JPH02225313A - シリカ原料の製造法 - Google Patents
シリカ原料の製造法Info
- Publication number
- JPH02225313A JPH02225313A JP4465789A JP4465789A JPH02225313A JP H02225313 A JPH02225313 A JP H02225313A JP 4465789 A JP4465789 A JP 4465789A JP 4465789 A JP4465789 A JP 4465789A JP H02225313 A JPH02225313 A JP H02225313A
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- Japan
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- silicon dioxide
- silica raw
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1095—Thermal after-treatment of beads, e.g. tempering, crystallisation, annealing
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は石英ガラスを製造するために使用されるシリカ
原料の製造法に関し、安価にかつ容易に製造する方法に
係るものである。
原料の製造法に関し、安価にかつ容易に製造する方法に
係るものである。
周知のように、透明な石英ガラスは、水晶、珪石、珪砂
等の天然シリカ原料を加熱、溶融して作られる。即ち、
通常は、 ■ 上記シリカ原料粉をアルゴン−酸素プラズマ炎、あ
るいは酸水素炎中に少しづつ供給し、溶融してガラス化
し、これを台の上に堆積させていくベルヌーイ法。
等の天然シリカ原料を加熱、溶融して作られる。即ち、
通常は、 ■ 上記シリカ原料粉をアルゴン−酸素プラズマ炎、あ
るいは酸水素炎中に少しづつ供給し、溶融してガラス化
し、これを台の上に堆積させていくベルヌーイ法。
■ 原料粉からなる多孔体を作っておき、これを一端か
ら帯状に溶融してガラス化する常溶融法。
ら帯状に溶融してガラス化する常溶融法。
■ 原料粉をルツボに入れ、真空加熱炉で溶融し、ガラ
ス化させる真空溶融法。
ス化させる真空溶融法。
のいずれかによっている。
上記したように、透明な石英ガラスをjするには通常天
然シリカを原料とするが、天然シリカには、各種の不純
物か含まれており、高純度の石英ガラスを工業的に生産
するためには、精製工程が必要になる。従って、コスト
が高くなることは否めず、しかも天然シリカ原料は、資
源枯渇の問題点がある。このため、四塩化珪素を酸化す
ることにより、高純度の石英ガラスを合成する方法が提
案されているが、生産効率が悪く、コストが高いことは
よく知られている。
然シリカを原料とするが、天然シリカには、各種の不純
物か含まれており、高純度の石英ガラスを工業的に生産
するためには、精製工程が必要になる。従って、コスト
が高くなることは否めず、しかも天然シリカ原料は、資
源枯渇の問題点がある。このため、四塩化珪素を酸化す
ることにより、高純度の石英ガラスを合成する方法が提
案されているが、生産効率が悪く、コストが高いことは
よく知られている。
また、一般に市販されている非晶質二酸化珪素粉は、高
純度であるが、0.021m以下の粒子径をもつもので
あるため、これを直接ガラス化しようとしても前記した
常法では、生産効率が悪く、コスト高を招くため、工業
的規模での実施に適さないこともよく知られている。
純度であるが、0.021m以下の粒子径をもつもので
あるため、これを直接ガラス化しようとしても前記した
常法では、生産効率が悪く、コスト高を招くため、工業
的規模での実施に適さないこともよく知られている。
これを解決する手段として、例えば特開昭61−588
22号公報、特開昭61.−58823号公報等には、
非晶質二酸化珪素粉を加熱して、クリストバライト結晶
相をもつポーラスな焼結体を作り、これを真空化で加熱
、溶融してガラス化する方法が提案されている。この方
法によれば、天然シリカ原料を使用せずに、高純度の透
明石英ガラスを得ることができるが、クリストバライト
結晶相をもったポーラスな焼結体を得るのに相転移促進
剤を必要とする。また、高純度の石英ガラスを得るには
、当然、原料中に添加した相転移促進剤の除去が必要で
ある。従って、真空溶融法によらざるを得ず、他のベル
ヌーイ法等によるガラス製造には適用できない。
22号公報、特開昭61.−58823号公報等には、
非晶質二酸化珪素粉を加熱して、クリストバライト結晶
相をもつポーラスな焼結体を作り、これを真空化で加熱
、溶融してガラス化する方法が提案されている。この方
法によれば、天然シリカ原料を使用せずに、高純度の透
明石英ガラスを得ることができるが、クリストバライト
結晶相をもったポーラスな焼結体を得るのに相転移促進
剤を必要とする。また、高純度の石英ガラスを得るには
、当然、原料中に添加した相転移促進剤の除去が必要で
ある。従って、真空溶融法によらざるを得ず、他のベル
ヌーイ法等によるガラス製造には適用できない。
そこで本発明は、一般に市販されている安画な非晶質二
酸化珪素を、例えばベルヌーイ法等にも工業的に利用で
きるシリカ原料粉を製造する方法を提供することを目的
としている。
酸化珪素を、例えばベルヌーイ法等にも工業的に利用で
きるシリカ原料粉を製造する方法を提供することを目的
としている。
上記した目的を達成するために、本発明のシリカ原料の
製造法は、非晶質二酸化珪素の微粒子粉を凝集粒子に造
粒した後、これを振動2回転、流動等の衝撃下で135
0℃以上に加熱し、クリストバライト相に粒子状で焼結
、結晶化せしめることを特徴とし、また非晶質二酸化珪
素の微粒子粉を凝集粒子に造粒したものを、1300’
C以ドの温度で焼結した後、振動等の衝撃を与えて粒子
間のネッキングを解除し、ついで1350’C以上に加
熱してクリストバライト相に結晶化することを特徴とす
るものである。
製造法は、非晶質二酸化珪素の微粒子粉を凝集粒子に造
粒した後、これを振動2回転、流動等の衝撃下で135
0℃以上に加熱し、クリストバライト相に粒子状で焼結
、結晶化せしめることを特徴とし、また非晶質二酸化珪
素の微粒子粉を凝集粒子に造粒したものを、1300’
C以ドの温度で焼結した後、振動等の衝撃を与えて粒子
間のネッキングを解除し、ついで1350’C以上に加
熱してクリストバライト相に結晶化することを特徴とす
るものである。
即ち、非晶質二酸化珪素の凝集粒子を焼結、結晶化する
にあたり、その過程で粒−r−間のネッキングを妨げる
手段を講じつつ加熱するものであり、該二酸化珪素の微
粉を凝集粒子に造粒したものを振動等の衝撃を与えつつ
加熱することにより、粒子・間のネッキングが防止され
て粒子状の焼結結晶物が1F、;られる。
にあたり、その過程で粒−r−間のネッキングを妨げる
手段を講じつつ加熱するものであり、該二酸化珪素の微
粉を凝集粒子に造粒したものを振動等の衝撃を与えつつ
加熱することにより、粒子・間のネッキングが防止され
て粒子状の焼結結晶物が1F、;られる。
前記非晶質二酸化珪素の凝集粒子は、1000℃〜13
00℃の温度範囲でネッキング現象が生し、この加熱温
度範囲で凝集粒子は緻密化するとともに、粒子間のネッ
キングが進行し始める。即ち、この温度範囲での該現象
を衝撃等の手段により妨げれば、この温度範囲以上に加
熱してもネッキングは生しない。
00℃の温度範囲でネッキング現象が生し、この加熱温
度範囲で凝集粒子は緻密化するとともに、粒子間のネッ
キングが進行し始める。即ち、この温度範囲での該現象
を衝撃等の手段により妨げれば、この温度範囲以上に加
熱してもネッキングは生しない。
従って、1000℃〜1300℃の温度粋での加熱時に
生ずるネッキングを防止すれば、1350℃以上に加熱
してクリストバライト結晶相まて焼結化しても独立j−
た焼結粒子が得られる。
生ずるネッキングを防止すれば、1350℃以上に加熱
してクリストバライト結晶相まて焼結化しても独立j−
た焼結粒子が得られる。
以下、本発明に係るシリカ原料の製造法を一実施例に基
づいて詳細に説明する。
づいて詳細に説明する。
非晶質二酸化珪素粉は、通常、粒径0,02ハm以下の
微粉であるが、まずこれを50〜500 Jlmの凝集
粒子となるように造粒する。造粒手段は、任意であるが
、例えば、イオン交換水を用いて、二酸化珪素粉:イオ
ン交換水−1:10の割合で懸濁させた後、ドライヤー
等により乾燥し、これを整粒することにより100 a
m〜150 Jtmの球状の凝集粒子を得ることができ
る。あるいは二酸化珪素粉を上記割合でイオン交換水に
懸濁させた後、アンモニアによってpH調整してゲル化
し、これを乾燥後、粉砕、整粒して所望の粒径をもった
凝集粒子とすることができる。
微粉であるが、まずこれを50〜500 Jlmの凝集
粒子となるように造粒する。造粒手段は、任意であるが
、例えば、イオン交換水を用いて、二酸化珪素粉:イオ
ン交換水−1:10の割合で懸濁させた後、ドライヤー
等により乾燥し、これを整粒することにより100 a
m〜150 Jtmの球状の凝集粒子を得ることができ
る。あるいは二酸化珪素粉を上記割合でイオン交換水に
懸濁させた後、アンモニアによってpH調整してゲル化
し、これを乾燥後、粉砕、整粒して所望の粒径をもった
凝集粒子とすることができる。
このようにして得られた凝集粒子を、例えば、回転機構
をもった管状炉に入れ、該管状炉を回転させて充填した
凝集粒子に衝撃をり、えつつ、1350℃以上の温度で
焼結、結晶化を行なう。本発明者等の実験によれば、両
端が閉じられ、かつ炉心管をモーターにより回転させる
ようにしたアルミナ炉を用い、1.400℃の温度ド、
該炉を毎分1回転の速さで回転させつつ約10時間加熱
することにより、クリストバライト結晶相の焼結粒子が
得られた。該粒子は50μm〜1. OOJJmの粒径
をもち、かつ真球状の流動性が良いものであった。
をもった管状炉に入れ、該管状炉を回転させて充填した
凝集粒子に衝撃をり、えつつ、1350℃以上の温度で
焼結、結晶化を行なう。本発明者等の実験によれば、両
端が閉じられ、かつ炉心管をモーターにより回転させる
ようにしたアルミナ炉を用い、1.400℃の温度ド、
該炉を毎分1回転の速さで回転させつつ約10時間加熱
することにより、クリストバライト結晶相の焼結粒子が
得られた。該粒子は50μm〜1. OOJJmの粒径
をもち、かつ真球状の流動性が良いものであった。
jすられた焼結粒子を原料としてベルヌーイ法によりガ
ラス化したところ、高純度の泡の少ない石英ガラスをi
%?ることかできた。
ラス化したところ、高純度の泡の少ない石英ガラスをi
%?ることかできた。
また、前記手段によって得られた粒径150μm〜40
0 Iimの凝集粒子を、石英ガラスルツボに充填し、
1100℃の温度下で約10時間加熱して拉−r・内の
焼結を完了させた。ついでこれをタッピングにより粒子
間に生じていた弱いネッキングを解除した後、1400
℃で約4時間加熱処理して1100u 〜1300JJ
mの粒径をもっクリストバライト これを原料としてアーク溶融法によりガラス化したとこ
ろ、高純度のペルジャーが得られた。
0 Iimの凝集粒子を、石英ガラスルツボに充填し、
1100℃の温度下で約10時間加熱して拉−r・内の
焼結を完了させた。ついでこれをタッピングにより粒子
間に生じていた弱いネッキングを解除した後、1400
℃で約4時間加熱処理して1100u 〜1300JJ
mの粒径をもっクリストバライト これを原料としてアーク溶融法によりガラス化したとこ
ろ、高純度のペルジャーが得られた。
以上説明した如く、本発明に係るシリカ原f−1の製造
法によると、天然の資源によらず、入手容易な非晶質二
酸化珪素を出発原料とすることができるので、安定した
供給が可能である。また、本′;コ明方法によって得ら
れたシリカ原料は、天然シリカ原料に比較して高純度の
ものであり、これによって高品質の石英ガラスを製造す
ることができる。
法によると、天然の資源によらず、入手容易な非晶質二
酸化珪素を出発原料とすることができるので、安定した
供給が可能である。また、本′;コ明方法によって得ら
れたシリカ原料は、天然シリカ原料に比較して高純度の
ものであり、これによって高品質の石英ガラスを製造す
ることができる。
さらに、本発明方法によって得られたシリカ1r;(料
は、当然乍ら、通常のどのようなガラス製造法にも適用
できるし、生産効率が高く、コストが安価で済む利点が
ある。これは、高純度の非晶質二酸化珪素を利用し、所
望の粒径で、しかも融点直下のクリストバライト結晶相
に焼結化されているためである。
は、当然乍ら、通常のどのようなガラス製造法にも適用
できるし、生産効率が高く、コストが安価で済む利点が
ある。これは、高純度の非晶質二酸化珪素を利用し、所
望の粒径で、しかも融点直下のクリストバライト結晶相
に焼結化されているためである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非晶質二酸化珪素の微粒子粉を凝集粒子に造粒した
後、これを振動、回転、流動等の衝撃下で1350℃以
上に加熱し、クリストバライト相に粒子状で焼結、結晶
化せしめることを特徴とするシリカ原料の製造法。 2、非晶質二酸化珪素の微粒子粉を凝集粒子に造粒した
ものを、1300℃以下の温度で焼結した後、振動等の
衝撃を与えて粒子間のネッキングを解除し、ついで13
50℃以上に加熱してクリストバライト相に結晶化する
ことを特徴とするシリカ原料の製造法。 3、前記非晶質二酸化珪素の微粒子粉が粒径0.02μ
m以下であり、凝集粒子が50μm〜500μmに造粒
されることを特徴とする請求項1又は2に記載のシリカ
原料の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4465789A JPH02225313A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | シリカ原料の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4465789A JPH02225313A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | シリカ原料の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02225313A true JPH02225313A (ja) | 1990-09-07 |
Family
ID=12697518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4465789A Pending JPH02225313A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | シリカ原料の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02225313A (ja) |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP4465789A patent/JPH02225313A/ja active Pending
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