JPH0253034A - エレクトロクロミック素子 - Google Patents
エレクトロクロミック素子Info
- Publication number
- JPH0253034A JPH0253034A JP63203285A JP20328588A JPH0253034A JP H0253034 A JPH0253034 A JP H0253034A JP 63203285 A JP63203285 A JP 63203285A JP 20328588 A JP20328588 A JP 20328588A JP H0253034 A JPH0253034 A JP H0253034A
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- JP
- Japan
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- layer
- electrode
- ecd
- upper electrode
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- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、均一着色が可能なエレクトロクロミック素子
に関するものである。
に関するものである。
［従来の技術］
電圧を印加すると可逆的に電解酸化または還元反応が起
こり、可逆的に着色する現象をエレクトロクロミズムと
言う。
こり、可逆的に着色する現象をエレクトロクロミズムと
言う。
このような現象を示すエレクトロクロミック（以下、Ｅ
Ｃと略称する）物質を用いて、電圧操作により着消色す
るＥＣ素子（以下、ＥＣＤと略す）を作り、このＥＣＤ
を光量制御素子（例えば、防眩ミラー）や７セグメント
を利用した数字表示素子に利用しようとする試みは、２
０年以上前から行なわれている。
Ｃと略称する）物質を用いて、電圧操作により着消色す
るＥＣ素子（以下、ＥＣＤと略す）を作り、このＥＣＤ
を光量制御素子（例えば、防眩ミラー）や７セグメント
を利用した数字表示素子に利用しようとする試みは、２
０年以上前から行なわれている。
例えば、ガラス基板の上に透明電極膜（陰極）、三酸化
タングステン薄膜、二酸化ケイ素のような絶縁膜、電極
膜（陽極）を順次積層してなるＥＣＤ （特公昭５２−
４６０９８号参照）が全固体型ＥＣＤとして知られてい
る。
タングステン薄膜、二酸化ケイ素のような絶縁膜、電極
膜（陽極）を順次積層してなるＥＣＤ （特公昭５２−
４６０９８号参照）が全固体型ＥＣＤとして知られてい
る。
このＥＣＤに電圧を印加すると三酸化タングステン（Ｗ
Ｏ３）薄膜が青色に着色する。その後、このＥＣＤに逆
の電圧を印加すると、ＷＯ３薄膜の青色が消えて無色に
なる。この着色・消色する機構は詳しくは解明されてい
ないが、ＷＯ１薄膜および絶縁膜（イオン導電層）中に
含まれる少量の水分がＷＯ３の着色・消色を支配してい
ると理解されている。
Ｏ３）薄膜が青色に着色する。その後、このＥＣＤに逆
の電圧を印加すると、ＷＯ３薄膜の青色が消えて無色に
なる。この着色・消色する機構は詳しくは解明されてい
ないが、ＷＯ１薄膜および絶縁膜（イオン導電層）中に
含まれる少量の水分がＷＯ３の着色・消色を支配してい
ると理解されている。
着色の反応式は以下のように推定されている。
１：２０ → Ｈ” ＋ ０Ｒ−（Ｗ０
３膜＝陰極側） ＷＯ３＋ｎｆｌ” ＋ｎｅ−−＊
ＨｎＷＯ３無色透明 着色 従来用いられているＥＣＤの代表的なものは、上部電極
と下部電極の間に、還元着色性ＥＣ層（例えばＷＯ３）
、イオン導電層、可逆的電解酸化層（例えば酸化又は水
酸化イリジウム）が積層され、両電極間に所定の電圧を
印加できる構造となっている。
３膜＝陰極側） ＷＯ３＋ｎｆｌ” ＋ｎｅ−−＊
ＨｎＷＯ３無色透明 着色 従来用いられているＥＣＤの代表的なものは、上部電極
と下部電極の間に、還元着色性ＥＣ層（例えばＷＯ３）
、イオン導電層、可逆的電解酸化層（例えば酸化又は水
酸化イリジウム）が積層され、両電極間に所定の電圧を
印加できる構造となっている。
ところで、ＥＣ層を直接又は間接的に挟む一対の電極層
は、ＥＣ層の着消色を外部に見せるために少なくとも一
方は透明でなければならない。特に透過型のＥＣＤの場
合には画電極層とも透明でなければならない。
は、ＥＣ層の着消色を外部に見せるために少なくとも一
方は透明でなければならない。特に透過型のＥＣＤの場
合には画電極層とも透明でなければならない。
透明な電極材料としては、現在のところＳｎＯ。
Ｉｎ２Ｏ３，ＩＴＯ（Ｓｎ０２とＩｎ２Ｏ３との混合物
） 、 ＺｎＯなどが知られているが、これらの材料は
比較的透明度か悪いために薄くせねばならず、この理由
及びその他の理由から、ＥＣＤは基板（例えばガラス板
やプラスデック板）の上に形成されるのが普通である。
） 、 ＺｎＯなどが知られているが、これらの材料は
比較的透明度か悪いために薄くせねばならず、この理由
及びその他の理由から、ＥＣＤは基板（例えばガラス板
やプラスデック板）の上に形成されるのが普通である。
また、ＥＣＤは、用途によって素子を保護するための封
止基板を素子基板と対向するように配置して、例えばエ
ポキシ樹脂等を用いて密閉封止して用いられる。
止基板を素子基板と対向するように配置して、例えばエ
ポキシ樹脂等を用いて密閉封止して用いられる。
［発明が解決しようとする課題］
従来０ＥＣＤにおいては、上部電極抵抗をｒ下部電極抵
抗をｒ゛、素子の内部抵抗をＲとした時、ｒ’、Ｒ＜ｒ
の関係になっていた。
抗をｒ゛、素子の内部抵抗をＲとした時、ｒ’、Ｒ＜ｒ
の関係になっていた。
第３図は、このような抵抗の関係にある素子に電圧を印
加した場合における電流■の流れるようすを模式的に示
した図である。上部電極方向よりも素子内部方向の方が
抵抗が小さいため、図に示されるように、電流■の大部
分は上部電極の一端から素子内部に流れ込んでしまい、
素子の一端においては前述した反応が進行して濃く着色
するが、中央部から別の一端にかけてはほとんど電流が
流れず、着色が非常に薄くなる。
加した場合における電流■の流れるようすを模式的に示
した図である。上部電極方向よりも素子内部方向の方が
抵抗が小さいため、図に示されるように、電流■の大部
分は上部電極の一端から素子内部に流れ込んでしまい、
素子の一端においては前述した反応が進行して濃く着色
するが、中央部から別の一端にかけてはほとんど電流が
流れず、着色が非常に薄くなる。
即ち、不均一な着色となり、特に素子が大型化した時に
は、着色濃度分布の差が大きくなって問題があった。
は、着色濃度分布の差が大きくなって問題があった。
この発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、着
色が均一なＥＣＤを提供することを目的としている。
色が均一なＥＣＤを提供することを目的としている。
［課題を解決するための手段］
この発明では、少なくとも、上部電極、エレクトロクロ
ミック層、下部電極を積層してなるエレクトロクロミッ
ク素子において、前記上部電極および下部電極の抵抗ｒ
、「° と、前記エレクトロクロミック素子の内部抵抗
Ｒの関係を、ｒ、 ｒくＲとしたことによって、上記
の課題を達成している。
ミック層、下部電極を積層してなるエレクトロクロミッ
ク素子において、前記上部電極および下部電極の抵抗ｒ
、「° と、前記エレクトロクロミック素子の内部抵抗
Ｒの関係を、ｒ、 ｒくＲとしたことによって、上記
の課題を達成している。
［作 用］
第２図は、本発明において上下電極間に電圧を印加（上
部電極 正極性、下部電極：負極性）した場合の電流Ｉ
の流れるようすを示した図である。
部電極 正極性、下部電極：負極性）した場合の電流Ｉ
の流れるようすを示した図である。
本発明では、上部電極および下部電極の抵抗ｒ、ｒ’
とＥＣＤの内部抵抗Ｒの関係をｒ、 ｒ〈Ｒとしてい
るので、電流■の大部分が端部で素子内部に流れ込んで
しまうことがなく、電流■は上部電極から下部電極に向
って、素子内部をほぼ均一に流れる。即ち、電流が均一
に流れることにより、ＥＣ層全体で着色反応が同程度に
おこる。
とＥＣＤの内部抵抗Ｒの関係をｒ、 ｒ〈Ｒとしてい
るので、電流■の大部分が端部で素子内部に流れ込んで
しまうことがなく、電流■は上部電極から下部電極に向
って、素子内部をほぼ均一に流れる。即ち、電流が均一
に流れることにより、ＥＣ層全体で着色反応が同程度に
おこる。
なお、本発明において、上下電極の抵抗ｒｒ゛の大小関
係は特に問題とならないが、実際に成膜すると、基板上
に直接成膜される下部電極より、多層膜上に成膜される
上部電極の方が抵抗が大きくなりやすい。
係は特に問題とならないが、実際に成膜すると、基板上
に直接成膜される下部電極より、多層膜上に成膜される
上部電極の方が抵抗が大きくなりやすい。
本発明におけるＥＣＤの積層構造は、上部電極、ＥＣ層
、下部電極を備えていれば良く、その他は特に限定され
るものでないが、固体型ＥＣＤの構造としては、例えば
■電極層／ＥＣ層／イオン導電層／電極層のような４層
構造；■電極層／通元着色型ＥＣ層／イオン導電層／可
逆的電解酸化層／電極層のような５層構造があげられる
。
、下部電極を備えていれば良く、その他は特に限定され
るものでないが、固体型ＥＣＤの構造としては、例えば
■電極層／ＥＣ層／イオン導電層／電極層のような４層
構造；■電極層／通元着色型ＥＣ層／イオン導電層／可
逆的電解酸化層／電極層のような５層構造があげられる
。
透明電極の材料としては、例えば、ＳｎＯ，。
Ｉｎ２Ｏ３，ＩＴＯなどが使用される。このような電極
・層は、一般には真空蒸着、イオンブレーティング、ス
バッダリングなどの真空薄膜形成技術で形成される。
・層は、一般には真空蒸着、イオンブレーティング、ス
バッダリングなどの真空薄膜形成技術で形成される。
（還元着色性）ＥＣ層としては一般にＷＯ１Ｍｏ０３な
どが使用される。
どが使用される。
イオン導電層としては、例えば酸化ケイ素、酸化タンタ
ル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化
ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ランタン、フッ化
マグネシウムなどが使用される。これらの物質の薄膜は
製造方法により電子に対して絶縁体であるが、プロトン
（１１勺およびヒドロキシイオン（Ｈ−１に対しては良
導体となる。
ル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化
ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ランタン、フッ化
マグネシウムなどが使用される。これらの物質の薄膜は
製造方法により電子に対して絶縁体であるが、プロトン
（１１勺およびヒドロキシイオン（Ｈ−１に対しては良
導体となる。
ＥＣ層の着色消色反応にはカチオンが必要とされ、Ｈ４
イオンやし１０イオンをＥＣ層その他に含有させる必要
かある。Ｈ１イオンは初めからイオンである必要はなく
、電圧が印加されたときにＨ３イオンか生しればよく、
従ってＨ０イオンの代わりに水を含有させてもよい。こ
の水は非常に少なくて十分であり、しばしば、大気中か
ら自然に侵入する水分でも着消色する。
イオンやし１０イオンをＥＣ層その他に含有させる必要
かある。Ｈ１イオンは初めからイオンである必要はなく
、電圧が印加されたときにＨ３イオンか生しればよく、
従ってＨ０イオンの代わりに水を含有させてもよい。こ
の水は非常に少なくて十分であり、しばしば、大気中か
ら自然に侵入する水分でも着消色する。
ＥＣ層とイオン導電層とは、どちらを上にしても下にし
てもよい。さらにＥＣ層に対して間にイオン導電層を挟
んで（場合により酸化着色性ＥＣ層ともなる）可逆的電
解酸化層ないし触媒層を配設してもよい。
てもよい。さらにＥＣ層に対して間にイオン導電層を挟
んで（場合により酸化着色性ＥＣ層ともなる）可逆的電
解酸化層ないし触媒層を配設してもよい。
このような層としては、例えば酸化ないし水酸化イリジ
ウム、同じくニッケル、同じくクロム、同じくバナジウ
ム、同じくルテニウム、同じくロジウムなどがあげられ
る。これらの物質は、イオン導電層又は透明電極中に分
散されていも良いし、逆にそれらを分散してもよい。
ウム、同じくニッケル、同じくクロム、同じくバナジウ
ム、同じくルテニウム、同じくロジウムなどがあげられ
る。これらの物質は、イオン導電層又は透明電極中に分
散されていも良いし、逆にそれらを分散してもよい。
不透明な電極層は、反射層と兼用していてもよく、例え
ば金、銀、アルミニウム、クロム、スズ、亜鉛、ニッケ
ル、ルテニウム、ロジウム、ステンレスなどの金属が使
用される。
ば金、銀、アルミニウム、クロム、スズ、亜鉛、ニッケ
ル、ルテニウム、ロジウム、ステンレスなどの金属が使
用される。
［実施例］
第１図は、本発明にがかるＥＣＤの一例を示す模式的な
断面図である。
断面図である。
まず、矩形のガラス製素子基板１０の表面全体にＩＴＯ
電極層を成膜し、その後、エツチング又はレーザーカッ
ティングにより、上部電極の取出し部となる部分と下部
電極となる部分の間に溝を形成した。これにより、上部
電極取出し部７とそれと隔離された矩形の下部電極２を
形成した。
電極層を成膜し、その後、エツチング又はレーザーカッ
ティングにより、上部電極の取出し部となる部分と下部
電極となる部分の間に溝を形成した。これにより、上部
電極取出し部７とそれと隔離された矩形の下部電極２を
形成した。
尚、上部電極取出し部７と下部電極２は、ＩＴＯをマス
ク蒸着することにより、直接にこれらのパターンを形成
してもよい。
ク蒸着することにより、直接にこれらのパターンを形成
してもよい。
次に、下部電極２上に酸化イリジウムと酸化スズとの混
合物からなる可逆的電解酸化層５、酸化タンタルからな
るイオン導電層４及び酸化タングステンからなるＥＣ層
３を順に積層した。
合物からなる可逆的電解酸化層５、酸化タンタルからな
るイオン導電層４及び酸化タングステンからなるＥＣ層
３を順に積層した。
そして、さらにＥＣ層３の上に、上部電極ＩとしてＩＴ
Ｏを蒸着した。この時、ＩＴＯは既に素子基板１０上に
形成された上部電極取出し部７と一端が接触するように
形成した。
Ｏを蒸着した。この時、ＩＴＯは既に素子基板１０上に
形成された上部電極取出し部７と一端が接触するように
形成した。
ここで、上記の各層は、成膜する際のガスのＡｒ１０．
比、真空度、成膜速度、基板温度、印加する高周波のパ
ワー等の条件を選択することにより、上部電極１の抵抗
ｒ、下部電８ｉ２の抵抗ｒ°、可逆的電解層５とイオン
導電層４及びＥＣ層３による内部抵抗Ｒの関係か、ｒ、
ｒ＜Ｒとなるように成膜されている。
比、真空度、成膜速度、基板温度、印加する高周波のパ
ワー等の条件を選択することにより、上部電極１の抵抗
ｒ、下部電８ｉ２の抵抗ｒ°、可逆的電解層５とイオン
導電層４及びＥＣ層３による内部抵抗Ｒの関係か、ｒ、
ｒ＜Ｒとなるように成膜されている。
次に、断面がコの字型のリン青銅製の導電性クリップ８
ａ、８ｂを用意し、これに各々、外部配線１１ａ、ｌｌ
ｂをハンダ付り又は導電性接着剤にて接続した。このク
リップ８ａ、８ｂをそれぞれ素子基板１０の端部に装着
し、クリップ８ａが上部電極取り出し部７と、クリップ
８ｂが下部電極２と圧着するようにした。
ａ、８ｂを用意し、これに各々、外部配線１１ａ、ｌｌ
ｂをハンダ付り又は導電性接着剤にて接続した。このク
リップ８ａ、８ｂをそれぞれ素子基板１０の端部に装着
し、クリップ８ａが上部電極取り出し部７と、クリップ
８ｂが下部電極２と圧着するようにした。
尚、この導電性クリップ８ａ、８ｂの形状及び寸法は、
封止基板６（後述）の位置決めとＥＣＤ周辺の非表示部
分のマスキングができるように設定した。
封止基板６（後述）の位置決めとＥＣＤ周辺の非表示部
分のマスキングができるように設定した。
最後に、エポキシ樹脂封止材９を塗布したガラス製の封
止基板６を重ね合わせ（クリップ８ａ。
止基板６を重ね合わせ（クリップ８ａ。
８ｂの間の領域上にくるよう位買合せする）、封止材９
を硬化させて、本実施例のＥＣＤを完成した。
を硬化させて、本実施例のＥＣＤを完成した。
以上のようにして作製したＥＣＤの上部電極１と下部電
極２間に駆動電源１２から着色電圧（◆３Ｖ）を印加す
ると、ＥＣ層３は全面にわたって速やかに着色し、１０
秒後には波長８３３ｎｍの入射光の透過率がＩＨに減少
した。
極２間に駆動電源１２から着色電圧（◆３Ｖ）を印加す
ると、ＥＣ層３は全面にわたって速やかに着色し、１０
秒後には波長８３３ｎｍの入射光の透過率がＩＨに減少
した。
この透過率は、電圧印加を止めてもしばらく保たれ、消
色電圧（−３Ｖ）を印加すると、１０秒後に透過率は７
０％に回復した。
色電圧（−３Ｖ）を印加すると、１０秒後に透過率は７
０％に回復した。
［発明の効果］
以上の通り、本発明は、ＥＣＤの電極抵抗ｒ。
「゛と内部抵抗Ｒの関係をｒ、ｒ’ ＜Ｒとなるように
したことにより、素子面全体にわたって均一に着消色す
ることができるという優れた効果を有している。
したことにより、素子面全体にわたって均一に着消色す
ることができるという優れた効果を有している。
また、本発明においては、局部的な電流の集中が起こら
ないので、用途によって、従来のＥＣＤより高い電圧を
印加して、応答性を高めたり、濃度の可変幅を大きくし
たりすることができる。
ないので、用途によって、従来のＥＣＤより高い電圧を
印加して、応答性を高めたり、濃度の可変幅を大きくし
たりすることができる。
かかるＥＣＤは、大型化した場合でも着消色のムラがほ
とんどないので、自動車や建物用調光ガラスとして特に
有用である。
とんどないので、自動車や建物用調光ガラスとして特に
有用である。
第１図は本発明の実施例にかかるεＣＤの模式％式％
第２図は本発明にがかるＥＣＤにおける電流の流れる様
子を示す模式図、 第３図は従来のＥＣＤにおける電流の流れる様子を示す
模式図である。 ［主要部分の符号の説明］ １・・・上部電極 ２・・・下部電極 ３・・・ＥＣ層 ４・・・イオン導電層 ５・・・可逆的電解酸化層 ６・・・封止基板 ９・・・封止材 ｌＯ・・・素子基板 ｒ ・・・上部電極の抵抗 ｒ′・・・下部電極の抵抗 Ｒ・・・内部抵抗
子を示す模式図、 第３図は従来のＥＣＤにおける電流の流れる様子を示す
模式図である。 ［主要部分の符号の説明］ １・・・上部電極 ２・・・下部電極 ３・・・ＥＣ層 ４・・・イオン導電層 ５・・・可逆的電解酸化層 ６・・・封止基板 ９・・・封止材 ｌＯ・・・素子基板 ｒ ・・・上部電極の抵抗 ｒ′・・・下部電極の抵抗 Ｒ・・・内部抵抗
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 少なくとも、上部電極、エレクトロクロミック層、下部
電極を積層してなるエレクトロクロミック素子において
、 前記上部電極および下部電極の抵抗ｒ、ｒ′と、前記エ
レクトロクロミック素子の内部抵抗Ｒの関係を、ｒ、ｒ
′＜Ｒとしたことを特徴とするエレクトロクロミック素
子。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63203285A JPH0253034A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | エレクトロクロミック素子 |
| CA000608011A CA1313562C (en) | 1988-08-17 | 1989-08-10 | Electrochromic device |
| EP89308231A EP0356099B2 (en) | 1988-08-17 | 1989-08-14 | Electrochromic device |
| DE68915368T DE68915368T3 (de) | 1988-08-17 | 1989-08-14 | Elektrochrome Vorrichtung. |
| KR1019890011628A KR0128732B1 (ko) | 1988-08-17 | 1989-08-16 | 일렉트로크로믹 장치 |
| US07/798,368 US5148306A (en) | 1988-08-17 | 1991-11-21 | Electrochromic device with specific resistances |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63203285A JPH0253034A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | エレクトロクロミック素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0253034A true JPH0253034A (ja) | 1990-02-22 |
Family
ID=16471517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63203285A Pending JPH0253034A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | エレクトロクロミック素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0253034A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022124678A (ja) * | 2021-02-16 | 2022-08-26 | キヤノン株式会社 | エレクトロクロミック素子、及びそれを有するレンズユニット、撮像装置 |
-
1988
- 1988-08-17 JP JP63203285A patent/JPH0253034A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022124678A (ja) * | 2021-02-16 | 2022-08-26 | キヤノン株式会社 | エレクトロクロミック素子、及びそれを有するレンズユニット、撮像装置 |
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