JPH02149845A - 乾燥方法 - Google Patents

乾燥方法

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JPH02149845A
JPH02149845A JP30375288A JP30375288A JPH02149845A JP H02149845 A JPH02149845 A JP H02149845A JP 30375288 A JP30375288 A JP 30375288A JP 30375288 A JP30375288 A JP 30375288A JP H02149845 A JPH02149845 A JP H02149845A
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JP
Japan
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drying
photosensitive material
heater
far
heating
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JP30375288A
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Toshio Kurokawa
俊夫 黒川
Takashi Nakamura
敬 中村
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C11/00Auxiliary processes in photography
    • G03C11/16Drying

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、湿式処理後の感光材料を乾燥する乾燥方法に
関する。
〈従来の技術〉 湿式処理を行う感光材料処理装置として、例えば、銀塩
写真式複写機、自動現像機等がある。
銀塩写真式複写機は、給紙部から供給された感光材料(
シート状ペーパー)を露光部へ送って露光し、露光後の
感光材料を処理部へ送って、現像、漂白・定着および水
洗処理を順次行い、その感光材料を乾燥部にて乾燥して
原稿画像の複写物を得るものである。
また、自動現像機は、撮影済の感光材料(フィルム)を
処理部において現像、漂白、定着、水洗および安定化処
理を順次行い、次いでその感光材料を乾燥部にて乾燥し
、ネガ像またはポジ像を得るものである。
ところで、近年、大量処理等の要請から、処理時間を短
縮することが望まれており、全体の処理時間を左右する
乾燥部での乾燥時間の短縮化を図ることが゛課題となっ
ている。
上記感光材料処理装置、特に自動現像機の乾燥部に設け
られた乾燥装置を第4図に示す。
同図に示す乾燥装置10は、隔壁14により仕切られた
第1、第2および第3乾燥室11、12および13を有
し、各乾燥室内には、温風を供給しつるドライヤ15が
設置されている。
また、この乾燥装置10は、各乾燥室11〜13の上部
および底部にそれぞれ設置された搬送ローラ16および
17等で構成される搬送手段を有しており、該搬送手段
により湿式処理後の感光材料Sを第1乾燥室11→第2
乾燥室12−第3乾燥室13の順に搬送しつつ、感光材
料Sの乳剤面Saにドライヤ15のダクトに形成された
開口151より噴出する温風を吹き付けて乾燥するもの
である。
このような乾燥装置10では、各乾燥室11〜13毎に
乾燥温度の管理をすることによって、乾燥効率を高め、
乾燥時間をより短縮することができる。
即ち、各乾燥室11〜13の全てにおいて、乾燥温度を
高く(例えば80〜90”C程度)すれば、乾燥時間は
短くなる。
しかるに、この場合には、感光材料Sの乳剤面(乳剤層
が形成されている側の面)Saにレチキュレーション(
ひび割れ)等の膜質不良が生じるという欠点がある。
また、逆に各乾燥室11〜13の全てにおいて、乾燥温
度を低((例えば60〜70’C程度)すれば上記レチ
キュレーション等の発生はなくなるが、乾燥時間が長く
なってしまう。
そのため、乾燥初期である第1乾燥室での乾燥温度を高
くし、乾燥後期である第3乾燥室13での乾燥温度を低
くすることが考えられる。
しかるに、この場合でも、乾燥時間はわずかに短縮され
るにとどまり、またレチキュレーション等の発生も完全
に防止されるには至っていない。
このように、上記従来の乾燥装置10では、各乾燥室1
1〜13での乾燥温度をいがなるように調整したとして
も、乾燥時間の短縮およびレチキュレーション等の膜質
不良の防止を両立することはできず、結局、所期の目的
である処理時間の短縮化が十分に達成されていないのが
現状である。
〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、感
光材料の乳剤面にレチキュレーション等の膜質不良を生
じることな(乾燥時間を短縮することができる乾燥方法
を提供することにある。
創面の膜質不良を防止しうることを見い出し、本発明に
至った。
即ち、本発明は、乾燥室内に湿潤状態の感光材料を搬送
して乾燥を行う乾燥方法であって、 2以上の異なる加熱方式により感光材料を加熱して乾燥
することを特徴とする乾燥方法である。
〈課題を解決するための手段〉 このような目的を達成するために、本発明者らは、鋭意
研究の結果、次の知見を得た。
上述した従来の乾燥装置10では、各乾燥室11.12
および13に設置されたドライヤ15は同型のものであ
り、各乾燥室において同種の加熱方式にて乾燥が行われ
ている。 そのために、各乾燥室における乾燥温度をい
かなるように調整しても、上記欠点は改善されないので
あると考え、2以上の異なる加熱方式を組み合わせるこ
とにより乾燥時間を短縮し、かつ乳〈実施例〉 以下、本発明の乾燥方法を添付図面に示す好適実施例に
ついて詳細に説明する。
第1図、第2図および第3図は、それぞれ本発明の乾燥
方法を実施するための乾燥装置の構成例の概略を示す断
面正面図である。 なお、各図中同様の部材等は同符号
で示し、また同様の事項についてはその説明を省略する
第1図に示すように、乾燥装置1aは、ケーシング2を
有し、このケーシング2内は、隔壁23により仕切られ
、2つの第1乾燥室31および第2乾燥室32が形成さ
れている。 これらの乾燥室31.32内には、好まし
くは駆動回転する搬送ローラ41.42.43および4
4で構成される搬送手段4が設けられ、各搬送ローラ4
1〜44を経て感光材料Sが両乾燥室31.32内を所
定経路で搬送されるようになっている。 なお、搬送手
段4には、感光材料を案内するため、あるいは揺動を防
止するために搬送経路に沿って設置されたガイド等(図
示せず)が含まれていてもよい。
なお、搬送ローラ41〜44のうち、特に搬送ローラ4
1および42は、遠赤外線ヒータ5の近傍位置にあるた
め、耐熱性を有する材料で構成されているのが好ましい
また、ケーシング2には、感光材料Sの入口21および
出口22が形成され、隔壁23には感光材料Sが通過す
る通過口24形成されている。
第1乾燥室31と第2乾燥室32には、以下に述べるそ
れぞれ異なる加熱方式の加熱手段が設置されている。
第1乾燥室31内の搬送ローラ41と42との間には、
初期加熱手段としての遠赤外線ヒータ5が設置されてい
る。 この遠赤外線ヒータ5は、反射板51と、外反肘
板の中央部に設置されたガイシ52と、該ガイシ52に
支持された発熱源53とで構成され、発熱源より放射さ
れた遠赤外線を直接または反射板51の内側湾曲面に反
射させて、感光材料Sの乳剤面Saへ照射しつるように
なっている。
発熱源53としては、例えばセラミックヒータ、タング
ステン入り石英管ヒータ、タングステン入りガラス球ヒ
ータ等、熱源を無機遮蔽物で遮断したヒータ類が挙げら
れ、波長25p〜1n+m程度の電磁波(遠赤外線)を
放射しうるものが好ましい。
また、ガイシ52は、例えば陶器、陶磁器、ガラス、タ
イルのような耐熱性セラミックスで構成され、発熱源5
3の熱が反射板51に伝達されるのを防止するとともに
絶縁材として機能している。
反射板51は、例えば放物面、円弧面、等の反射面を有
し、発熱源53からの遠赤外線を搬送ローラ41.42
間の感光材料Sの乳剤面Saのほぼ前面に、または部分
的に集中して照射しつるものである。 この反射板51
は、例えばステンレス、アルミニウム、クロム、ニッケ
ルークロム合金等の金属で構成されたもの、あるいは反
射面に鏡面加工を施したもの等が挙げられる。
このような、遠赤外線ヒータ5は、高温となる(または
発熱量が大)ため、その周囲のケーシング2内側には、
断熱材25が配設されている。 この断熱材25として
は、例えば石綿、ガラス繊維、シリカ、火山灰等が挙げ
られる。
なお図示の例と異なり、同様の断熱材をケーシング2の
外側に配設し、あるいはケーシングの全体または遠赤外
線ヒータ5の周囲の部分を断熱材で構成してもよい。
このような遠赤外線ヒータ5は、感光材料Sの表面に高
エネルギを集中的に付することかでき、感光材料Sの表
面の単位面積当りの付与しつる熱量が大きい(例えば1
00〜20000cat/ln”−5ee程度)。
第2乾燥室32内の搬送ローラ43と44との間には、
後期加熱手段としての温風ヒータ7が設置されている。
 この温風ヒータ7は、送風ファン71と、該送風ファ
ン71の排気ロア2に接続されたダクト74と、排気ロ
ア2付近のダクト74内に設置されたヒータ73と、ダ
クト74内に配設された複数のベーン(整流板)76と
で構成されている。
ダクト74の末端は搬送ローラ43.44間を通過する
感光材料Sの乳剤面Saに対面し、この部分には温風を
噴出する多数の噴出ロア5が形成されている。
ヒータ73は、例えばニクロム線の巻線により構成され
たものであり、送風ファン71からの空気を例えば40
〜70℃程度に加温することができるものである。
ベーン76は、湾曲板で構成され、ダクト74内へ導入
された温風の流れを整え、各噴出ロア5から効率よく、
かつ均一に噴出させるためのものである。
また、温風ヒータ7による、温風の噴出量は、例えば、
10〜100 m”/ff1inに設定される。
このような温風ヒータ7は、感光材料Sの表面を緩徐に
加温することができ、前記遠赤外線ヒータ5に比べ、感
光材料Sの表面の単位面積当りの付与しつる熱量が小さ
い(例えば10〜2000 cal/m”sec程度)
第1図に示すように、感光材料Sの裏面sb側には、搬
送経路に沿って、所定間隔をおいて6個の温度センサ6
a、6b、6c、6d、6eおよび6fが設置されてい
る。
これらの温度センサ(例えば、赤外表面温度計で構成さ
れる)6a〜6では、その設置位置における感光材料S
の表面温度を検出するものであり、マイクロコンピュー
タ等により構成される所定の制御手段(図示せず)によ
り、各温度センサ6a〜6fからの情報に基づいて各所
における感光材料Sの乳剤層の含水率を求め、自動的に
または手動操作により遠赤外線ヒータ5および温風ヒー
タ7の出力(加熱温度、温風供給量等)または感光材料
の搬送速度を最適値に調整することができる。
なお、本発明においては、温度センサの種類、個数、設
置位置等は、上記のものに限定されず、また温度センサ
の設置は必須ではない。
このような乾燥装置1aにより、次のようにして乾燥が
なされる。
ケーシング2の入口21より第1乾燥室31内に導入さ
れた感光材料Sは、搬送ローラ41により約90°方向
転換され、搬送ローラ42に至るまで下方へ向けて搬送
される。 搬 送ローラ41.42間においては、感光
材料Sの乳剤面Saに対し、遠赤外線ヒータ5により遠
赤外線が照射される。 この場合、感光材料の乳剤面S
aは集中的に加熱されるので、比較的高めの乾燥温度(
例えば80〜180℃)で短時間に乾燥がなされ、主に
恒率乾燥がなされる。
その後、感光材料Sは搬送ローラ42を経て図中左方へ
進み、通過口24を通過して第2乾燥室32内に導入さ
れ、さらに、搬送ローラ43を経て、搬送ローラ44に
至るまで斜め上方へ向けて搬送される。 搬送ローラ4
3.44間においては、感光材料Sの乳剤面Saに対し
、温風ヒータ7の噴出ロア5より噴出した温風が吹き付
けられる。 この場合、感光材料の乳剤面Saには比較
的低めの乾燥温度(例えば、40〜70℃)でゆっくり
と乾燥がなされ、主に減率乾燥、または減率乾燥と調湿
乾燥がなされる。
このようにして乾燥がなされた感光材料は、搬送ローラ
44を経て出口22からケーシング2外へ搬出される。
このような乾燥方法では、乾燥初期において遠赤外線ヒ
ータ5により集中的に高温加熱を行い、乾燥後期におい
て温風ヒータ7により緩徐に低温加熱を行うことにより
、乾燥時間を短縮し、かつ乳剤面Saのレチキュレーシ
ョン等の発生を抑制することができる。
上記一連の乾燥工程において、感光材料Sの乳剤層の含
水率の経時変化(乾燥曲線)は、乾燥温度、感光材料の
搬送速度等の乾燥条件、乾燥室内、外の温度、湿度等の
環境条件、乾燥前の感光材料の湿潤の度合、感光材料の
層構成、種類(特に、裏面sbにゼラチンの有無)、処
理の形態(連続処理、少数枚処理)等により異なる。 
従って、各乾燥室31.32内の搬送経路に沿って設置
された温度センサ6a〜6fにより感光材料Sの表面温
度を随時または適時検出し、これに基づいて各所におけ
る感光材料Sの乳剤層の含水率を求め、上記乾燥条件を
最適なものに設定することができる。
このように、諸条件に応じた制御を行うことにより、乾
燥時間を最短とし、乳剤面Saのレチキュレーション等
の発生をより効果的に防止することができる。
また、感光材料Sの乾燥曲線における乾燥点(乳剤層の
含水率が平衡に達する点、即ち減率乾燥と調湿乾燥との
境界)は、搬送経路の搬送ローラ41と44との間、特
に搬送ローラ43の前後になる。 この乾燥点付近では
、乳剤層は、いわゆる生乾きの状態でべとつきを生じ易
い。
この点に関し、乾燥装置1aでは、搬送ローラ42およ
び43は感光材料Sの裏面sbと接触しており、乾燥点
付近において乳剤面Saとは無接触であるため、乳剤面
Saの表面性状に悪影響を及ぼすことはない。
これに対し、第4図に示す従来の乾燥装置では、各乾燥
室11〜13の底部付近に設置された搬送ローラ17は
感光材料Sの乳剤面Saと接触するため、乾燥条件の設
定によっては、乾燥点付近において乳剤面Saが搬送ロ
ーラ17と接触し、乳剤面Saにローラ跡やキズ等の欠
陥が生じることがある。
なお、搬送ローラ41および44に、ついては、感光材
料Sの乳剤面Saと接触しているが、これらはそれぞれ
乾燥前および乾燥後であるため、差し支えない。
また、本発明において、乾燥点の位置は。
ケーシング2内の搬送経路長に対する入口21から乾燥
点までの長さが25〜75%程度の範囲内にあるのが好
ましい。
第2図に示す乾燥装置1bは、初期加熱手段の構成が異
なるものである。 同図に示すように、第1乾燥室31
内に設置されている遠赤外線ヒータ8は、遠赤外線を放
射しうろアレー状の発熱素子を有する発熱源81を有し
、4機の発熱源81を感光材料Sの乳剤面Sa側に対面
させ、2Iiの発熱源81を裏面sb側に対面させた構
成のものである。
この遠赤外線ヒータ8によれば、通過する感光材料の両
面Sa、Sbに遠赤外線を照射し、特に乳剤面Saに優
先的に遠赤外線を照射し、両面Sa、Sbを同時に乾燥
することができる。
なお、遠赤外線ヒータ8においては、感光材料Sの乳剤
面Sa側と裏面sb側とで、加熱温度等に差異を設けて
もよい。
このような遠赤外線ヒータ8は、比較的小型でかつ高性
能(熱損失が少ない)であるため、乾燥装置の小型化に
とって有利である。
このような、乾燥装置1bによる乾燥方法、乾燥挙動お
よび乾燥点における無接触については、前述と同様であ
る。
第3図に示す乾燥装置1cは、初期加熱手段の構成がさ
らに異なるものである。 同図に示すように、第1乾燥
室31内に設置されている初期加熱手段は、ヒートロー
ラ9である。
このヒートローラ9は、中空のドラム91と該ドラム9
1の中心部付近に設置された発熱体92とで構成され、
内側よりドラム91の円筒部を例えば70〜130℃程
度に加熱するものである。
なお、ヒートローラ9は、例えば、ステンレス、アルミ
ニウム、クロム、ニッケル、ニッケルークロム合金等の
金属またはこれらの積層体で構成される。
この乾燥装置1cでは、ヒートローラ9の下方に感光材
料Sの入口21が形成され、該入口21とヒートローラ
9との間に搬送ローラ41が設置されている。 また、
温度センサ6a、6bおよび6cはドラム91の外周に
沿って設置されている。
ケーシング2の入口21より斜め上方へ向けて第1乾燥
室31内に導入された感光材料Sは、搬送ローラ41を
経て、図中反時計回りに回転するドラム91に、その乳
剤面Saがドラム外周面と接触するように巻き付けられ
、約240“〜300°回転した後ドラム外周面から離
れる。 この感光材料がドラム91の外周面と接触して
いる間に、感光材料Sは加熱され、主に恒率乾燥がなさ
れる。
その後の乾燥方法および乾燥挙動は、前記と同様である
。 また、乾燥点(搬送ローラ42と44との間、特に
搬送ローラ43の前後)付近における乳剤面Saへの無
接触についても前記と同様である。
なお、図示の例では、感光材料Sは、その乳剤面Saが
ドラム91の外周面と接触するように巻き付けられてい
るが、裏面sbがドラム91の外周面と接触するように
巻き付けられるような構成であってもよく、また、2以
上の同様の加熱ドラムを設置し、それらのドラムに感光
材料Sの乳剤面Saおよび裏面sbが交互に接触するよ
うに順次巻き付けられるような構成であってもよい。
なお、第1図〜第3図に示す構成例では、いずれも乾燥
室の数は2つであるが、本発明はこれに限定されず、例
えば乾燥室を3つまたはそれ以上有するものでもよい。
本発明において、「異なる加熱方式」とは、■ 例えば
、感光材料に直接、あるいは空気を媒体として間接的に
熱自体を付与するもの(ヒートローラ、温風ヒータ等)
と、遠赤外線、赤外線、マイクロ波、高周波等の電磁波
や超音波等を付与して、感光材料に分子の振動を誘発し
たり誘電損失等を生じさせ、感光材料自体を発熱させる
もの(高周波誘電加熱等)とのように、双方の加熱の原
理が異なるもの、■ 加熱の原理が同じであっても、双
方の加熱手段の構成が異なるもの(例えば、パネルヒー
タと温風ヒータ)、 ■ 上記■と■とを組み合わせたもの等、広義の相違を
いう。
具体的には、下記A群および8群に例示された加熱方式
を下記表1および表2に示すように組み合わせたもの(
ケースNo、  1〜12)が挙げられる。
なお、表1は、乾燥室が2つの場合(第1図〜第3図参
照)、表2は、乾燥室が3つの場合を示す。
[A群] 遠赤外線加熱 赤外線加熱 マイクロ波加熱 高周波誘電加熱 超音波加熱 ヒートポンプ 化学反応加熱 バーナ(ガスバーナ、石油バーナ) [B群] 温風ヒータ ヒートローラ パネルヒータ(平板ヒータ) 反射板ヒータ 集光ヒータ 表 表 ガフィルム、カラー反転フィルム、カラー印画紙、カラ
ーポジフィルム、カラー反転印画紙、製版用写真感光材
料、X線写真感光材料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙
、マイクロ用感光材料等の各種感光材料等が挙げられる
また、本発明の乾燥方法は、自動現像機、湿式の複写機
、ビデオプリンタープロセッサー検版用カラーペーパー
処理機等の各種感光材料処理装置に適用することができ
る。
以上、いくつかの構成例を挙げて本発明の乾燥方法の構
成を説明したが、本発明はこれらに限定されるものでは
ないことは言うまでもない。
なお、上記表1および表2中、ケースNo、  1〜1
0は本発明の効果が顕著に現われるので好ましく、さら
に、ケースNo、  1.2.5〜8は特に好ましい。
本発明の乾燥方法により乾燥される感光材料Sの種類は
特に限定されず、例えば、カラーネ〈実験例〉 以下、本発明の実験例について説明する。
(本発明例1) 第1図に示す構成の乾燥装置を搭載した自動現像機(富
士写真フィルム■社製FPRP404型)を用い、感光
材料としてフジカラーペーパータイプ2A(同社製)に
対し、処理処方CP−20A (同社製)の標準処理を
行い、乾燥を行った。
なお、乾燥装置における遠赤外線ヒータには、ウシオ電
気社製ブラックタイプ遠赤外ハロゲンヒータ(HH20
0−1000USB型)を用い、その乾燥温度は約80
℃(感光材料の表面温度は、約35〜40℃)とした。
また、温風ヒータによる乾燥温度は約50℃とし、温風
の噴出総量は30 m”/minとした。
ケーシング内における感光材料の搬送経路長は、約3m
とし、搬送速度は、約4 m /winとした。
なお、乾燥装置の外部環境は、温度24℃、湿度65%
RHであった。
(本発明例2) 遠赤外線ヒータによる乾燥温度を約90℃とした以外は
、本発明例1と同様にして、処理、乾燥を行った。
(本発明例3) 第3図に示す構成の乾燥装置を搭載した同型の自動現像
機を用いた以外は、本発明例1と同様にして、処理、乾
燥を行った。
なお、ヒートローラにおける乾燥温度は約120℃とし
、温風ヒータによる乾燥温度は約50℃とした。
また、ケーシング内に置ける感光材料の搬送経路長は、
約3mとした。
(比較例1〜4) 第4図に示す構成の乾燥装置を搭載した同型の自動現像
機を用いた以外は、本発明例1と同様にして処理、乾燥
を行った。
乾燥装置の第1乾燥室(乾燥初期)、第2乾燥室(乾燥
中期)および第3乾燥室(乾燥後期)における乾燥温度
を下記表3に示すように設定した。
また、第1〜第3乾燥室における感光材料の搬送経路長
の合計は、約8mとした。
表 上記本発明例1〜3および比較例1〜4により得られた
感光材料(各5例)について、乾燥時間および乳剤面の
レチキュレーションの発生状況を調べた。 その結果を
、下記表4に示す。
なお、評価方法は、次の通りである。
[乾燥時間] 乾燥開始から乾燥点までに要した時間を求めた。
なお、感光材料の乳剤面の性状から乾燥点を求めること
ができ、次のようにして行う。
乾燥の処理段階では、乳剤層は隆起しているが、その後
平坦になり、さらに乾燥が進むと凹むという傾向にある
が、乳剤面が平坦になった時点を乾燥点とすることがで
きる。
[レチキュレーションの発生状況] 倍率50〜100倍の光学顕微鏡を用い、乳剤面に対し
45°照明光切断を行って観察し、A−Hの5段階で評
価した。
A:ひび割れ全(なし B:ひび割れ少しあり C:ひび割れあり D:ひび割れ多し E:ひび割れかなり多し 表  4 立することはできなかった。
〈発明の効果〉 以上述べた通り、本発明の乾燥方法によれば、乾燥効率
の向上により乾燥時間を短縮し、かつ感光材料の乳剤面
にレチキュレーション等の膜質不良が発生するのを防止
することができる。
上記表4より明らかなように、本発明例1〜3は、いず
れも、乾燥時間が短く、かつ乳剤面にレチキエレーショ
ンや光沢不良は生じていなかった。
これに対し、比較例1.3および4は、乾燥時間が長く
、また比較例2は、乾燥時間は比較的短いが、レチキエ
レーシジンの発生が著しく、よって比較例では、いずれ
も乾燥時間の短縮およびレチキュレーション等の発生防
止を両
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は、それぞれ本発明の乾燥方法の実施に
用いられる乾燥装置の構成例の概略を示す断面正面図で
ある。 第4図は、従来の乾燥装置の構成を模式的に示す断面正
面図である。 符号の説明 1a、1b、1 c −・・乾燥装置 2・・・ケーシング 21・・・入口 22・・・出口 23・・・隔壁 24・・・通過口 25・・・断熱材 31・・・第1乾燥室 32・・・第2乾燥室 4・・・搬送手段 41.42.43.44・・・搬送ローラ5・・・遠赤
外線ヒータ 51・・・反射板 52・・・ガイシ 53・・・発熱源 6a〜6f・・・温度センサ 7・・・温風ヒータ 71・・・送風ファン 72・・・排気口 FIG、1 73・・・ヒータ 74・・・ダクト 75・・・噴出口 アロ・・・ベーン 8・・・遠赤外線ヒータ 81・・・発熱源 9・・・ヒートローラ 91・・・ドラム 92・・・発熱体 lO・・・従来の乾燥装置 11・・・第1乾燥室 12・・・第2乾燥室 13・・・第3乾燥室 14・・・隔壁 15・・・ドライヤ 151・・・開口 16.17・・・搬送ローラ S・・・感光材料 Sa・・・乳剤面 sb・・・裏面 F I G、 2 FIG、3

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)乾燥室内に湿潤状態の感光材料を搬送して乾燥を
    行う乾燥方法であって、 2以上の異なる加熱方式により感光材料を加熱して乾燥
    することを特徴とする乾燥方法。
JP30375288A 1988-11-30 1988-11-30 乾燥方法 Pending JPH02149845A (ja)

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JP30375288A JPH02149845A (ja) 1988-11-30 1988-11-30 乾燥方法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04323647A (ja) * 1991-04-23 1992-11-12 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法
JPH08152705A (ja) * 1994-11-25 1996-06-11 Nishimoto Sangyo Kk フィルム乾燥装置およびその使用方法

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JPH04323647A (ja) * 1991-04-23 1992-11-12 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法
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