JPH02127030A - 光ディスク原盤の製造方法 - Google Patents
光ディスク原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPH02127030A JPH02127030A JP63281724A JP28172488A JPH02127030A JP H02127030 A JPH02127030 A JP H02127030A JP 63281724 A JP63281724 A JP 63281724A JP 28172488 A JP28172488 A JP 28172488A JP H02127030 A JPH02127030 A JP H02127030A
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- JP
- Japan
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- master
- manufacturing
- optical disc
- optical disk
- optical
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、Ｓ／Ｎ比の高い高密度光ディスク原盤を安価
に製造する方法に関するものである。
に製造する方法に関するものである。
従来の技術
光ディスクの高密度化に伴い、トラックピッチは狭くな
り隣接トラック閏のクロストーク改善のため周に沿った
溝加工がなされている。
り隣接トラック閏のクロストーク改善のため周に沿った
溝加工がなされている。
中でもＶ溝を有する光ディスクは１７１ｍピッチのトラ
ック密度を可能とする技術である。また■溝の場合、光
ディスク原盤での溝加工が精密機械加工で可能なため、
安価な製造が可能である。
ック密度を可能とする技術である。また■溝の場合、光
ディスク原盤での溝加工が精密機械加工で可能なため、
安価な製造が可能である。
発明が解決しようとする課題
光ディスク原盤に対し精密機械加工を可能とならしめる
には、原盤の内生なくともその表面は加工し易い材質で
出来ていなければならない。しかしそのような金属は高
価な金を除くと酸化の影響を受は易いものである。すな
わち表面が酸化された光ディスク原盤は表面性が悪く荒
れており、それから製造された光ディスクは大変ノイズ
レベルが高いものとなっていた。
には、原盤の内生なくともその表面は加工し易い材質で
出来ていなければならない。しかしそのような金属は高
価な金を除くと酸化の影響を受は易いものである。すな
わち表面が酸化された光ディスク原盤は表面性が悪く荒
れており、それから製造された光ディスクは大変ノイズ
レベルが高いものとなっていた。
本発明は、従来のこの様な課題を解決した、光ディスク
原盤の製造方法を提供することを目的とする。
原盤の製造方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、精密機械加工を用いて表面に微細構造が形成
されている光ディスク原盤の製造方法において、原盤表
面を還元処理する工程を含ませる。
されている光ディスク原盤の製造方法において、原盤表
面を還元処理する工程を含ませる。
作用
光ディスク原盤表面を還元処理することにより、酸化し
ていた原盤表面を元の金属に還元し平滑とすることが可
能となる。
ていた原盤表面を元の金属に還元し平滑とすることが可
能となる。
実施例
以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明す図は、
本発明の光ディスク原盤の製造方法を説明するための、
製造プロセスを示す工程図である。
本発明の光ディスク原盤の製造方法を説明するための、
製造プロセスを示す工程図である。
工程ｌは銅メツキ、２は平面研削加工、３は■溝カッテ
ィング、４はフォトレジスト塗布、５はレーザーカッテ
ィングでレジスト内にピットを形成、６は現像、７はド
ライエツチングでピットを銅原盤表面に彫り込み、８は
アセトンによるレジスト洗浄、９は酸素アッシングで残
留レジストを除去、ｌＯが還元処理で、１１がインジェ
クションによる光ディスク製造工程である。
ィング、４はフォトレジスト塗布、５はレーザーカッテ
ィングでレジスト内にピットを形成、６は現像、７はド
ライエツチングでピットを銅原盤表面に彫り込み、８は
アセトンによるレジスト洗浄、９は酸素アッシングで残
留レジストを除去、ｌＯが還元処理で、１１がインジェ
クションによる光ディスク製造工程である。
工程１としては銅メツキ以外の材料も可能である。しか
し工程３てのＶ溝カッティングが精密切削加工ゆえ原盤
表面の材質としては川原下の硬度しか持たない柔らかい
材料でなくてはならず、請求項；３に挙げた材料（即ち
、金属がＣｕ、Ｉｎ、 Ｓｎ、アルカリまたはアルカ
リ土類金属）と他には金しか考えられない。どの材料で
も■溝カッティングは可能であるが、金を用いると安価
な高密度光ディスク原盤の特徴が失われるので本発明に
はそぐわない。
し工程３てのＶ溝カッティングが精密切削加工ゆえ原盤
表面の材質としては川原下の硬度しか持たない柔らかい
材料でなくてはならず、請求項；３に挙げた材料（即ち
、金属がＣｕ、Ｉｎ、 Ｓｎ、アルカリまたはアルカ
リ土類金属）と他には金しか考えられない。どの材料で
も■溝カッティングは可能であるが、金を用いると安価
な高密度光ディスク原盤の特徴が失われるので本発明に
はそぐわない。
工程３て上記の低硬度金属で出来た光ディスク原盤表面
に精密機械加工を行うが、トラッキング用の溝加工とし
てはトラック幅１７ｚｍのＶ溝カッティングが最も優れ
ている。またＶ溝カッティングには単純なダイヤモンド
バイトで済むため安価に量産が可能である。
に精密機械加工を行うが、トラッキング用の溝加工とし
てはトラック幅１７ｚｍのＶ溝カッティングが最も優れ
ている。またＶ溝カッティングには単純なダイヤモンド
バイトで済むため安価に量産が可能である。
上記■溝光ディスク原盤作製での工程４〜９は再生専用
高密度光ディスク原盤作製のためのプロセスである。中
でも工程９の酸素アッシングは原盤表面の金属を強制酸
化し、特に請求項３に挙げた金属では酸化の影響を受は
易く原盤表面に酸化膜を張り表面粗度が粗くなってしま
う。
高密度光ディスク原盤作製のためのプロセスである。中
でも工程９の酸素アッシングは原盤表面の金属を強制酸
化し、特に請求項３に挙げた金属では酸化の影響を受は
易く原盤表面に酸化膜を張り表面粗度が粗くなってしま
う。
記録膜をその上に形成する光ディスク用の原盤では工程
４〜９は含まれないが、工程１１でディスクを作製する
までに原盤表面に薄いながらも酸化膜が張り同じく表面
粗度が粗くなってしまう。
４〜９は含まれないが、工程１１でディスクを作製する
までに原盤表面に薄いながらも酸化膜が張り同じく表面
粗度が粗くなってしまう。
ところが本発明の製造方法であるところの原盤表面還元
処理を用いると上記酸化膜が還元され元の金属に戻り表
面粗度も同じく平滑になる。すなわち本発明により得ら
れた原盤を用いて製造された光ディスクは表面性が平滑
に保たれるため再生ノイズが大変低く、特に再生専用光
ディスクでは３ｄＢ以上ノイズが抑えられた。
処理を用いると上記酸化膜が還元され元の金属に戻り表
面粗度も同じく平滑になる。すなわち本発明により得ら
れた原盤を用いて製造された光ディスクは表面性が平滑
に保たれるため再生ノイズが大変低く、特に再生専用光
ディスクでは３ｄＢ以上ノイズが抑えられた。
還元処理の中では還元性気体を用いたプラズマ処理が最
も効果的であり、安定して上記の３ｄＢのノイズ抑制が
達成できた。しかし還元性気体として水素ガス以外のガ
スを用いるとプラズマ処理時に原盤表面がスパッタされ
てピット端の弛れをおこし再生出力が１ｄＢ程度Ｆかり
がちであった。
も効果的であり、安定して上記の３ｄＢのノイズ抑制が
達成できた。しかし還元性気体として水素ガス以外のガ
スを用いるとプラズマ処理時に原盤表面がスパッタされ
てピット端の弛れをおこし再生出力が１ｄＢ程度Ｆかり
がちであった。
そこでスパッタレートの小さい水素ガスを採用すること
によりこの再生出力減少をなくすことが可能となった。
によりこの再生出力減少をなくすことが可能となった。
発明の効果
以上述べたように、本発明は、光ディスク原盤表面を還
元処理することにより、酸化していた原盤表面を元の金
属に還元し平滑とすることが可能となる。本発明で得ら
れた原盤を用いて製造された光ディスクは再生ノイズが
低く抑えられる。
元処理することにより、酸化していた原盤表面を元の金
属に還元し平滑とすることが可能となる。本発明で得ら
れた原盤を用いて製造された光ディスクは再生ノイズが
低く抑えられる。
図は、本発明の光ディスク原盤の製造方法の工程を示す
工程図である。
工程図である。
Claims (6)
- （１）精密機械加工を用いて表面に微細構造が形成され
ている光ディスク原盤の製造方法において、原盤表面を
還元処理する工程が含まれていることを特徴とする光デ
ィスク原盤の製造方法。 - （２）光ディスク原盤の内少なくともその表面は銅以下
の硬度を有する金属またはその合金で出来ていることを
特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤の製造方法。 - （３）金属がＣｕ、Ｉｎ、Ｓｎ、アルカリまたはアルカ
リ土類金属であることを特徴とする請求項２記載の光デ
ィスク原盤の製造方法。 - （４）還元処理が還元性気体を用いたプラズマ処理であ
ることを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤の製
造方法。 - （５）還元処理に用いられる還元性気体の主成分が水素
ガスであることを特徴とする請求項４記載の光ディスク
原盤の製造方法。 - （６）上記光ディスク原盤が再生専用でありピット形成
にフォトレジストを使用しかつレジスト除去法として酸
素アッシングを用いしかる後に上記原盤表面還元処理を
行うことを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28172488A JPH0729386B2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28172488A JPH0729386B2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02127030A true JPH02127030A (ja) | 1990-05-15 |
| JPH0729386B2 JPH0729386B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=17643098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28172488A Expired - Lifetime JPH0729386B2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729386B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8316557B2 (en) * | 2006-10-04 | 2012-11-27 | Varco I/P, Inc. | Reclamation of components of wellbore cuttings material |
| US9073104B2 (en) | 2008-08-14 | 2015-07-07 | National Oilwell Varco, L.P. | Drill cuttings treatment systems |
| US9079222B2 (en) | 2008-10-10 | 2015-07-14 | National Oilwell Varco, L.P. | Shale shaker |
| US9643111B2 (en) | 2013-03-08 | 2017-05-09 | National Oilwell Varco, L.P. | Vector maximizing screen |
| US9677353B2 (en) | 2008-10-10 | 2017-06-13 | National Oilwell Varco, L.P. | Shale shakers with selective series/parallel flow path conversion |
-
1988
- 1988-11-08 JP JP28172488A patent/JPH0729386B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8316557B2 (en) * | 2006-10-04 | 2012-11-27 | Varco I/P, Inc. | Reclamation of components of wellbore cuttings material |
| US9073104B2 (en) | 2008-08-14 | 2015-07-07 | National Oilwell Varco, L.P. | Drill cuttings treatment systems |
| US9079222B2 (en) | 2008-10-10 | 2015-07-14 | National Oilwell Varco, L.P. | Shale shaker |
| US9677353B2 (en) | 2008-10-10 | 2017-06-13 | National Oilwell Varco, L.P. | Shale shakers with selective series/parallel flow path conversion |
| US9643111B2 (en) | 2013-03-08 | 2017-05-09 | National Oilwell Varco, L.P. | Vector maximizing screen |
| US10556196B2 (en) | 2013-03-08 | 2020-02-11 | National Oilwell Varco, L.P. | Vector maximizing screen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0729386B2 (ja) | 1995-04-05 |
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