JPH02167381A - プリント配線板用接着剤 - Google Patents
プリント配線板用接着剤Info
- Publication number
- JPH02167381A JPH02167381A JP1244139A JP24413989A JPH02167381A JP H02167381 A JPH02167381 A JP H02167381A JP 1244139 A JP1244139 A JP 1244139A JP 24413989 A JP24413989 A JP 24413989A JP H02167381 A JPH02167381 A JP H02167381A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- weight
- electroless plating
- butadiene rubber
- acrylonitrile butadiene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims abstract description 27
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 23
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 3
- -1 alkylphenolic Polymers 0.000 abstract description 2
- QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N p-Cumylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N p-cumyl phenol Natural products CC1=CC=C(C)C(O)=C1 NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 150000001455 metallic ions Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 abstract 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 13
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 9
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101710154508 Purine nucleoside phosphorylase 1 Proteins 0.000 description 3
- 101710084347 Purine nucleoside phosphorylase DeoD-type 1 Proteins 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 3
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CFRNDJFRRKMHTL-UHFFFAOYSA-N [3-octanoyloxy-2,2-bis(octanoyloxymethyl)propyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCCCC)(COC(=O)CCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC CFRNDJFRRKMHTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEEKGULDSDXFCN-UHFFFAOYSA-N 2-pentylphenol Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1O MEEKGULDSDXFCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical group OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKKYYRRXEDROIC-UHFFFAOYSA-N butane;prop-2-enenitrile Chemical compound CCCC.C=CC#N AKKYYRRXEDROIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000701 coagulant Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- KPVWDKBJLIDKEP-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.O[Cr](O)(=O)=O KPVWDKBJLIDKEP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- NCXTWAVJIHJVRV-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;16-methylheptadecanoic acid;titanium Chemical compound [Ti].OCCO.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O NCXTWAVJIHJVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/30—Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、必要な配線パターンを無電解めっきによって
形成するプリント配線板用接着剤で、耐電食性に優れ、
かつ、保存安定性に優れた接着剤に関する。
形成するプリント配線板用接着剤で、耐電食性に優れ、
かつ、保存安定性に優れた接着剤に関する。
(従来の技術)
必要な配線パターンを無電解めっきによって形成するプ
リント配線板(以下アディティブ法配線板という。)は
、接着剤付絶縁基板の必要な箇所に無電解めっきによっ
て配線パターンを形成するものであD.例えば、無電解
めっき用触媒を含有する樹脂からなる絶縁基板の表面に
無電解めっき用触媒を含有する接着剤層を形成し、回路
部とならない部分を無電解めっき用レジストでマスクし
、クロム酸硫酸等の酸化性エツチング液で露出した無電
解めっき用接着剤を選択的に化学粗化し、中和、水洗し
、無電解めっきを行うことによって製造されている。
リント配線板(以下アディティブ法配線板という。)は
、接着剤付絶縁基板の必要な箇所に無電解めっきによっ
て配線パターンを形成するものであD.例えば、無電解
めっき用触媒を含有する樹脂からなる絶縁基板の表面に
無電解めっき用触媒を含有する接着剤層を形成し、回路
部とならない部分を無電解めっき用レジストでマスクし
、クロム酸硫酸等の酸化性エツチング液で露出した無電
解めっき用接着剤を選択的に化学粗化し、中和、水洗し
、無電解めっきを行うことによって製造されている。
このときに用いる無電解めっき用接着剤としては、特公
昭4B−24250号公報、特公昭45−9843号公
報、特公昭45−9996号公報、特公昭55−163
91号公報、特公昭52−31539号公報、特開昭5
1−28668号公報、米国特許第3,772,056
号公報、第3,925、578号公報、第3,907,
621号公報、第3゜993.802号公報および米国
特許第3,625,758号公報に開示されているよう
に、析出銅との接着性に優れたアクリロニトリルブタジ
ェンゴムを主成分とし、耐熱性のアルキルフェノール樹
脂やエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂を配合し、接着剤塗膜
の補強や化学粗化を助ける無機充填剤を適宜配合する方
法がある。このような接着剤を用いた場合には、通常無
電解めっきを行う前に、めっき析出性を高めるために、
パラジウム、白金、金あるいはこれらの塩類を熔解した
溶7&、を接触させ、無電解めっき用触媒を付与するシ
ーディング処理を行う。
昭4B−24250号公報、特公昭45−9843号公
報、特公昭45−9996号公報、特公昭55−163
91号公報、特公昭52−31539号公報、特開昭5
1−28668号公報、米国特許第3,772,056
号公報、第3,925、578号公報、第3,907,
621号公報、第3゜993.802号公報および米国
特許第3,625,758号公報に開示されているよう
に、析出銅との接着性に優れたアクリロニトリルブタジ
ェンゴムを主成分とし、耐熱性のアルキルフェノール樹
脂やエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂を配合し、接着剤塗膜
の補強や化学粗化を助ける無機充填剤を適宜配合する方
法がある。このような接着剤を用いた場合には、通常無
電解めっきを行う前に、めっき析出性を高めるために、
パラジウム、白金、金あるいはこれらの塩類を熔解した
溶7&、を接触させ、無電解めっき用触媒を付与するシ
ーディング処理を行う。
また、シーディングを行わないで、無電解めっきを行う
ことができる接着剤としては、特公昭59−53295
号や米国特許第4,522,850号に開示されている
ように、析出銅との接着性に優れたアクリロニトリルブ
タジェンゴムや両端にカルボキシル基を有するアクリロ
ニトリルブタジェンゴムを主成分とし、耐熱性のアルキ
ルフェノール樹脂やエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂を配合
し、無電解めっき用の触媒を有する充填剤を含有させた
ものがある。
ことができる接着剤としては、特公昭59−53295
号や米国特許第4,522,850号に開示されている
ように、析出銅との接着性に優れたアクリロニトリルブ
タジェンゴムや両端にカルボキシル基を有するアクリロ
ニトリルブタジェンゴムを主成分とし、耐熱性のアルキ
ルフェノール樹脂やエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂を配合
し、無電解めっき用の触媒を有する充填剤を含有させた
ものがある。
(発明が解決しようとする課題)
ところで、近年、電子機器の小型・軽量化に伴い、配線
板に対し配線の高密度化が要求されるようになってきた
。その結果、配線導体の間隔が狭くなD.その導体間に
加わる電界によってその導体を支持する絶縁基材の表面
又は内部に残る各種の処理液が活性化され、導体が移行
するという電食作用が起こり易くなるという問題が発生
した。
板に対し配線の高密度化が要求されるようになってきた
。その結果、配線導体の間隔が狭くなD.その導体間に
加わる電界によってその導体を支持する絶縁基材の表面
又は内部に残る各種の処理液が活性化され、導体が移行
するという電食作用が起こり易くなるという問題が発生
した。
このため、導体の間隔を0.15mm以下にすることが
できず、配線の高密度化に困難を生していた。
できず、配線の高密度化に困難を生していた。
この電食の起こる原因としては、絶縁基板の表面に設け
られた接着剤層の中に含まれるイオン性不純物やアディ
ティブ法配線板製造における固有の処理液が、高温多湿
な環境のもとて導体間に加わる電界によって活性化され
、銅が移行するものと考えられる。
られた接着剤層の中に含まれるイオン性不純物やアディ
ティブ法配線板製造における固有の処理液が、高温多湿
な環境のもとて導体間に加わる電界によって活性化され
、銅が移行するものと考えられる。
さらに従来のカルボキシル基を有するアクリロニトリル
ブタジェンゴムを主成分とし、耐熱性のアルキルフェノ
ール樹脂やエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂を配合した接着
剤を用いて、シーディングを使用しないで無電解めっき
を行うために従来使用されているパラジウム系の無電解
めっき用触媒を混合すると、短時間のうちにカルボキシ
ル基とパラジウムが反応し、触媒性が失われてしまう。
ブタジェンゴムを主成分とし、耐熱性のアルキルフェノ
ール樹脂やエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂を配合した接着
剤を用いて、シーディングを使用しないで無電解めっき
を行うために従来使用されているパラジウム系の無電解
めっき用触媒を混合すると、短時間のうちにカルボキシ
ル基とパラジウムが反応し、触媒性が失われてしまう。
本発明は、電食作用の抑制に優れ、かつ、接着剤の保存
安定性に優れた高密度配線アディティブ法配線板用の接
着剤を提供するものである。
安定性に優れた高密度配線アディティブ法配線板用の接
着剤を提供するものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、以下の成分からなることを特徴とするアディ
ティブ法配線板用の接着剤を提供することができる。
ティブ法配線板用の接着剤を提供することができる。
A、カルボキシル基を含み、かつ金属イオン性不純物の
含有量が20ppm以下であるアクリロニトリルブタジ
ェンゴム B、アルキルフェノール樹脂 C,エポキシ樹脂 D.金属パラジウムおよび/またはパラジウム塩類から
なる無電解めっき用触媒 E、エチレン基またはビニル基を有するカンプリング剤 本発明に用いるカルボキシル基を含み、かつ金属イオン
性不純物の含有量が20ppm以下であるアクリロニト
リルブタジェンゴムは、アクリロニトリルと、ブタジェ
ンと、カルボキシル基を含有する化合物とを共重合させ
る製造過程で、乳化剤、凝固剤、酸化防止剤などの添加
剤を非イオン性とし、かつ、その他のイオン性不純物を
極力混入させないようにして反応させ、結果として、こ
の金属イオン性不純物の含有量が20ppm以下となる
ように調整されたものである。この金属イオン性不純物
が20ppm以上になると、配線板とし導体を形威した
のちに、耐電食性が低下する。
含有量が20ppm以下であるアクリロニトリルブタジ
ェンゴム B、アルキルフェノール樹脂 C,エポキシ樹脂 D.金属パラジウムおよび/またはパラジウム塩類から
なる無電解めっき用触媒 E、エチレン基またはビニル基を有するカンプリング剤 本発明に用いるカルボキシル基を含み、かつ金属イオン
性不純物の含有量が20ppm以下であるアクリロニト
リルブタジェンゴムは、アクリロニトリルと、ブタジェ
ンと、カルボキシル基を含有する化合物とを共重合させ
る製造過程で、乳化剤、凝固剤、酸化防止剤などの添加
剤を非イオン性とし、かつ、その他のイオン性不純物を
極力混入させないようにして反応させ、結果として、こ
の金属イオン性不純物の含有量が20ppm以下となる
ように調整されたものである。この金属イオン性不純物
が20ppm以上になると、配線板とし導体を形威した
のちに、耐電食性が低下する。
カルボキシル基の含有量は、特に限定するものではない
が、3%以上含有する者が好ましい。また、接着剤の有
1a溶剤を除く固形分のうち、カルボキシル基を有する
アクリロニトリルブタジェンゴムは30〜70重量%の
範囲が好ましい、30重量%未満であると、析出しため
っき銅との接着力が低下し、70重量%以上であると耐
熱性が低下するからである。
が、3%以上含有する者が好ましい。また、接着剤の有
1a溶剤を除く固形分のうち、カルボキシル基を有する
アクリロニトリルブタジェンゴムは30〜70重量%の
範囲が好ましい、30重量%未満であると、析出しため
っき銅との接着力が低下し、70重量%以上であると耐
熱性が低下するからである。
アルキルフェノールとしては、P−キュミルフェノール
、アミルフェノール、ブチルフェノール、5ec−ブチ
ルフェノール又はオクチルフェノール等のP−IF換デ
アルキルフェノール用いる。
、アミルフェノール、ブチルフェノール、5ec−ブチ
ルフェノール又はオクチルフェノール等のP−IF換デ
アルキルフェノール用いる。
また、接着剤の有機溶剤を除く固形分のうち、アルキル
フェノール樹脂は、10〜40重量%の範囲が好ましい
、10重量%未満ではゴムとの架橋が不充分で耐熱性が
低下し、40重量%以上では析出しためっき銅との接着
力が低下するからである。
フェノール樹脂は、10〜40重量%の範囲が好ましい
、10重量%未満ではゴムとの架橋が不充分で耐熱性が
低下し、40重量%以上では析出しためっき銅との接着
力が低下するからである。
エポキシ樹脂としては、特に制限がなく、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等どの
ようなものでも用いることができる、また、接着剤の有
機溶剤を除く固形分のうち、エポキシ樹脂は5〜50重
量%の範囲が好ましい。
ルA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等どの
ようなものでも用いることができる、また、接着剤の有
機溶剤を除く固形分のうち、エポキシ樹脂は5〜50重
量%の範囲が好ましい。
5重量%未満ではアクリロニトリルブタジェンゴム中の
カルボキシル基との反応が充分でなく耐電食性が低下し
、50重量%以上では析出しためっき銅との接着力が低
下するためである。
カルボキシル基との反応が充分でなく耐電食性が低下し
、50重量%以上では析出しためっき銅との接着力が低
下するためである。
無電解めっき触媒は、金属パラジウム、パラジウム塩類
又は金属パラジウムとパラジウム塩類の混合物が使用で
きる。また、接着剤の有機溶剤を除く固形分のうち、無
電解めっき触媒は、1〜lO重量%の範囲が好ましい、
1重量%未満ではめっき析出性が低下し、10重量%以
上では絶縁抵抗が小さくなるためである。
又は金属パラジウムとパラジウム塩類の混合物が使用で
きる。また、接着剤の有機溶剤を除く固形分のうち、無
電解めっき触媒は、1〜lO重量%の範囲が好ましい、
1重量%未満ではめっき析出性が低下し、10重量%以
上では絶縁抵抗が小さくなるためである。
エチレン基を有するカップリング剤としては、ジイソス
テアロイルエチレンチタネート、ビス(ジオクチルパイ
ロホスフェート)エチレンチタネート等があD.また、
ビニル基を有するカップリング剤としては、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニル−トリス(2−メトキシエトキ
シ)シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル−トリ
ス(βメトキシエトキシ)シラン、ビニルトリクロルシ
ラン等がある。
テアロイルエチレンチタネート、ビス(ジオクチルパイ
ロホスフェート)エチレンチタネート等があD.また、
ビニル基を有するカップリング剤としては、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニル−トリス(2−メトキシエトキ
シ)シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル−トリ
ス(βメトキシエトキシ)シラン、ビニルトリクロルシ
ラン等がある。
上記以外で、官能基にア旦ノ基、環状エポキシ基、グリ
シドキシ基、メルカプト基を有するカップリング剤は、
アクリロニトリルブタジェンゴム中のカルボキシル基と
無電解めっき触媒中のパラジウムとの反応抑制効果が小
さく、逆に、接着剤中のエポキシ樹脂などと常温で反応
して、保存安定性を低下させる。
シドキシ基、メルカプト基を有するカップリング剤は、
アクリロニトリルブタジェンゴム中のカルボキシル基と
無電解めっき触媒中のパラジウムとの反応抑制効果が小
さく、逆に、接着剤中のエポキシ樹脂などと常温で反応
して、保存安定性を低下させる。
また、無電解めっき触媒とエチレン基またはビニル基を
有するカップリング剤との、US比は、固形分重量比で
10:0.05〜I0二5の範囲が好ましい、10:0
.05以下ではアクリロニトリルブタジェンゴム中のカ
ルボキシル基と無電解めっき触媒中のパラジウムとが常
温で反応し接着剤の保存安定性を低下し、10:5以上
ではカルボキシル基とパラジウムの反応抑制効果が変化
しないので経済的に好ましくない。
有するカップリング剤との、US比は、固形分重量比で
10:0.05〜I0二5の範囲が好ましい、10:0
.05以下ではアクリロニトリルブタジェンゴム中のカ
ルボキシル基と無電解めっき触媒中のパラジウムとが常
温で反応し接着剤の保存安定性を低下し、10:5以上
ではカルボキシル基とパラジウムの反応抑制効果が変化
しないので経済的に好ましくない。
このような組成を有m溶剤中で混連・混合し溶液状混合
物とする。このときに用いる有機溶媒としては、トルエ
ン、メチルエチルケトン、キシレン、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート又は酢酸エチルの1種以上を用いることが
できる。
物とする。このときに用いる有機溶媒としては、トルエ
ン、メチルエチルケトン、キシレン、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート又は酢酸エチルの1種以上を用いることが
できる。
また、これらの組成の他に、微粉末シリカ、珪酸ジルコ
ニウム、シリカ、炭酸カルシウム、タルク等の無機充填
剤を混入すれば、接着剤を化学粗化したときに凹凸を形
威し易く、接着力向上の上で好ましい。
ニウム、シリカ、炭酸カルシウム、タルク等の無機充填
剤を混入すれば、接着剤を化学粗化したときに凹凸を形
威し易く、接着力向上の上で好ましい。
(作用)
本発明の組成による接着剤を使用した場合には、分子内
にカルボキシル基を有するアクリロニトリルブタジェン
ゴムが、フェノール樹脂との反応以外に、エポキシ樹脂
やカルボキシル基間で反応し、ゴムの架橋度が上がるの
で、銅イオンの移動が抑制され、電食を抑制することが
できる上、エチレン基又はビニル基を有するカップリン
グ剤が、カルボキシル基とパラジウムの反応を抑制する
ので、接着剤の保存安定性が向上する。
にカルボキシル基を有するアクリロニトリルブタジェン
ゴムが、フェノール樹脂との反応以外に、エポキシ樹脂
やカルボキシル基間で反応し、ゴムの架橋度が上がるの
で、銅イオンの移動が抑制され、電食を抑制することが
できる上、エチレン基又はビニル基を有するカップリン
グ剤が、カルボキシル基とパラジウムの反応を抑制する
ので、接着剤の保存安定性が向上する。
実施例1
以下の組成を、ニーダ及び撹拌機を用いて酢酸セロソル
ブとメチルエチルケトンの混合溶媒に溶解させて、固形
分25%の接着剤溶液を作威した。
ブとメチルエチルケトンの混合溶媒に溶解させて、固形
分25%の接着剤溶液を作威した。
A、高純度(金属イオン性不純物の含有量が20ppm
以下)のカルボキシル機含有アクリロニトリルブタジェ
ンゴムであるPNP−1(日本合或ゴム株式会社製商品
名):60重量部B、パラターシャリ−フェニルフェノ
ールである5P−126(スケネクタディ社製商品名)
:25重量部 C,ビスフェノールA型エポキシ樹脂であるエピコート
100IFR(油化シェルエポキシ株式会社% D.塩化パラジウム混合エポキシ樹脂であるPEC−8
(日立化成工業株式会社製商品名): 6重量部 E、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチ
タネートであるKR−238(味の素株式会社製商品名
) = 1重量部F、珪酸ジルコニウムであ
るξクロパックス20A(白水化学工業株式会社製商品
名) :30重量部 この接着剤を紙−エポキシ樹脂絶縁基板であるLE−1
44(日立化威工業株式会社製商品名)の両面に、乾燥
後の厚さが約25μmとなるように浸漬塗布し、170
°Cで60分間加熱乾燥し、接着剤付絶縁基板を作威し
た。
以下)のカルボキシル機含有アクリロニトリルブタジェ
ンゴムであるPNP−1(日本合或ゴム株式会社製商品
名):60重量部B、パラターシャリ−フェニルフェノ
ールである5P−126(スケネクタディ社製商品名)
:25重量部 C,ビスフェノールA型エポキシ樹脂であるエピコート
100IFR(油化シェルエポキシ株式会社% D.塩化パラジウム混合エポキシ樹脂であるPEC−8
(日立化成工業株式会社製商品名): 6重量部 E、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチ
タネートであるKR−238(味の素株式会社製商品名
) = 1重量部F、珪酸ジルコニウムであ
るξクロパックス20A(白水化学工業株式会社製商品
名) :30重量部 この接着剤を紙−エポキシ樹脂絶縁基板であるLE−1
44(日立化威工業株式会社製商品名)の両面に、乾燥
後の厚さが約25μmとなるように浸漬塗布し、170
°Cで60分間加熱乾燥し、接着剤付絶縁基板を作威し
た。
この基板に、無電解めっき用フォトレジストである5R
−3000(日立化或工業株式会社製商品名)をう【ネ
ートし、紫外線に露光・現像して、導体幅と導体間隔が
ともに0.2mmのクシ型パターンと、5mm幅のパタ
ーンと、1辺が25mmのパターンに接着剤が露出され
るように無電解めっきレジストを形成した。
−3000(日立化或工業株式会社製商品名)をう【ネ
ートし、紫外線に露光・現像して、導体幅と導体間隔が
ともに0.2mmのクシ型パターンと、5mm幅のパタ
ーンと、1辺が25mmのパターンに接着剤が露出され
るように無電解めっきレジストを形成した。
この露出した接着剤を化学粗化するために、クロム酸硫
酸(クロム酸:ssg、濃硫酸220m1、水:前記酸
と合わせて1Nとなる量)に40°Cで15分間浸漬し
、水洗して中和した。
酸(クロム酸:ssg、濃硫酸220m1、水:前記酸
と合わせて1Nとなる量)に40°Cで15分間浸漬し
、水洗して中和した。
次に、無電解銅めっき液であるCC−41めっき液(日
立化戒工業株式会社製商品名)に浸漬して、厚さ約30
μmの無電解めっき銅を形威し、アディティブ法配線板
の試験片を作成した。
立化戒工業株式会社製商品名)に浸漬して、厚さ約30
μmの無電解めっき銅を形威し、アディティブ法配線板
の試験片を作成した。
実施例2
以下の組成の接着剤を実施例1と同様の方法で作成し、
実施例1と同様にして試験片を作成した。
実施例1と同様にして試験片を作成した。
A、高純度(金属イオン性不純物の含有量が20ppm
以下)のカルボキシル機含有アクリロニトリルブタジェ
ンゴムであるPNP−1(日本合戒ゴム株式会社製商品
名):55重量部B、パラターシャリーフェニルフェノ
ールである5P−126(スケネクタディ社製商品名)
=25重量部 C,ビスフェノールA型エポキシ樹脂であるエビコー)
1001FR(油化シェルエポキシ株式会社% D.塩化パラジウム7昆合エポキシ樹脂であるPEC−
8(日立化戊工業株式会社製商品名): 6重量部 E、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチ
タネートであるKR−238(味の素株式会社製商品名
) : 0.6重量部F、珪酸ジルコニウ
ムであるミクロパックス20A(白水化学工業株式会社
製商品名) =30重量部 実施例3 以下の組成の接着剤を実施例1と同様の方法で作威し、
実施例1と同様にして試験片を作成した。
以下)のカルボキシル機含有アクリロニトリルブタジェ
ンゴムであるPNP−1(日本合戒ゴム株式会社製商品
名):55重量部B、パラターシャリーフェニルフェノ
ールである5P−126(スケネクタディ社製商品名)
=25重量部 C,ビスフェノールA型エポキシ樹脂であるエビコー)
1001FR(油化シェルエポキシ株式会社% D.塩化パラジウム7昆合エポキシ樹脂であるPEC−
8(日立化戊工業株式会社製商品名): 6重量部 E、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチ
タネートであるKR−238(味の素株式会社製商品名
) : 0.6重量部F、珪酸ジルコニウ
ムであるミクロパックス20A(白水化学工業株式会社
製商品名) =30重量部 実施例3 以下の組成の接着剤を実施例1と同様の方法で作威し、
実施例1と同様にして試験片を作成した。
A、高純度(金属イオン性不純物の含有量が20ppm
以下)のカルボキシル機含有アクリロニトリルフ゛タジ
エンゴムであるPNP−1(日本合成ゴム株式会社製商
品名):65重量部B、アルキルフェノールであるヒタ
ノール2400(日立化戒工業株式会社製商品名) 215重量部 C,ノボラック型エポキシ樹脂であるDEN438(ダ
ウケミカル社製商品名):30重量部D.塩化パラジウ
ム混合エポキシ樹脂であるPEC−8(日立化戒工業株
式会社製商品名)6重量部 E、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチ
タネートであるKR−238(味の素株式会社製商品名
) : 1重量部F、珪酸シリカであるクリ
スタライトVX−X(株式会社龍森製商品名) :
30重量部実施例4 実施例1のカップリング剤KR−238(味の素株式会
社製商品名)に代えて、ビニル−トリス(2−メトキシ
エトキシ)シランであるA−172(日本ユニカー株式
会社製商品名)を1重量部とした以外は、実施例工と同
様とした。
以下)のカルボキシル機含有アクリロニトリルフ゛タジ
エンゴムであるPNP−1(日本合成ゴム株式会社製商
品名):65重量部B、アルキルフェノールであるヒタ
ノール2400(日立化戒工業株式会社製商品名) 215重量部 C,ノボラック型エポキシ樹脂であるDEN438(ダ
ウケミカル社製商品名):30重量部D.塩化パラジウ
ム混合エポキシ樹脂であるPEC−8(日立化戒工業株
式会社製商品名)6重量部 E、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチ
タネートであるKR−238(味の素株式会社製商品名
) : 1重量部F、珪酸シリカであるクリ
スタライトVX−X(株式会社龍森製商品名) :
30重量部実施例4 実施例1のカップリング剤KR−238(味の素株式会
社製商品名)に代えて、ビニル−トリス(2−メトキシ
エトキシ)シランであるA−172(日本ユニカー株式
会社製商品名)を1重量部とした以外は、実施例工と同
様とした。
実施例5
実施例2のカップリング剤KR−238(味の素株式会
社製商品名)に代えて、ビニルトリエトキシシランであ
るA−151(日本ユニカー株式会社製商品名)を1重
量部とした以外は、実施例2と同様とした。
社製商品名)に代えて、ビニルトリエトキシシランであ
るA−151(日本ユニカー株式会社製商品名)を1重
量部とした以外は、実施例2と同様とした。
比較例1
実施例1において、高純度(金属イオン性不純物の含有
量が20ppm以下)のカルボキシル機含有アクリロニ
トリルブタジェンゴムであるPNR−1(日本合或ゴム
株式会社製商品名)に代えて、カルボキシル基を含有し
ないアクリロニトリルプクジエンゴムであるN−230
S′(日本合威ゴム株式会社製商品名)を使用した以外
は、実施例1と同様とした。
量が20ppm以下)のカルボキシル機含有アクリロニ
トリルブタジェンゴムであるPNR−1(日本合或ゴム
株式会社製商品名)に代えて、カルボキシル基を含有し
ないアクリロニトリルプクジエンゴムであるN−230
S′(日本合威ゴム株式会社製商品名)を使用した以外
は、実施例1と同様とした。
比較例2
実施例1において、カップリング剤KR−238(味の
素株式会社製商品名)を添加せず、その他は実施例1と
同様とした。
素株式会社製商品名)を添加せず、その他は実施例1と
同様とした。
以上のようにして作成した接着剤を、それぞれ50℃の
恒温水槽に放置して、30日後にサンプリングして、粘
度を調べ、粘度上昇率が15%未満を○、15%以上3
0%未満をΔ、30%以上を×とした。
恒温水槽に放置して、30日後にサンプリングして、粘
度を調べ、粘度上昇率が15%未満を○、15%以上3
0%未満をΔ、30%以上を×とした。
また、配線板としての試験片は、以下のような試験を行
った。
った。
85°C185%RHのもとで、導体幅と導体間隔がと
もに0.2mmのクシ型パターンの電極間に直流100
Vを連続して印加し、所定時間後の絶縁抵抗の変化を調
べた。なお、試験中に電極間に水滴が付着するのを防止
するために、試験片の表面には、はんだレジストを全面
に塗布した。
もに0.2mmのクシ型パターンの電極間に直流100
Vを連続して印加し、所定時間後の絶縁抵抗の変化を調
べた。なお、試験中に電極間に水滴が付着するのを防止
するために、試験片の表面には、はんだレジストを全面
に塗布した。
5mmの幅のパターン導体を、JISC−6481に準
拠して調べた。
拠して調べた。
1辺が25mmのパターン導体を、JISC−6481
に準拠して260°Cでふくれの発生しない時間を調べ
た。
に準拠して260°Cでふくれの発生しない時間を調べ
た。
以上の結果を第1表に示す。
第1表
(以下余白)
(発明の効果)
以上に説明したように、本発明によって、電食の抑制に
優れ、かつ、保存安定性に優れたアディティブ法プリン
ト配線板用の接着剤を提供することができた。
優れ、かつ、保存安定性に優れたアディティブ法プリン
ト配線板用の接着剤を提供することができた。
Claims (3)
- 1.必要な回路パターンを無電解めっきによって形成す
るプリント配線板に用いる以下の成分からなる接着剤。 A.カルボキシル基を含み、かつ金属イオン性不純物の
含有量が20ppm以下であるアクリロニトリルブタジ
エンゴム B.アルキルフェノール樹脂 C.エポキシ樹脂 D.金属パラジウムおよび/またはパラジウム塩類から
なる無電解めっき用触媒 E.エチレン基またはビニル基を有するカップリング剤 - 2.有機溶剤を除く固形分のうち、カルボキシル基を有
するアクリロニトリルブタジエンゴムが39〜70重量
%、アルキルフェノール樹脂が10〜40重量%、エポ
キシ樹脂が5〜50重量%の範囲にある請求項1記載の
プリント配線板用接着剤。 - 3.エチレン基またはビニル基を有するカップリング剤
と無電解めっき用触媒の組成が固形分重量比で0.05
:10〜5:10の範囲である請求項1または2のうち
いずれかに記載のプリント配線板用接着剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1244139A JP2605423B2 (ja) | 1988-09-20 | 1989-09-20 | プリント配線板用接着剤 |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23519688 | 1988-09-20 | ||
| JP63-235196 | 1988-09-20 | ||
| JP1244139A JP2605423B2 (ja) | 1988-09-20 | 1989-09-20 | プリント配線板用接着剤 |
| SG156794A SG156794G (en) | 1988-09-20 | 1994-10-24 | Adhesive composition for printed wiring boards |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02167381A true JPH02167381A (ja) | 1990-06-27 |
| JP2605423B2 JP2605423B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=27332238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1244139A Expired - Fee Related JP2605423B2 (ja) | 1988-09-20 | 1989-09-20 | プリント配線板用接着剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2605423B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04180984A (ja) * | 1990-11-15 | 1992-06-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 化学めつき用接着剤組成物,化学めつき用接着剤フイルムおよび印刷配線板の製造法 |
| US5346957A (en) * | 1991-05-27 | 1994-09-13 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Adhesive composition |
| JP2019502780A (ja) * | 2015-12-01 | 2019-01-31 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Bステージ化可能な接着剤組成物 |
-
1989
- 1989-09-20 JP JP1244139A patent/JP2605423B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04180984A (ja) * | 1990-11-15 | 1992-06-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 化学めつき用接着剤組成物,化学めつき用接着剤フイルムおよび印刷配線板の製造法 |
| US5346957A (en) * | 1991-05-27 | 1994-09-13 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Adhesive composition |
| JP2019502780A (ja) * | 2015-12-01 | 2019-01-31 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Bステージ化可能な接着剤組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2605423B2 (ja) | 1997-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4555532A (en) | Epoxy resin composition | |
| US5053280A (en) | Adhesive composition for printed wiring boards with acrylonitrile-butadiene rubber having carboxyl groups and 20 ppm or less metal ionic impurities; an alkyl phenol resin; an epoxy resin; palladium catalyst, and coupling agent | |
| US4610910A (en) | Printed circuit board, process for preparing the same and resist ink used therefor | |
| US20030113523A1 (en) | Silanated copper foils, method of making, and use thereof | |
| KR100235930B1 (ko) | 인쇄 배선 보드와 그 형성 방법 | |
| JP2605423B2 (ja) | プリント配線板用接着剤 | |
| JPH03255185A (ja) | アディティブ法プリント配線板用の接着剤 | |
| US6455139B2 (en) | Process for reducing extraneous metal plating | |
| JPH0125790B2 (ja) | ||
| JP2602992B2 (ja) | 化学めつき用接着剤組成物,化学めつき用接着剤フイルムおよび印刷配線板の製造法 | |
| JPH05320924A (ja) | アディティブ法プリント配線板用接着剤 | |
| JPH04314391A (ja) | アディティブ法プリント配線板用接着剤 | |
| JP3517996B2 (ja) | アディティブ法プリント配線板用接着剤 | |
| JP3975984B2 (ja) | 銅と接着状態にある絶縁基材 | |
| EP0110172B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Verbundwerkstoffen | |
| JPS6123666A (ja) | 耐めつきソルダレジストインク組成物 | |
| JPS603113B2 (ja) | 印刷・コ−テイングインキ用エポキシ樹脂ワニス | |
| JPH02272075A (ja) | アディティブ印刷配線板用接着剤組成物 | |
| JPH0826290B2 (ja) | アディティブ法プリント配線板用の接着剤 | |
| JPS5856386A (ja) | 印刷配線板の製造法 | |
| JPH0798928B2 (ja) | 無電解めつき用接着剤 | |
| JPS6386494A (ja) | 印刷配線板の製造法 | |
| JPH02269788A (ja) | アディティブ印刷配線板用接着剤組成物 | |
| JPH09121086A (ja) | フレキシブルプリント配線板の製造方法 | |
| JPH03124787A (ja) | アディティブ法プリント配線板用接着剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |