JPS6384934U - - Google Patents

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JPS6384934U
JPS6384934U JP17924486U JP17924486U JPS6384934U JP S6384934 U JPS6384934 U JP S6384934U JP 17924486 U JP17924486 U JP 17924486U JP 17924486 U JP17924486 U JP 17924486U JP S6384934 U JPS6384934 U JP S6384934U
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JP
Japan
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shutter
reflected light
exposure
base substrate
monitor section
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JP17924486U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す概略図、第2
図及び第3図はそれぞれ他の実施例において反射
光強度をモニタする光学系の部分を示す概略図、
第4図はマスクの欠陥検査手段を備えた縮小投影
露光装置を示す概略図である。 2……光源、4……マスク、6……半導体ウエ
ハ、8……ホトレジスト、10,12……レンズ
系、14……シヤツタ、16……シヤツタコント
ロール部、20……ハーフミラー、22……光セ
ンサ、24……光フアイバ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 光源からの光をマスクを通して下地基板上の感
    光材料に照射して露光を行なう光学系に、シヤツ
    タコントロール部により開閉動作が制御されて露
    光時間を制御することのできるシヤツタを備えた
    露光装置において、前記下地基板からの反射光強
    度を検出する反射光モニタ部を設け、この反射光
    モニタ部の検出信号を前記シヤツタコントロール
    部に入力し、前記シヤツタの開時間を調整するこ
    とを特徴とする露光装置。
JP17924486U 1986-11-20 1986-11-20 Pending JPS6384934U (ja)

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JP17924486U JPS6384934U (ja) 1986-11-20 1986-11-20

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JP17924486U JPS6384934U (ja) 1986-11-20 1986-11-20

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JPS6384934U true JPS6384934U (ja) 1988-06-03

Family

ID=31122134

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JP17924486U Pending JPS6384934U (ja) 1986-11-20 1986-11-20

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