JPH0251174B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、円筒状基板表面に光導電性化合物を
含む塗工液を塗布乾燥して形成した被膜を有する
電子写真感光体の改良に関するものである。 現在用いられている電子写真感光体の製造方法
として、Se、Se−Te、As₂Se₃、Sb₂S₃、Sb₂Se₃、
CdS又はSi等を導電性基板上に各種の手法、例え
ば蒸着する手段、或いは無機又は有機の光導電性
顔料の分散溶液や、有機光導電性化合物の溶解液
の必要なら結着樹脂を含む塗工液を導電性基板上
に塗布し、乾燥する工程を経て感光体を製造する
手段が採用されている。 特に、後者の塗布−乾燥の手段による製造方法
は、連続生産が可能であり、工程上有利と言え
る。 この工程に適用できる感光体としては、従来よ
りCdS、ZnO、TiO₂等の必要なら増感剤を添加
した樹脂分散溶液や、ポリビニルカルバゾールの
如き有機光導電性化合物に適切な増感剤を含む溶
液を塗布したものが知られている。又、最近では
塗布系の感光体としてフタロシアニン系化合物、
ペリレン系化合物、アゾ系化合物、キナクリドン
系化合物、或いはその他の各種有機系染料や顔料
の分散溶液を塗布、乾燥して電荷発生層を形成
し、次いでピラゾリン誘導体、ヒドラゾン誘導
体、ジフエニルメタン誘導体、トリフエニルメタ
ン誘導体、トリフエニルアミン誘導体、オキサジ
アゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ス
チリル染料ベース誘導体等の化合物を含む樹脂溶
液を塗布、乾燥して電荷輸送層を形成した所謂、
有機系の機能分離型感光体が開発されており、こ
れらの感光体は感度や耐久性に優れているばかり
でなく、加工性、コスト等の生産面での利点も合
いまつて、一段とその用途範囲が拡大されてい
る。 而乍ら、塗布系の感光体は連続生産が可能であ
る等の利点を有する反面、乾燥工程に於ける加熱
の不均一さが特性上の問題である感度ムラや帯電
ムラを惹き起し、収率低下の主因となつている。
乾燥工程のバラツキや電子写真特性上の欠陥とな
る理由としては、不均一加熱が溶剤の気化速度を
部分的に異ならしめ、そのため結着樹脂中に含ま
れる光導電性化合物や増感剤の分子或いは粒子の
濃度が不均一となつたり、又光導電性化合物や増
感剤の分子や粒子のミクロブラウン運動に部分的
な差が生じ、その結果不均一な凝集状態を惹き起
す等の問題が考えられ、この様な部分的不均一が
生じた状態で乾燥が終ると、電子写真感光体に特
性上のムラが発生するものと思われる。従来で
は、感光体の製造工程で、乾燥工程に関しては装
置上の工夫を凝らしたり、乾燥条件を厳密に設定
し細心の注意を払つて行なつているが、それでも
乾燥工程は不良品の発生原因となつているのが現
状である。 特に、この傾向は、前述した機能分離型感光体
では顕著となつている。即ち、この機能分離型感
光体に於いては、電荷発生層で用いる顔料粒子が
極く微細で、そのためブラウン運動の影響を大き
く受けて、凝集を起し易くなり、乾燥工程が感光
体に特性上のムラ発生を惹き起こす原因となつて
いる。 現在、これらの塗布系感光体、特に乾燥工程で
の問題が生じ易い所の機能分離型感光体、或い
は、高分子共晶錯体型感光体に関して、乾燥ムラ
の防止対策の一例としてシート状基板を用いる方
法がある。シート状基板は、ロール状に巻き付け
た原板を連続的に塗布工程、乾燥工程および裁断
工程を経て感光体に加工されるが、乾燥工程に於
いては比較的長時間の乾燥を行なえ得る様な乾燥
炉の設計が可能であり、徐熱と徐冷により均一な
乾燥を行なう事ができる。更に、乾燥熱風を塗工
面に一様に吹きつける構成が可能となり、不均一
加熱を避けることができる。 一方、シート状感光体を複写機に適用する場合
は、ベルト状或いはドラム状の駆動支持体に取り
付けて複写工程を行なうものであるが、この時シ
ート状感光体の継ぎ目が存在するため、複写機本
体にコピー時の位置合せ機構を設ける必要があ
り、又シート状感光体の交換時の操作が複雑とな
り、又更にシート状感光体の表面積がコピーサイ
ズ以上に必要であり、そのため複写機本体が大型
となる等の複写機設計上の問題を内在している。 複写機の設計上で以上の諸点を考えると、感光
体は、円筒状のもので継ぎ目がなくしかも均一に
塗布された形状のものが望ましいと言える。而乍
ら、円筒状基体に塗工された光導電性化合物を含
む溶液は、先に述べたシート状基体と異なり、均
一乾燥が困難である。例えば、塗工された円筒状
感光体が連続的に乾燥炉内を移動する乾燥機構造
を考えた場合、工程上徐熱と徐冷は可能であるが
個々の感光体表面のどの部分に対しても均一な乾
燥熱風を吹きつける事は出来ない。又、一台の乾
燥炉で一個の感光体を静置して乾燥する構成の装
置に於いては感光体全表面に対して周囲から一様
な加熱が可能であるが、乾燥時間は比較的長時間
を要し、連続生産の面では実用的でない。 本発明者らは、以上の諸点に鑑み、円筒状基体
の熱的特性を改良する事により、感光体の製造時
の乾燥工程での欠陥のない円筒状感光体を得る事
を見いだした。 従つて、本発明の目的は、生産収率の高い塗布
乾燥してなる円筒状電子写真感光体を提供する事
にある。又、更に安定品質で大量生産が可能な電
子写真感光体を提供する事にある。別な目的とし
て、複写機本体の設計上或いはコスト上、有利な
電子写真感光体を提供する事にある。その他の目
的は以下の説明から明白である。 従来、塗布および乾燥工程からなる電子写真感
光体の製造工程に於いて、塗工技術に関し種々の
検討がなされ、基板形状或いは材質に依らず、塗
布厚みの一定なムラのない均質被膜が得られてい
る。一方、乾燥工程はシート状基板はともかく、
円筒状基板を用いる場合は、一慣した検討がなさ
れている訳ではなく、工程に合せて条件を調整し
ているのが現状で、むしろノウ・ハウ領域の技術
と言える。又、乾燥工程での均一性は、単に視覚
的に良、不良が判定出来るものではなく、電位特
性上、良品であり、内部欠陥も含めて均一である
事が要求される。 本発明者らは、円筒状基板を用いる場合の乾燥
条件、例えば(1)乾燥機構成、(2)基板の材質、(3)基
板の熱的特性、或いは(4)塗布溶剤、等の検討を行
なつた結果、基板の熱的特性が一定の条件を満足
している事が必要である事を見いだした。もちろ
ん、他の諸条件も均一乾燥には不可欠の因子であ
るが、例えこれらの条件が好ましいものであつて
も、基板の熱的特性が不十分である場合には、乾
燥による良品率の低下をもたらすことになる。特
に、乾燥工程で収率低下を起し易い感光体とし
て、顔料の分散系の感光層が物質的に不連続であ
る場合、又塗布被膜が薄層である場合程より顕著
であつた。 これら感光体の乾燥工程に於けるムラの発生と
基板の熱的特性の相関を以下の概要に示す。即
ち、乾燥工程で欠陥の発生し易い感光体として
は、後述する実施例１の如き、機能分離型有機電
子写真感光体の電荷発生層を用いて、基板の熱的
特性と乾燥ムラの発生原因について調べた。この
電荷発生層の塗工液は、β型銅フタロシアニンを
ポリビニルブチラール樹脂中にシクロヘキサノン
とメチルエチルケトンを溶媒として、サンドミル
により分散して調整したものでＰ／Ｂ比（Ｐ〔顔
料〕とＢ〔バインダー〕の重量比）は1.0であり、
溶媒に対する固形分比は重量で４パーセントであ
る。準備した塗工液は、各種の熱的特性の異なる
円筒状基板の表面に、湿潤時膜厚で5μｍとなる
様に浸漬引き上げ法により塗布した。次いで、
130℃の熱風乾燥機で基板温度が120℃まで上昇さ
せてから10分間乾燥した。乾燥後の膜厚は0.21〜
0.22μｍであつた。こうして得た電荷発生層の上
に、電荷輸送層として、Ｐ−ジエチルアミノベン
ズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフエニルヒドラゾンを
溶解したポリメチルメタクリレート溶液を乾燥膜
厚が15μｍとなる様に塗布乾燥して、感光体を作
製した。電荷輸送層は別に単独で導電基板に作製
して、乾燥ムラの無い事を確認した。電荷輸送層
は、物質的に均質であり、膜厚も肉厚のために乾
燥の影響を受け難いものと考えられる。従つて、
この様にして作製した感光板の電位ムラは、電荷
発生層の乾燥時に於ける基板の熱的特性の差であ
ると判断出来る。 ここで用いた円筒状基板は外径80mmφ長さ400
mmで材質および肉厚を変化させたもので、各々の
熱的特性は第１表に示すものである。

【表】 単位表面積当りの熱容量Ｃ（基準温度25℃）は
円筒状基板を一定面積に切り取り、常法により測
定した。基板(A)〜(D)は同一材質を用いているが、
厚みが異なるため単位面積当りの熱容量が異な
る。この際、厚みは、約0.5〜3.0mmである。 これらの基板上に、前述の如く電荷発生層を作
成するが、この際の乾燥条件や、乾燥機構成の影
響を出来るだけ少なくするため、第１図に略断面
図を示す乾燥機を試作して用いた。第１図の乾燥
機は円筒状感光体の全表面に均一加熱が施される
様に工夫した構成としたものである。即ち、ヒー
ター１０１で加熱された空気が、ブロワー１０２
で送風ダクト１０３を通して乾燥炉の外壁１０４
と内壁１０５の間の中空部に吹き込まれる。乾燥
熱風は内壁１０５に設けられた開口部１０６と１
０７を通つて、炉内１１３に送られる。この時、
炉内１１３の熱風が常に一様に循環される様に送
風ダクト口部１１４の付近に、フアン１０８をモ
ーター１０９で回転せしめる。炉内１１３には支
持台１１０が設けられ、その上に被乾燥感光体１
１１を装着する。支持台１１０はモーター（図示
せず）で回転可能であり、内壁１０５の周囲から
送られた熱風は均等に感光体１１１の表面に吹き
つけられる。乾燥に使用された熱風は排気ダクト
１１２を通つて炉外に放出される。第１図の乾燥
機の特徴は、常に一定温度の熱風が円筒状感光体
の全表面に送られる構造としたものであり、又乾
燥条件はヒーター電源の出力およびブロワーの風
量、フアンの回転数、支持台の回転数やダクトの
随所に設けられたダンパーにより調整できる。乾
燥条件設定の一方法として、感光体溶液を塗布し
ない基板を用い、その内部に熱電対温度計のプロ
ーブを第１図のａ，ｂ，ｃ，ｄの如く、場所を変
えてセツトし、各々の場所間で温度差が最とも少
ない条件を選ぶ。又、風量は、乾燥時間内で溶剤
蒸気が排気されるのに必要量で出来るだけ穏かな
条件とした。前述の電荷発生層の適正乾燥条件
は、炉内容積0.15m³で、ブロワー風量１m³／
min、熱風温度130℃、および基板支持台の回転
数15rpmであつた。その時の基板の昇温曲線は第
２図に示すものである。第２図に示す昇温曲線２
１は円筒状基板(A)に、曲線２２は基板(B)に、曲線
２３は基板(C)に、曲線２４は基板(D)にそれぞれ対
応している。曲線上のプロツトは、測定箇所ａ、
ｂ、ｃ、ｄの平均値と最大値および最小値を示し
た。かかる条件下で作製した感光体の電位ムラ
は、電荷発生層の乾燥工程に於ける基板の熱的特
性の違いに依るものと言える。 第１表の円筒状基板サンプル(B)および(D)を用い
て作製した感光体の電位特性を第３図に示す。電
位特性は、感光体を測定用に改造した複写機に装
填し感光体を回転駆動しながら、印加電圧−
6KVのコロナ帯電器で帯電し、次いで露光を行
なつて、測定した。測定箇所は、円筒状感光体の
軸方向に対して第１図の温度測定箇所ａ、ｂ、
ｃ、ｄに相当する位置で、その周方向に沿つて行
つた。第３図の横軸は感光体の長手方向の位置を
表わし、図中のプロツトは、左側よりａ、ｂ、
ｃ、ｄの位置に対応する。又、縦軸は感光体の表
面電位である。 第３図のプロツトは、円筒状感光体の長手方向
の一点を基準にして、その一周の表面電位の平均
値と最大値および最小値を示す。即ち、これらの
電位のバラツキが電位ムラとして評価できる。第
３図の曲線３１と３１′はそれぞれ、基板サンプ
ル(B)の上に作成した感光体の暗部電位と明部電位
を、又、曲線３２と３２′はそれぞれ基板(D)の上
に作成した感光体の暗部電位と明部電位を示すも
のである。 この結果から判断出来る事は、基板サンプル(B)
を用いた感光体は円筒状の長手方向および周方向
に対して、電位変動が少なく、わずかに暗部電位
で20V程度の差がある程度である。これに対し、
基板サンプル(D)を使用した場合には、暗部電位で
130V、明部電位で43Vの電位ムラが生じた。特
に、明部電位のムラは画像の地カブリや汚れの原
因となり、複写工程上好ましくないものである。
この電位ムラの発生原因は、前述した如く、電荷
発生層の乾燥工程に於ける基板の熱的特性に依る
ものであると考えられる。又、現象としては乾燥
時に於けるβ−銅フタロシアニンの分散粒子が不
均質な凝集状態を起したり、部分的な濃度変化が
発生したためと考えられる。基板サンプル(B)およ
び(D)の熱的特性の差は、単位表面積当りの熱容量
が異なるもので、第２図の昇温曲線に示す如く、
熱容量の大きな基板(D)では昇温初期に僅かな温度
バラツキが観察される。第２図の曲線は基板単体
の昇温を示すものであるが、この上に感光体溶液
を塗工した場合には、乾燥初期段階での温度バラ
ツキが感光層の形成に微妙な影響を与えるものと
推定される。 即ち、感光層が分散系の如く物質的に不連続な
場合、乾燥初期では未だ塗工層に十分な溶媒を含
んでおり、低粘性であるため、分散粒子は熱的に
自由運動をしており、この時基板に部分的な温度
分布が生じると、不均一な凝集状態や部分的な濃
度変化をもたらすことが理解される。乾燥初期段
階では、溶媒のさかんな気化過程にあり、感光体
と周囲温度の差が最とも大きな状態である事を考
えると、第２図に示した基板単体の昇温時の温度
分布よりも、もつと複雑な熱的過程を経ていると
言える。例えば、塗布層を含めた熱対流等も考え
られる。 いずれにせよ以上に述べた検討結果により、感
光層が、分散系の如き物質的に不連続な場合に
は、乾燥工程に於いて、基板の熱的特性が電位ム
ラの発生に重要な因子を与えている事が理解出来
よう。特に、この様な観点では基板の熱伝導率が
高く、与えられた乾燥熱が部分的に不均一であつ
ても、速やかに拡散して、温度分布の少ない状態
が達成されれば良いと考えがちであるが、これま
での結果から判る様に、比較的熱伝導率の高いア
ルミニウムの基板サンプル(A)〜(D)を用いた場合で
も、その単位表面積当りの熱容量の違いが、分散
系被膜に影響を与えている事を示している。これ
は、温度分布が生じた時の熱的過程、例えば基板
の厚み方向への熱対流、溶剤の気化潜熱或いは分
散粒子やポリマーの熱的自由運動等を考慮する必
要があり、それらの相互関係で乾燥が進むもので
ある。基板の熱的特性に関しては、理想的には、
非常に熱伝導率が高く、基板内での厚み方向への
温度勾配の生じない様な極く小さな熱容量である
事が望ましい。熱容量が大きな場合には、乾燥初
期段階の溶剤の気化或いは粒子の熱運動等の感光
層形成上の重要な因子に対して増大して影響す
る。 以上の考え方から、先に第１表に示した各種材
質の異なる基板サンプル(A)〜(H)の熱的特性と、電
荷発生層の乾燥工程で生じた、電位ムラの関係を
整理した。その結果、基板の単位表面積当りの熱
容量Ccal／cm²・℃および熱伝導率ρcal／cm・sec
℃とし、 Ｃ／ρ≦0.250sec／cm の熱的特性を満足する基板では非常に乾燥が均一
に行なわれる事が確められた。例えば先に述べた
β−銅フタロシアニンを分散溶液を塗工乾燥した
場合のＣ／ρと電位ムラの測定結果を第４図に示
す。第４図の横軸は基板のＣ／ρであり、縦軸は
複写画像に影響し易い明部電位の同一感光体での
最大値と最小値の差分であり、所謂電位ムラであ
る。第４図のプロツト点Ａ〜Ｈは第１表に示した
基板サンプル(A)〜(H)に相当する。第４図から判る
様にＣ／ρ＞0.250以上では、大きな電位ムラが
生じ好ましくない。又、基板材質に依存しないも
のであつた。 以上の検討で明らかな様に、物質的に不連続な
感光層を薄膜に形成する場合、基板の熱的特性
は、Ｃ／ρ≦0.250sec／cmである事が収率向上に
必要である。Ｃ／ρはその単位から判る様に、乾
燥工程で不均一な温度分布が感光体に生じた時
に、如何に早く補償するかを表わしており、基板
の熱伝導率と単位面積当りの熱容量で定められ
る。又、円筒状基板の材質の熱伝導率ρは
0.02cal／cm・sec・℃以上であることが好まし
い。 これまでの概要説明は、感光体としてβ−銅フ
タロシアニンを含む電荷発生層を用いて、基板の
熱的特性の影響について行なつた一例であるが、
説明で明らかな様に、基板の熱的特性が乾燥工程
で生じる温度分布の補償に本質的な役割を担つて
いる事から、本発明は、各種の感光体に適用して
も有効である。 本発明で用いる光導電性化合物、特に前述の電
荷発生層で用いる電荷発生物質としては、広範な
ものから選択することができる。例えば、下記に
示す化合物が好適である。 (17) 銅フタロシアニン 電荷発生層は、前述の電荷発生物質を適当な結
着剤に分散させ、これを基体の上に塗工すること
によつて形成できる。この時、電荷発生層は５ミ
クロン以下、好ましくは0.01〜１ミクロンの膜厚
で形成される。電荷発生層を塗工によつて形成す
る際に用いうる結着剤としては広範な絶縁性樹脂
から選択でき、またポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ポリビニルアントラセンやポリビニルピレン
などの有機光導電性ポリマーから選択できる。好
ましくは、ポリビニルブチラール、ポリアリレー
ト（ビスフエノールＡとフタル酸の縮重合体な
ど）、ポリカーボネート、ポリエステル、フエノ
キシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリ
アクリルアミド樹脂、ポリアミド、ポリビニルピ
リジン、セルロース系樹脂、ウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドンなどの絶縁性樹脂を挙げるこ
とができる。電荷発生層中に含有する樹脂は、80
重量％以下、好ましくは40重量％以下が適してい
る。塗工の際に用いる有機溶剤としては、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノールなどのアル
コール類、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノンなどのケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドな
どのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスル
ホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエ
ーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステ
ル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエ
チレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなどの
脂肪族ハロゲン化炭化水素類あるいはベンゼン、
トルエン、キシレン、リグロイン、モノクロルベ
ンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族類などを
用いることができる。 塗工は、浸漬コーテイング法、スプレーコーテ
イング法、スピンナーコーテイング法、ビードコ
ーテイング法、マイヤーバーコーテイング法、ブ
レードコーテイング法、ローラーコーテイング
法、カーテンコーテイング法などのコーテイング
法を用いて行なうことができる。 電荷輸送層は、前述の電荷発生層と電気的に接
続されており、電界の存在下で電荷発生層から注
入された電荷キヤリアを受け取るとともに、これ
らの電荷キヤリアを表面まで輸送できる機能を有
している。この電荷輸送層は、電荷発生層の上に
積層されている。 電荷輸送層における電荷キヤリアを輸送する物
質（以下、単に電荷輸送物質という）は、前述の
電荷発生層が感応する電磁波の波長域に実質的に
非感応性であることが好ましい。ここで言う「電
磁波」とは、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、近
赤外線、赤外線、遠赤外線などを包含する広義の
「光線」の定義を包含する。 電荷輸送物質としては電子輸送性物質と正孔輸
送性物質があり、電子輸送性物質としては、クロ
ルアニル、ブロモアニル、テトラシアノエチレ
ン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−ト
リニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−
テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，７−
トリニトロ−９−ジシアノメチレンフルオレノ
ン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、
２，４，８−トリニトロチオキサントン等の電子
吸引性物質やこれら電子吸引性物質を高分子化し
たもの等がある。 正孔輸送性物質としては、ピレン、Ｎ−エチル
カルバゾール、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、
Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルヒドラジノ−３−メチ
リデン−９−エチルカルバゾール、Ｎ，Ｎ−ジフ
エニルヒドラジノ−３−メチリデン−９−エチル
カルバゾール、Ｎ，Ｎ−ジフエニルヒドラジノ−
３−メチリデン−10−エチルフエノチアジン、
Ｎ，Ｎ−ジフエニルヒドラジノ−３−メチリデン
−10−エチルフエノキサジン、Ｐ−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフエニルヒドラ
ゾン、Ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−Ｎ
−α−ナフチル−Ｎ−フエニルヒドラゾン、Ｐ−
ピロリジノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフエニ
ルヒドラゾン、１，３，３−トリメチルインドレ
ニン−ω−アルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフエニルヒド
ラゾン、Ｐ−ジエチルベンズアルデヒド−３−メ
チルベンズチアゾリノン−２−ヒドラゾン等のヒ
ドラゾン類、２，５−ビス（Ｐ−ジエチルアミノ
フエニル）−１，３，４−オキサジアゾール、１
−フエニル−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）
−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）ピラゾリ
ン、１−〔キノリル(2)〕−３−（Ｐ−ジエチルアミ
ノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニ
ル）ピラゾリン、１−〔ピリジル(2)〕−３−（Ｐ−
ジエチルアミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルア
ミノフエニル）ピラゾリン、１−〔６−メトキシ
−ピリジル(2)〕−３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）ピラゾ
リン、１−〔ピリジル(3)〕−３−（Ｐ−ジエチルア
ミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニ
ル）ピラゾリン、１−〔レピジル(2)〕−３−（Ｐ−
ジエチルアミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルア
ミノフエニル）ピラゾリン、１−〔ピリジル(2)〕−
３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−４−メチル
−５−（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）ピラゾリ
ン、１−〔ピリジル(2)〕−３−（α−メチル−Ｐ−
ジエチルアミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルア
ミノフエニル）ピラゾリン、１−フエニル−３−
（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−４−メチル−５
−（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）ピラゾリン、
１−フエニル−３−（α−ベンジル−Ｐ−ジエチ
ルアミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフ
エニル）ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピ
ラゾリン類、２−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）
−６−ジエチルアミノベンズオキサゾール、２−
（Ｐ−ジエチルアミノフエニル）−４−（Ｐ−ジメ
チルアミノフエニル）−５−（２−クロロフエニ
ル）オキサゾール等のオキサゾール系化合物、２
−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−６−ジエチル
アミノベンゾチアゾール等のチアゾール系化合
物、ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフエ
ニル）−フエニルメタン等のトリアリールメタン
系化合物、１，１−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチル
アミノ−２−メチルフエニル）ヘプタン、１，
１，２，２−テトラキス（４−Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノ−２−メチルフエニル）エタン等のポリア
リールアルカン類、トリフエニルアミン、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポ
リビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、
ポリ−９−ビニルフエニルアントラセン、ピレン
−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホ
ルムアルデヒド樹脂等がある。 また、これらの電荷輸送物質は、１種または２
種以上組合せて用いることができる。 電荷輸送物質に成膜性を有していない時には、
適当なバインダーを選択することによつて被膜形
成できる。バインダーとして使用できる樹脂は、
例えばアクリル樹脂、ポリアクリレート、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、アク
リロニトリル−スチレンコポリマー、アクリロニ
トリル−ブタジエンコポリマー、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、
ポリアクリルアミド、ポリアミド、塩素化ゴムな
どの絶縁性樹脂、あるいはポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニル
ピレンなどの有機光導電性ポリマーを挙げること
ができる。 電荷輸送層は、電荷キヤリアを輸送できる限界
があるので、必要以上に膜厚を厚くすることがで
きない。一般的には、５ミクロン〜30ミクロンで
あるが、好ましい範囲は８ミクロン〜20ミクロン
である。塗工によつて電荷輸送層を形成する際に
は、前述した様な適当なコーテイング法を用いる
ことができる。 前述の円筒状基板と感光層の中間に、バリヤー
機能と接着機能をもつ下引層を設けることもでき
る。下引層は、カゼイン、ポリビニルアルコー
ル、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コ
ポリマー、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン
66、ナイロン610、共重合ナイロン、アルコキシ
メチル化ナイロンなど）、ポリウレタン、ゼラチ
ン、酸化アルミニウムなどによつて形成できる。 下引層の膜厚は0.1ミクロン〜５ミクロン、好
ましくは0.5ミクロン〜３ミクロンが適当である。 本発明の円筒状電子写真感光体は、乾燥工程で
発生する電子写真的欠陥を、特殊な乾燥装置や、
微妙な乾燥条件を設定する事なく、高収率で生産
可能であり、各種の塗布系感光体に適用できる。
これらの有効性は以下の実施例で更に明白であ
る。 実施例 １ 各種熱的特性の異なる円筒状基板を準備し、こ
れに機能分離型有機感光体層を作製し、基板の熱
的特性と乾燥工程で生じる電位ムラを調べた。 準備した円筒状基板は前述の第１表に示す基板
(A)〜(H)で、切削加工により、外径80mmφ、長さ
400mmで各５本づつ作製した。基板の単位表面積
当の熱容量Ccal／cm²・℃および熱伝導率ρcal／
cm・sec・℃とすると、基板(A)〜(H)のＣ／ρ
sec／cmは第２表に示すものである。

【表】 塗工した感光層は、電荷発生層と電荷輸送層の
２層構成からなり、各々の塗工液組成は次に示す
ものである。 (1) 電荷発生層溶液 β型銅フタロシアニン １重量部 ポリビニルブチラール（積水化学社製SLEC−
BM） １ 〃 メチルエチルケトン 25 〃 シクロヘキサノン 18 〃 (2) 電荷輸送層溶液 Ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ
−ジフエニルヒドラゾン 10重量部 ポリメチルメタリレート（三菱レイヨン社製ダ
イヤナールBR−80） 10 〃 モノクロルベンゼン 80 〃 電荷発生層溶液は、サンドミル分散機で20時間
分散して用いた。塗工は、浸漬引き上げ法によ
り、乾燥膜厚で電荷発生層0.21〜0.22μおよび電
荷輸送層15μとなる様にした。 更に乾燥は、第１図に示す乾燥機を用い、前述
の条件で行なつた。この時、電荷発生層は分散系
のため、物質的に不連続であり、又、膜厚も薄い
ために乾燥工程でのムラが発生し易く、電荷輸送
層は物質的に均質のための乾燥時の欠陥が生じな
い事を電子写真的に別に確認した。従つて、本例
では電荷発生層の乾燥工程で生じる電位ムラを評
価するものである。 こうして、円筒状基板(A)〜(D)を用いて作製した
感光体各５本を前述の手段で電位ムラとして、測
定した。電位ムラは、１本の感光体内の明部電位
の最大値と最小値の差分をとり、５本間の平均値
で評価したその結果を第３表に示す。又、Ｃ／ρ
と電位ムラの相関を第４図に示す。

【表】 以上の結果より、基板の熱的特性として、Ｃ／
ρが0.250以上の場合、材質に依らず電荷発生層
の乾燥工程で電位ムラが発生し易いことが判明し
た。 実施例 ２ 実施例１に於ける電荷発生層の溶剤組成を変え
たほかは実施例１と同様にして、基板の熱的特性
と電位ムラを評価した。用いた基板は、第１表と
第２表に示した(A)〜(H)である。 電荷発生層溶液(1)：実施例１に於ける混合溶剤を
メチルエチルケトン単独に変えた。 電荷輸送層溶液(2)：実施例１に於ける混合溶剤を
シクロヘキサノン単独に変えた。 これらの感光体の電位ムラは第４表に示すもの
であつた。

【表】 以上の結果から、Ｃ／ρ＞0.25sec／cmの場合、
電位ムラが発生し易いことが判る。又、溶液(2)の
如く、気化し難い溶剤の方が乾燥工程の電位ムラ
は少なくなる傾向にあるが、而乍ら基板の熱特性
の影響の方が大きいと言える。 実施例 ３ 実施例１に於ける電荷発生層の乾燥条件を変化
させて、基板の熱的特性と電位ムラの関係を調べ
た。乾燥条件は、第５表に示すもので乾燥熱風の
温度およびブロワーの風量を変えた。用いた基板
は、第１表と第２表のサンプル(A)〜(D)である。そ
の時の電位ムラを第５表に併記した。

【表】 この結果より、風量が極端に多い程、又、熱風
温度が高すぎる程、電位ムラの原因となり易い
が、その傾向は基板の熱的特性Ｃ／ρが0.250以
上で顕著であることが判る。 実施例 ４ 実施例１に於ける基板(A)〜(H)に対して、下引き
層を設けた場合の電荷発生層の乾燥ムラを測定し
た。 下引き層は、10重量％のカゼインのアンモニア
性水溶液を用いて、乾燥膜厚1μとなる様に塗布
乾燥した。この時の電位ムラの測定結果を第６表
に示す。

【表】 この結果は、実施例１と同様の傾向を示した。 実施例 ５ 実施例１で用いた電荷発生層の代わりに、次の
電荷発生層溶液を調製した。分散は、サンドミル
にて行なつた。 電荷発生層溶液(3) ペリレンレツド １重量部 フエノキシレジン（ユニオンカーバイト社製
PKHH） １ 〃 メチルセロソルブ 20 〃 キシレン 20 〃

【表】 各々の溶液を、第１表と第２表に示す基板(A)〜
(D)に実施例１と同様にして、機能分離型感光体を
作製した。それぞれの感光体に於ける電位ムラは
第７表に示すものである。

【表】 この結果より、電荷発生層の種類が異なつて
も、基板の熱的特性の影響を受けて、電位ムラの
程度が変化することが判る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施例で用いた乾燥装置の断面図で
ある。第２図は、円筒状基板(A)、(B)、(C)および(D)
の昇温特性を示す説明図である。第３図は、円筒
状基板(B)および(D)を用いて作成した感光体の電位
特性を示す説明図である。第４図は、円筒状基板
(A)〜(H)を用いて作成した感光体の変動変位と円筒
状基板のＣ／ρとの関係を示す説明図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 単位表面積当りの熱容量をCcal／cm²・℃と
   し且つ、材質の熱伝導率をρcal／cm・sec・℃と
   した時、Ｃ／ρが0.250以下である円筒状基板に
   有機系顔料粒子をバインダー中に分散した塗工液
   を塗布乾燥して膜厚が５ミクロン以下の電荷発生
   層を形成し、その上に電荷輸送層を積層して製造
   されたことを特徴とする円筒状電子写真感光体。