JPH02222497A - フラックス洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、プリント基板等に付着したフラックス類を除
去するために用いるフラックス洗浄剤に関するものであ
る。

［従来の技術］ 半導体、ＩＣ１電子部品等を実装するプリント基板の組
み立て工程では、フラックス類が使われるが、これらが
付着したままでは、製品とはならない場合が多い、従っ
て、通常フラックスは、有機溶剤を用いて洗浄除去され
る。その有機溶剤としては、次に掲げるような種々の利
点から、１，１゜２−トリクロロ−１，２，２−トリフ
ルオロエタン（以下Ｒ１１３という）が広く使われてい
る。

Ｒ１１３は、不燃性で毒性が低く安定性も優れている。

しかも、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を
侵さずフラックスを選択的に溶解除去する性質がある。

一般に、プリント配線板は、ガラス繊維強化プラスチッ
クと銅からなり、さらに金属、プラスチック、エラスト
マー等からなる各種部品を実装しており、従ってこの点
からもＲ１１３が有利であった。

［発明が解決しようとする課題］ 従来使用されていなＲ１１３が種々の利点を有するにも
かかわらず、対流圏内での寿命が長く、拡散して成Ｍ′
ｃ！Ａに達し、ここで太陽光線により分解して塩素ラジ
カルを発生し、このラジカルがオゾンと連鎖反応を起こ
し、オゾン層を破壊するとのことから、Ｒ１１３の使用
を規制することとなった。このため、本発明は、これに
対応すべく、Ｒ１１３と同様な種々の利点を有し、同等
にフラックスの洗浄除去が行える新規のフラックス洗浄
剤を提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が３である不飽和塩素化弗素化炭化水素を有効成
分として含有するフラックス洗浄剤を提供するものであ
る０本発明の不飽和塩素化弗素化炭化水素としては、１
−クロロ−２−フルオロプロペン（ｂ、ｐ、　５９℃）
、２．３−ジクロロ−３，３−ジフルオロプロペン（ｂ
、　ｐ、　５７℃）、　、１−ジクロロ−３，３゜３−
トリフルオロプロペン（ｂ、　ｐ、　５４℃）、、２−
ジクロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ｂ、　
ｐ、　５３℃）、、３−ジクロロ−１，３，３−トリフ
ルオロプロペン（ｂ。

ｐ、５７℃）、１，３−ジクロロ−２，３，３−トリフ
ルオロプロペン（ｂ、　ｐ、　６７℃）、３．３−ジク
ロロ−１，１，３−トリフルオロプロペン（ｂ、　９．
５２℃）、３，３−ジクロロ−２，３−ジフルオロプロ
ペン（ｂ、　ｐ、　５４℃）等の含水素不飽和塩素化弗
素化炭化水素から選ばれる１種又は２種以上の混合物が
好ましい。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる０例えば、溶
解力を高めるために、炭化水素類、アルコール類、ケト
ン類、叉はハロゲン化炭化水素類等の有機溶剤から選ば
れる少なくとも１種を含有させることができる。これら
の有機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜５
０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好まし
くは２０〜３０重量％である０本発明の塩素化弗素化炭
化水素類と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場
合には、その共沸組成での使用が特に好ましい。

炭化水素類としては、炭素数１〜１５の直鎖叉は環状の
飽和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、
インペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキ
サン、２．３−ジメチルブタン、３−メチルペンタン、
ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキサン、２
，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルへ
ブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブタン、２
，２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘキサン、
３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−エチルペ
ンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２．３．３
−　トリメチルペンタン、２．３．４−　トリメチルペ
ンタン、２．２．３−　トリメチルペンタン、イソオク
タン、ノナン、２．２．５−　）ジメチルヘキサン、デ
カン、ドデカン、ｌ−ペンテン、２−ペンテン、１−ヘ
キセン、■−オクテン、１−ノネン、１−デセン、シク
ロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、
メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシク
ロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペンテン
、デカリン、テトラリン、アミシン、アミルナフタレン
等から選ばれるものである。より好ましくはｎ−ペンタ
ン、ネオヘキサン、２．３−ジメチルブタン、ｎ−ヘキ
サン、シクロペンタン、シクロヘキサン、ｎ−へブタン
等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状叉は、環
状の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、５ｅｅ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、５ｅｅ−アミルアル
コール、ｌ−エチル−１−プロパツール、２−メチル−
１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−
ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル
−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、
２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−
ヘプタツール、３−ヘプタツール、１−オクタツール、
２−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、１
−ノナノール、３．５．５−　トリメチル−１−ヘキサ
ノール、１−デカノール、■−ウンデカノール、１−ド
デカノール、アリルアルコール、プロバルギルアルコー
ル、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メ
チルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノー
ル、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロ
ヘキサノール、α−テルピネオール、アとニチノール、
２，６−シメチルー４−へ１タノール、トリメチルノニ
ルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシル
アルコール等から選ばれるものである。より好ましくは
、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等
である。

１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれかの一般
式で示されるものが好ましく、アセトン、メチルエチル
ケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン
、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホロン、メ
チル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケトン、メチル
へキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキ
サノン、イソポロン、２．４−ベンタンジオン、ジアセ
トンアルコール、アセトフェノン、フェンチョン等から
選ばれるものである。より好ましくは、アセトン、メチ
ルエチルケトン等である。

ハロゲン化炭化水素類としては、炭素数１〜４の飽和叉
は不飽和のハロゲン化炭化水素類が好ましく、ジクロロ
メタン、四塩化炭素、クロロホルム、、１−ジクロロエ
タン、１，２−ジクロロエタン、１、、１−　トリクロ
ロエタン、、、２−トリクロロエタン、、、、２−テト
ラクロロエタン、、、２．２−テトラクロロエタン、ペ
ンタクロロエタン、、１−ジクロロエチレン、ｔｒａｎ
ｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジク
ロロエチレン、トリクロロエチレン、 テトラクロロエチレン、１−クロロプロパン、２−クロ
ロプロパン、１−ブロモプロパン、２−ブロモプロパン
等から選ばれるものである。より好ましくは、ジクロロ
メタン、ｌ、　、１−）ジクロロエタン、ｔｒａｎｓ−
１，２−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロ
エチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン
、２−ブロモプロパン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいは、オゾン破壊に対する影響の少ない含水素塩
素化弗素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい、洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー法、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。

［実施例］ 実施例１〜２１ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄除去試験を行なった。

ガラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍＸ　１００
ｍａ＋Ｘ　、６ｍｍ厚）全面にフラックス（タムラＦ−
ＡＩ−４、■タムラ制作所製）を塗布し、２００℃の電
気炉で２分間焼成後、フラックス洗浄剤に１分間浸漬し
た。

フラックスの除去の度合を第１表に示す。

第１表 第１表（続き） Δ：Ｗ１量残存 ×：カシにり残存 ［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は、実施例から明らかなよう
にフラッグス類の洗浄除去効果の優れたものである。叉
、従来使用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を
持つことから、金属、プラスチック、及びエラストマー
等から成る複合部品に悪影響を与えることなく、フラッ
クスを洗浄除去することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、炭素数が３である不飽和塩素化弗素化炭化水素を有
   効成分として含有するフラックス洗浄剤。 ２、不飽和塩素化弗素化炭化水素が１−クロロ−２−フ
   ルオロプロペン、２，３−ジクロロ−３，３−ジフルオ
   ロプロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフル
   オロプロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフ
   ルオロプロペン、１，３−ジクロロ−１，３，３−トリ
   フルオロプロペン、１，３−ジクロロ−２，３，３−ト
   リフルオロプロペン、３，３−ジクロロ−１，１，３−
   トリフルオロプロペン、３，３−ジクロロ−２，３−ジ
   フルオロプロペンである請求項１に記載のフラックス洗
   浄剤。 ３、フラックス洗浄剤中に、炭化水素類、アルコール類
   、ケトン類、及びハロゲン化炭化水素類から選ばれる少
   なくとも１種が含まれている請求項１に記載のフラック
   ス洗浄剤。