JPH02307294A - 印刷回路用銅箔 - Google Patents
印刷回路用銅箔Info
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- JPH02307294A JPH02307294A JP12793289A JP12793289A JPH02307294A JP H02307294 A JPH02307294 A JP H02307294A JP 12793289 A JP12793289 A JP 12793289A JP 12793289 A JP12793289 A JP 12793289A JP H02307294 A JPH02307294 A JP H02307294A
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Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、銅箔を基板に接着積層した銅張り積層板の高
温加熱後の剥離強度を保持するよう改善した印刷回路用
銅箔及び銅張り積層板に関する。
温加熱後の剥離強度を保持するよう改善した印刷回路用
銅箔及び銅張り積層板に関する。
(従来の技術)
印刷回路用銅箔は、例えば紙−フェノール樹脂含浸基材
又はガラスエポキシ樹脂基板とを重ねて、加熱加圧して
張り合せ、銅張り積層板を製作し、これより回路形成不
要部をエツチング除去し、所望の印刷回路を形成する。
又はガラスエポキシ樹脂基板とを重ねて、加熱加圧して
張り合せ、銅張り積層板を製作し、これより回路形成不
要部をエツチング除去し、所望の印刷回路を形成する。
印刷回路の緻密化に伴い、使用する銅箔の剥離強度とそ
の耐熱性は極めて重要である。
の耐熱性は極めて重要である。
剥離強度を向上させる方法としては、例えば特公昭40
−15327に示されているような、粗化鋼を電着して
粗面を得る方法がある。耐熱性を向上させる方法として
は、例えば特公昭51−35711に示されているよう
な、黄銅や亜鉛めっきをして銅箔と樹脂基板との化学反
応のバーリヤとする方法がある。
−15327に示されているような、粗化鋼を電着して
粗面を得る方法がある。耐熱性を向上させる方法として
は、例えば特公昭51−35711に示されているよう
な、黄銅や亜鉛めっきをして銅箔と樹脂基板との化学反
応のバーリヤとする方法がある。
(発明が解決しようとする課題)
最近特に剥離強度の耐熱性が求められ、例えば177°
C・10日間加熱後も接着力を保持することが求められ
、従来の処理では応じられなくなっている。
C・10日間加熱後も接着力を保持することが求められ
、従来の処理では応じられなくなっている。
本発明は、銅箔を基材と組み合わせた銅張り積層板にお
ける上記の問題点を解消し、剥離強度の耐熱性が大きい
印刷回路用銅箔及びその銅張り積層板を提供するもので
ある。
ける上記の問題点を解消し、剥離強度の耐熱性が大きい
印刷回路用銅箔及びその銅張り積層板を提供するもので
ある。
(課題を解決するための手段)
本発明の印刷回路用銅箔は、銅箔の基材との被接合面を
ポリシロキサン膜で被覆し、あるいは更にその上をシラ
ン膜又はクロメート膜で被覆したことを特徴とする。
ポリシロキサン膜で被覆し、あるいは更にその上をシラ
ン膜又はクロメート膜で被覆したことを特徴とする。
本発明の印刷回路用銅箔に用いられる銅箔は、電解銅箔
、圧延銅箔のいずれであっても良い。銅箔は、予め表面
を粗化処理しであるものが好ましく、更に亜鉛、黄銅、
ニッケルなどで耐熱性バーリヤを施しであるものが最適
である。更に、それらの表面が化学的クロメート処理又
は陰極クロメート処理してあってもよい。
、圧延銅箔のいずれであっても良い。銅箔は、予め表面
を粗化処理しであるものが好ましく、更に亜鉛、黄銅、
ニッケルなどで耐熱性バーリヤを施しであるものが最適
である。更に、それらの表面が化学的クロメート処理又
は陰極クロメート処理してあってもよい。
使用するポリシロキサンはシロキサン結合を有する分子
量数百〜数千程度のもので、直鎖状、環状、網状構造を
もついずれでも使用できる。有機基を有せず、置換基の
OHのHの一部がNaで置換しており、水に分散(粒子
径0.2〜1mμ)して溶液としたときのpHが10.
5〜11.2、と(に108〜11.0であるものがヱ
同箔表面との結合力が適当である。ポリシロキサンは銅
箔表面と次のようにメタシロキサン結合してセラミック
ス皮膜を形成するものと考えられる。
量数百〜数千程度のもので、直鎖状、環状、網状構造を
もついずれでも使用できる。有機基を有せず、置換基の
OHのHの一部がNaで置換しており、水に分散(粒子
径0.2〜1mμ)して溶液としたときのpHが10.
5〜11.2、と(に108〜11.0であるものがヱ
同箔表面との結合力が適当である。ポリシロキサンは銅
箔表面と次のようにメタシロキサン結合してセラミック
ス皮膜を形成するものと考えられる。
−M−M□〜1−
HH
ll
−M−M−M−銅箔表面
処理方法は、ポリシロキサン2〜370g/Q、好まし
くは8〜190g/I2.の水溶液に、常温〜80°C
で、1〜60秒間銅箔を漫し、取り出して、水洗するこ
となく熱風乾燥する。ポリシロキサン水溶液の濃度が余
り薄いと耐熱性の効果がなく、濃すぎると粗面がなだら
かになり基板との密着性が低下する。また、浸漬時間が
余り短いと銅箔が十分に濡れない恐れがあり、余り長く
しても効果に影響がない。約40 mg/ dm2の厚
さが好ましい。
くは8〜190g/I2.の水溶液に、常温〜80°C
で、1〜60秒間銅箔を漫し、取り出して、水洗するこ
となく熱風乾燥する。ポリシロキサン水溶液の濃度が余
り薄いと耐熱性の効果がなく、濃すぎると粗面がなだら
かになり基板との密着性が低下する。また、浸漬時間が
余り短いと銅箔が十分に濡れない恐れがあり、余り長く
しても効果に影響がない。約40 mg/ dm2の厚
さが好ましい。
シランカップリング処理には、−1i1Uに次の化学構
造のシランラップリング剤が用いられる。
造のシランラップリング剤が用いられる。
OR
X〜5i−OR
OR
ここにORは金属等と結合する官能基であって、例えば
メトキシ、エトキシのようなアルコキシ基を表し、Xは
有機ポリマーと結合しつる有機官能基で、例えばビニル
基、メタクリル基、エポキシ基、アミノ基又はメルカプ
ト基を表す。
メトキシ、エトキシのようなアルコキシ基を表し、Xは
有機ポリマーと結合しつる有機官能基で、例えばビニル
基、メタクリル基、エポキシ基、アミノ基又はメルカプ
ト基を表す。
代表的化合物としては次のものがあげられる。
γ−アミノブロビルトリエトシキシシランγ−グリシド
オキシプロビルトリメトキシシラン N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン シランカップリング処理方法は、既知の方法で行うこと
ができ、シランカップリング剤01〜50 g/f2)
水溶液に、常温〜60°Cで1〜60秒間銅箔を浸漬し
、取り出して、水洗することな(熱風乾燥する。シラン
カップリング剤溶液が余り薄いと密着性の効果がなく、
濃すぎても効果に影響がない。また、浸漬時間が短すぎ
ると銅箔が十分に濡れない恐れがあり、長すぎても効果
に影響がない。ポリシロキンサン処理少シランカップリ
ング処理をすると若干膜厚が減少するが、これはポリシ
ロキサン層がシランカップリングの液に溶けるためであ
る。
オキシプロビルトリメトキシシラン N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン シランカップリング処理方法は、既知の方法で行うこと
ができ、シランカップリング剤01〜50 g/f2)
水溶液に、常温〜60°Cで1〜60秒間銅箔を浸漬し
、取り出して、水洗することな(熱風乾燥する。シラン
カップリング剤溶液が余り薄いと密着性の効果がなく、
濃すぎても効果に影響がない。また、浸漬時間が短すぎ
ると銅箔が十分に濡れない恐れがあり、長すぎても効果
に影響がない。ポリシロキンサン処理少シランカップリ
ング処理をすると若干膜厚が減少するが、これはポリシ
ロキサン層がシランカップリングの液に溶けるためであ
る。
クロメート処理は、既知の方法で行うことができ、酸化
クロム、クロム酸塩又は重クロム酸塩の0.05〜50
g/j2、好ましくは0.1〜20g/12の水溶液に
、常温〜80°Cで1〜60秒間銅箔を浸漬する。化学
クロメート処理、あるいは銅箔を陰極として上記クロム
酸塩の水溶液に浸し電解する陰極クロメート処理を行い
、取り出して熱風乾燥する。
クロム、クロム酸塩又は重クロム酸塩の0.05〜50
g/j2、好ましくは0.1〜20g/12の水溶液に
、常温〜80°Cで1〜60秒間銅箔を浸漬する。化学
クロメート処理、あるいは銅箔を陰極として上記クロム
酸塩の水溶液に浸し電解する陰極クロメート処理を行い
、取り出して熱風乾燥する。
これらシランカップリング処理及びクロメート処理はポ
リシロキサン処理後の接着力を回復するのに効果的であ
る。とくにシランカップリング剤のOR基が加水分解を
うけて無機質とオキサン結合を作り、一方有磯官能基が
有機質と反応するので、無機質と有機質の橋かけを行う
。
リシロキサン処理後の接着力を回復するのに効果的であ
る。とくにシランカップリング剤のOR基が加水分解を
うけて無機質とオキサン結合を作り、一方有磯官能基が
有機質と反応するので、無機質と有機質の橋かけを行う
。
このようにして得られた処理銅箔は、従来の方法と同様
に樹脂基板に重ねて加熱加圧して張り合せ、銅張り積層
板とする。
に樹脂基板に重ねて加熱加圧して張り合せ、銅張り積層
板とする。
(発明の実施例)
実施例1゜
予め表面粗面化処理を施した厚さ3!5pmの電解銅箔
を、平均分子量800のポリシロキサン(日本表面化学
■製ストロンコーhJ)水溶液250i/℃に60’C
で5秒間浸した後、取り出して、100°Cの熱風で乾
燥した。次にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン5
g/!2水溶液に、室温で5秒間浸漬した後、水洗する
ことなく、100°Cの熱風で乾燥した。ポリシロキサ
ン膜の厚さは40 mg/ 6m2.シラン処理後の膜
の合計厚みは39 mg/ dm”であった。得られた
銅箔の粗面をエポキシ樹脂基板プリプレグに重ね、常法
により加熱加圧して銅張り積層板を得た。この積層板を
177°Cで10日間加熱前後の剥離強度を測定した結
果を表1に示す。
を、平均分子量800のポリシロキサン(日本表面化学
■製ストロンコーhJ)水溶液250i/℃に60’C
で5秒間浸した後、取り出して、100°Cの熱風で乾
燥した。次にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン5
g/!2水溶液に、室温で5秒間浸漬した後、水洗する
ことなく、100°Cの熱風で乾燥した。ポリシロキサ
ン膜の厚さは40 mg/ 6m2.シラン処理後の膜
の合計厚みは39 mg/ dm”であった。得られた
銅箔の粗面をエポキシ樹脂基板プリプレグに重ね、常法
により加熱加圧して銅張り積層板を得た。この積層板を
177°Cで10日間加熱前後の剥離強度を測定した結
果を表1に示す。
実施例2
シランカップリング剤1として、γ−グリシドオキシフ
”ロビルトリメトキシシランLog/f2水ン容液を使
用した以外は、実施例1と同様に処理して銅張り積層板
を得た。このシランカップリング処理後の膜の合計厚み
は40mg/dm2であった。その加熱前後の剥離強度
を表1に示す。
”ロビルトリメトキシシランLog/f2水ン容液を使
用した以外は、実施例1と同様に処理して銅張り積層板
を得た。このシランカップリング処理後の膜の合計厚み
は40mg/dm2であった。その加熱前後の剥離強度
を表1に示す。
実施例3
銀箔として、予め粗面化し、粗面に銅70、亜鉛30の
黄銅を20 mg/ dm”の厚みにめっきしたものを
使用した以外は、実施例2と同様に処理し、得られた銅
張り積層板の加熱前後の剥離強度を表1に示す。
黄銅を20 mg/ dm”の厚みにめっきしたものを
使用した以外は、実施例2と同様に処理し、得られた銅
張り積層板の加熱前後の剥離強度を表1に示す。
実施例4゜
実施例1と同様にして、250J/9.の水溶液でポリ
シロキサン処理のみを行った銅箔を銅張り積層板とし、
その加熱前後の剥離強度を表1に示す。
シロキサン処理のみを行った銅箔を銅張り積層板とし、
その加熱前後の剥離強度を表1に示す。
実施例5゜
ポリシロキサン水溶液の濃度を50d/ffにした以外
は実施例4と同様にして、ポリシロキサン処理のみを行
った銅箔を銅張り積層板とし、その加熱前後の剥離強度
を表1に示した。
は実施例4と同様にして、ポリシロキサン処理のみを行
った銅箔を銅張り積層板とし、その加熱前後の剥離強度
を表1に示した。
実施例6゜
実施例1と同様にして、ポリシロキサン処理した後、C
rO20,4g/(l水溶液に常温で10秒間浸漬した
。100″Cの熱風で乾燥し、得られた銅箔を実施例1
と同様にして銅張り積層板を得た。その加熱前後の剥離
強度を表1に示す。
rO20,4g/(l水溶液に常温で10秒間浸漬した
。100″Cの熱風で乾燥し、得られた銅箔を実施例1
と同様にして銅張り積層板を得た。その加熱前後の剥離
強度を表1に示す。
実施例7゜
Cry3水溶液の濃度をl g/f2とした以外は、実
施例6と同様に処理し、得られた銅張り積層板の加熱前
後の剥離強度を表1に示す。
施例6と同様に処理し、得られた銅張り積層板の加熱前
後の剥離強度を表1に示す。
比較例
上記各実施例に用いた処理前の銅箔(比較例1)、黄銅
めっきをした処理前の銅箔(比較例2)、実施例1のポ
リシロキサン処理を省いた銅箔(比較例3)、について
銅張り積層板を得、その加熱前後の剥離強度を表1に併
記した。
めっきをした処理前の銅箔(比較例2)、実施例1のポ
リシロキサン処理を省いた銅箔(比較例3)、について
銅張り積層板を得、その加熱前後の剥離強度を表1に併
記した。
試験法:試料銅箔中1mmのものについて、177°C
・10日間加熱前後の剥離強度なJISC−6481に
準拠して測定した。
・10日間加熱前後の剥離強度なJISC−6481に
準拠して測定した。
表 1
(発明の効果)
上記の試験結果から明らかなように、本発明の印刷回路
用銅箔は、加熱後の剥離強度が特に優れていることがわ
かる。本発明のポリシロキサン膜は銅箔面と良く密着し
、かつ銅箔と樹脂基板との高温における反応のバーリヤ
として優れた効果を発揮し、一方シラン膜及びクロメー
ト膜で被覆したもの(実施例1.2.3.6.7)は、
上記ポリシロキサン膜と樹脂基板との密着性を改善して
いる。
用銅箔は、加熱後の剥離強度が特に優れていることがわ
かる。本発明のポリシロキサン膜は銅箔面と良く密着し
、かつ銅箔と樹脂基板との高温における反応のバーリヤ
として優れた効果を発揮し、一方シラン膜及びクロメー
ト膜で被覆したもの(実施例1.2.3.6.7)は、
上記ポリシロキサン膜と樹脂基板との密着性を改善して
いる。
Claims (3)
- 1.銅箔の基板との被接合面がポリシロキサン膜で被覆
されていることを特徴とする印刷回路用銅箔。 - 2.請求項1のポリシロキサン膜の上にシラン膜又はク
ロメート膜で被覆されていることを特徴とする印刷回路
用銅箔。 - 3.請求項1又は2の銅箔を基板に張り合せた印刷回路
用銅張り積層板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12793289A JPH02307294A (ja) | 1989-05-23 | 1989-05-23 | 印刷回路用銅箔 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12793289A JPH02307294A (ja) | 1989-05-23 | 1989-05-23 | 印刷回路用銅箔 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02307294A true JPH02307294A (ja) | 1990-12-20 |
Family
ID=14972205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12793289A Pending JPH02307294A (ja) | 1989-05-23 | 1989-05-23 | 印刷回路用銅箔 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02307294A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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