JPH02222495A - 塩素化弗素化炭化水素系フラックス洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、プリント基板等に付着したフラックス類を除
去するために用いるフラックス洗浄剤に関するものであ
る。

［従来の技術］ 半導体、ＩＣ１電子部品等を実装するプリント基板の組
み立て工程では、フラックス類が使われるが、これらが
付着したままでは、製品とはならない場合が多い、従っ
て、通常フラックスは、有機溶剤を用いて洗浄除去され
る。その有機溶剤としては、次に掲げるような種必の利
点から、１，１゜２−トリクロロ−１，２，２−）リフ
ルオロエタン（以下Ｒ１１３という）が広く使われてい
る。

Ｒ１１３は、不燃性で毒性が低く安定性も優れている。

しかも、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を
侵さずフラックスを選択的に溶解除去する性質がある。

一般に、プリント配線板は、ガラス繊維強化プラスチッ
クと銅からなり、さらに金属、プラスチック、エラスト
マー等からなる各種部品を実装しており、従ってこの点
からもＲ１１３が有利であった。

［発明が解決しようとする課題］ 従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を有するにも
かかわらず、対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏
に達し、ここで太陽光線により分解して塩素ラジカルを
発生し、このラジカルがオゾンと連鎖反応を起こし、オ
ゾン層を破壊するとのことから、Ｒ１１３の使用を規制
することとなった。このため、本発明は、これに対応す
べく、Ｒ１１３と同様な種々の利点を有し、同等にフラ
ックスの洗浄除去が行える新規のフラックス洗浄剤を提
供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が４である塩素化弗素化炭化水素を有効成分とし
て含有するフラックス洗浄剤を提供するものである０本
発明の塩素化弗素化炭化水素としては、　１−クロロ−
１，１−ジフルオロブタン（ｂ、　ｐ、　５５．５℃）
、３−クロロ−１，１，１−トリフルオロブタン（ｂ、
　ｐ、　６６℃）、１−クロロ−１，１，３，３−テト
ラフルオロブタン（ｂ、　ｐ、　７０℃）、２−クロロ
−１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタン（ｂ
、ｐ、５１℃）、　４−クロロ−１゜１、１．２．２．
３．３−ヘプタフルオロブタン（ｂ、　ｐ、　５４℃）
、３．４−ジクロロ−１，１，１，２，２，３−ヘキサ
フルオロブタン（ｂ、　ｐ、　７２℃）、２．３−ジク
ロロ−１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタン
（ｂ、　ｐ、　７８℃）、　４．４−ジクロロ−１゜１
、１．２．２．３．３−ヘプタフルオロブタン　（ｂ、
　ｐ、　７６、５℃）、１−クロロ−２，２，３，３−
テトラフルオロシクロブタン（ｂ、　９．７３℃）、１
．１−ジクロロ−２，２，３，３−テトラフルオロシク
ロブタン（ｂ、　９．８４℃）、　１−クロロ−２、２
，３，３，４，４−へキサフルオロシクロブタン（ｂ、
ｐ。

４０℃）等の含水素塩素化弗素化炭化水素から選ばれる
１種叉は２種以上の混合物が好ましい。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる０例えば、溶
解力を高めるために、炭化水素類、アルコール類、ケト
ン類、叉はハロゲン化炭化水素類等の有機溶剤から選ば
れる少なくとも１種を含有させることができる。これら
の有機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜５
０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好まし
くは２０〜３０重量％である０本発明の塩素化弗素化炭
化水素類と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場
合には、その共沸組成での使用が特に好ましい。

炭化水素類としては、炭素数１〜１５の直鎖叉は環状の
飽和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、
イソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキ
サン、２，３−ジメチルブタン、３−メチルペンタン、
ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキサン、２
，４−ジメチルベンクン、ｎ−オクタン、２−メチルへ
ブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブタン、２
．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘキサン、
３．３−ジメチルヘキサン、・２−メチル−３−エチル
ペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２．３．
３−　）ジメチルベンクン、２．３．４−　）ジメチル
ベンクン、２．２．３−　トリメチルペンタン、イソオ
クタン、ノナン、２．２．５−　）ジメチルヘキサン、
デカン、　ドデカン、１−ペンテン、２−ペンテン、１
−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、ｌ−デセン、
シクロベンクン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくはｎ−ペ
ンタン、ネオヘキサン、２．３−ジメチルブタン、ｎ−
ヘキサン、シクロベンクン、シクロヘキサン、ｎ−へブ
タン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状叉は、環
状の飽和叉は不飽和アルコール類が好ましく、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、５ｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアル
コール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−
１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−
ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル
−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、
２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−
ヘプタツール、３−ヘプタツール、１−オクタノール、
２−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、ｌ
−ノナノール、３．５．５−）ジメチル−１−ヘキサノ
ール、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデ
カノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール
、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチ
ルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール
、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘ
キサノール、α−テルピネオール、アとニチノール、２
．６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニル
アルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルア
ルコール等から選ばれるものである。より好ましくは、
メタノール、エタ、ノール、イソプロピルアルコール等
である。

１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれかの一般
式で示されるものが好ましく、アセトン、メチルエチル
ケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサ
ノン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン
、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホロン、メ
チル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケトン、メチル
へキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキ
サノン、イソホロン、２．４−ベンタンジオン、ジアセ
トンアルコール、アセトフェノン、フェンチョン等から
選ばれるものである。より好ましくは、アセトン、メチ
ルエチルケトン等である。

ハロゲン化炭化水素類としては、炭素数１〜４の飽和叉
は不飽和のハロゲン化炭化水素類が好ましく、ジクロロ
メタン、四塩化炭素、クロロホルム、１．１−ジクロロ
エタン、１．２−ジクロロエタン、１、１．１−トリク
ロロエタン、１．１．２−トリクロロエタン、１．１．
１．２−テトラクロロエタン、１．１．２．２−テトラ
クロロエタン、ペンタクロロエタン、１．１−ジクロロ
エチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｃ
ｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン
、テトラクロロエチレン、ｌ−クロロプロパン、２−ク
ロロプロパン、１−ブロモプロパン、２−ブロモプロパ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは、ジクロ
ロメタン、１．１．１−トリクロロエタン、ｔｒａｎｓ
−１，２−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジクロ
ロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、２−ブロモプロパン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいは、オゾン破壊に対する影響の少ない含水素塩
素化弗素化炭イヒ水素類をさらに添加混合してもよい、
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー法、揺動、
超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することがで
きる。

［実施例］ 実施例１〜２７ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
め洗浄除去試験を行なった。

ガラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍＸ　１００
鳳■Ｘ　１．６５１℃厚）全面にフラックス（タムラＦ
−ＡＩ−４、■タムラ制作所製）を塗布し、２００℃の
電気炉で２分間焼成後、フラックス洗浄剤に１分間浸漬
した。

フラックスの除去の度合を第１表に示す。

第１表 ［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は、実施例から明らかなよう
にフラックス類の洗浄除去効果の優れたものである。叉
、従来使用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を
持つことから、金属、プラスチック、及びエラストマー
等から成る複合部品に悪影響を与えることなく、フラッ
クスを洗浄除去することができる。

第１表（続き）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、炭素数が４である塩素化弗素化炭化水素を有効成分
   として含有するフラックス洗浄剤。 ２、塩素化弗素化炭化水素が１−クロロ−１，１−ジフ
   ルオロブタン、３−クロロ−１，１，１−トリフルオロ
   ブタン、１−クロロ−１，１，３，３−テトラフルオロ
   ブタン、２−クロロ−１，１，１，４，４，４−ヘキサ
   フルオロブタン、４−クロロ−１，１，１，２，２，３
   ，３−ヘプタフルオロブタン、３，４−ジクロロ−１，
   １，１，２，２，３−ヘキサフルオロブタン、２，３−
   ジクロロ−１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブ
   タン、４，４−ジクロロ−１，１，１，２，２，３，３
   −ヘプタフルオロブタン、１−クロロ−２，２，３，３
   −テトラフルオロシクロブタン、１，１−ジクロロ−２
   ，２，３，３−テトラフルオロシクロブタン、１−クロ
   ロ−２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロシクロブ
   タンである請求項１に記載のフラックス洗浄剤。 ３、フラックス洗浄剤中に、炭化水素類、アルコール類
   、ケトン類、及びハロゲン化炭化水素類から選ばれる少
   なくとも１種が含まれている請求項１に記載のフラック
   ス洗浄剤。