−Si
(CH3)3〕(6.79g、96%)を得た。1,4−付
加体は検出されなかつた。 このもののスペクトルデータは次の通りであ
る。 IR(液膜) 3470、1670、1245、1090、840、750cm-1 1H−NMR(CDCl3)δ 0.15(s、9H)、1.08(s、3H)、1.13(s、
3H)、1.41(d、J=6Hz、3H)、1.8〜2.1
(m、5H)、3.92(A2B2、4H)、4.54(q、J
=6Hz、2H)、5.35(br.s、1H) (2) 4−ヒドロキシ−4−〔(E)−3−ヒドロキシ
−1−ブテニル〕−3,5,5−トリメチル−
2−シクロヘキセン−1−オンの製造 上記化合物1〔R=−Si(OH3)3〕(6.79g、
19.3mmol)をテトラヒドロフラン(62ml)に
溶かし、氷冷下に撹拌しながらNaAlH2
(OCH2CH2OCH3)2の70%トルエン溶液(21.8
ml)を滴下する。滴下終了後、室温に戻し1時
間撹拌する。反応混合物を氷水中に加え、酢酸
エチルで抽出する。有機層は水洗し、溶媒を留
去する。残渣にアセトン(70ml)と1N−塩酸
(14ml)を加え、1時間撹拌する。反応混合液
を炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチ
ルで抽出する。有機層は水洗し、溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(酢酸エチル)で分離し、4−ヒドロキシ−
4−〔(E)−3−ヒドロキシ−1−ブテニル〕−
3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン
−1−オン(3.244g、2からの収率72%)を
得た。このものは標品と 1H−NMR、IRおよ
びマススペクトルが完全に一致した。 実施例 2 (1) アセチレン誘導体1
【式】の製造
実施例1と同様にして、反応条件、試薬の使
用量などを同じにして、2−トリメチルシリル
オキシ−3−ブチンの代りに2−(2−オキサ
−1−メチルブチルオキシ)−3−ブチン
(4.39g、30.9mmol)を使用して反応を行な
い、7.99gの粗生成物を得た。このものをガス
クロマトグラフイーで分析した結果、化合物1
用量などを同じにして、2−トリメチルシリル
オキシ−3−ブチンの代りに2−(2−オキサ
−1−メチルブチルオキシ)−3−ブチン
(4.39g、30.9mmol)を使用して反応を行な
い、7.99gの粗生成物を得た。このものをガス
クロマトグラフイーで分析した結果、化合物1
【式】を6.29g(93%)含
むことがわかつた。1,4−付加体の生成は認
められなかつた。化合物1
められなかつた。化合物1
【式】の純品はシリカゲル
カラムクロマトグラフイー(ヘキサン−酢酸エ
チル−トリエチルアミン66:33:1)で分離す
ることにより得られる。このもののスペクトル
データ次の通りである。 IR(液膜) 3450、1670、1205、1090、1025、950、795cm
-1 1H−NMR(CDCl3)δ 1.10、1.12、(6H、
チル−トリエチルアミン66:33:1)で分離す
ることにより得られる。このもののスペクトル
データ次の通りである。 IR(液膜) 3450、1670、1205、1090、1025、950、795cm
-1 1H−NMR(CDCl3)δ 1.10、1.12、(6H、
【式】
)1.14、1.20、1.28、1.30、1.36、1.40、1.47
(9H、
(9H、
【式】
【式】および
【式】)、1.90(3H、
【式】)、3.93(4H、
【式】)、4.2−4.6(1H、
【式】)、4.7−5.1(1H、
【式】)、5.36(1H、
【式】)
(2) 4−ヒドロキシ−4−〔(E)−3−ヒドロキシ
−1−ブテニル〕−3,5,5−トリメチル−
2−シクロヘキセン−1−オンの製造 上記の粗生成物7.99gを実施例1と同様にし
て還元と酸加水分解を行なつた結果、化合物2
から75%の収率で4−ヒドロキシ−4−〔(E)−
3−ヒドロキシ−1−ブテニル〕−3,5,5
−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
を得た。 実施例 3 (1) アセチレン誘導体1
−1−ブテニル〕−3,5,5−トリメチル−
2−シクロヘキセン−1−オンの製造 上記の粗生成物7.99gを実施例1と同様にし
て還元と酸加水分解を行なつた結果、化合物2
から75%の収率で4−ヒドロキシ−4−〔(E)−
3−ヒドロキシ−1−ブテニル〕−3,5,5
−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
を得た。 実施例 3 (1) アセチレン誘導体1
【式】の製造
実施例1と同様にして、反応条件、試薬の使
用量などを同じにして、2−トリメチルシリル
オキシ−3−ブチンの代りに2−(2−オキサ
シクロヘキシルオキシ)−3−ブチン(4.76g、
30.9mmol)を使用して反応を行ない、8.55g
の粗生成物を得た。このものをガスクロマトグ
ラフイーで分析した結果、化合物1
用量などを同じにして、2−トリメチルシリル
オキシ−3−ブチンの代りに2−(2−オキサ
シクロヘキシルオキシ)−3−ブチン(4.76g、
30.9mmol)を使用して反応を行ない、8.55g
の粗生成物を得た。このものをガスクロマトグ
ラフイーで分析した結果、化合物1
【式】を6.37g(91%)
含むことがわかつた。化合物1
【式】の純品はシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー(ヘキサン−酢酸
エチル−トリエチルアミン66:33:1)で分離
することにより得られる。このもののスペクト
ルデータは次の通りである。 IR(液膜) 3460、1350、1205、1095、1020、980、955、
815cm-1 1H−NMR(CDCl3)δ 1.10、1.13、1.14(6H、
エチル−トリエチルアミン66:33:1)で分離
することにより得られる。このもののスペクト
ルデータは次の通りである。 IR(液膜) 3460、1350、1205、1095、1020、980、955、
815cm-1 1H−NMR(CDCl3)δ 1.10、1.13、1.14(6H、
【式】)、
1.39、1.42、1.46、1.49(3H、
【式】)、1.89(3H、
【式】)、3.93(4H、
【式】)、4.3−4.7(1H、
【式】)、4.7−5.0(1H、
【式】)、5.36(1H、
【式】)
(2) 4−ヒドロキシ−4−〔(E)−3−ヒドロキシ
−1−ブテニル−3,5,5−トリメチル−2
−シクロヘキセン−1−オンの製造 上記の粗生成物8.55gを実施例1と同様にし
て還元と酸加水分解を行なつた結果、化合物2
から65%の収率で4−ヒドロキシ−4−〔(E)−
3−ヒドロキシ−1−ブテニル〕−3,5,5
−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
を得た。 実施例 4〜6 実施例1と同様にして、臭化エチルの代りに塩
化メチルを用い、有機金属誘導体3のRとして
(CH3)3Si−基、
−1−ブテニル−3,5,5−トリメチル−2
−シクロヘキセン−1−オンの製造 上記の粗生成物8.55gを実施例1と同様にし
て還元と酸加水分解を行なつた結果、化合物2
から65%の収率で4−ヒドロキシ−4−〔(E)−
3−ヒドロキシ−1−ブテニル〕−3,5,5
−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
を得た。 実施例 4〜6 実施例1と同様にして、臭化エチルの代りに塩
化メチルを用い、有機金属誘導体3のRとして
(CH3)3Si−基、
【式】
【式】を用いる組合せ系につい
て反応を行ない、化合物1を製造した。その結果
は次の表の通りである。
は次の表の通りである。
【表】
実施例 7
実施例1と同様にして、反応条件、試薬の使用
量などを同じにして反応を行なつた。ただし、エ
チルグリニヤー試薬を調製した段階で、テトラヒ
ドロフランを留去したのち、トルエン(32ml)を
加え、溶媒置換を行なつた。その結果、化合物1
〔R=−Si(CH3)3〕を71%の収率で得た。 実施例 8 液体アンモニア(150ml)にリチウム(215mg、
31.0mmol)と硝酸鉄()(20mg)を加え、リ
チウムによる色が消失するまで撹拌する。ここへ
2−(2−オキサ−1−メチルブチルオキシ)−3
−ブチン(4.39g、30.9mmol)をテトラヒドロ
フラン(30ml)に溶かして、15分かけて滴下す
る。その後2時間撹拌する。ここへ4−エチレン
ジオキシ−2,6,6−トリメチル−2−シクロ
ヘキセン−1−オン2(3.92g、20.0mmol)をテ
トラヒドロフラン(10ml)に溶かし、30分で滴下
する。滴下終了後、−35℃で15時間撹拌する。ア
ンモニアを留去したのち、残渣に水を加え、酢酸
エチルで抽出する。有機層は水洗し、溶媒を留去
して、7.82gの粗生成物を得た。このものをガス
クロマトグラフイーで分析した結果、化合物1を
5.61g(83%)含むことがわかつた。 比較例 1 マグネシウム(10.0g、0.411mol)をジエチル
エーテル(150ml)に加え、氷冷下に撹拌しなが
ら臭化エチル(44.0g、0.404mol)を1時間かけ
て滴下する。滴下終了後、さらに室温で2時間撹
拌する。次いで、加熱してジエチルエーテルを留
去すると同時に、ベンゼン(150ml)を追加する。
エーテルを留去し終つたら、20℃に冷却する。3
−ブチン−2−オール(14.0g、0.197mol)をベ
ンゼン(200ml)に溶かし1時間かけて滴下する。
滴下終了後、反応混合物を1時間加熱還流し、再
度20℃に冷却する。4−エチレンジオキシ−2,
6,6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−
オン2(19.6g、0.100mol)をベンゼン(100ml)
に溶かし、1時間で滴下する。反応混合物は3時
間加熱還流したのち、20℃で16時間撹拌する。反
応混合物を塩化アンモニウム水溶液に加え、有機
層を分離する。水層は酢酸エチルで抽出する。抽
出した有機層を合せ水洗したのち、溶媒を留去す
る。残渣を蒸留(bp151〜153℃/0.01Torr)し
て19.3gの留分を得た。このものをガスクロマト
グラフイーで分析した結果、1,2−付加体4と
1,4−付加体5を33:67の比で含むことがわか
つた。それぞれをシリカゲルカラムクロマトグラ
フイー(ヘキサン:酢酸エチル1:1)で分離し
た。1,2−付加体4のIR、 1H−NMRスペク
トルは標品のそれらと完全に一致した。1,4−
付加体のスペクトルデータは通の通りである。 トランス体: IR(液膜) 3450、1720、1290、1165、1095、1030、1000、
955cm-1 1H−NMR(CDCl3)δ 1.04(s、3H)、1.17(d、J=6Hz、3H)、
1.29(s、3H)、1.45(d、J=6Hz、3H)、
1.82(AB、2H)、2.23(br.s、1H)、2.72(dd、J
=2and13Hz、1H)、3.03(dq、J=6and13Hz、
1H)、3.90−4.40(A2B2、4H)、4.55(dq、J=
2and6Hz、1H) シス体: IR(液膜) 3450、1715、1290、1165、1095、990、945、
885cm-1 1H−NMR(CDCl3)δ 1.07(s、3H)、1.10(d、J=6Hz、3H)、
1.27(s、3H)、1.38(d、J=6Hz、3H)、
1.72(dd、J=3and14Hz、1H)、2.39(dd、J=
2and14Hz、1H)、2.7−3.0(m、3H)、3.25(dq、
J=2and6Hz、1H)、4.04(A2B2、4H)、4.46
(dq、J=2and6Hz)。
量などを同じにして反応を行なつた。ただし、エ
チルグリニヤー試薬を調製した段階で、テトラヒ
ドロフランを留去したのち、トルエン(32ml)を
加え、溶媒置換を行なつた。その結果、化合物1
〔R=−Si(CH3)3〕を71%の収率で得た。 実施例 8 液体アンモニア(150ml)にリチウム(215mg、
31.0mmol)と硝酸鉄()(20mg)を加え、リ
チウムによる色が消失するまで撹拌する。ここへ
2−(2−オキサ−1−メチルブチルオキシ)−3
−ブチン(4.39g、30.9mmol)をテトラヒドロ
フラン(30ml)に溶かして、15分かけて滴下す
る。その後2時間撹拌する。ここへ4−エチレン
ジオキシ−2,6,6−トリメチル−2−シクロ
ヘキセン−1−オン2(3.92g、20.0mmol)をテ
トラヒドロフラン(10ml)に溶かし、30分で滴下
する。滴下終了後、−35℃で15時間撹拌する。ア
ンモニアを留去したのち、残渣に水を加え、酢酸
エチルで抽出する。有機層は水洗し、溶媒を留去
して、7.82gの粗生成物を得た。このものをガス
クロマトグラフイーで分析した結果、化合物1を
5.61g(83%)含むことがわかつた。 比較例 1 マグネシウム(10.0g、0.411mol)をジエチル
エーテル(150ml)に加え、氷冷下に撹拌しなが
ら臭化エチル(44.0g、0.404mol)を1時間かけ
て滴下する。滴下終了後、さらに室温で2時間撹
拌する。次いで、加熱してジエチルエーテルを留
去すると同時に、ベンゼン(150ml)を追加する。
エーテルを留去し終つたら、20℃に冷却する。3
−ブチン−2−オール(14.0g、0.197mol)をベ
ンゼン(200ml)に溶かし1時間かけて滴下する。
滴下終了後、反応混合物を1時間加熱還流し、再
度20℃に冷却する。4−エチレンジオキシ−2,
6,6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−
オン2(19.6g、0.100mol)をベンゼン(100ml)
に溶かし、1時間で滴下する。反応混合物は3時
間加熱還流したのち、20℃で16時間撹拌する。反
応混合物を塩化アンモニウム水溶液に加え、有機
層を分離する。水層は酢酸エチルで抽出する。抽
出した有機層を合せ水洗したのち、溶媒を留去す
る。残渣を蒸留(bp151〜153℃/0.01Torr)し
て19.3gの留分を得た。このものをガスクロマト
グラフイーで分析した結果、1,2−付加体4と
1,4−付加体5を33:67の比で含むことがわか
つた。それぞれをシリカゲルカラムクロマトグラ
フイー(ヘキサン:酢酸エチル1:1)で分離し
た。1,2−付加体4のIR、 1H−NMRスペク
トルは標品のそれらと完全に一致した。1,4−
付加体のスペクトルデータは通の通りである。 トランス体: IR(液膜) 3450、1720、1290、1165、1095、1030、1000、
955cm-1 1H−NMR(CDCl3)δ 1.04(s、3H)、1.17(d、J=6Hz、3H)、
1.29(s、3H)、1.45(d、J=6Hz、3H)、
1.82(AB、2H)、2.23(br.s、1H)、2.72(dd、J
=2and13Hz、1H)、3.03(dq、J=6and13Hz、
1H)、3.90−4.40(A2B2、4H)、4.55(dq、J=
2and6Hz、1H) シス体: IR(液膜) 3450、1715、1290、1165、1095、990、945、
885cm-1 1H−NMR(CDCl3)δ 1.07(s、3H)、1.10(d、J=6Hz、3H)、
1.27(s、3H)、1.38(d、J=6Hz、3H)、
1.72(dd、J=3and14Hz、1H)、2.39(dd、J=
2and14Hz、1H)、2.7−3.0(m、3H)、3.25(dq、
J=2and6Hz、1H)、4.04(A2B2、4H)、4.46
(dq、J=2and6Hz)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式1 [式中、Rは (CH3)3Si−基、 【式】基(基中、R1、R2は水素または 炭素数1〜7個のアルキル基を示し、R3は炭素
数1〜7個のアルキル基を示す)または
【式】基を示す] で表わされる化合物。 2 一般式1 [式中、Rは (CH3)3Si−基、 【式】基(基中、R1、R2は水素または 炭素数1〜7個のアルキル基を示し、R3は炭素
数1〜7個のアルキル基を示す)または
【式】基を示す]で表わされる化合物 を製造するにあたり、式2 の4−エチレンジオキシ−2,6,6−トリメチ
ル−2−シクロヘキセン−1−オンを一般式3 (式中、Mはアルカリ金属またはハロゲン化マグ
ネシウム基を示し、Rは前記と同義)で示される
有機金属誘導体と反応させることを特徴とする一
般式1の化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11647583A JPS608287A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | アセチレン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11647583A JPS608287A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | アセチレン誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS608287A JPS608287A (ja) | 1985-01-17 |
| JPH0136830B2 true JPH0136830B2 (ja) | 1989-08-02 |
Family
ID=14688019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11647583A Granted JPS608287A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | アセチレン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS608287A (ja) |
-
1983
- 1983-06-28 JP JP11647583A patent/JPS608287A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS608287A (ja) | 1985-01-17 |
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