JPH02260212A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH02260212A JPH02260212A JP8171889A JP8171889A JPH02260212A JP H02260212 A JPH02260212 A JP H02260212A JP 8171889 A JP8171889 A JP 8171889A JP 8171889 A JP8171889 A JP 8171889A JP H02260212 A JPH02260212 A JP H02260212A
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- magnetic
- glass
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高密度記録再生を行うための磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
近年、磁気記録の高密度化の要求により、メタルテープ
等の高保磁力媒体が用いられるようになり、これに伴い
、高透磁率および高飽和磁束密度に優れたFe−3i−
Aj2 (センダスト合金)等の金属磁性薄膜をコアの
ギャップ対向面上に形成してなる磁気ヘッドが提案され
ている。
等の高保磁力媒体が用いられるようになり、これに伴い
、高透磁率および高飽和磁束密度に優れたFe−3i−
Aj2 (センダスト合金)等の金属磁性薄膜をコアの
ギャップ対向面上に形成してなる磁気ヘッドが提案され
ている。
このような磁気ヘッドを製造するには、第4図(a)に
示すように、酸化物磁性材料からなる一方のブロック1
1に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14と内部巻線
用溝15とを形成すると共に、同図(b)に示すように
、同じく酸化物磁性材料からなる他方のブロック12に
外部巻線用溝13とガラス充填用溝14とを形成する。
示すように、酸化物磁性材料からなる一方のブロック1
1に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14と内部巻線
用溝15とを形成すると共に、同図(b)に示すように
、同じく酸化物磁性材料からなる他方のブロック12に
外部巻線用溝13とガラス充填用溝14とを形成する。
その後、同図(c)および(d)に示すように、所定の
ギャップトラック幅を得るための溝(以下、トラック溝
と称する)18・・・を形成する。次いで、同図(e)
(f)に示すように、ブロック11・12におけるそれ
ぞれのギャップ対向面(前記のトラック溝18・・・、
内部巻線用溝15およびガラス充填用溝14上の各々の
面を含む面)16上に高透磁率および高飽和磁束密度を
有する合金磁性薄膜19をスパッタリング法等により形
成する。次いで、合金磁性薄膜19上にギャップ材とし
て図示しないSiO□等の非磁性材料を形成した後、同
図(g)に示すように、上記のブロック11・12同士
を各りのギャップ対向面16・16を突き合わせて貼り
合わせ、ガラス充填用溝14および内部巻線用溝15に
よりそれぞれ形成される空洞部位にガラス棒S20を配
置した後、窒素雰囲気中で加熱を行い、ガラス棒S20
を溶融させることにより、同図(h)に示すように、内
部巻線用溝15の上部並びにガラス充填用溝14および
各トラック溝18内に溶融ガラス20が充填されてブロ
ック11・12が互いに固着される。
ギャップトラック幅を得るための溝(以下、トラック溝
と称する)18・・・を形成する。次いで、同図(e)
(f)に示すように、ブロック11・12におけるそれ
ぞれのギャップ対向面(前記のトラック溝18・・・、
内部巻線用溝15およびガラス充填用溝14上の各々の
面を含む面)16上に高透磁率および高飽和磁束密度を
有する合金磁性薄膜19をスパッタリング法等により形
成する。次いで、合金磁性薄膜19上にギャップ材とし
て図示しないSiO□等の非磁性材料を形成した後、同
図(g)に示すように、上記のブロック11・12同士
を各りのギャップ対向面16・16を突き合わせて貼り
合わせ、ガラス充填用溝14および内部巻線用溝15に
よりそれぞれ形成される空洞部位にガラス棒S20を配
置した後、窒素雰囲気中で加熱を行い、ガラス棒S20
を溶融させることにより、同図(h)に示すように、内
部巻線用溝15の上部並びにガラス充填用溝14および
各トラック溝18内に溶融ガラス20が充填されてブロ
ック11・12が互いに固着される。
この固着により、ブロック11・12は非磁性薄膜を介
して上部および下部で密着したものとなり、このうちの
上部であるトラック溝工8・・・により幅を規制された
非溝部同士の間に介設されている非磁性薄膜によって磁
気ギャップ21・・・が形成される。また、下部の密着
部は非磁性薄膜の影響を無視できる程度に十分に広い面
積で密着することになる。
して上部および下部で密着したものとなり、このうちの
上部であるトラック溝工8・・・により幅を規制された
非溝部同士の間に介設されている非磁性薄膜によって磁
気ギャップ21・・・が形成される。また、下部の密着
部は非磁性薄膜の影響を無視できる程度に十分に広い面
積で密着することになる。
そして、このようにして得られた磁気ヘッドブロックに
おけるテープ摺動面17に、一定の曲率を有する曲面を
形成した後、仮想線b・・・に沿って切断することによ
り、同図(+)に示すように、磁気ヘッド22(まだ巻
線の施されていない段階)が得られる。
おけるテープ摺動面17に、一定の曲率を有する曲面を
形成した後、仮想線b・・・に沿って切断することによ
り、同図(+)に示すように、磁気ヘッド22(まだ巻
線の施されていない段階)が得られる。
ところが、上記従来の製造方法においては、センダスト
合金等の合金磁性薄膜19と、溶融ガラス20との濡れ
性が十分でないことから、溶融状態の溶融ガラス20が
その表面張力により縮みがちとなり、ガラス溶着が十分
に行われずに不良品が発生する等、歩留まりの低下を招
いていた。さらに、ガラス20と合金磁性薄膜19との
界面に、第3図に示すような核化(界面付近に析出物が
発生する現象)と呼ばれる反応が発生し、ギャップ長寸
法の高精度化が図れない上に、上記核化の部分は強度的
にも不十分となり、割れや欠けが発生することから、前
記の歩留まりが一層悪くなるという欠点を有していた。
合金等の合金磁性薄膜19と、溶融ガラス20との濡れ
性が十分でないことから、溶融状態の溶融ガラス20が
その表面張力により縮みがちとなり、ガラス溶着が十分
に行われずに不良品が発生する等、歩留まりの低下を招
いていた。さらに、ガラス20と合金磁性薄膜19との
界面に、第3図に示すような核化(界面付近に析出物が
発生する現象)と呼ばれる反応が発生し、ギャップ長寸
法の高精度化が図れない上に、上記核化の部分は強度的
にも不十分となり、割れや欠けが発生することから、前
記の歩留まりが一層悪くなるという欠点を有していた。
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記の課題を解
決するために、一対のコアがそのギャップ対向面上に合
金磁性薄膜を有し、且つ、上記一対のコアが互いのギャ
ップ対向面同士を突き合わせて溶融ガラスにより溶着さ
れてなる磁気ヘッドの製造方法において、前記の合金磁
性薄膜の表面を極浅く酸化して表面酸化被膜を形成した
後に溶融ガラスにて前記一対のコアを溶着することを特
徴としている。
決するために、一対のコアがそのギャップ対向面上に合
金磁性薄膜を有し、且つ、上記一対のコアが互いのギャ
ップ対向面同士を突き合わせて溶融ガラスにより溶着さ
れてなる磁気ヘッドの製造方法において、前記の合金磁
性薄膜の表面を極浅く酸化して表面酸化被膜を形成した
後に溶融ガラスにて前記一対のコアを溶着することを特
徴としている。
なお、表面酸化被膜の形成は、合金磁性薄膜の形成され
たコアを例えば大気中で200°C〜400°C程度の
温度下において30分〜60分程度保持することにより
行う。
たコアを例えば大気中で200°C〜400°C程度の
温度下において30分〜60分程度保持することにより
行う。
上記の構成によれば、τ対のコアにおけるガラス溶着の
際には、合金磁性薄膜とガラスとの間に表面酸化膜が介
在することになり、この表面酸化被膜がガラスとの接触
を担うことになる。ここで、酸化物であるガラスは、同
じく酸化物である表面酸化被膜と相性が良く馴染み易い
ことから濡れ性が向上すると共に、核化の現象が抑制さ
れることになる。前記の濡れ性向上により、ガラス溶着
の不良発生を低減でき、また、核化抑制により、ガラス
の割れや欠けの発生の防止が可能となり、これによって
磁気ヘッドの製造においてその歩留まり向上を図ること
ができると共に、ギャップ長の高精度化をも図ることが
できる。
際には、合金磁性薄膜とガラスとの間に表面酸化膜が介
在することになり、この表面酸化被膜がガラスとの接触
を担うことになる。ここで、酸化物であるガラスは、同
じく酸化物である表面酸化被膜と相性が良く馴染み易い
ことから濡れ性が向上すると共に、核化の現象が抑制さ
れることになる。前記の濡れ性向上により、ガラス溶着
の不良発生を低減でき、また、核化抑制により、ガラス
の割れや欠けの発生の防止が可能となり、これによって
磁気ヘッドの製造においてその歩留まり向上を図ること
ができると共に、ギャップ長の高精度化をも図ることが
できる。
なお、従来例で示した磁気ヘッドの製造方法においても
、溶融ガラスによる溶着の前に合金磁性薄膜上に、ある
種の酸化物であるギャップ材が介設されることになるの
で、合金磁性゛薄膜を酸化させる必要性があまりないの
ではないかと思われるが、上記のギャップ材はスパッタ
リングにより形成されるものであるため、本発明の表面
酸化被膜と異なり、緻密なものを形成することは困難で
あり、前記ギャップ材による濡れ性向上や核化抑制の効
果はあまり得られないものである。
、溶融ガラスによる溶着の前に合金磁性薄膜上に、ある
種の酸化物であるギャップ材が介設されることになるの
で、合金磁性゛薄膜を酸化させる必要性があまりないの
ではないかと思われるが、上記のギャップ材はスパッタ
リングにより形成されるものであるため、本発明の表面
酸化被膜と異なり、緻密なものを形成することは困難で
あり、前記ギャップ材による濡れ性向上や核化抑制の効
果はあまり得られないものである。
本発明の一実施例を第1図および第2図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、従来
例で用いた部材と同一の機能を有する部材には同一の符
号を付記してその説明を省略する。
すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、従来
例で用いた部材と同一の機能を有する部材には同一の符
号を付記してその説明を省略する。
本発明の磁気ヘッドの製造方法により製造される磁気ヘ
ッドにおいて、第1図(i)に示すように、高透磁率を
有する酸化物磁性材料コア11′・12′におけるギャ
ップ対向面16・16の各々には、所定幅を有し且つ磁
気ギャップ21に対し平行な面を有する非溝部分18′
・18′が形成されている。この非溝部分18′ ・
18′を含む上記のギャップ対向面16・16上には、
高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性薄膜1
9が形成されている。そして、かかる合金磁性薄膜19
の形成された酸化物磁性材料コア11′・12′同士は
、少な(ともその非溝部分18′・18′の間にギャッ
プ材としての非磁性材料を介装した状態でギャップ対向
面16・16を互いに突き合わせて溶融ガラス20にて
固着されている。
ッドにおいて、第1図(i)に示すように、高透磁率を
有する酸化物磁性材料コア11′・12′におけるギャ
ップ対向面16・16の各々には、所定幅を有し且つ磁
気ギャップ21に対し平行な面を有する非溝部分18′
・18′が形成されている。この非溝部分18′ ・
18′を含む上記のギャップ対向面16・16上には、
高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性薄膜1
9が形成されている。そして、かかる合金磁性薄膜19
の形成された酸化物磁性材料コア11′・12′同士は
、少な(ともその非溝部分18′・18′の間にギャッ
プ材としての非磁性材料を介装した状態でギャップ対向
面16・16を互いに突き合わせて溶融ガラス20にて
固着されている。
上記の磁気ヘッドを製造するには、同図(a)に示すよ
うに、酸化物磁性材料からなる一方のコアブロック11
に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14と内部巻線用
溝15とを形成すると共に、同図(b)に示すように、
同じく酸化物磁性材料からなる他方のコア・ブロック1
2に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14とを形成す
る。その後、同図(C)および(d)に示すように、所
定のギャップトラック幅を得るための溝(以下、トラッ
ク溝と称する)18・・・を形成する。
うに、酸化物磁性材料からなる一方のコアブロック11
に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14と内部巻線用
溝15とを形成すると共に、同図(b)に示すように、
同じく酸化物磁性材料からなる他方のコア・ブロック1
2に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14とを形成す
る。その後、同図(C)および(d)に示すように、所
定のギャップトラック幅を得るための溝(以下、トラッ
ク溝と称する)18・・・を形成する。
次いで、同図(e)(f)に示すように、ブロック11
・12におけるそれぞれのギャップ対向面16(前記の
トラック溝18・・・、内部巻線用溝15およびガラス
充填用溝14上の各々の面を含む)上に高透磁率および
高飽和磁束密度を有する合金磁性薄膜19をスパッタリ
ング法等により形成した後、かかるブロック11・12
を大気中において300℃の加熱下で40分間保持する
。これにより、合金磁性薄膜19の表面層は極浅く酸化
されて緻密な表面酸化被膜(図中斜線で示している)1
9′が形成される。
・12におけるそれぞれのギャップ対向面16(前記の
トラック溝18・・・、内部巻線用溝15およびガラス
充填用溝14上の各々の面を含む)上に高透磁率および
高飽和磁束密度を有する合金磁性薄膜19をスパッタリ
ング法等により形成した後、かかるブロック11・12
を大気中において300℃の加熱下で40分間保持する
。これにより、合金磁性薄膜19の表面層は極浅く酸化
されて緻密な表面酸化被膜(図中斜線で示している)1
9′が形成される。
なお、あまり長時間にわたって合金磁性薄膜19の酸化
を行うと、表面酸化被膜19′が過剰に厚くなる。この
場合、表面酸化被膜19′が非磁性であることから磁気
ヘッドの出力低下を招くので、表面酸化被膜19′があ
まり厚くならないように配慮する。
を行うと、表面酸化被膜19′が過剰に厚くなる。この
場合、表面酸化被膜19′が非磁性であることから磁気
ヘッドの出力低下を招くので、表面酸化被膜19′があ
まり厚くならないように配慮する。
次いで、上記表面酸化被膜19′の形成された合金磁性
薄膜19上にギャップ材として5in2等の非磁性材料
を形成した後、同図(g)に示すように、上記のブロッ
ク11・12同士を各々のギャップ対向面16・16を
突き合わせて貼り合わせ、ガラス充填用溝14および内
部巻線用溝15によりそれぞれ形成される空隙部位に円
筒状のガラス棒S20を挿入配置した後、窒素雰囲気中
で加熱を行い、ガラス棒S20を溶融させることにより
、同図(h)に示すように、内部巻線用溝15の上部並
びに各トラック溝18内およびガラス充填用溝14内に
ガラス20が充填されてブロック1112が互いに固着
される。
薄膜19上にギャップ材として5in2等の非磁性材料
を形成した後、同図(g)に示すように、上記のブロッ
ク11・12同士を各々のギャップ対向面16・16を
突き合わせて貼り合わせ、ガラス充填用溝14および内
部巻線用溝15によりそれぞれ形成される空隙部位に円
筒状のガラス棒S20を挿入配置した後、窒素雰囲気中
で加熱を行い、ガラス棒S20を溶融させることにより
、同図(h)に示すように、内部巻線用溝15の上部並
びに各トラック溝18内およびガラス充填用溝14内に
ガラス20が充填されてブロック1112が互いに固着
される。
この固着により、ブロック11・12は非磁性薄膜を介
して上部および下部で密着したものとなり、このうちの
上部であるトラ2り溝518・・・により幅を規制され
た非溝部18′ ・18′同士の間に介設されている非
磁性薄膜によって磁気ギャップ21・・・が形成される
。また、下部の密着部は非磁性薄膜の影響を無視できる
程度に十分に広い面積で密着しているものである。
して上部および下部で密着したものとなり、このうちの
上部であるトラ2り溝518・・・により幅を規制され
た非溝部18′ ・18′同士の間に介設されている非
磁性薄膜によって磁気ギャップ21・・・が形成される
。また、下部の密着部は非磁性薄膜の影響を無視できる
程度に十分に広い面積で密着しているものである。
そして、このようにして得られた磁気ヘッドブロックに
おけるテープ摺動面17に、一定の曲率を有する曲面を
形成する。この曲面形成により、テープ摺動面17に位
置する合金磁性薄膜19の表面酸化被膜19′は削られ
、磁気特性への影響は無視できる程度に低減される。そ
の後、仮想線b・・・に沿って切断することにより、同
図(i)に示すように、磁気ヘッド22(まだ巻線の施
されていない段階)を得る。
おけるテープ摺動面17に、一定の曲率を有する曲面を
形成する。この曲面形成により、テープ摺動面17に位
置する合金磁性薄膜19の表面酸化被膜19′は削られ
、磁気特性への影響は無視できる程度に低減される。そ
の後、仮想線b・・・に沿って切断することにより、同
図(i)に示すように、磁気ヘッド22(まだ巻線の施
されていない段階)を得る。
上記の構成によれば、一対のブロック11・12におけ
るガラス溶着の際には、合金磁性薄膜19とガラス20
との間に表面酸化膜19′が介在することになり、この
表面酸化被膜19′がガラス20との接触を担うことに
なる。ここで、酸化物であるガラス20は、同じく酸化
物である表面酸化被膜19′と相性が良く馴染み易いこ
とから濡れ性が向上すると共に、核化の現象が抑制され
ることになる。前記の濡れ性向上により、ガラス溶着の
不良発生を低減でき、また、核化抑制により、ガラスの
割れや欠けの発生の防止が可能となり、これによって磁
気ヘッドの製造においてその歩留まり向上を図ることが
できる。第2図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセン
ダスト合金との境界部分を拡大した写真であり、核化抑
止の効果が明瞭に現れている。
るガラス溶着の際には、合金磁性薄膜19とガラス20
との間に表面酸化膜19′が介在することになり、この
表面酸化被膜19′がガラス20との接触を担うことに
なる。ここで、酸化物であるガラス20は、同じく酸化
物である表面酸化被膜19′と相性が良く馴染み易いこ
とから濡れ性が向上すると共に、核化の現象が抑制され
ることになる。前記の濡れ性向上により、ガラス溶着の
不良発生を低減でき、また、核化抑制により、ガラスの
割れや欠けの発生の防止が可能となり、これによって磁
気ヘッドの製造においてその歩留まり向上を図ることが
できる。第2図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセン
ダスト合金との境界部分を拡大した写真であり、核化抑
止の効果が明瞭に現れている。
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
一対のコアがそのギャップ対向面上に合金磁性薄膜を有
し、且つ、上記一対のコアが互いのギャップ対向面同士
を突き合わせて溶融ガラスにより溶着されてなる磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記の合金磁性薄膜の表面を
極浅く酸化して表面酸化被膜を形成した後に溶融ガラス
にて前記一対のコアを溶着する構成である。
一対のコアがそのギャップ対向面上に合金磁性薄膜を有
し、且つ、上記一対のコアが互いのギャップ対向面同士
を突き合わせて溶融ガラスにより溶着されてなる磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記の合金磁性薄膜の表面を
極浅く酸化して表面酸化被膜を形成した後に溶融ガラス
にて前記一対のコアを溶着する構成である。
これにより、濡れ性の向上および核化抑制を図ることが
でき、上記の濡れ性向上により、ガラス溶着の不良発生
を低減でき、また、核化抑制により、ガラスの割れや欠
けの発生の防止が可能となり、これによって磁気ヘッド
の製造においてその歩留まりを向上できると共に、ギャ
ップ長の高精度化が図れるという効果を奏する。
でき、上記の濡れ性向上により、ガラス溶着の不良発生
を低減でき、また、核化抑制により、ガラスの割れや欠
けの発生の防止が可能となり、これによって磁気ヘッド
の製造においてその歩留まりを向上できると共に、ギャ
ップ長の高精度化が図れるという効果を奏する。
第1図および第2図は本発明の一実施例を示すものであ
名。 第1図(a)ないしくi)はそれぞれ磁気ヘッドの製造
工程の各段階を示す斜視図である。 第2図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセンダスト合
金との境界部分を拡大して示す図面代用写真である。 第3図および第4図は従来例を示すものである。 第3図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセンダスト合
金との境界部分を拡大して示す図面代用写真である。 第4図(a)ないしくi)はそれぞれ磁気ヘッドの製造
工程の各段階を示す斜視図である。 11・12はコアブロック、11’ ・12′ はコ
ア、16はギャップ対向面、17はテープ摺動面、18
はトラック溝、18′は非溝部分、19は合金磁性薄膜
、19′は表面酸化被膜、20は溶融ガラス、S20は
ガラス棒、21は磁気ギャップ、22は磁気ヘッドであ
る。 特許出願人 シャープ 株式会社凶凹の、9口 第2図 第 図 箔4 図(a) ]1 第 図(C) 第 図(b) ]2 第 図(d) 1、事件の表示 平成01年 特 許 願 第81718号2、発明の名
称 磁気ヘッドの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市阿倍野区長池町22番22号名 称(5
04) シャープ株式会社代表者 辻 晴 雄 4、代理人 ◎530 住 所 大阪市北区天神橋2丁目4番17号千代田第−
ビル e大阪(06) 351−43847、補正の内
容 (1)第12頁第17行〜末行の「第2図は・・・図面
代用写真である。」を次のように訂正する。 「第2図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセンダスト
合金との境界部分を拡大して示す説明図である。」 (2)第13頁第2行〜4行の「第3図は・・・図面代
用写真である。」を次のように訂正する。 「第3図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセンダスト
合金との境界部分を拡大して示す説明図である。」 (3)第2図および第3図の図面代用写真をそれぞれ図
面に訂正する。補正図面は別紙の通り。
名。 第1図(a)ないしくi)はそれぞれ磁気ヘッドの製造
工程の各段階を示す斜視図である。 第2図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセンダスト合
金との境界部分を拡大して示す図面代用写真である。 第3図および第4図は従来例を示すものである。 第3図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセンダスト合
金との境界部分を拡大して示す図面代用写真である。 第4図(a)ないしくi)はそれぞれ磁気ヘッドの製造
工程の各段階を示す斜視図である。 11・12はコアブロック、11’ ・12′ はコ
ア、16はギャップ対向面、17はテープ摺動面、18
はトラック溝、18′は非溝部分、19は合金磁性薄膜
、19′は表面酸化被膜、20は溶融ガラス、S20は
ガラス棒、21は磁気ギャップ、22は磁気ヘッドであ
る。 特許出願人 シャープ 株式会社凶凹の、9口 第2図 第 図 箔4 図(a) ]1 第 図(C) 第 図(b) ]2 第 図(d) 1、事件の表示 平成01年 特 許 願 第81718号2、発明の名
称 磁気ヘッドの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市阿倍野区長池町22番22号名 称(5
04) シャープ株式会社代表者 辻 晴 雄 4、代理人 ◎530 住 所 大阪市北区天神橋2丁目4番17号千代田第−
ビル e大阪(06) 351−43847、補正の内
容 (1)第12頁第17行〜末行の「第2図は・・・図面
代用写真である。」を次のように訂正する。 「第2図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセンダスト
合金との境界部分を拡大して示す説明図である。」 (2)第13頁第2行〜4行の「第3図は・・・図面代
用写真である。」を次のように訂正する。 「第3図は溶融ガラスと合金磁性薄膜であるセンダスト
合金との境界部分を拡大して示す説明図である。」 (3)第2図および第3図の図面代用写真をそれぞれ図
面に訂正する。補正図面は別紙の通り。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一対のコアがそのギャップ対向面上に合金磁性薄膜
を有し、且つ、上記一対のコアが互いのギャップ対向面
同士を突き合わせて溶融ガラスにより溶着されてなる磁
気ヘッドの製造方法において、 前記の合金磁性薄膜の表面を極浅く酸化して表面酸化被
膜を形成した後に溶融ガラスにて前記一対のコアを溶着
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8171889A JPH02260212A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8171889A JPH02260212A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02260212A true JPH02260212A (ja) | 1990-10-23 |
Family
ID=13754191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8171889A Pending JPH02260212A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02260212A (ja) |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP8171889A patent/JPH02260212A/ja active Pending
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