JPS6210543B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本願発明は安定化された重合体組成物に関し、
詳しくはポリアルキルピペリドンのジペンタエリ
スリトールケタール誘導体を添加することによつ
て特に耐光性の改善された重合体組成物に関す
る。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、
ポリ塩化ビニル等の重合体は一般に光の効果に対
し敏感であり、その作用により劣化し、変色ある
いは強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐
えないことが知られている。 そこでこの光による重合体の劣化を防止するた
めに、従来から種々の安定剤が用いられてきた
が、従来用いられてきた光安定剤はその安定化効
果が不充分であり、また安定剤自体が熱あるいは
酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤によ
つて重合体から抽出されやすいものが多く、さら
に重合体に着色を与えるものが多い等の欠点を持
つており、重合体を長期にわたつて安定化するこ
とができなかつた。 これら従来用いられてきた光安定剤の中でもヒ
ンダードピペリジン系の化合物はそれ自体が非着
色性でありまた紫外線吸収剤としてではなく、消
光剤として作用するなどの特徴を有しており近年
特に注目されている。 しかしながら従来知られているピペリジン系の
化合物は光安定化能が不充分であり、また揮発性
が大きかつたり、水によつて重合体から容易に抽
出されてしまつたり、あるいは重合体との相容性
に劣りプルーム等の原因となるなどの欠点もあつ
た。 これらの欠点を解消するために、本発明者等は
先にエーテルポリオールのヒンダードピペリドン
ケタール化合物を提案したが、これらの化合物は
光安定化能にすぐれ、また耐水性も良好である
が、特にジペンタエリスリトールケタール化合物
を用いた場合は、熱着色を生じたり、また長時間
光を照射することにより白点を生じるなどの欠点
を有していることが明らかとなり、さらに改良す
ることが必要であつた。 本発明者等はこれらの欠点を改善する為に鋭意
検討を重ねた結果、上記化合物の残存水酸基の全
部または一部をエステル化、エーテル化等により
封鎖し、場合によつては高分子量化することによ
り上記欠点を全て解消し、しかも光安定化能も大
巾に向上できることを見いだし本発明に到達し
た。 すなわち本発明は重合体100重量部、次の式
（）で表わされる化合物0.001〜10重量部を添加
してなる安定化された重合体組成物を提供するも
のである。 （上式中Ａは を示す。R₁及びR₃はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、

【式】または酸素酸からの一価の基を示 す。R₂はアルキレン基、アリーレン基、ポリア
シル基、ポリカルバモイル基、

【式】

【式】または酸素酸からの２または３ 価の基を示す。R₄はアルキル基、アリール基ま
たは−Ａ−Ｏ−R₁を示す。R₅は水素原子または
低級アルキル基を示す。R₆はアルキル基または
アリール基を示す。R₇はアルキレン基またはア
リーレン基を示す。Ｘは水素原子、酸素遊離基
（O.）またはアルキル基を示す。ｍは０、１また
は２を示す。ｎは０または１〜10を示す。尚ｎが
０を示す時はR₁及びR₃が同時に水素原子を示す
ことはない。）以下本発明で用いられる前記一般
式（）で表わされる化合物について詳述する。 R₁及びR₃で表わされるアルキル基としてはメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、シクロヘキシ
ル、オクチル、２−エチルヘキシル、イソオクチ
ル、デシル、ドデシル、テトラデシル、オクタデ
シル、ベンジル、フエニルエチル、ヒドロキシエ
チルなどがあげられる。アリール基としてはフエ
ニル、トリル、キシリル、ブチルフエニル、ノニ
ルフエニルなどがあげられる。アシル基としては
以下に示すカルボン酸から誘導されるアシル基が
あげられる。すなわち、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、ピバリン酸、オクチル酸、ラウリン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アクリル酸、
クロトン酸、オレイン酸、アセト酢酸、レブリン
酸、ピルビン酸、ケトステアリン酸、アミノ酢
酸、ドテシルメルカプトプロピオン酸、３・５−
ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピ
オン酸、安息香酸、トルイル酸、４−第３ブチル
安息香酸、３・５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロ
キシ安息香酸、ニコチン酸、イソニコチン酸、
２・２・６・６−テトラメチルピペリジン−４−
カルボン酸、３・８・８・10・10−ペンタメチル
−９−アザ−１・５−ジオキサ−スピロ〔５・
５〕ウンデカン−３−カルボン酸等の一価カルボ
ン酸、あるいはシユウ酸、マロン酸、コハク酸、
グルタル酸、アジピン酸、セバチン酸、ドデカン
ジ酸、マレイン酸、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、トリカルバリル酸、ブタントリカル
ボン酸、ブテントリカルボン酸、トリメリツト
酸、ブタンテトラカルボン酸、ピロメリツト酸、
チオフエンジカルボン酸、フランジカルボン酸等
の多価カルボン酸あるいはその部分エステルから
誘導されるアシル基があげられる。カルバモイル
基としてはプロピルイソシアネート、ブチルイソ
シアネート、ヘキサデシルイソシアネート、オク
タデシルイソシアネート、フエニルイソシアネー
ト、トリルイソシアネート、３・４−ジクロルフ
エニルイソシアネート、ニトロフエニルイソシア
ネート、トシルイソシアネート、シクロヘキシル
イソシアナート、等の一価イソシアネートあるい
はヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイ
ソシアネート、フエニルジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、ジフエニルエーテルジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、３
−イソシアナトメチル−３・５・５−トリメチル
シクロヘキシルイソシアナート、ビス（イソシア
ナトメチル）シクロヘキサン、３−（2′−イソシ
アナトシクロヘキシル）プロピルイソシアネート
等の二価イソシアネートから誘導されるカルバモ
イル基があげられる。二価のイソシアネートを用
いる場合はそのうち１個のシアネート基はそのま
ま反応せずに残つていてもよいし、アルコール、
フエノールあるいはアミン化合物等の活性水素を
有する化合物と反応しカルバミン酸エステルある
いは尿素誘導体となつていてもよい。また酸素酸
からの一価の基としては、亜リン酸、リン酸、
（有機）亜ホスホン酸、（有機）ホスホン酸、（ジ
有機）亜ホスフイン酸、（ジ有機）ホスフイン
酸、等の含リン酸素酸、（有機）ケイ酸、ホウ酸
あるいはそれらのエステルから誘導される一価の
基があげられる。R₂で表わされるアルキレン基
としてはメチレン、エチレン、プロピレン、ブチ
レン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン等があ
げられる。アリーレン基としてはフエニレン、ビ
フエニレン等があげられる。ポリアシル基として
はシユウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、セバチン酸、ドデカンニ酸、エイコ
サンニ酸、酒石酸、マレイン酸、フタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸、イミノジ酢酸、チオジ
プロピオン酸、ジグリコール酸、テトラヒドロフ
タル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、
チオフエンジカンボン酸、フランジカルボン酸、
ジカルボキシエチルピペラジン、トリカルバリル
酸、ブタントリカルボン酸、ブテントリカルボン
酸、クエン酸、トリメリツト酸、ブタンテトラカ
ルボン酸、ピロメリツト酸等から誘導されるポリ
アシル基があげられる。ポリカルバモイル基とし
てはヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジ
イソシアネート、フエニルジイソシアネート、ト
リレンジイソシアネート、ジフエニルエーテルジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
３−イソシアナトメチル−３・５・５−トリメチ
ルシクロヘキシルイソシアナート、ビス（イソシ
アナトメチル）シクロヘキサン、３−（2′−イソ
シアナトシクロヘキシル）プロピルイソシアネー
ト等から誘導されるポリカルバモイル基があげら
れる。また酸素酸からの二または三価の基として
は、亜リン酸、リン酸、（有機）亜ホスホン酸、
（有機）亜ホスホン酸、ホウ酸、（有機）ケイ酸か
ら誘導される基があげられ、またこれらの酸素酸
が多価アルコールまたは多価フエノールにより２
個結合されていてもよい。この場合二個の酸素酸
は例えばペンタエリスリトールによりスピロ環構
造をとつて結合されていてもよいし、直鎖的に結
合されていてもよい。R₄で表わされるアルキル
基またはアリール基としてはR₁で説明したよう
なものがあげられる。 R₅で表わされるアルキル基としてはメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等があ
げられる。 R₆で表わされるアルキル基またはアリール基
としてはR₁で説明したようなものがあげられ
る。 R₇で表わされるアルキレン基またはアリーレ
ン基としては例えば以下に示す多価フエノールま
たは多価アルコールの残基があげられる。 多価フエノールとしては例えば、ハイドロキノ
ン、４・4′−イソプロピリデンジフエノール（ビ
スフエノールＡ）、４・4′−シクロヘキシリデン
ジフエノール、４・4′−メチレンビスフエノー
ル、４・4′−スルホビスフエノール、２・５−ジ
−第３ブチルハイドロキノン、２・３・６−トリ
メチルハイドロキノン、２−メチルレゾルシン、
２・2′−メチレンビス（４−メチル−６−第３ブ
チルフエノール）、２・2′−メチレンビス（４−
エチル−６−第３ブチルフエノール）、２・2′−
メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシ
クロヘキシル）フエノール〕、２・2′−ｎ−ブチ
リデンビス（４・６−ジ−メチルフエノール）、
ビス−１・１−（2′−ヒドロキシ−3′・5′−ジ−メ
チルフエニル）−３・５・５−トリメチルヘキサ
ン、２・2′−シクロヘキシリデンビス（４−エチ
ル−６−第３ブチルフエノール）、２・2′−イソ
プロピルベンジリデン−ビス（４−エチル−６−
第３ブチルフエノール）、２・2′−チオビス（４
−第３ブチル−６−メチルフエノール）、２・
2′−チオビス（４−メチル−６−第３ブチルフエ
ノール）、２・2′−チオビス（４・６−ジ−第３
ブチルフエノール）、４・4′−メチレンビス（２
−メチル−６−第３ブチルフエノール）、４・
4′−イソプロピリデンス（２−フエニルエチルフ
エノール）、４・4′−ｎ−ブチリデンビス（３−
メチル−６−第３ブチルフエノール）、４・4′−
シクロヘキシリデンビス（２−第３ブチルフエノ
ール）、４・4′−シクロヘキシリデンビス（２−
シクロヘキシルフエノール）、４・4′−ベンジリ
デンビス（２−第３ブチル−５−メチルフエノー
ル）、４・4′−オキソビス（３−メチル−６−イ
ソプロピルフエノール）、４・4′−チオビス（２
−メチル−６−第３ブチルフエノール）、４・
4′−チオビス（３−メチル−６−第３ブチルフエ
ノール）、４・4′−スルホビス（３−メチル−６
−第３ブチルフエノール）、ビス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−第３ブチルベンジル）スル
フイド、１・１・３−トリス（2′−メチル−4′−
ヒドロキシ−5′−第３ブチルフエニル）ブタン、
２・２−ビス（3′−第３ブチル−4′−ヒドロキシ
フエニル）−４−（3″・5″−ジ−第３ブチル−4″−
ヒドロキシフエニル）ブタン、２・２−ビス−
（2′−メチル−5′−第３ブチル−4′−ヒドロキシフ
エニル）−４（3″・5″−ジ−第３ブチル−4′−ヒ
ドロキシフエニル）ブタンなどがあげられる。 多価アルコールとしては例えば、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、１・２−プロパンジオール、１・３−
プロパンジオール、１・２−ブタンジオール、
１・３−ブタンジオール、１・４−ブタンジオー
ル、ネオベンジルグリコール、チオジエチレング
リコール、１・６−ヘキサンジオール、１・10−
デカンジオール、１・４−シクロヘキサンジオー
ル、１・４−シクロヘキサンジメタノール、１・
４−フエニルジメタノール、水添ビスフエノール
Ａ、グリセリン、トリメチロールメタン、トリメ
チロールエタン、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートなどがあげられる。 本発明において用いられる一般式（）で表わ
される化合物の代表例を次の表−１に示す。

【表】

【表】

【表】

【表】 本発明において用いられる一般式（）で表わ
される化合物はHO−Ａ−OHで表わされるアル
コールを常法によりエステル化あるいはエーテル
化することにより容易に合成することができる。 次に、具体的な合成例を示すが本発明はこれら
の合成例によつて制限を受けるものではない。 合成例 １ （No.1化合物の合成） ジペンタエリストリールの２・２・６・６−テ
トラメチル−４−ピペリドンビスケタール化合物
5.3ｇ、カプリル酸メチル4.7ｇ（1.5eq）、キシレ
ン10ml及びナトリウムメトキサイドの28％メタノ
ール溶液0.2mlをとり、窒素気流下150℃で５時間
反応を行なつた。冷却後、エーテルで抽出し、水
洗、乾燥後脱溶媒して淡黄色粘稠液体6.2ｇ（82
％）を得た。高速液体クロマトグラフによる分析
の結果単一成分であつた。また赤外分光分析（I.
R.）の結果ν_NH3325cm^-1、ν_C=01740cm^-1、ν_C-
Ｏ（ケタール）1100cm^-1に吸収があり目的物であ
ることが確認された。 合成例 ２ （No.8化合物の合成） ジペンタエリスリトールの２・２・６・６−テ
トラメチル−４−ピペリドンビスケタール化合物
10.6ｇ（0.02モル）、ジフエニルカーボネート2.1
ｇ（0.01モル）及び炭酸カリウム0.03ｇをとり窒
素気流下120℃で１時間反応後、140℃、２mmHg
で１時間脱フエノールを行なつた。（脱フエノー
ル率100％） 冷却後軟化点74℃〜87℃のガラス状固体を得
た。 本発明は前記一般式（）で表わされる化合物
を重合体に添加してその耐光性を改善させるもの
であり、その添加量は、通常重合体100重量部に
対し0.001〜10重量部、好ましくは0.01〜５重量
部である。 本発明における耐光性改善の対象となる重合体
としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブテン、ポリ−３−メチルブテン、など
のα−オレフイン重合体またはエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体な
どのポリオレフインおよびこれらの共重合体、ポ
リ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニリデ
ン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共
重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化
ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブ
チレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸
三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重
合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビ
ニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−
塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化
ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−
メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビ
ニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマ
ロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アク
リル樹脂、スチレンと他の単量体（例えば無水マ
レイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルなど）
との共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−
スチレン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジ
エン−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル
−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレートなどのメタクリレート樹脂、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフエニ
レンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、
あるいはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
シリコーン樹脂などを挙げることができる。更
に、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴ
ム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、
スチレン−ブタジエン共重合ゴムなどのゴム類や
これらの樹脂のブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合体も包含される。 本発明の組成物にさらにフエノール系の抗酸化
剤を添加することによつて酸化安定性を改善する
ことができる。これらのフエノール系抗酸化剤と
してはたとえば、２・６−ジ−第３ブチル−ｐ−
クレゾール、ステアリル−（３・５−ジ−メチル
−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコレート、
ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３・５−ジ
−第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステ
アリル−３・５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、２・４・６−トリス
（3′・5′−ジ−第３ブチル−4′−ヒドロキシベンジ
ルチオ）−１・３・５−トリアジン、ジステアリ
ル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３ブチ
ル）ベンジルマロネート、２・2′−メチレンビス
（４−メチル−６−第３ブチルフエノール）、４・
4′−メチレンビス（２・６−ジ−第３ブチルフエ
ノール）、２・2′−メチレンビス〔６−（１−メチ
ルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス
〔３・３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４・4′−ブチリデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）、１・１・３−トリス（２−
メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニ
ル）ブタン、１・３・５−トリス（２・６−ジメ
チル−３−ヒドロキシ−４−第３ブチル）ベンジ
ルイソシアヌレート、１・３・５−トリス（３・
５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２・4.6−トリメチルベンゼン、テトラキス
〔メチレン−３−（３・５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニル）プロピオネート〕メタン、
１・３・５−トリス（３・５−ジ−第３ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１・３・５−トリス〔（３・５−ジ−第３ブチル
−４−ヒドロキシフエニル）プロピオニルオキシ
エチル〕イソシアヌレート、２−オクチルチオ−
４・６−ジ（４−ヒドロキシ−３・５−ジ−第３
ブチル）フエノキシ−１・３・５−トリアジン、
４・4′−チオビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾ
ール）などのフエノール類及び４・4′−ブチリデ
ンビス（２−第３ブチル−５−メチルフエノー
ル）の炭酸オリゴエステル（例えば重合度２、
３、４、５、６、７、８、９、10など）などの多
価フエノール炭酸オリゴエステル類があげられ
る。 本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加
えてその酸化安定性の改善をはかることもでき
る。これらの硫黄系抗酸化剤としてはたとえばジ
ラウリル−、ジミリスチル−、ジステアリル−な
どのジアルキルチオジプロピオネート及びブチル
−、オクチル−、ラウリル−、ステアリル−など
のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール
（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエ
ステル（例えばペンタエリスリトールテトララウ
リルチオプロピオネート）があげられる。 本発明の組成物に、さらにホスフアイト等の含
リン化合物を添加することによつて、耐光性及び
耐熱性を改善することができる。この含リン化合
物としては例えば、トリオクチルホスフアイト、
トリラウリルホスフアイト、トリデシルホスフア
イト、オクチル−ジフエニルホスフアイト、トリ
フエニルホスフアイト、トリス（ブトキシエチ
ル）ホスフアイト、トリス（ノニルフエニル）ホ
スフアイト、ジステアリルペンタエリスリトール
ジホスフアイト、テトラ（トリデシル）−１・
１・３−トリス（２−メチル−５−第３ブチル−
４−ヒドロキシフエニル）ブタンジホスフアイ
ト、テトラ（C_12〜15混合アルキル）−４・4′−イ
ソプロピリデンジフエニルジホスフアイト、テト
ラ（トリデシル）−４・4′−ブチリデンビス（３
−メチル−６−第３ブチルフエノール）ジホスフ
アイト、トリス（３・５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニル）ホスフアイト、トリス（モ
ノ・ジ混合ノニルフエニル）ホスフアイト、水素
化−４・4′−イソプロピリデンジフエノールポリ
ホスフアイト、ビス（オクチルフエニル）・ビス
〔４・4′−ブチリデンビス（３−メチル−６−第
３ブチルフエノール）〕・１・６−ヘキサンジオー
ルジホスフアイト、フエニル・４・4′−イソプロ
ピリデンジフエノール・ペンタエリスリトールジ
ホスフアイト、トリス〔４・4′−イソプロピリデ
ンビス（２−第３ブチルフエノール）〕ホスフア
イト、フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ
（ノニルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
フアイト、トリス（１・３−ジ−ステアロイルオ
キシイソプロピル）ホスフアイト、４・4′−イソ
プロピリデンビス（２−第３ブチルフエノー
ル）・ジ（ノニルフエニル）ホスフアイト、９・
10−ジ−ハイドロ−９−オキサ−10−フオスフア
フエナンスレン−10−オキサイド、テトラキス
（２・４−ジ−第３ブチルフエニル）−４・4′−ビ
フエニレンジホスフアイトなどがあげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性をさらに改善することができ
る。これらの光安定剤としてはたとえば、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、
２・2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
エノン、２・４−ジヒドロキシベンゾフエノン等
のヒドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−ヒド
ロキシ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒ
ドロキシ−3′・5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（2′−ヒドロキシ−3′・5′−ジ−ｔ−アミ
ルフエニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリ
アゾール類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブ
チルフエニルサリシレート、２・４−ジ−ｔ−ブ
チルフエニル−３・５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンゾエート等のベンゾエート類、２・
2′−チオビス（４−ｔ−オクチルフエノール）Ni
塩、〔２・2′−チオビス（４−ｔ−オクチルフエ
ノラート）〕−ｎ−ブチルアミンNi、（３・５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホ
ン酸モノエチルエステルNi塩等のニツケル化合
物類、α−シアノ−β−メチル−β−（ｐ−メト
キシフエニル）アクリル酸メチル等の置換アクリ
ロニトリル類及びＮ−２−エチルフエニル−
N′−２−エトキシ−５−第３ブチルフエニルシ
ユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチルフエニル−
N′−２−エトキシフエニルシユウ酸ジアミド等
のシユウ酸ジアニリド類があげられる。 その他必要に応じて、本発明組成物は重合属不
活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、
可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡
剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包
含させることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら本発明はこれらの実施例によつ
て限定されるものではない。 実施例 １ ポリ塩化ビニル 100重量部 ジオクチルフタレート 48 エポキシ化大豆油 ２ トリスノニルフエニルホスフアイト 0.2 Ca−ステアレート 1.0 Zn−ステアレート 0.1 試 料（表−２） 0.3 上記配合物をロール上で混練し厚さ１mmのシー
トを作成した。このシートを用いウエザオメータ
ー中での耐光性試験を行なつた。 その結果を表−２に示す。

【表】 実施例 ２ ポリプロピレン 100重量部 ステアリル−β−３・５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.2 試 料（表−３） 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なつ
た。また80℃の熱水に15時間浸漬後のシートにつ
いても耐光性試験を行なつた。その結果を表−３
に示す。

【表】 実施例 ３ エチレン−酢酸ビニルコポリマー 100重量部 ２・６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 Ca−ステアレート 0.1 Zn−ステアレート 0.1 ジイソデシルフエニルホスフアイト 0.2 試 料（表−４） 0.2 上記配合物をロール上130℃で混練後、140℃で
プレスシート（厚さ0.4mm）を作成した。このシ
ートをウエザオメーター中で500時間照射後の抗
張力残率を測定した。その結果を表−４に示す。

【表】 実施例 ４ ポリエチレン 100重量部 Ca−ステアレート 1.0 テトラキス〔メチレン−３−（３・５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネー
ト〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 試 料（表−５） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作つた。このシートを用いてウエザオメー
ター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を
測定した。その結果を表−５に示す。

【表】

【表】 実施例 ５ ABS樹脂 100重量部 ４・4′−ブチリデンビス（２−第３ブチル−ｍ−
クレゾール） 0.1 試 料（表−６） 0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作つた。このシートを用いウエザオメ
ーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。 その結果を表−６に示す。

【表】

【表】 実施例 ６ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解
等によりその結果が著るしく失なわれることが知
られている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうこ
とにより高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパウンドを作成
した。（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダ
イス温度250℃、回転数20rpm）押し出しを５回
繰り返し行なつた後このコンパウンドを用いて試
験片を射出成形機で作成した。（シリンダー温度
240℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg／cm²） 得られた試験平を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行なつた。また、押し出し１回のものに
ついても同様に試験し、さらに照射300時間後の
試験片の状態を観察した。 結果を表−７に示す。 ＜配合＞ エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−３・５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 試 料（表−７） 0.2

【表】 実施例 ７ ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100）100重量部 Ba−ステアレート 0.7 Zn−ステアレート 0.3 ２・６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 試 料（表−８） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作成
した。このシートをフエードメーターにて30時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−８
に示す。

【表】

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 重合体100重量部に、次の式（）で表わさ
   れる化合物0.001〜10重量部を添加してなる安定
   化された重合体組成物。 （上式中Ａは を示す。R₁及びR₃はそれぞれ水素原子、アルキ
   ル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、
   【式】または酸素酸からの一価の基を示 す。R₂はアルキレン基、アリーレン基、ポリア
   シル基、ポリカルバモイル基、【式】 【式】または酸素酸からの２または３ 価の基を示す。R₄はアルキル基、アリール基ま
   たは−Ａ−Ｏ−R₁を示す。R₅は水素原子または
   低級アルキル基を示す。R₆はアルキル基または
   アリール基を示す。R₇はアルキレン基またはア
   リーレン基を示す。Ｘは水素原子、酸素遊離基
   （0.）またはアルキル基を示す。ｍは０、１また
   は２を示す。ｎは０または１〜10を示す。尚ｎが
   ０を示す時はR₁及びR₃が同時に水素原子を示す
   ことはない。）