JPH0267262A - 硫黄を経て結合した置換基をもつ(ヘテロ)アリールオキシナフタレン - Google Patents
硫黄を経て結合した置換基をもつ(ヘテロ)アリールオキシナフタレンInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は硫黄を介して結合した置換基を有する新規な(
ヘテロ)アリールオキシナフタレン、その製造方法及び
その製造に対する新規な中間生成物、並びに除草剤とし
てのその用途に関する。
ヘテロ)アリールオキシナフタレン、その製造方法及び
その製造に対する新規な中間生成物、並びに除草剤とし
てのその用途に関する。
ある種のジオキシ−ベンゼン誘導体、例えばα−[4−
(2,4−ジクロロフェノキシ)−フェノキシ1−プロ
ピオン酸メチル[ジクロホップ−メチル(diclof
op−methyl) ]は除草作用を有す式中、mは
数O% lまたは2を表わし、nは数0またはlを表わ
し、 R1は水素、ハロゲン、シアノまたはトリフルオロメチ
ルを表わし、 R1は水素またはハロゲンを表わし、 R3はハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロメ
チルスルホニルを表わし、 R′は水素またはハロゲンを表わし、 Xは窒素または基C−R’を表わし、ここで、R5は水
素またはハロゲンを表わし、 Yは酸素または基 R’ R’ R”
R酪の1つを表わし、ここで、 Reハ水素、−CO−Zまたは一3O,−Zを表わし、
そして Zは水素、ハロゲンまたは一連のアルキル、シクロアル
キル、シクロアルキルアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アラルキル、アリル及びヘテロアリールからなる随
時置換されていてもよい基を表わす、 の硫黄を介して結合した置換基を有する新規な(ヘテロ
)アリールオキシナフタレン及び数式(I)の化合物の
塩(例えばZ−金属当量)が見い出された。
(2,4−ジクロロフェノキシ)−フェノキシ1−プロ
ピオン酸メチル[ジクロホップ−メチル(diclof
op−methyl) ]は除草作用を有す式中、mは
数O% lまたは2を表わし、nは数0またはlを表わ
し、 R1は水素、ハロゲン、シアノまたはトリフルオロメチ
ルを表わし、 R1は水素またはハロゲンを表わし、 R3はハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロメ
チルスルホニルを表わし、 R′は水素またはハロゲンを表わし、 Xは窒素または基C−R’を表わし、ここで、R5は水
素またはハロゲンを表わし、 Yは酸素または基 R’ R’ R”
R酪の1つを表わし、ここで、 Reハ水素、−CO−Zまたは一3O,−Zを表わし、
そして Zは水素、ハロゲンまたは一連のアルキル、シクロアル
キル、シクロアルキルアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アラルキル、アリル及びヘテロアリールからなる随
時置換されていてもよい基を表わす、 の硫黄を介して結合した置換基を有する新規な(ヘテロ
)アリールオキシナフタレン及び数式(I)の化合物の
塩(例えばZ−金属当量)が見い出された。
更に、−該式(I)の硫黄を介して結合した置換基を有
する新規な(ヘテロ)アリールオキシナフタレンは、 (a)mが2を表わし、nが1を表わし、Yが酸素を表
わし、Zが水素または金属当量を表わし、そしてR1、
R1R1、R4及びXが上に示した意味を有する場合、
−該式(II) R1R1 \ / 式中、R1,R2、R3、R4及びXは上に示した意味
を有し、そして Z′はハロゲンを表わす、 のハロゲノ−(ヘテロ)アリール化合物を、適当ならば
酸受容体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在
下において、−該式(III)のヒドロキシナフタレン
スルホン酸またはその金属塩と反応させ、適当ならば、
次に生成物を強酸で処理するか、 (b)mが数0、lまたは2を表わし、nが数0を表わ
し、2がハロゲンを表わし、そしてRIR2、R3、R
4及びXが上に示した意味を有する場合、一般式(I)
、但し、mは数0,1まI;は2を表わし、nは数1を
表わし、Yは酸素を表わし、Zは水素または金属当量を
表わし、そしてR’、R”、R3、R4及びXは上に示
した意味を有する、の化合物を、適当ならば触媒または
ハロゲン化補助剤の存在下において且つ適当ならば希釈
剤の存在下においてハロゲン化剤と反応させるか、(c
)mが数0、lまたは2を表わし、nが数0を表わし、
Zが水素または金属当量を表わし、そしてR1、R8、
R3,R4及びXが上に示した意味を有する場合、一般
式(■)、但し、mは数2を表わし、nは数Oを表わし
、Zはハロゲンを表わし、そしてR’、R”、R’、R
4及びX (:t 上1: 示した意味を有する、の化
合物を適当ならば還元補助剤の存在下において且つ適当
ならば希釈剤の存在下において還元剤と反応させるか、 (d)mが数0.lまたは2を表わし、nが数1を表t
)L、そしてR′、R8、R3、R4、X%Y及び2が
上に示した意味を有する場合、式(I)、但し、mは数
0,1まt;は2を表わし、nは数0を表わし、2はハ
ロゲンを表わし、そしてR1R2、R1,R4及びXは
上に示した意味を有する、の化合物を適当ならば酸受容
体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在下にお
いて一般式%式%) 式中、n%Y及び2は上に示した意味を有し、そして Mは水素または金属当量を表わす、 の求核的化合物と反応させるか、或いは(e)Zが、水
素及びハロゲンを除いて、上に示した意味を有し、そし
てm、n%RIR2R1、R4、X及びYが上に示した
意味を有する場合、式(I)、但し、Yは酸素またはN
Hを表わし、2は水素を表わし、そしてm、n、R’1
R”R3、R4及びXは上に示した意味を有する、の化
合物を、適当ならば酸受容体の存在下において且つ適当
ならば希釈剤の存在下において一般式(V)Z”−(Y
’)n −Z ’ (V )式中、nは数0ま
たはlを表わし、 YlはCOまたはSO,を表わし、 Z2はハロゲンを表わし、そして z3は、水素及びハロゲンを除いて、2に対して上に示
した意味を有する、 の求核的化合物と反応させ、 そして適当ならば、上記方法によって製造した式(I)
の化合物から塩を製造する ことからなる方法によって得られることが見い出された
。
する新規な(ヘテロ)アリールオキシナフタレンは、 (a)mが2を表わし、nが1を表わし、Yが酸素を表
わし、Zが水素または金属当量を表わし、そしてR1、
R1R1、R4及びXが上に示した意味を有する場合、
−該式(II) R1R1 \ / 式中、R1,R2、R3、R4及びXは上に示した意味
を有し、そして Z′はハロゲンを表わす、 のハロゲノ−(ヘテロ)アリール化合物を、適当ならば
酸受容体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在
下において、−該式(III)のヒドロキシナフタレン
スルホン酸またはその金属塩と反応させ、適当ならば、
次に生成物を強酸で処理するか、 (b)mが数0、lまたは2を表わし、nが数0を表わ
し、2がハロゲンを表わし、そしてRIR2、R3、R
4及びXが上に示した意味を有する場合、一般式(I)
、但し、mは数0,1まI;は2を表わし、nは数1を
表わし、Yは酸素を表わし、Zは水素または金属当量を
表わし、そしてR’、R”、R3、R4及びXは上に示
した意味を有する、の化合物を、適当ならば触媒または
ハロゲン化補助剤の存在下において且つ適当ならば希釈
剤の存在下においてハロゲン化剤と反応させるか、(c
)mが数0、lまたは2を表わし、nが数0を表わし、
Zが水素または金属当量を表わし、そしてR1、R8、
R3,R4及びXが上に示した意味を有する場合、一般
式(■)、但し、mは数2を表わし、nは数Oを表わし
、Zはハロゲンを表わし、そしてR’、R”、R’、R
4及びX (:t 上1: 示した意味を有する、の化
合物を適当ならば還元補助剤の存在下において且つ適当
ならば希釈剤の存在下において還元剤と反応させるか、 (d)mが数0.lまたは2を表わし、nが数1を表t
)L、そしてR′、R8、R3、R4、X%Y及び2が
上に示した意味を有する場合、式(I)、但し、mは数
0,1まt;は2を表わし、nは数0を表わし、2はハ
ロゲンを表わし、そしてR1R2、R1,R4及びXは
上に示した意味を有する、の化合物を適当ならば酸受容
体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在下にお
いて一般式%式%) 式中、n%Y及び2は上に示した意味を有し、そして Mは水素または金属当量を表わす、 の求核的化合物と反応させるか、或いは(e)Zが、水
素及びハロゲンを除いて、上に示した意味を有し、そし
てm、n%RIR2R1、R4、X及びYが上に示した
意味を有する場合、式(I)、但し、Yは酸素またはN
Hを表わし、2は水素を表わし、そしてm、n、R’1
R”R3、R4及びXは上に示した意味を有する、の化
合物を、適当ならば酸受容体の存在下において且つ適当
ならば希釈剤の存在下において一般式(V)Z”−(Y
’)n −Z ’ (V )式中、nは数0ま
たはlを表わし、 YlはCOまたはSO,を表わし、 Z2はハロゲンを表わし、そして z3は、水素及びハロゲンを除いて、2に対して上に示
した意味を有する、 の求核的化合物と反応させ、 そして適当ならば、上記方法によって製造した式(I)
の化合物から塩を製造する ことからなる方法によって得られることが見い出された
。
最後に、式(I)の硫黄を介して結合した置換基を有す
る新規な(ヘテロ)アリールオキシナフタレンはすぐれ
た除草剤特性を有することが見い出された。
る新規な(ヘテロ)アリールオキシナフタレンはすぐれ
た除草剤特性を有することが見い出された。
驚くべきことに、式(I)の硫黄を介して結合した置換
基を有する(ヘテロ)アリールオキシナフタレンは、同
様な作用タイプの構造的に同様なすでに公知の化合物で
あるa −[4−(2,4−ジクロロフェノキシ)−フ
ェノキシ]−プロピオン酸メチルよりも、雑草に対して
顕著に有効な作用を有する。
基を有する(ヘテロ)アリールオキシナフタレンは、同
様な作用タイプの構造的に同様なすでに公知の化合物で
あるa −[4−(2,4−ジクロロフェノキシ)−フ
ェノキシ]−プロピオン酸メチルよりも、雑草に対して
顕著に有効な作用を有する。
本発明は好ましくは式(■)、但し、
mが数0、!または2を表わし、
nが数Oまたはlを表わし、
R1が水素、フッ素、塩素、臭素、シアノまたはトリフ
ルオロメチルを表わし、 R1が水素、7ツ素または塩素を表わし、R3がフッ素
、塩素、臭素、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロメチ
ルスルホニルを表わし、 R4が水素、フッ素または塩素を表わし、Xが窒素また
は基C−R’を表わし、ここで、R5は水素、フッ素、
塩素または臭素を表わし、 Yが酸素または基 01つを表わし、ここで、 R月ま水素、C1〜C1−アルキル、−C〇−2または
−SO,−Zを表わし、モしてZは水素またはハロゲン
、或いは随時ハロゲン、シアノ、カルボキシC8〜C6
−アルコキシ、Cl−04−アルキルカルボニル、C1
〜C6−アルコキシ−カルボニル、01〜C4−アルコ
キシ−カルボニル−C8〜C1−アルコキシ−カルボニ
ル及び/またはC1〜C4−アルキルアミノ−カルボニ
ルで置換されていてもよいC3〜C6−アルキル;各々
の場合に随時ハロゲン及び/またはC,−C4−アルキ
ルで置換されていてもよいC1〜C,−シクロアルキル
またはC1〜C6−シクロアルキル−C1〜C4−アル
キル:各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシ
ル及び/またはC3〜C4−アルコキシ−カルボニルで
置換されていてもよいC2〜C0−アルケニルまたはC
5〜C6−アルキニル;各々の場合に随時ハロゲン、シ
アノ、カルボキシ、ニトロ、C8〜C4−アルキル、C
1〜C8−ハロゲノアルキル、C3〜C4−アルコキシ
、C3〜C8−ハロゲノアルコキシ、C,−C,−アル
キルチオ、C,−C,−ハロゲノアルキルチオ、C1〜
C4−アルキルスルフィニル、C1〜C6−アルキルス
ルホニル、シー(ct〜C8−アルキル)−アミノスル
ホニル、’;Ccr〜C1−アルキル)−アミノカルボ
ニル、ジー(Cl”” C!−アルキル)−アミノ、C
1〜C1−アルコキシ−カルボニル及び/またはC4〜
C1−アルキレンジオキシで置換されていてもよいフェ
ニル、ナフチル、フェニル−CINC4−アルキルまた
はす7チルー01〜C4−アルキルを表わすか;或いは
2は随時ハロゲン、C1〜C4−アルキル%C1〜C8
−ハロゲノアルキル、C0〜C4−アルコキシ及び/ま
たはCI〜C8−ハロゲノアルコキシで置換されていて
もよい一連のピラゾリル、イミダゾリル及びトリアゾリ
ルからなる複素環式基を表わす、の化合物に関する。
ルオロメチルを表わし、 R1が水素、7ツ素または塩素を表わし、R3がフッ素
、塩素、臭素、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロメチ
ルスルホニルを表わし、 R4が水素、フッ素または塩素を表わし、Xが窒素また
は基C−R’を表わし、ここで、R5は水素、フッ素、
塩素または臭素を表わし、 Yが酸素または基 01つを表わし、ここで、 R月ま水素、C1〜C1−アルキル、−C〇−2または
−SO,−Zを表わし、モしてZは水素またはハロゲン
、或いは随時ハロゲン、シアノ、カルボキシC8〜C6
−アルコキシ、Cl−04−アルキルカルボニル、C1
〜C6−アルコキシ−カルボニル、01〜C4−アルコ
キシ−カルボニル−C8〜C1−アルコキシ−カルボニ
ル及び/またはC1〜C4−アルキルアミノ−カルボニ
ルで置換されていてもよいC3〜C6−アルキル;各々
の場合に随時ハロゲン及び/またはC,−C4−アルキ
ルで置換されていてもよいC1〜C,−シクロアルキル
またはC1〜C6−シクロアルキル−C1〜C4−アル
キル:各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシ
ル及び/またはC3〜C4−アルコキシ−カルボニルで
置換されていてもよいC2〜C0−アルケニルまたはC
5〜C6−アルキニル;各々の場合に随時ハロゲン、シ
アノ、カルボキシ、ニトロ、C8〜C4−アルキル、C
1〜C8−ハロゲノアルキル、C3〜C4−アルコキシ
、C3〜C8−ハロゲノアルコキシ、C,−C,−アル
キルチオ、C,−C,−ハロゲノアルキルチオ、C1〜
C4−アルキルスルフィニル、C1〜C6−アルキルス
ルホニル、シー(ct〜C8−アルキル)−アミノスル
ホニル、’;Ccr〜C1−アルキル)−アミノカルボ
ニル、ジー(Cl”” C!−アルキル)−アミノ、C
1〜C1−アルコキシ−カルボニル及び/またはC4〜
C1−アルキレンジオキシで置換されていてもよいフェ
ニル、ナフチル、フェニル−CINC4−アルキルまた
はす7チルー01〜C4−アルキルを表わすか;或いは
2は随時ハロゲン、C1〜C4−アルキル%C1〜C8
−ハロゲノアルキル、C0〜C4−アルコキシ及び/ま
たはCI〜C8−ハロゲノアルコキシで置換されていて
もよい一連のピラゾリル、イミダゾリル及びトリアゾリ
ルからなる複素環式基を表わす、の化合物に関する。
殊に本発明は式(り、但し、
R1がシアノ、フッ素または塩素を表わし、R2が水素
、フッ素または塩素を表わし、R3が塩素、トリフルオ
ロメチルまたはトリフルオロメチルスルホニルを表わし
、 R6が水素、フッ素または塩素を表わし、Xが窒素また
は基C−R″を表わし、ここで、R′は水素、フッ素ま
たは塩素を表わし、そして、 (A )mが数0を表わし、 nが数Oを表わし、そして Zが水素;随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル、
C,−C,−アルコキシ−カルボニル、C1〜C4−ア
ルコキシ−カルボニル−C,〜C,−アルコキシ−カル
ボニル及び/またはC,〜C4ーアルコキシーカルボニ
ルで置換されていてもよいC,−C,−アルキル;随時
フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル及び/またはC1
〜C4−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよ
いC s− C 、−アルケニルまたは随時フッ素、塩
素及び/またはメチルで置換されていてもよいベンジル
を表わすか、 (B)mが数2を表わし、 nが数Oまたはlを表わし、 Yが酸素或いは基−NH− −NH−GO−−NH−
COO−または−NH−SO,の1つを表わし、そして 2は水素を表わすか、随時フッ素、塩素、シアノ、カル
ボキシル%CI〜C4ーアルコキシ−カルボニル及び/
またはCI−04−アルキルアミノ−カルボニルで置換
されていてもよいC1〜C.−アルキル;随時フッ素、
塩素、シアノ、カルボキシル及び/またはC I”””
C a−アルコキシ−カルボニルで置換されていても
よいC,〜C4ーアルケニル:各々の場合に随時フッ素
、塩素、臭素、ニトロ、メチル、エチル、トリフルオロ
メチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、ト
リフルオロメトキシ、クロロジフルオロメトキシ、メチ
ルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチ
オ、クロロジフルオロメチルチオ、メチルスルホニル、
ジメチルアミノスルホニル、メトキシカルボニル及び/
またはエトキシカルボニルで置換されていてもよいフェ
ニルまたはベンジルを表わすか、或いは (C)mが数2を表わし、 nが数0を表わし、そして Zが塩素、随時塩素及び/またはCI”” Csアルキ
ルで置換されていてるよいピラゾリル、または随時01
〜C1−アルキルで置換されていてもよいイミダゾリル
を表わす の化合物に関する。
、フッ素または塩素を表わし、R3が塩素、トリフルオ
ロメチルまたはトリフルオロメチルスルホニルを表わし
、 R6が水素、フッ素または塩素を表わし、Xが窒素また
は基C−R″を表わし、ここで、R′は水素、フッ素ま
たは塩素を表わし、そして、 (A )mが数0を表わし、 nが数Oを表わし、そして Zが水素;随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル、
C,−C,−アルコキシ−カルボニル、C1〜C4−ア
ルコキシ−カルボニル−C,〜C,−アルコキシ−カル
ボニル及び/またはC,〜C4ーアルコキシーカルボニ
ルで置換されていてもよいC,−C,−アルキル;随時
フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル及び/またはC1
〜C4−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよ
いC s− C 、−アルケニルまたは随時フッ素、塩
素及び/またはメチルで置換されていてもよいベンジル
を表わすか、 (B)mが数2を表わし、 nが数Oまたはlを表わし、 Yが酸素或いは基−NH− −NH−GO−−NH−
COO−または−NH−SO,の1つを表わし、そして 2は水素を表わすか、随時フッ素、塩素、シアノ、カル
ボキシル%CI〜C4ーアルコキシ−カルボニル及び/
またはCI−04−アルキルアミノ−カルボニルで置換
されていてもよいC1〜C.−アルキル;随時フッ素、
塩素、シアノ、カルボキシル及び/またはC I”””
C a−アルコキシ−カルボニルで置換されていても
よいC,〜C4ーアルケニル:各々の場合に随時フッ素
、塩素、臭素、ニトロ、メチル、エチル、トリフルオロ
メチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、ト
リフルオロメトキシ、クロロジフルオロメトキシ、メチ
ルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチ
オ、クロロジフルオロメチルチオ、メチルスルホニル、
ジメチルアミノスルホニル、メトキシカルボニル及び/
またはエトキシカルボニルで置換されていてもよいフェ
ニルまたはベンジルを表わすか、或いは (C)mが数2を表わし、 nが数0を表わし、そして Zが塩素、随時塩素及び/またはCI”” Csアルキ
ルで置換されていてるよいピラゾリル、または随時01
〜C1−アルキルで置換されていてもよいイミダゾリル
を表わす の化合物に関する。
式(I)の化合物の特に好ましい群は次の式の化合物で
ある: R1R1 R2R1 5(0)、ll−(Y)n−Z 式中、各々の場合にm1n、R’、R”、R3R4、X
%Y及びZは殊に好ましいものとして上に述べた意味を
有する。
ある: R1R1 R2R1 5(0)、ll−(Y)n−Z 式中、各々の場合にm1n、R’、R”、R3R4、X
%Y及びZは殊に好ましいものとして上に述べた意味を
有する。
本発明は更に好ましくは、式(I)、但し、HI R
1、R1、R4、X、YlZ、m及びnは上記の意味を
有する、の−COOH,−3o、H。
1、R1、R4、X、YlZ、m及びnは上記の意味を
有する、の−COOH,−3o、H。
−CO−NH−または−3Q、−NH−基を含む化合物
の塩及び塩基、例えばナトリウム、カリウムまt;はカ
ルシウムの水酸化物、水素化物、アミドまたは炭酸塩、
ナトリウムまたはカリウムのC1〜C4−アルコレート
、アンモニア、C3〜C1−アルキルアミン、ジー(C
1”C4−アルキル)−アミンまたはトリー(Ca”C
a−アルキル)−アミンに関する。
の塩及び塩基、例えばナトリウム、カリウムまt;はカ
ルシウムの水酸化物、水素化物、アミドまたは炭酸塩、
ナトリウムまたはカリウムのC1〜C4−アルコレート
、アンモニア、C3〜C1−アルキルアミン、ジー(C
1”C4−アルキル)−アミンまたはトリー(Ca”C
a−アルキル)−アミンに関する。
本発明による方法(a)に対して出発物質として3.4
−ジクロロ−ペンシトリフルオライド及び7−ヒドロキ
シ−ナフタレンー2−スルホン酸カリウムを用いる場合
、その反応過程は次の反応式によって表わ・すことがで
きる: 本発明による方法(b)に対して出発物質として6−(
2−クロロ−6−フルオロ−4−トリフルオロメチル−
フェノキシ)−ナフタレン−2スルホン醸及び塩化リン
(V)を用いる場合、その反応過程は次の反応式によっ
て表わすことができる: 本発明による方法(C)に対して出発物質として5−(
2−フルオロ−4−トリフルオロメチル−フェノキシ)
−ナフタレン−1−スルホニルクロライド及び亜硫酸ナ
トリウムを用いる場合、その反応過程は次の反応式によ
って表わすことができる: 本発明によるる方法(d)に対して出発物質として6−
(3,5−ジクロロ−ピリジン−2−イル−オキシ)−
す7タレンーl−スルホニルクロライド及びアミノ酢酸
エチルを用いる場合、その反応過程は次の反応式によっ
て表わすことができる:I So、−NH−CH!−L;υυし、US本発明による
方法(e)に対して出発物質として7−(3−クロロ−
5−トリフルオロメチル−ピリジン−2−イル−オキシ
)−ナフタレン−1−イル−メルカプタン及びクロロ酢
酸エチルを用いる場合、その反応過程は次の反応式によ
って表わすことができる: I / SH 式(I)の化合物の製造に対して本発明による方法(a
)において出発物質として用いるハロゲノ−(ヘテロ)
アリール化合物は一般に式(II)によって定義される
。
−ジクロロ−ペンシトリフルオライド及び7−ヒドロキ
シ−ナフタレンー2−スルホン酸カリウムを用いる場合
、その反応過程は次の反応式によって表わ・すことがで
きる: 本発明による方法(b)に対して出発物質として6−(
2−クロロ−6−フルオロ−4−トリフルオロメチル−
フェノキシ)−ナフタレン−2スルホン醸及び塩化リン
(V)を用いる場合、その反応過程は次の反応式によっ
て表わすことができる: 本発明による方法(C)に対して出発物質として5−(
2−フルオロ−4−トリフルオロメチル−フェノキシ)
−ナフタレン−1−スルホニルクロライド及び亜硫酸ナ
トリウムを用いる場合、その反応過程は次の反応式によ
って表わすことができる: 本発明によるる方法(d)に対して出発物質として6−
(3,5−ジクロロ−ピリジン−2−イル−オキシ)−
す7タレンーl−スルホニルクロライド及びアミノ酢酸
エチルを用いる場合、その反応過程は次の反応式によっ
て表わすことができる:I So、−NH−CH!−L;υυし、US本発明による
方法(e)に対して出発物質として7−(3−クロロ−
5−トリフルオロメチル−ピリジン−2−イル−オキシ
)−ナフタレン−1−イル−メルカプタン及びクロロ酢
酸エチルを用いる場合、その反応過程は次の反応式によ
って表わすことができる: I / SH 式(I)の化合物の製造に対して本発明による方法(a
)において出発物質として用いるハロゲノ−(ヘテロ)
アリール化合物は一般に式(II)によって定義される
。
式(II)において、R1、R2、R3、R4及びXは
好ましくはまたは殊に、本発明による式(I)の化合物
の記述に関連して、R1、R2、R3、R4及びXに対
して好ましいまたは殊に好ましいものとしてすでに述べ
た意味を有し、モしてZlは好ましくはフッ素または塩
素を表わす。
好ましくはまたは殊に、本発明による式(I)の化合物
の記述に関連して、R1、R2、R3、R4及びXに対
して好ましいまたは殊に好ましいものとしてすでに述べ
た意味を有し、モしてZlは好ましくはフッ素または塩
素を表わす。
挙げ得る式(II)の出発物質の例は次のものである:
4−クロロ−ペンシトリフルオライド、3.4−ジクロ
ロ−ペンシトリフルオライド、3.4.5−トリクロロ
−ペンシトリフルオライド、3.4−ジクロロ−5−フ
ルオロ−ペンシトリフルオライド、2.3.4.5−テ
トラクロロ−ペンシトリフルオライド、3.5−ジクロ
ロ−2,4−ジフルオロ−ペンシトリフルオライド、3
−クロロ−4゜5−ジフルオロ−ペンシトリフルオライ
ド及び2゜3.5−トリクロロ−ピリジン。
ロ−ペンシトリフルオライド、3.4.5−トリクロロ
−ペンシトリフルオライド、3.4−ジクロロ−5−フ
ルオロ−ペンシトリフルオライド、2.3.4.5−テ
トラクロロ−ペンシトリフルオライド、3.5−ジクロ
ロ−2,4−ジフルオロ−ペンシトリフルオライド、3
−クロロ−4゜5−ジフルオロ−ペンシトリフルオライ
ド及び2゜3.5−トリクロロ−ピリジン。
式(II)の化合物は公知であり、モして/またはそれ
自体公知の方法によって製造することができる[ジャー
ナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ (J、 Ch
em、 Soc、) l 969.211〜217、
同1971 1547〜1549;ヨーロッパ特許出願
公開明細書第34,402号、米国特許第4,424,
396号;ヨーロッパ特許出願公開明細書第145.3
14号;及びフランス国特許出願公開明細書第2.53
8.380号(ケミカル・アブストラクツ(Chem、
Abstracts) l 02(I985)、61
914x)参照1゜更に方法(a)において出発物質と
して用いる式(III)のヒドロキシナフタレンスルホ
ン酸及びその塩の挙げ得る例は次のものである:6−ヒ
ドロキシーナフタレンー2−スルホン酸、そのナトリウ
ム及びカリウム塩、7−ビトロキシ−ナフタレン−2−
スルホン酸、そのナトリウム及びカリウム塩、7−ビト
ロキシ−ナフタレン−l−スルホン酸、そのナトリウム
及びカリウム塩、6−ビトロキシ−ナフタレン−lスル
ホン酸、そのナトリウム及びカリウム塩並びに5−ヒド
ロキシ−ナフタレン−■−スルホン酸、そのナトリウム
及びカリウム塩。
自体公知の方法によって製造することができる[ジャー
ナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ (J、 Ch
em、 Soc、) l 969.211〜217、
同1971 1547〜1549;ヨーロッパ特許出願
公開明細書第34,402号、米国特許第4,424,
396号;ヨーロッパ特許出願公開明細書第145.3
14号;及びフランス国特許出願公開明細書第2.53
8.380号(ケミカル・アブストラクツ(Chem、
Abstracts) l 02(I985)、61
914x)参照1゜更に方法(a)において出発物質と
して用いる式(III)のヒドロキシナフタレンスルホ
ン酸及びその塩の挙げ得る例は次のものである:6−ヒ
ドロキシーナフタレンー2−スルホン酸、そのナトリウ
ム及びカリウム塩、7−ビトロキシ−ナフタレン−2−
スルホン酸、そのナトリウム及びカリウム塩、7−ビト
ロキシ−ナフタレン−l−スルホン酸、そのナトリウム
及びカリウム塩、6−ビトロキシ−ナフタレン−lスル
ホン酸、そのナトリウム及びカリウム塩並びに5−ヒド
ロキシ−ナフタレン−■−スルホン酸、そのナトリウム
及びカリウム塩。
式(III)のヒドロキシナフタレンスルホン酸は公知
の有機合成試薬である。
の有機合成試薬である。
式(I)の新規化合物を製造するための本発明による方
法(a)は好ましくは希釈剤を用いて行われる。使用可
能な希釈剤は実際に全ての不活性有機溶媒である。これ
らの溶媒には好ましくは、脂肪族及び芳香族の随時ハロ
ゲン化されていてもよい炭化水素、例えばペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベ
ンジン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、クロロベンゼン及び0−ジクロロベンゼン、エーテ
ル、例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテル、グリ
コールジメチルエーテル、ジグリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン及びジオキサン、ケトン、例え
ばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピル
ケトン及びメチルイソブチルケトン、エステル、例えば
酢酸メチル及び酢酸エチル、ニトリル、例えばアセトニ
トリル及びプロピオニトリル、アミド、例えばジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド及びN−メチルピ
ロリドン、並びにジメチルスルホキシド、テトラメチレ
ンスルホン及びヘキサメチルリン酸トリアミドが含まれ
る。
法(a)は好ましくは希釈剤を用いて行われる。使用可
能な希釈剤は実際に全ての不活性有機溶媒である。これ
らの溶媒には好ましくは、脂肪族及び芳香族の随時ハロ
ゲン化されていてもよい炭化水素、例えばペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベ
ンジン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、クロロベンゼン及び0−ジクロロベンゼン、エーテ
ル、例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテル、グリ
コールジメチルエーテル、ジグリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン及びジオキサン、ケトン、例え
ばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピル
ケトン及びメチルイソブチルケトン、エステル、例えば
酢酸メチル及び酢酸エチル、ニトリル、例えばアセトニ
トリル及びプロピオニトリル、アミド、例えばジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド及びN−メチルピ
ロリドン、並びにジメチルスルホキシド、テトラメチレ
ンスルホン及びヘキサメチルリン酸トリアミドが含まれ
る。
非プロトン性の有極性有機溶媒、例えばアセトン、アセ
トニトリル、メチルエチルケトン、プロピオニトリル、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン及びN−メチルピロリドン
が殊に好ましい。
トニトリル、メチルエチルケトン、プロピオニトリル、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン及びN−メチルピロリドン
が殊に好ましい。
本発明による方法(a)において酸受容体として、かか
る反応に通常使用し得る全ての酸結合剤を用いることが
できる。好ましい使用可能な酸結合剤はアルカリ金属水
酸化物例えば水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム、ア
ルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化カルシウム、ア
ルカリ金属炭酸塩及びアルコレート、例えば炭酸ナトリ
ウム及び炭酸カリウム、ナトリウムtert、−ブチレ
ート及びカリウムtert、−ブチレート、更に、脂肪
族、芳香族または複素環式アミン、例えばトリエチルア
ミン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチル
ベンジルアミン、ピリジン、1.5−ジアザビシクロ[
4,3,0] ノン−5−エン(D B N)、1.8
−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン(
D B U)及び1.4−ジアザビシクロ[2,2,2
1オクタン(DABCO)である。
る反応に通常使用し得る全ての酸結合剤を用いることが
できる。好ましい使用可能な酸結合剤はアルカリ金属水
酸化物例えば水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム、ア
ルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化カルシウム、ア
ルカリ金属炭酸塩及びアルコレート、例えば炭酸ナトリ
ウム及び炭酸カリウム、ナトリウムtert、−ブチレ
ート及びカリウムtert、−ブチレート、更に、脂肪
族、芳香族または複素環式アミン、例えばトリエチルア
ミン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチル
ベンジルアミン、ピリジン、1.5−ジアザビシクロ[
4,3,0] ノン−5−エン(D B N)、1.8
−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン(
D B U)及び1.4−ジアザビシクロ[2,2,2
1オクタン(DABCO)である。
本発明による方法(a)において、反応温度を実質的な
範囲内で変えることができる。一般に、反応をo ’c
乃至200 ’O間、好ましくは20℃乃至150℃間
の温度で行う。
範囲内で変えることができる。一般に、反応をo ’c
乃至200 ’O間、好ましくは20℃乃至150℃間
の温度で行う。
本発明による方法(a)は一般に常圧下で行われる。し
かしながら、またこの方法を昇圧下または減圧下で行う
こともできる。
かしながら、またこの方法を昇圧下または減圧下で行う
こともできる。
本発明による方法(a)を行う際に、一般に必要な特定
の出発物質をほぼ等モル量で用いる。しかしながら、ま
た用いる2種の特定の成分の一方を大過剰量で用いるこ
ともできる。一般に反応を適当な希釈剤中で、酸受容体
の存在下において行い、反応混合物を特定の必要な温度
で数時間撹拌する。本発明による方法(a)における処
理は各々の場合に普通の方法で行われる。
の出発物質をほぼ等モル量で用いる。しかしながら、ま
た用いる2種の特定の成分の一方を大過剰量で用いるこ
ともできる。一般に反応を適当な希釈剤中で、酸受容体
の存在下において行い、反応混合物を特定の必要な温度
で数時間撹拌する。本発明による方法(a)における処
理は各々の場合に普通の方法で行われる。
一般に、方法(a)において最初に金属塩として得られ
る生成物を、強酸、例えば塩酸または硫酸で処理して、
対応する遊離酸に転化することができる。
る生成物を、強酸、例えば塩酸または硫酸で処理して、
対応する遊離酸に転化することができる。
本発明による方法(b)において出発物質として用いる
化合物は一般に式(りによって定義されるが、条件とし
て、nは数1を表わし、Yは酸素を表わし、モしてZは
水素または金属当量を表わす。この場合、m%R’s
R”、R3、R6及びXは好ましくはまたは殊に、本発
明による式(I)の化合物の記述に関連して好ましいま
たは殊に好ましいものとしてすでに上に述べた意味を有
し、モしてZは好ましくは水素、ナトリウムまたはカリ
ウムを表わす。
化合物は一般に式(りによって定義されるが、条件とし
て、nは数1を表わし、Yは酸素を表わし、モしてZは
水素または金属当量を表わす。この場合、m%R’s
R”、R3、R6及びXは好ましくはまたは殊に、本発
明による式(I)の化合物の記述に関連して好ましいま
たは殊に好ましいものとしてすでに上に述べた意味を有
し、モしてZは好ましくは水素、ナトリウムまたはカリ
ウムを表わす。
方法(b)に対する出発物質の例を次の第1表に示す。
第1表:方法(b)に対する出発物質の例この式におい
て、各々個々の場合に: n = 1 sY−酸素 m R’ R” OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H R3R4 Cl H CI H CI H CI H CI H CI H CF3 H CH,H CF3 H CF、 H CF、 H CF、 H CF3 H CF、 H CF3 H CF、 H CFs H Z CHH CI H CHH H H H CI H CHH CHH N H H H C−CI H C−CI H C−CI H C−F H C−F H m R’ R” 2 CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCN H I CN H 2CN H R3R4 CF、 H CF3 F CF、 F CF3 F CF3 CI CF、 CI CF、 Cl 5O,CF、 H 3o、CF、 H 5o、CF、 H 5O□CF3 H 5o、CFj H 5O□CF、 H 5o、CF3 )I SO,CF、 H 5O,CF、 H CF、 H CF3 H CF、 H z C−F H C−CI H C−CI H C−CI I C−Cl H C−CI H C−CI H CHH CHH CHH C−CI H C−CI H C−CI I C−F H C−F H C−F H CHH CHH CHH 第1表に示した例は各々の場合に、式(Ia)、(Ib
)、(Ic)、(Id)及び(Is)によって上に示し
た式(I)の化合物の特に好ましい群に当てはまる。
て、各々個々の場合に: n = 1 sY−酸素 m R’ R” OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H R3R4 Cl H CI H CI H CI H CI H CI H CF3 H CH,H CF3 H CF、 H CF、 H CF、 H CF3 H CF、 H CF3 H CF、 H CFs H Z CHH CI H CHH H H H CI H CHH CHH N H H H C−CI H C−CI H C−CI H C−F H C−F H m R’ R” 2 CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCN H I CN H 2CN H R3R4 CF、 H CF3 F CF、 F CF3 F CF3 CI CF、 CI CF、 Cl 5O,CF、 H 3o、CF、 H 5o、CF、 H 5O□CF3 H 5o、CFj H 5O□CF、 H 5o、CF3 )I SO,CF、 H 5O,CF、 H CF、 H CF3 H CF、 H z C−F H C−CI H C−CI H C−CI I C−Cl H C−CI H C−CI H CHH CHH CHH C−CI H C−CI H C−CI I C−F H C−F H C−F H CHH CHH CHH 第1表に示した例は各々の場合に、式(Ia)、(Ib
)、(Ic)、(Id)及び(Is)によって上に示し
た式(I)の化合物の特に好ましい群に当てはまる。
方法(b)に対して上に述べた式(I)の出発物質は本
発明による新規化合物である;これらの化合物は本発明
における方法(a)または(C)によって製造すること
ができる。
発明による新規化合物である;これらの化合物は本発明
における方法(a)または(C)によって製造すること
ができる。
本発明による方法(a)はハロゲン化剤を用いて行われ
る。mが数0を表わす場合、適当なハロゲン化剤は、殊
に、元素状ハロゲン、例えば塩素または臭素であり、そ
してmが数1または2を表わす場合、また更に適当なハ
ロゲン化剤は酸ハライド、例えばホスゲン、塩化チオニ
ル、クロロスルホン酸、塩化ホスホリル、塩化リン(■
)、臭化リン(III)及び塩化リン(V)である。
る。mが数0を表わす場合、適当なハロゲン化剤は、殊
に、元素状ハロゲン、例えば塩素または臭素であり、そ
してmが数1または2を表わす場合、また更に適当なハ
ロゲン化剤は酸ハライド、例えばホスゲン、塩化チオニ
ル、クロロスルホン酸、塩化ホスホリル、塩化リン(■
)、臭化リン(III)及び塩化リン(V)である。
酸ハライドの製造に通常用いられる物質、例えばピリジ
ン、ジメチルホルムアミド、トリメチルホスフィンオキ
シト、トリフェニルホスフィンまたはオキシ塩化リンを
本発明による方法を行う際に触媒として、またはハロゲ
ン化補助剤として用いることができる。
ン、ジメチルホルムアミド、トリメチルホスフィンオキ
シト、トリフェニルホスフィンまたはオキシ塩化リンを
本発明による方法を行う際に触媒として、またはハロゲ
ン化補助剤として用いることができる。
適当ならば、本発明による方法(b)は希釈剤の存在下
において行われる。使用可能な好ましい希釈剤は一連の
ハロゲン化された炭化水素、例えば塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、!。
において行われる。使用可能な好ましい希釈剤は一連の
ハロゲン化された炭化水素、例えば塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、!。
2−ジクロロエタン、クロロベンゼンまたは1゜2−ジ
クロロベンゼンからなる比較的不活性な有機溶媒である
。
クロロベンゼンからなる比較的不活性な有機溶媒である
。
本発明による方法(b)において、反応温度を実質的な
範囲内で変えることができる。一般に、反応を0℃乃至
100°C間、好ましくはlo’o乃至90℃間の温度
で行う。
範囲内で変えることができる。一般に、反応を0℃乃至
100°C間、好ましくはlo’o乃至90℃間の温度
で行う。
一般に、本発明による方法(b)は常圧下で行われる。
しかしながら、またこの方法を昇圧下または減圧下で行
うこともできる。
うこともできる。
本発明による方法(b)を行う際に、一般に、式(I)
の出発化合物1モル当りハロゲン他剤l〜50モル間、
好ましくは1.5モル−2・0モル間を用いる。一般に
、反応成分を室温で一緒にし、適当ならば、反応混合物
を反応が終了するまで昇温下で撹拌する。方法(b)に
おいて、一般に反応生成物は、濃縮し、そして残渣を水
で希釈した後に、結晶状態で得られ、このものを吸引濾
過によって単離することができる。
の出発化合物1モル当りハロゲン他剤l〜50モル間、
好ましくは1.5モル−2・0モル間を用いる。一般に
、反応成分を室温で一緒にし、適当ならば、反応混合物
を反応が終了するまで昇温下で撹拌する。方法(b)に
おいて、一般に反応生成物は、濃縮し、そして残渣を水
で希釈した後に、結晶状態で得られ、このものを吸引濾
過によって単離することができる。
本発明による方法(c)において出発物質として用いる
化合物は一般に式(I)によって定義されるが、条件と
して、mは数2を表わし、nは数0を表わし、モしてZ
はハロゲンを表わすものとする。この場合、R′、R2
、R3R4及びxは好ましくはまたは殊に、本発明によ
る式(I)の化合物の記述に関連して、好ましいまたは
殊に好ましいものとして上にすでに述べた意味を有する
。
化合物は一般に式(I)によって定義されるが、条件と
して、mは数2を表わし、nは数0を表わし、モしてZ
はハロゲンを表わすものとする。この場合、R′、R2
、R3R4及びxは好ましくはまたは殊に、本発明によ
る式(I)の化合物の記述に関連して、好ましいまたは
殊に好ましいものとして上にすでに述べた意味を有する
。
方法(c)に対する出発物質の例を次の第2表に示す。
第2表:方法(c)に対する出発物質の例R2R1
この式において、各々個々の場合に:m−2、n=O
R’ R” R3R’ X
ZCI HCI HCI
ClClHCl HMCI CI HCF、 HCN C
lCl HCF、 HN
ClCl HCF3 HC−Cl
ClCl I(CF3 I C
−P ClCl HCF3 F
C−Cl ClCl HCF3
CI C−Cl CIF
HCF、 HC−F ClCl
I SO□CF3 I CI
ClCl HSo、CF、 HC−
Cl ClCN HCF3 8
CI CI第2表に示した例は各々の場
合に、式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)及び
(Ie)によって上に示した式(I)の化合物の特に好
ましい群に当てはまる。
ZCI HCI HCI
ClClHCl HMCI CI HCF、 HCN C
lCl HCF、 HN
ClCl HCF3 HC−Cl
ClCl I(CF3 I C
−P ClCl HCF3 F
C−Cl ClCl HCF3
CI C−Cl CIF
HCF、 HC−F ClCl
I SO□CF3 I CI
ClCl HSo、CF、 HC−
Cl ClCN HCF3 8
CI CI第2表に示した例は各々の場
合に、式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)及び
(Ie)によって上に示した式(I)の化合物の特に好
ましい群に当てはまる。
方法(c)に対して上に述べた式(I)の出発物質は本
発明による新規化合物である;これらの化合物は本発明
における方法(b)によって製造することができる。
発明による新規化合物である;これらの化合物は本発明
における方法(b)によって製造することができる。
本発明による方法(c)は還元剤を用いて行われる。使
用可能な還元剤はスルホン酸ハライドの還元に適する普
通の物質、例えば亜鉛、硫化水素または硫化ナトリウム
である。
用可能な還元剤はスルホン酸ハライドの還元に適する普
通の物質、例えば亜鉛、硫化水素または硫化ナトリウム
である。
挙げ得る使用する還元補助剤は、適当ならば、用いる還
元剤に応じて、酸、例えば塩酸、硫酸及び酢酸、並びに
塩基、例えば水酸化ナトリウム溶液及び水酸化カリウム
溶液である。
元剤に応じて、酸、例えば塩酸、硫酸及び酢酸、並びに
塩基、例えば水酸化ナトリウム溶液及び水酸化カリウム
溶液である。
本発明による方法(c)は好ましくは希釈剤を用いて行
われる。使用可能な希釈剤は、水に加えて、本発明によ
る方法(a)に対して上に述べた如き実際に全ての不活
性有機溶媒である。水−混和性有機溶媒、例えばジオキ
サン及びジメチルホルムアミドが殊に適している。
われる。使用可能な希釈剤は、水に加えて、本発明によ
る方法(a)に対して上に述べた如き実際に全ての不活
性有機溶媒である。水−混和性有機溶媒、例えばジオキ
サン及びジメチルホルムアミドが殊に適している。
本発明による方法(c)において、反応温度を実質的な
範囲内で変えることができる。一般に反応を0°C乃至
150℃間、好ましくは10℃乃至1200C間の温度
で行う。
範囲内で変えることができる。一般に反応を0°C乃至
150℃間、好ましくは10℃乃至1200C間の温度
で行う。
一般に、本発明による方法(C)は常圧下で行われる。
しかしながら、またこの方法を昇圧下または減圧下で行
うこともできる。
うこともできる。
本発明による方法を行う際に、一般に、式(I)の出発
化合物1モル当り還元剤1〜20モル間、好ましくは1
−10モル間を用いる。一般に、反応成分を室温で、或
いはやや昇温下または室温以下で一緒にし、反応混合物
を、適当ならば昇温下で、反応が終了するまで撹拌する
。処理を普通の方法で行うことができる。
化合物1モル当り還元剤1〜20モル間、好ましくは1
−10モル間を用いる。一般に、反応成分を室温で、或
いはやや昇温下または室温以下で一緒にし、反応混合物
を、適当ならば昇温下で、反応が終了するまで撹拌する
。処理を普通の方法で行うことができる。
本発明による方法(d)において出発物質として用いる
化合物は一般に式(I)によって定義されるが、条件と
して、nは数Oを表わし、モして2はハロゲンを表わす
ものとする。この場合、m1R1,R2、R1、R1及
びXは好ましくはまたは殊に、本発明による式(I)の
化合物の記述に関連して、好ましいまたは殊に好ましい
ものとして上にすでに示した意味を有する。
化合物は一般に式(I)によって定義されるが、条件と
して、nは数Oを表わし、モして2はハロゲンを表わす
ものとする。この場合、m1R1,R2、R1、R1及
びXは好ましくはまたは殊に、本発明による式(I)の
化合物の記述に関連して、好ましいまたは殊に好ましい
ものとして上にすでに示した意味を有する。
方法(d)に対する式(I)出発物質の例を次の第3表
に示す。
に示す。
第3表:方法(d)に対する出発物質の例この式におい
て、各々個々の場合に二〇=0m R1R2R3
R’ X 0 CI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI ll Cl H CI H CI H CI H CI H CI H CF、 H CF、 H CF3 H CF、 H CF3 H CF、 H CHCI CHCI CHCI N CI N CI N CI CHCI CHCI CHCI N CI N CI N C1 CF。
て、各々個々の場合に二〇=0m R1R2R3
R’ X 0 CI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI H OCI H I CI H 2CI ll Cl H CI H CI H CI H CI H CI H CF、 H CF、 H CF3 H CF、 H CF3 H CF、 H CHCI CHCI CHCI N CI N CI N CI CHCI CHCI CHCI N CI N CI N C1 CF。
CF。
CF。
CF。
CF。
CF3
CF。
CF。
CF。
CF。
CF。
CF。
CF。
So、CF。
0ICF3
SO□CF。
5O2CF。
So、CF。
502CF。
C−C:I
−CI
−CI
CH
−F
−F
−F
−CI
−CI
−CI
−CI
−CI
−CI
CH
CI
CH
−CI
C−Cl。
−C1
第3表に示した例は各々の場合に、式(Ia)、(Ib
)、(Ic)、(Id)及び(Ie)によって上に示し
た式(I)の化合物の特に好ましい群に当てはまる。
)、(Ic)、(Id)及び(Ie)によって上に示し
た式(I)の化合物の特に好ましい群に当てはまる。
方法(d)に対して上に述べた式(I)の出発物質は本
発明による新規化合物である;これらの化合物を本発明
による方法(b)によって製造することができる。
発明による新規化合物である;これらの化合物を本発明
による方法(b)によって製造することができる。
本発明による方法(d)において更に出発物質として用
いる求核的化合物は一般に式(IV)によって定義され
る。
いる求核的化合物は一般に式(IV)によって定義され
る。
式(IV)において、nSY及び2は好ましくはまたは
殊に、本発明による式(I)の化合物の記述に関連して
nY及び2に対して好ましいまたは殊に好ましいものと
して上にすでに示した意味を有し、そしてMは好ましく
は水素、ナトリウムまたはカリウムを表わす。
殊に、本発明による式(I)の化合物の記述に関連して
nY及び2に対して好ましいまたは殊に好ましいものと
して上にすでに示した意味を有し、そしてMは好ましく
は水素、ナトリウムまたはカリウムを表わす。
式(IV)の出発物質の例を次の第4表に示す。
」1:式(■)
M−(Y)n−Z
M n
の出発物質の例
(IV)
Z
CI。
CH。
tos
C,H。
C2H4
C3H。
C)l(CH3)t
C4)!。
CH。
ttts
C,H。
CH(CH3)2
C,H。
CHzCH(CHx)*
CHzCOOC*Hs
CI−COOCxHa
H3
Y
H
CHICI=CH!
H
CHxC)l*0cHx
α■。
oc)I3
H
〈χB「
0CHF 。
CF3
5CHF 。
NHCO
NHCO
NHCO
NHCO
NHCO
COOC、H。
CH。
CJ@
xny
C,H。
HCOO
HCOO
HCOO
HCOO
CH。
mHs
C,Hy
C6H。
NH30!
NHSO。
NH30゜
N)ISO。
NH30゜
NHCO
NHSO。
NHCO
CH3
C*Hs
5Hy
C,H。
CH,CI
CH,CI
co、cu、c+
CH*CHxC1
式(■)の出発物質は公知の合成試薬である。
本発明による方法(d)は好ましくは希釈剤を用いて行
われる。使用可能な希釈剤は、水に加えて、本発明によ
る方法(a)に対して上に述べた如き実際に全ての不活
性有機溶媒である。適当ならば、方法(d)を酸受容体
の存在下において行う。なかでも、方法(a)に対して
上に述べた酸結合剤、但し、殊に上に述べた脂肪族、芳
香族または複素環式アミンを使用することができる。
われる。使用可能な希釈剤は、水に加えて、本発明によ
る方法(a)に対して上に述べた如き実際に全ての不活
性有機溶媒である。適当ならば、方法(d)を酸受容体
の存在下において行う。なかでも、方法(a)に対して
上に述べた酸結合剤、但し、殊に上に述べた脂肪族、芳
香族または複素環式アミンを使用することができる。
本発明による方法(d)において、反応温度を実質的な
範囲内で変えることができる。一般に、反応を一20℃
乃至+100℃間、好ましくは0℃乃至+80℃間の温
度で行う。
範囲内で変えることができる。一般に、反応を一20℃
乃至+100℃間、好ましくは0℃乃至+80℃間の温
度で行う。
一般に、本発明における方法(d)は常圧下で行われる
。しかしながら、またこの方法を昇圧下または減圧下で
行うこともできる。
。しかしながら、またこの方法を昇圧下または減圧下で
行うこともできる。
本発明による方法(d)を行う際に、一般に必要とする
特定の出発物質をほぼ等モル量で用いる。
特定の出発物質をほぼ等モル量で用いる。
しかしながら、また用いる2種の特定の成分の一方を大
過剰量で用いることもできる。一般に反応を適当な希釈
剤中で、酸受容体の存在下において行い、反応混合物を
必要な特定の温度で数時間撹拌する。本発明による方法
(d)における処理は各々の場合に普通の方法で行われ
る。
過剰量で用いることもできる。一般に反応を適当な希釈
剤中で、酸受容体の存在下において行い、反応混合物を
必要な特定の温度で数時間撹拌する。本発明による方法
(d)における処理は各々の場合に普通の方法で行われ
る。
本発明による方法(e)において出発物質として用いる
化合物は一般に式(I)によって定義され、条件として
、Yは酸素、硫黄またはNHを表わし、モしてZは水素
を表わすものとする。この場合、m1n1R11R2、
R3、R4及びXは好ましくはまたは殊に、本発明によ
る式(I)の記述に関連して、好ましいまたは殊に好ま
しいものとして上にすでに示した意味を有し、そしてY
は好ましくはNHを表わす。
化合物は一般に式(I)によって定義され、条件として
、Yは酸素、硫黄またはNHを表わし、モしてZは水素
を表わすものとする。この場合、m1n1R11R2、
R3、R4及びXは好ましくはまたは殊に、本発明によ
る式(I)の記述に関連して、好ましいまたは殊に好ま
しいものとして上にすでに示した意味を有し、そしてY
は好ましくはNHを表わす。
方法(e)に対する式(I)の出発物質の例を次の第5
表に示す。
表に示す。
第5表:方法(e)に対する出発物質の例R2R1
この式において、
m n R’ R”
00CH
11CI H
21CH
20CH
00CH
11CL H
21CH
20CI H
00CH
11CI H
21CH
20CI H
00CH
11CI H
21CI H
20CI H
00CI H
11CI H
21CI H
20CI H
各4個々の場合に:Z−H
R’ R’ X YHCH
HCH
HCI
HCH
N
N
N
N
HCH
HCH
HCH
HCI
N
N
N
N
I C−CI
HC−Cl NH
HC−Cl NH
HC−Cl
CF3
CF。
CF3
CF3
CF。
CF。
CF3
CF。
CF。
CF。
CF。
CF。
CF。
So 、 CF s
SO,CF3
5O2CF。
So、CF3
5o 、 CF 。
So、CF3
5O□CF。
0zCh
−F
−F
−F
−F
−C
−C
−C
−C
−C
C−〇
−C
−C
CH
CH
CH
CI
CH
−CI
−CI
−CI
−CI
CH
CH
CH
CH
CH
CH
CH
CH
CH
CH
CH
第5表に示した例は各々の場合に、式(Ia)、(Ib
)、(Ic)、(Id)及び(Ie)によって上に示し
た式(I)の化合物の特に好ましい群に当てはまる。
)、(Ic)、(Id)及び(Ie)によって上に示し
た式(I)の化合物の特に好ましい群に当てはまる。
方法(e)に対して上に述べた式(I)の出発物質は本
発明による新規化合物である;これらの化合物は本発明
における方法(c)または(d)によって製造すること
ができる。
発明による新規化合物である;これらの化合物は本発明
における方法(c)または(d)によって製造すること
ができる。
本発明による方法(e)において、更に出発物質として
用いる求核的化合物は一般に式(V)によって定義され
る。
用いる求核的化合物は一般に式(V)によって定義され
る。
式(V)において、n及び2は好ましくはまたは殊に、
本発明による式(I)の化合物の記述に関連して、n及
び2に対して好ましいまたは殊に好ましいものとして上
にすでに述べた意味を有し、そしてZ″は塩素または臭
素を表わす、Ylはc。
本発明による式(I)の化合物の記述に関連して、n及
び2に対して好ましいまたは殊に好ましいものとして上
にすでに述べた意味を有し、そしてZ″は塩素または臭
素を表わす、Ylはc。
またはSO3を表わす。
式(V)の出発物質の例を次の第6表に示す。
笈旦!二式(V)の出発物質の例
Z2−(Y’)n−Zs (V )YI
Z3 H3 C*Hs C,HF CI(CHs)z C1H。
Z3 H3 C*Hs C,HF CI(CHs)z C1H。
CJCH(CH3)t
CHF。
CHsCHzCHxCI
CI、CH=CHI
CHgC00CHs
CJCOOCHx
CHICOOC!)II
CHgCOOCJs
CHCOOCHs
CH。
CHCOOCH3−
CHl
B「
r
r
CHCOOCJs
CH。
C)ICOOCJs
CH。
CHzC)IICOOCHs
CHzCHzCOOCJs
CH。
C2H。
Jy
CH(CHx)t
CH,CI
CHCl 。
CCI。
l
CH3
C! Hs
C,U。
CH,CI
co、coact
Yl
Yl
CF3
0CHF。
CF3
CM。
式(V)の出発物質は公知の有機合成試薬である。
本発明による方法(e)は好ましくは希釈剤を用いて行
われる。使用可能な希釈剤は、水に加えて、本発明によ
る方法(a)に対して上に述べた如き実際に全ての不活
性有機溶媒である。
われる。使用可能な希釈剤は、水に加えて、本発明によ
る方法(a)に対して上に述べた如き実際に全ての不活
性有機溶媒である。
適当ならば、方法(e)を酸受容体の存在下において行
う。方法(a)に対して上に述べた酸結合剤、なかでも
、殊に脂肪族芳香族または複素環式アミンを使用するこ
とができる。
う。方法(a)に対して上に述べた酸結合剤、なかでも
、殊に脂肪族芳香族または複素環式アミンを使用するこ
とができる。
本発明による方法(e)において、反応温度を実質的な
範囲内で変えることができる。一般に、反応を一20℃
乃至+100℃間、好ましくは0°C乃至+80°C間
の温度で行う。
範囲内で変えることができる。一般に、反応を一20℃
乃至+100℃間、好ましくは0°C乃至+80°C間
の温度で行う。
一般に、本発明による方法(e)は常圧下で行われる。
しかしながら、またこの方法を昇圧下または減圧下で行
うこともできる。
うこともできる。
本発明による方法(e)を行う際に、一般に必要な特定
の出発物質をほぼ等モル量で用いる。しかしながら、ま
た使用する2種の特定の成分の一方を大過剰量で用いる
ことができる。一般に、反応を適当な希釈剤中で、酸受
容体の存在下において行い、反応混合物を特定の必要な
温度で数時間撹拌する。本発明による方法(e)におけ
る魁理を各々の場合に普通の方法によって行うことがで
きる。
の出発物質をほぼ等モル量で用いる。しかしながら、ま
た使用する2種の特定の成分の一方を大過剰量で用いる
ことができる。一般に、反応を適当な希釈剤中で、酸受
容体の存在下において行い、反応混合物を特定の必要な
温度で数時間撹拌する。本発明による方法(e)におけ
る魁理を各々の場合に普通の方法によって行うことがで
きる。
適当ならば、本発明による一般式(I)の化合物から塩
を製造することができる。かかる塩は普通の塩生成法に
よる簡単な方法で、例えば式(I)の化合物を適当な溶
媒、例えば水、メタノール、エタノールまたはアセトン
に溶解または分散させ、そして適当な塩基を加えること
によって得られる。
を製造することができる。かかる塩は普通の塩生成法に
よる簡単な方法で、例えば式(I)の化合物を適当な溶
媒、例えば水、メタノール、エタノールまたはアセトン
に溶解または分散させ、そして適当な塩基を加えること
によって得られる。
次にこの塩を、適当ならば長期間撹拌した後、濃縮また
は吸引濾過によって単離することができる。
は吸引濾過によって単離することができる。
個々の場合に(製造実施例1参照)、式(I)の化合物
の塩は、本°発明による製造方法を行った際に直接得ら
れる。
の塩は、本°発明による製造方法を行った際に直接得ら
れる。
本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の
破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まない
場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による
物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または選
択的除草剤として作用する。
破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まない
場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による
物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または選
択的除草剤として作用する。
本発明による活性化合物は、例えば、次の植物に関連し
て使用することができる: グンバイナズナ属(Laipidjum) 、ヤエムグ
ラ属(Galium) 、/%コベ属(Stellar
ia) 、シカギク属(Matricaria) 、カ
ミツレモドキ属(Anthemis)、ガリンソガ属(
Galinsoga) 、アカザ属(ChenopOd
ium) 、イラクサ属(Urtica)、キオン属(
Senecio)、ヒエ属(Amaranthus)、
スベリヒエ属(Portulaca)、オナモミ属(X
anthium)、ヒルガオ属(Convolvulu
s)、サツマイモ属(Ipomoea) 、タデ属(P
olygonum)、セスバニア属(Sesbania
)、オナモミ属(Ambros ia)、アザミ属(C
irsium) 、ヒレアザミ属(Carduus)、
ノゲシ属(Sonchus) sナス属(Solanu
w+) 、イヌガラシ属(Ror 1ppa) 、キカ
シグサ属(Rotala)、アゼナ属(Lindern
ia) 、ラミラム属(Lan+iu+a)、クワガタ
ソウ属(Veronica)、イチビ属(Abutil
on)、エメタス属(Emex)、チョウセンアサガオ
属(Datura) 、スミレ属(Viola) 、チ
シマオドリコ属(G aleopsis) 、ケシ属(
Papaver)及びセンタウレア属(Centaur
ea)。
て使用することができる: グンバイナズナ属(Laipidjum) 、ヤエムグ
ラ属(Galium) 、/%コベ属(Stellar
ia) 、シカギク属(Matricaria) 、カ
ミツレモドキ属(Anthemis)、ガリンソガ属(
Galinsoga) 、アカザ属(ChenopOd
ium) 、イラクサ属(Urtica)、キオン属(
Senecio)、ヒエ属(Amaranthus)、
スベリヒエ属(Portulaca)、オナモミ属(X
anthium)、ヒルガオ属(Convolvulu
s)、サツマイモ属(Ipomoea) 、タデ属(P
olygonum)、セスバニア属(Sesbania
)、オナモミ属(Ambros ia)、アザミ属(C
irsium) 、ヒレアザミ属(Carduus)、
ノゲシ属(Sonchus) sナス属(Solanu
w+) 、イヌガラシ属(Ror 1ppa) 、キカ
シグサ属(Rotala)、アゼナ属(Lindern
ia) 、ラミラム属(Lan+iu+a)、クワガタ
ソウ属(Veronica)、イチビ属(Abutil
on)、エメタス属(Emex)、チョウセンアサガオ
属(Datura) 、スミレ属(Viola) 、チ
シマオドリコ属(G aleopsis) 、ケシ属(
Papaver)及びセンタウレア属(Centaur
ea)。
次の属の双子葉栽培植物:ワタ属(Gossypiun
+)、ダイズ属(Glycine) 、7ダンソウ属(
Beta)、ニンジン属(Daucus)、インゲンマ
メ属(Phaseolus)、エントウ属(Pisum
) 、ナス属(Solanum) 、アマ属(Linu
m) 、サツマイモ属(Ipomoea) 、ソラマメ
属(Vicia) 、タバコ属(Nicotiana)
、トマト属(Lycopersicon) 、ラッカセ
イ属(Arachis)、アブラナ属(Brass 1
ca)、アキノノゲシ属(Lactuca)、キュウリ
属(Cucun+is)及びウリ属(Cucurbit
a)。
+)、ダイズ属(Glycine) 、7ダンソウ属(
Beta)、ニンジン属(Daucus)、インゲンマ
メ属(Phaseolus)、エントウ属(Pisum
) 、ナス属(Solanum) 、アマ属(Linu
m) 、サツマイモ属(Ipomoea) 、ソラマメ
属(Vicia) 、タバコ属(Nicotiana)
、トマト属(Lycopersicon) 、ラッカセ
イ属(Arachis)、アブラナ属(Brass 1
ca)、アキノノゲシ属(Lactuca)、キュウリ
属(Cucun+is)及びウリ属(Cucurbit
a)。
次の属の単子葉雑草:ヒエ属(Echinochloa
) 、エノコログサ属(Setaria) 、キビ属(
Pan icum)、メヒシバ属(Digitaria
)、アワガリエ属(Phleum)、スズメノカタビラ
属(Poa)、ウシノケグサ属(Festuca) 、
オヒシバ属(Eleusine) 、ブラキアリア属(
Brachiaria)、ドグムギ属(Lol ium
)、スズメノチャヒキ属(Bromus) 、カラスム
ギ属(Avena) 、カヤツリグサ属(Cyperu
s) 、モロコシ属(Sorghum) 、カモジグサ
属(Agropyron)、ジノトン属(Cynodo
n)、ミズアオイ属(Monochor ia)、テン
ツキ属(Fimbristylis) 、オモダカ属(
Sagittaria) 、/%リイ属(Eleoch
aris) 、ホ、タルイ属(Scirpus) 、パ
スパルム属(Paspalum) 、カモノハシ属(I
schaemum) 、スフニックレア属(5phen
oclea) 、ダクチロクテニウム属(Dactyl
octenium) 、ヌカボ属(Agrostis)
s スズメノテツポウ属(Alopecurus)及
びアペラ属(Apera)。
) 、エノコログサ属(Setaria) 、キビ属(
Pan icum)、メヒシバ属(Digitaria
)、アワガリエ属(Phleum)、スズメノカタビラ
属(Poa)、ウシノケグサ属(Festuca) 、
オヒシバ属(Eleusine) 、ブラキアリア属(
Brachiaria)、ドグムギ属(Lol ium
)、スズメノチャヒキ属(Bromus) 、カラスム
ギ属(Avena) 、カヤツリグサ属(Cyperu
s) 、モロコシ属(Sorghum) 、カモジグサ
属(Agropyron)、ジノトン属(Cynodo
n)、ミズアオイ属(Monochor ia)、テン
ツキ属(Fimbristylis) 、オモダカ属(
Sagittaria) 、/%リイ属(Eleoch
aris) 、ホ、タルイ属(Scirpus) 、パ
スパルム属(Paspalum) 、カモノハシ属(I
schaemum) 、スフニックレア属(5phen
oclea) 、ダクチロクテニウム属(Dactyl
octenium) 、ヌカボ属(Agrostis)
s スズメノテツポウ属(Alopecurus)及
びアペラ属(Apera)。
次の属の単子葉栽培植物:イネ属(0「yza)、トウ
モロコシ属(Zea) 、コムギ属(Triticum
) 、オオムギ属(’Hordeum) 、カラスムギ
属(Avena)、ライムギ属(Secale) 、モ
ロコシ属(Sorghum)、キビ属(Panicum
) 、サトウキビ属(Saccharum)、アナナス
属(Ananas) 、クサスギカズラ属(Aspa「
agus)およびネギ属(Alliu+a)。
モロコシ属(Zea) 、コムギ属(Triticum
) 、オオムギ属(’Hordeum) 、カラスムギ
属(Avena)、ライムギ属(Secale) 、モ
ロコシ属(Sorghum)、キビ属(Panicum
) 、サトウキビ属(Saccharum)、アナナス
属(Ananas) 、クサスギカズラ属(Aspa「
agus)およびネギ属(Alliu+a)。
しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれら
の属にまったく限定されず、同じ方法で他の植物に及ぶ
。
の属にまったく限定されず、同じ方法で他の植物に及ぶ
。
化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線
路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び四角
い広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は
多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブド
ウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植
林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油ヤ
シの植林、カカオの植林、小果樹の植え付は及びホップ
の栽培植物の中の雑草の防除に、そして1平生栽培植物
中の雑草の選択的防除に使用することができる。
路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び四角
い広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は
多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブド
ウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植
林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油ヤ
シの植林、カカオの植林、小果樹の植え付は及びホップ
の栽培植物の中の雑草の防除に、そして1平生栽培植物
中の雑草の選択的防除に使用することができる。
本発明による式(I)の化合物は、なかでも、発芽後施
用法によって、単子葉及び双子葉作物中の双子葉雑草を
選択的に防除するために殊に適当である。
用法によって、単子葉及び双子葉作物中の双子葉雑草を
選択的に防除するために殊に適当である。
本活性化合物を普通の調製物、例えば溶液、乳液、水和
剤、懸濁液、粉剤、散布剤、塗布剤、可溶性粉剤、粒剤
、懸濁−乳液濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及び
合成物質、並びに重合物質中の極く細かいカプセルに変
えることができる。
剤、懸濁液、粉剤、散布剤、塗布剤、可溶性粉剤、粒剤
、懸濁−乳液濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及び
合成物質、並びに重合物質中の極く細かいカプセルに変
えることができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び/または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤及び/ま
たは発泡剤と混合して製造される。また伸展剤として水
を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いる
こともできる。
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び/または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤及び/ま
たは発泡剤と混合して製造される。また伸展剤として水
を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いる
こともできる。
液体溶媒として、主に、芳香族炭化水素例えばキシレン
、トルエンもしくはアルキルナフタレン、塩素化された
芳香族及び塩素化された脂肪族炭化水素例えばクロロベ
ンゼン、クロロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族
炭化水素例えばシクロヘキサン、またはパラフィン例え
ば鉱油留分、鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノ
ールもしくはグリコール並びにそのエーテル及びエステ
ル、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有
極性溶媒例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスル
ホキシド並びに水が適している。
、トルエンもしくはアルキルナフタレン、塩素化された
芳香族及び塩素化された脂肪族炭化水素例えばクロロベ
ンゼン、クロロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族
炭化水素例えばシクロヘキサン、またはパラフィン例え
ば鉱油留分、鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノ
ールもしくはグリコール並びにそのエーテル及びエステ
ル、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有
極性溶媒例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスル
ホキシド並びに水が適している。
固体の担体として、例えばアンモニウム塩及び粉砕した
天然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チョーク
、石英、アタパルジャイト、モントモリロナイト、また
はケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物剤例えば高度に分
散性ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適してする;粒
剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ分別した天然
岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石並
びに無機及び有機のびされり合成顆粒及び有機物質の顆
粒例えばおがくず、やしから、トウモロコシ穂軸及びタ
バコ茎が適している;乳化剤及び/または発泡剤として
非イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエチ
レン−脂1tF[エステル、ポリオキシエチレン脂肪族
アルコールエーテル例えばアルキルアリールポリグリコ
ールエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフ
ェート、アリールスルホネート並びにアルブミン加水分
解生成物が適している二分散剤として、例えばリグニン
スルファイト廃液及びメチルセルロースが適している。
天然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チョーク
、石英、アタパルジャイト、モントモリロナイト、また
はケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物剤例えば高度に分
散性ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適してする;粒
剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ分別した天然
岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石並
びに無機及び有機のびされり合成顆粒及び有機物質の顆
粒例えばおがくず、やしから、トウモロコシ穂軸及びタ
バコ茎が適している;乳化剤及び/または発泡剤として
非イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエチ
レン−脂1tF[エステル、ポリオキシエチレン脂肪族
アルコールエーテル例えばアルキルアリールポリグリコ
ールエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフ
ェート、アリールスルホネート並びにアルブミン加水分
解生成物が適している二分散剤として、例えばリグニン
スルファイト廃液及びメチルセルロースが適している。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質例えばセファリン及びレシチ
ン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる。
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質例えばセファリン及びレシチ
ン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる。
更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料
、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及び微量の栄
養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリ
ブテン及び亜鉛の塩を用いることができる。
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料
、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及び微量の栄
養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリ
ブテン及び亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一般に活性化合物0.1乃至95重量%間、好
ましくは0.5乃至90重量%間を含有する。
ましくは0.5乃至90重量%間を含有する。
また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調
製物の形態において、公知の除草剤との混合物として雑
草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合物
または種混合が可能である。
製物の形態において、公知の除草剤との混合物として雑
草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合物
または種混合が可能である。
混合物として使用可能な成分は例えば次の公知の除草剤
である:穀物中の雑草を防除するためのI−アミノ−6
−エチルチオー3−(2,2−ジメチルエチル)−1,
3,5−トリアジン−2゜4− (lH,3H)−ジオ
ン(AMETHYD夏0NE)またはN−(2−ベンゾ
チアゾリル)−N、N’−ジメチル−ウレア(META
BENZTHIAZURON) ; テア fイ中の
雑草を防除するための4−アミノ−3−メチル−6−フ
ェニル−1,2,4−)リアジン−5(4H)−オン(
METAMITRON)及び大豆中の雑草を防除するた
めの4−アミノ−6−(I,1−ジメチルエチル)−3
−メチルチオ−1,2,4−トリアジン−5(4H)−
オン(IIIETRIBUZIN) ;そして更にまた
、2.4−ジクロロフェノキシ酢酸(2,4−D);
4−(2,4−ジクロロフェノキシ)−酪酸(2,4−
DB);2.4−ジクロロフェノキシプロピオン酸(2
,4−DP)、2−クロロ−4−エチルアミノ−6−イ
ソプロビルアミノ−1,3,5−トリアジン(ATRA
ZIN) ; 3−イソプロピル−2,1,3−ベンゾ
チアジアジン−4−オン2.2−ジオキシド(BENT
AZON) ; 5− (2。
である:穀物中の雑草を防除するためのI−アミノ−6
−エチルチオー3−(2,2−ジメチルエチル)−1,
3,5−トリアジン−2゜4− (lH,3H)−ジオ
ン(AMETHYD夏0NE)またはN−(2−ベンゾ
チアゾリル)−N、N’−ジメチル−ウレア(META
BENZTHIAZURON) ; テア fイ中の
雑草を防除するための4−アミノ−3−メチル−6−フ
ェニル−1,2,4−)リアジン−5(4H)−オン(
METAMITRON)及び大豆中の雑草を防除するた
めの4−アミノ−6−(I,1−ジメチルエチル)−3
−メチルチオ−1,2,4−トリアジン−5(4H)−
オン(IIIETRIBUZIN) ;そして更にまた
、2.4−ジクロロフェノキシ酢酸(2,4−D);
4−(2,4−ジクロロフェノキシ)−酪酸(2,4−
DB);2.4−ジクロロフェノキシプロピオン酸(2
,4−DP)、2−クロロ−4−エチルアミノ−6−イ
ソプロビルアミノ−1,3,5−トリアジン(ATRA
ZIN) ; 3−イソプロピル−2,1,3−ベンゾ
チアジアジン−4−オン2.2−ジオキシド(BENT
AZON) ; 5− (2。
4−ジクロロフェノキシ)−2−二トロ安息香酸メ+ル
(BIFENOX) ; 3 、5−ジブロモ−4−ヒ
ドロキシ−ヘンジニトリル(BROMOXYNIL)
; 2−クロロ−Ni[(4−メトキシ−6−メチル−
1゜3.5−トリアジン−2−イル)−アミノJ−力ル
ボニル)ベンゼンスルホンアミl’ (CHL()RS
ULFURON);N、N−ジメチル−N’ −(3−
クロロ−4−メチルフェニル)−ウレア(CHLORT
OLU[?ON) ;[(4−アミノ−3,5−ジクロ
ロ−6−フルオロ−2−ピリジニル)−オキシ1酢酸及
びそのl−メチルへブチルエステ& (FLUROXY
PYR) ; 2−[4,5−ジヒドロ−4−メチル−
4−(l−メチルエチル)−5−オキソ−1H−イミダ
ゾルー2−イル] −4(5)−メチル安息香酸メチル
(IMAZAMETHABENZ) ; 3.5−シ
ョート−4−ヒドロキシベンゾニトリル(IOXYNI
L) ; N 、N−ジメチル−N′〜(4−イソプ
ロピルフェニル)−ウレア(IsOPROTURON)
; (2−メチル−4−クロロフェノキシ)−酢
酸(MCPA) ; (4−クロロ−2−メチルフェノ
キシ)−プロピオン酸(MCPP) ; N−メチル−
2−(I,3−ベンゾチアシル2−イル−オキシ)−ア
セトアニリド(MEFENACET) ;2−IEEC
C4−メトキシ−6−メチル−1゜3.5−トリアジン
−2−イル)−アミノ)−カルボニル]−アミノJ−ス
ルホニル)−安息香aまたはそのメチルエステル(ME
TSULFURON) ; N−(I−エチルグロピ
ル)−3,4−ジメチル−2,6−シニトロアニリンー
(PENDIMETHALIN) ;0− (6−ク
ロロ−3−フェニル−ピリダジン−4−イル)S−オク
チルチオカルボネート(PYl?IDATE) ;
4−エチルアミン−2−tert、−ブチルアミノ−6
−メチルチオ−5−トリアジン(TERBUTRYNE
) ;並びに3−[[[[(4−メトキシ−〇−メチル
ー1.3.5−1−リアジン−2−イル)−アミノ]−
カルボニル]−アミノ]−スルホニル1−チオフェン−
2−カルボン酸メチル(THIAMETURON)。驚
くべきことに、またある混合物は相乗作用を示す。
(BIFENOX) ; 3 、5−ジブロモ−4−ヒ
ドロキシ−ヘンジニトリル(BROMOXYNIL)
; 2−クロロ−Ni[(4−メトキシ−6−メチル−
1゜3.5−トリアジン−2−イル)−アミノJ−力ル
ボニル)ベンゼンスルホンアミl’ (CHL()RS
ULFURON);N、N−ジメチル−N’ −(3−
クロロ−4−メチルフェニル)−ウレア(CHLORT
OLU[?ON) ;[(4−アミノ−3,5−ジクロ
ロ−6−フルオロ−2−ピリジニル)−オキシ1酢酸及
びそのl−メチルへブチルエステ& (FLUROXY
PYR) ; 2−[4,5−ジヒドロ−4−メチル−
4−(l−メチルエチル)−5−オキソ−1H−イミダ
ゾルー2−イル] −4(5)−メチル安息香酸メチル
(IMAZAMETHABENZ) ; 3.5−シ
ョート−4−ヒドロキシベンゾニトリル(IOXYNI
L) ; N 、N−ジメチル−N′〜(4−イソプ
ロピルフェニル)−ウレア(IsOPROTURON)
; (2−メチル−4−クロロフェノキシ)−酢
酸(MCPA) ; (4−クロロ−2−メチルフェノ
キシ)−プロピオン酸(MCPP) ; N−メチル−
2−(I,3−ベンゾチアシル2−イル−オキシ)−ア
セトアニリド(MEFENACET) ;2−IEEC
C4−メトキシ−6−メチル−1゜3.5−トリアジン
−2−イル)−アミノ)−カルボニル]−アミノJ−ス
ルホニル)−安息香aまたはそのメチルエステル(ME
TSULFURON) ; N−(I−エチルグロピ
ル)−3,4−ジメチル−2,6−シニトロアニリンー
(PENDIMETHALIN) ;0− (6−ク
ロロ−3−フェニル−ピリダジン−4−イル)S−オク
チルチオカルボネート(PYl?IDATE) ;
4−エチルアミン−2−tert、−ブチルアミノ−6
−メチルチオ−5−トリアジン(TERBUTRYNE
) ;並びに3−[[[[(4−メトキシ−〇−メチル
ー1.3.5−1−リアジン−2−イル)−アミノ]−
カルボニル]−アミノ]−スルホニル1−チオフェン−
2−カルボン酸メチル(THIAMETURON)。驚
くべきことに、またある混合物は相乗作用を示す。
また他の公知の活性化合物例えば殺菌・殺カビ剤(fu
ngicides)、殺虫剤(insecticide
s)、殺ダニ剤(acar ic 1des)、殺線虫
剤(IIematicides)、小鳥忌避剤、植物栄
養剤及び土壌改良剤との混合物が可能である。
ngicides)、殺虫剤(insecticide
s)、殺ダニ剤(acar ic 1des)、殺線虫
剤(IIematicides)、小鳥忌避剤、植物栄
養剤及び土壌改良剤との混合物が可能である。
除草剤として使用する場合、本活性化合物はそのままで
、或いはその配合物の形態またはその配合物から更に希
釈して調製した使用形態、−例えば調製流液剤、懸濁剤
、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒剤の形態で使用することが
できる。これらのものは普通の方法で、例えば液剤散布
(watering)、スプレー、アトマイジング(a
tomising)または粒剤散布(scatteri
ng)によって施用される。
、或いはその配合物の形態またはその配合物から更に希
釈して調製した使用形態、−例えば調製流液剤、懸濁剤
、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒剤の形態で使用することが
できる。これらのものは普通の方法で、例えば液剤散布
(watering)、スプレー、アトマイジング(a
tomising)または粒剤散布(scatteri
ng)によって施用される。
本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に施
用することができる。
用することができる。
また本化合物は種子をまく前に土壌中に混入することが
できる。
できる。
本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えることが
できる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存する
。一般に、施用量は土壌表面1ヘクタール当り活性化合
物0.01乃至15kg間、好ましくは0.05乃至1
0kg/ha間である。
できる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存する
。一般に、施用量は土壌表面1ヘクタール当り活性化合
物0.01乃至15kg間、好ましくは0.05乃至1
0kg/ha間である。
本発明による活性化合物の製造及び用途を以下の実施例
から知ることができる。
から知ることができる。
製造実施例
実施例1
[方法(a)1
3.4.5−1−ジクロロベンゾトリフルオライド12
4、? (0,5モル)を6−ヒトロキシナフタレン
ー2−スルホン酸ナトリウム135.?(0,5モル)
、水酸化カリウム粉末307(0,54モル)及びジメ
チルスルホキシドlooOmNの混合物に撹拌しながら
加え、反応混合物をまず60℃で3時間、次に20°O
−t’15時間撹拌した。濃縮後、残渣を水で温浸し、
結晶として得られた生成物を吸引濾過によって単離した
。310℃以上で分解を伴って溶融する6−(2,6−
ジクロロ−4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ナ
フタレン−2−スルホン酸ナトリウム206.57](
理論量の91%)が得られた。
4、? (0,5モル)を6−ヒトロキシナフタレン
ー2−スルホン酸ナトリウム135.?(0,5モル)
、水酸化カリウム粉末307(0,54モル)及びジメ
チルスルホキシドlooOmNの混合物に撹拌しながら
加え、反応混合物をまず60℃で3時間、次に20°O
−t’15時間撹拌した。濃縮後、残渣を水で温浸し、
結晶として得られた生成物を吸引濾過によって単離した
。310℃以上で分解を伴って溶融する6−(2,6−
ジクロロ−4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ナ
フタレン−2−スルホン酸ナトリウム206.57](
理論量の91%)が得られた。
実施例2
t
[方法(b)1
6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチル−フ
ェノキシ)−す7タレンー2−スルホン酸ナトリウム2
.39 (5,0ミリモル)、塩化り7 (V)1.
6.? (7,5ミリモル)及びホスホリルクロライ
ド15−の混合物をまず60℃で6時間、次に20℃で
15時間撹拌し、次いで水に注ぎ、更に1時間撹拌した
。結晶として得られた生成物を吸引濾過によって単離し
た。
ェノキシ)−す7タレンー2−スルホン酸ナトリウム2
.39 (5,0ミリモル)、塩化り7 (V)1.
6.? (7,5ミリモル)及びホスホリルクロライ
ド15−の混合物をまず60℃で6時間、次に20℃で
15時間撹拌し、次いで水に注ぎ、更に1時間撹拌した
。結晶として得られた生成物を吸引濾過によって単離し
た。
融点140℃の6−(2,6−ジクロロ−4−トリフル
オロメチル−フェノキシ)−ナフタレン−2−スルホニ
ルクロライドIJjl (理論量の79%)が得られ
た。
オロメチル−フェノキシ)−ナフタレン−2−スルホニ
ルクロライドIJjl (理論量の79%)が得られ
た。
実施例3
ン100−の混合物に撹拌しながら順次、7−(2,6
−ジクロロ−4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−
ナフタレン−2−スルホニルクロライド12.51
(0,025モル)及び濃塩酸25−2を加えた。反応
混合物を還流下で5時間沸点に加熱し、次に20℃で更
に15時間撹拌した。
−ジクロロ−4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−
ナフタレン−2−スルホニルクロライド12.51
(0,025モル)及び濃塩酸25−2を加えた。反応
混合物を還流下で5時間沸点に加熱し、次に20℃で更
に15時間撹拌した。
濃縮後、残渣を塩化メチレン/水に採り入れ、この溶液
を濾過し、濾液を振盪し、有機相を分離し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、そして濾過した。濾液を濃縮し、残渣を
エタノールで温浸し、結晶として得られた生成物を吸引
濾過によって単離した。
を濾過し、濾液を振盪し、有機相を分離し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、そして濾過した。濾液を濃縮し、残渣を
エタノールで温浸し、結晶として得られた生成物を吸引
濾過によって単離した。
融点98℃の7−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオ
ロメチル−フェノキシ)−ナフタレン−2−チオール4
.8.? (理論量の49%)が得られた。
ロメチル−フェノキシ)−ナフタレン−2−チオール4
.8.? (理論量の49%)が得られた。
実施例4
I
[方法(C)]
亜鉛末12.51 (0,19モル)及びジオキサ[
方法(d)] 6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチル−フ
ェノキシ)−ナフタレン−2−スルホニルクロライド4
.61 (0,01モル)、アニリノ0.9jl(0
,01モル)、トリエチルアミン1.II (0,01
1モル)及びアセトニトリル100−の混合物を20℃
で15時間撹拌した。水で希釈した際に結晶として得ら
れた生成物を吸引濾過によって単離した。
方法(d)] 6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチル−フ
ェノキシ)−ナフタレン−2−スルホニルクロライド4
.61 (0,01モル)、アニリノ0.9jl(0
,01モル)、トリエチルアミン1.II (0,01
1モル)及びアセトニトリル100−の混合物を20℃
で15時間撹拌した。水で希釈した際に結晶として得ら
れた生成物を吸引濾過によって単離した。
融点174℃の6−(2,6−ジクロロ−4−トリフル
オロメチル−フェノキシ)−す7タレンー2−スルフア
ニリド3.1 (理論量の59%)が得られた。
オロメチル−フェノキシ)−す7タレンー2−スルフア
ニリド3.1 (理論量の59%)が得られた。
実施例5
チル−フェノキシ)−す7タレンー2−チオール1.9
1 (5ミリモル)、M−プロモーグロビオン酸エチ
ル1.01 (5,5ミリモル)、炭酸カリウム0.
71 (5,5ミリモル)及びアセトニトリル50I
IIj2の混合物を還流下で15時間沸点に加熱し、次
に濃縮した。残渣を塩化メチレンに採り入れ、この溶液
を水で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾
過した。溶媒を濾液からla+mHg (0、13kP
a)で注意して留去した。
1 (5ミリモル)、M−プロモーグロビオン酸エチ
ル1.01 (5,5ミリモル)、炭酸カリウム0.
71 (5,5ミリモル)及びアセトニトリル50I
IIj2の混合物を還流下で15時間沸点に加熱し、次
に濃縮した。残渣を塩化メチレンに採り入れ、この溶液
を水で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾
過した。溶媒を濾液からla+mHg (0、13kP
a)で注意して留去した。
油状残渣として、a−[6−(2,6−ジクロ0−4−
1リアルオロメチル−フェノキシ)−ナフタレン−2−
イルーチオ]−7’ロピオン酸エチル1.4j (理
論値の57%)が得られた。
1リアルオロメチル−フェノキシ)−ナフタレン−2−
イルーチオ]−7’ロピオン酸エチル1.4j (理
論値の57%)が得られた。
【方法(e)1
6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメ本” H
−NMRスペクトルを、内部基準としてテトラメチルシ
ラン(TMS)を用いて、デュテロクロロホルム(CD
CIs)中で記録した。化学シフトをpplllにおけ
るδ値で示した。
−NMRスペクトルを、内部基準としてテトラメチルシ
ラン(TMS)を用いて、デュテロクロロホルム(CD
CIs)中で記録した。化学シフトをpplllにおけ
るδ値で示した。
実施例6
[方法(e)]
7−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチル−フ
ェノキシ)−ナフタレン−2−スルホンアミド2.11
(5,0ミリモル)、アセチルクロライド0.4.
? (5,5ミリモル)、炭酸カリウム1、H(5,
5ミリモル)及びアセトン50−の混合物を還流下で1
5時間沸点に加熱した。塩化メチレンの添加後、混合物
を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過し
た。溶媒を濾液から留去し、残渣をエタノールで温浸し
、結晶として得られた生成物を吸引濾過によって単離し
た。
ェノキシ)−ナフタレン−2−スルホンアミド2.11
(5,0ミリモル)、アセチルクロライド0.4.
? (5,5ミリモル)、炭酸カリウム1、H(5,
5ミリモル)及びアセトン50−の混合物を還流下で1
5時間沸点に加熱した。塩化メチレンの添加後、混合物
を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過し
た。溶媒を濾液から留去し、残渣をエタノールで温浸し
、結晶として得られた生成物を吸引濾過によって単離し
た。
融点137°CのN−アセチル−7−(2,6−ジクロ
ロ−4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ナフタレ
ン−2−スルホンアミド1.1.?(理論量の46%)
が得られた。
ロ−4−トリフルオロメチル−フェノキシ)−ナフタレ
ン−2−スルホンアミド1.1.?(理論量の46%)
が得られた。
次の第7表に示した式CI)の化合物、式(Ia)、(
Ib)、(I c)、(Id)及び(Ie)の「異性体
群」によってより正確に表わした、を実施例1〜6と同
様にして、そして本発明による製造方法の一般的な記述
に従って製造することができた。
Ib)、(I c)、(Id)及び(Ie)の「異性体
群」によってより正確に表わした、を実施例1〜6と同
様にして、そして本発明による製造方法の一般的な記述
に従って製造することができた。
使用実施例
下記の化合物を使用実施例において比較物質として用い
t二: 、CI α−[4−(2,4−ジクロロ−フェノキシ)−フェノ
キシ]−プロピオン厳メチル[ジクロホップ−メチル(
diclofop−methyl)][DE−O3(ド
イツ国特許出願公開明細書)第2.223.894号/
実施例86から公知]。
t二: 、CI α−[4−(2,4−ジクロロ−フェノキシ)−フェノ
キシ]−プロピオン厳メチル[ジクロホップ−メチル(
diclofop−methyl)][DE−O3(ド
イツ国特許出願公開明細書)第2.223.894号/
実施例86から公知]。
実施例A
発芽後試験
溶 媒:アセトン5重量部
乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
高さ5〜15cmの試験植物に、単位面積当り所望の活
性化合物の特定の量が施用されるように、活性化合物の
調製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の活性化合物の
特定の量が1ヘクタール当り水20001として施用さ
れるように選定した。
性化合物の特定の量が施用されるように、活性化合物の
調製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の活性化合物の
特定の量が1ヘクタール当り水20001として施用さ
れるように選定した。
3週間後、植物に対する損傷の程度を未処理対照の発育
と比較して%損傷として評価した。数字は次の意味を表
わす: 0%−作用なしく未処理対照と同様) 100%−全で撲滅 この試験において、従来の化合物と比較して、例えば製
造実施例(9)、(23)、(24)、(94)及び(
I42)による化合物は明かにすぐれた活性を示した。
と比較して%損傷として評価した。数字は次の意味を表
わす: 0%−作用なしく未処理対照と同様) 100%−全で撲滅 この試験において、従来の化合物と比較して、例えば製
造実施例(9)、(23)、(24)、(94)及び(
I42)による化合物は明かにすぐれた活性を示した。
その結果を第A表に示す。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
1、一般式(I)
式中、mは数0、lまたは2を表わし、nは数0または
lを表わし、 R1は水素、ハロゲン、シアノまたはトリフルオロメチ
ルを表わし、 R1は水素またはハロゲンを表わし、 R3はハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロメ
チルスルホニルを表わし、 R4は水素またはハロゲンを表わし、 Xは窒素または基C−R″を表わし、ここで、R“は水
素またはハロゲンを表わし、 Yは酸素または基 の1つを表わし、ここで、 R6は水素、アルキル、−CO−Zまたは−SO,−Z
を表わし、そして 2は水素、ハロゲンまたは一連のアルキル、シクロアル
キル、シクロアルキルアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アラルキル、アリール及びヘテロアリールからなる
随時置換されていてもよい基を表わす、 の硫黄を介して結合した置換基を有する(ヘテロ)アリ
ールオキシナフタレン及び数式(I)の化合物の塩。
lを表わし、 R1は水素、ハロゲン、シアノまたはトリフルオロメチ
ルを表わし、 R1は水素またはハロゲンを表わし、 R3はハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロメ
チルスルホニルを表わし、 R4は水素またはハロゲンを表わし、 Xは窒素または基C−R″を表わし、ここで、R“は水
素またはハロゲンを表わし、 Yは酸素または基 の1つを表わし、ここで、 R6は水素、アルキル、−CO−Zまたは−SO,−Z
を表わし、そして 2は水素、ハロゲンまたは一連のアルキル、シクロアル
キル、シクロアルキルアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アラルキル、アリール及びヘテロアリールからなる
随時置換されていてもよい基を表わす、 の硫黄を介して結合した置換基を有する(ヘテロ)アリ
ールオキシナフタレン及び数式(I)の化合物の塩。
2、mが数0.lまたは2を表わし、
nが数0またはlを表わし、
R1かは水素、フッ素、塩素、臭素、シアノまたはトリ
フルオロメチルを表わし、 R1が水素、フッ素または塩素を表わし、R3がフッ素
、塩素、臭素、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロメチ
ルスルホニルを表わし、 R4が水素、フッ素または塩素を表わし、Xが窒素また
は基C−R’を表わし、ここで、RSは水素、フッ素、
塩素または臭素を表ゎし、 Yが酸素または基 の1つを表わし、ここで、 R6は水素、C0〜C4−アルキル、−CO−2または
−SO,−Zを表わし、モして2は水素またはハロゲン
、或いは随時ハロゲン、シアノ、カルボキシC1〜C,
−アルコキシ、C1〜C6−アルキルカルボニル C,−アルコキシ−カルボニル、C.−C,−アルコキ
シ−カルボニル−CI〜C4−アルコキシ−カルボニル
及び/またはC.−C4−アルキルアミノ−カルボニル
で置換されていてもよいC1〜C.−アルキル;各々の
場合に随時ハロゲン及び/またはC1〜C,−アルキル
で置換されていてもよいC,〜C.Cシーロアルキルま
たはC,〜C.ーシクロアルキルー〇1〜C4−アルキ
ル;各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル
及び/またはC,−C,−アルコキシ−カルボニルで置
換されていてもよいC,〜C.ーアルケニルまたはC,
〜C.ーアルキニル;各々の場合に随時ハロゲン、シア
ノ、カルボキシ、ニトロ%Cl〜C.ーアルキル%Cl
〜Cよ一ハロゲノアルキル、CI−04−アルコキシ、
C,〜C,ーハロゲノアルコキシ%C1〜C.−アルキ
ルチオ、C,〜C,−Cローノアルキルチオ、C I−
C 4−アルキルスルフィニル、C,〜C.ーアルキ
ルスルホニル、シー(C,〜C,−Cルール)−アミノ
スルホニル、ジー(C,〜C,−Cルール)−アミノカ
ルボニル、ジー( C I”” C zーアルキル)−
アミノ、C I””” C I−アルコキシ−カルボニ
ル及び/またはC,〜C,−Cルーレンジオキシで置換
されていてもよいフェニル、ナフチル、フェニル−C1
〜C6−アルキルまたはナフチル−CINC4−アルキ
ルを表わすか;或いはZは随時ハロゲン、C3〜C4−
アルキル、C3〜Cよ一ハロゲノアルキル、C3〜C4
−アルコキシ及び/またはC4〜C2−ハロゲノアルコ
キシで置換されていてもよい一連のピラゾリル、イミダ
ゾリル及びトリアゾリルからなる複素環式基を表わす上
記lに記載の一般式(I)の化合物 3、R1がシアノ、フッ素または塩素を表わし、R2が
水素、フッ素または塩素を表わし、R3が塩素、トリフ
ルオロメチルまたはトリフルオロメチルスルホニルを表
わし、 R4が水素、フッ素または塩素を表わし、Xが窒素また
は基C−R’を表わし、ここで、Rsは水素、7ツ素ま
たは塩素を表わし、そして、 (A )mが数0を表わし、 nが数0を表わし、そして Zが水素;随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシ、C
,−C,−アシレコキシー力ルポニル、C3〜C4−ア
ルコキシ−カルボニル−C1〜C7−アルコキシ−カル
ボニル及び/またはC1〜C′、−アルキルアミノ−カ
ルボニルで置換されていてもよい01〜C1−アルキル
;随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル及び/また
はC1〜C4−アルコキシ−カルボニルで置換されてい
てもよいC8〜C4−アルケニル;または随時フッ素、
塩素及び/またはメチルで置換されていてもよいベンジ
ルを表わすか、 (B)mが数2を表わし、 nが数0またはlを表わし、 Yが酸素或いは基−NH−−NH−CO−−NH−CO
O−または−NH−3O,の1つを表わし、そして 2は水素を表わすか、随時フッ素、塩素、シアノ、カル
ボキシル、C,−C,−アルコキシ−カルボニル及び/
またはC3〜C4−アルキルアミノ−カルボニルで置換
されていてもよいC3〜C1−アルキル;随時フッ素、
塩素、シアノ、カルボキシル及び/またはC8〜C4−
アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC3〜
C4−アルケニル:各々の場合に随時フッ素、塩素、臭
素、ニトロ、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メ
トキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロ
メトキシ、クロロジフルオロメトキシ、メチルチオ、ジ
フルオロメチルチオ、トリフルオロメトキシす、りaロ
ジフルオロメチルチオ、メチルスルホニル、ジメチルア
ミノスルホニル、メトキシカルボニル及び/またはメト
キシカルボニルで置換されていてもよいフェニルまたは
ベンジルを表わすか、或いは (C)mが数2を表わし、 nが数0を表わし、そして 2が塩素、随時塩素及び/またはC3〜C3−アルキル
で置換されていてもよいピラゾリル、または随時C3〜
C1−アルキルで置換されていてもよいイミダゾリルを
表わす 上記lに記載の一般式(I)の化合物。
フルオロメチルを表わし、 R1が水素、フッ素または塩素を表わし、R3がフッ素
、塩素、臭素、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロメチ
ルスルホニルを表わし、 R4が水素、フッ素または塩素を表わし、Xが窒素また
は基C−R’を表わし、ここで、RSは水素、フッ素、
塩素または臭素を表ゎし、 Yが酸素または基 の1つを表わし、ここで、 R6は水素、C0〜C4−アルキル、−CO−2または
−SO,−Zを表わし、モして2は水素またはハロゲン
、或いは随時ハロゲン、シアノ、カルボキシC1〜C,
−アルコキシ、C1〜C6−アルキルカルボニル C,−アルコキシ−カルボニル、C.−C,−アルコキ
シ−カルボニル−CI〜C4−アルコキシ−カルボニル
及び/またはC.−C4−アルキルアミノ−カルボニル
で置換されていてもよいC1〜C.−アルキル;各々の
場合に随時ハロゲン及び/またはC1〜C,−アルキル
で置換されていてもよいC,〜C.Cシーロアルキルま
たはC,〜C.ーシクロアルキルー〇1〜C4−アルキ
ル;各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル
及び/またはC,−C,−アルコキシ−カルボニルで置
換されていてもよいC,〜C.ーアルケニルまたはC,
〜C.ーアルキニル;各々の場合に随時ハロゲン、シア
ノ、カルボキシ、ニトロ%Cl〜C.ーアルキル%Cl
〜Cよ一ハロゲノアルキル、CI−04−アルコキシ、
C,〜C,ーハロゲノアルコキシ%C1〜C.−アルキ
ルチオ、C,〜C,−Cローノアルキルチオ、C I−
C 4−アルキルスルフィニル、C,〜C.ーアルキ
ルスルホニル、シー(C,〜C,−Cルール)−アミノ
スルホニル、ジー(C,〜C,−Cルール)−アミノカ
ルボニル、ジー( C I”” C zーアルキル)−
アミノ、C I””” C I−アルコキシ−カルボニ
ル及び/またはC,〜C,−Cルーレンジオキシで置換
されていてもよいフェニル、ナフチル、フェニル−C1
〜C6−アルキルまたはナフチル−CINC4−アルキ
ルを表わすか;或いはZは随時ハロゲン、C3〜C4−
アルキル、C3〜Cよ一ハロゲノアルキル、C3〜C4
−アルコキシ及び/またはC4〜C2−ハロゲノアルコ
キシで置換されていてもよい一連のピラゾリル、イミダ
ゾリル及びトリアゾリルからなる複素環式基を表わす上
記lに記載の一般式(I)の化合物 3、R1がシアノ、フッ素または塩素を表わし、R2が
水素、フッ素または塩素を表わし、R3が塩素、トリフ
ルオロメチルまたはトリフルオロメチルスルホニルを表
わし、 R4が水素、フッ素または塩素を表わし、Xが窒素また
は基C−R’を表わし、ここで、Rsは水素、7ツ素ま
たは塩素を表わし、そして、 (A )mが数0を表わし、 nが数0を表わし、そして Zが水素;随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシ、C
,−C,−アシレコキシー力ルポニル、C3〜C4−ア
ルコキシ−カルボニル−C1〜C7−アルコキシ−カル
ボニル及び/またはC1〜C′、−アルキルアミノ−カ
ルボニルで置換されていてもよい01〜C1−アルキル
;随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル及び/また
はC1〜C4−アルコキシ−カルボニルで置換されてい
てもよいC8〜C4−アルケニル;または随時フッ素、
塩素及び/またはメチルで置換されていてもよいベンジ
ルを表わすか、 (B)mが数2を表わし、 nが数0またはlを表わし、 Yが酸素或いは基−NH−−NH−CO−−NH−CO
O−または−NH−3O,の1つを表わし、そして 2は水素を表わすか、随時フッ素、塩素、シアノ、カル
ボキシル、C,−C,−アルコキシ−カルボニル及び/
またはC3〜C4−アルキルアミノ−カルボニルで置換
されていてもよいC3〜C1−アルキル;随時フッ素、
塩素、シアノ、カルボキシル及び/またはC8〜C4−
アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC3〜
C4−アルケニル:各々の場合に随時フッ素、塩素、臭
素、ニトロ、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メ
トキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロ
メトキシ、クロロジフルオロメトキシ、メチルチオ、ジ
フルオロメチルチオ、トリフルオロメトキシす、りaロ
ジフルオロメチルチオ、メチルスルホニル、ジメチルア
ミノスルホニル、メトキシカルボニル及び/またはメト
キシカルボニルで置換されていてもよいフェニルまたは
ベンジルを表わすか、或いは (C)mが数2を表わし、 nが数0を表わし、そして 2が塩素、随時塩素及び/またはC3〜C3−アルキル
で置換されていてもよいピラゾリル、または随時C3〜
C1−アルキルで置換されていてもよいイミダゾリルを
表わす 上記lに記載の一般式(I)の化合物。
4、(a)mが2を表わし、nが1を表わし、Yが酸素
を表わし、Zが水素または金属当量を表わし、そしてR
1、R宜、R3、R4及びXが上記lに示した意味を有
する場合、一般式(II)R@ 式中、R1、R2、R1、R4及びXは上記lに示した
意味を有し、そして zlはハロゲンを表わす、 のハロゲノ−(ヘテ0)アリール化合物を、適当ならば
酸受容体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在
下において、一般式1) のヒドロキシナフタレンスルホン酸またはその金属塩と
反応させ、適当ならば、次に生成物を強酸で処理するか
、 (b)mが数OS lまたは2を表わし、nが数0を表
わし、Zがハロゲンを表わし、そしてR1R2、R3、
R6及びXが上記lに示した意味を有する場合、一般式
(I)、但し、mは数0、lまたは2を表わし、nは数
1を表わし、Yは酸素を表わし、2は水素または金属当
量を表わし、モしてR’、R1、R3、R4及びXは上
記lに示した意味を有する、の化合物を、適当ならば触
媒またはハロゲンを補助剤の存在下において且つ適当な
らば希釈剤の存在下においてハロゲン化剤と反応させる
か、 (c)mが数0、lまたは2を表わし、nが数0を表わ
し、Zが水素または金属当量を表わし、そしてR1,R
2、R3、R4及びXが上記lに示した意味を有する場
合、一般式(I)、但し、mは数2を表わし、nは数0
を表わし、Zはハロゲンを表わし、そしてR11R1、
R1R4及びXは上記lに示した意味を有する、の化合
物を適当ならば還元補助剤の存在下において且つ適当な
らば希釈剤の存在下において還元剤と反応させるか、(
d)mが数0、lまたは2を表わし、nが数1を表わし
、そしてR11R2、R3、R4、X、 Y及び2が上
記lに示した意味を有する場合、式(り、但し、mは数
0.lまたは2を表わし、nは数0を表わし、Zはハロ
ゲンを表わし、そしてR1、R2、R3R4及びXは上
記lに示した意味を有する、の化合物を適当ならば酸受
容体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在下に
おいて一般式(rV) M−(Y)n−Z (IV )式中、n%Y
及びZは上記lに示した意味を有し、そして Mは水素または金属当量を表わす、 の求核的化合物と反応させるか、或いは(e)Zが、水
素及びハロゲンを途いて、上記lに示した意味を有し、
そしてm、n、R’、R”R3、R’、X及びYが上記
lに示した意味を有する場合、式(I)、但し、Yは酸
素またはNHを表わし、2は水素を表わし、そしてm、
n、R’R1、R3、R4及びXは上記lに示した意味
を有する、の化合物、適当ならば酸受容体の存在下にお
いてかつ適当ならば希釈剤の存在下において一般式(V
) Z’−(Y’)n −Z ” (V )式中、
nは数0または1を表わし、 YlはCOまたはSO,を表わし、 Z2はハロゲンを表わし、そして z3は、水素及びハロゲンを除いて、Zに対して上記l
に示した意味を有する、 の求核的化合物と反応させ、 そして適当ならば、上記方法によって製造した式(I)
の化合物から塩を製造する ことからなる上記lに記載の一般式(I)の硫黄を介し
て結合した置換基を有する(ヘテロ)アリールナフタレ
ンの製造方法。
を表わし、Zが水素または金属当量を表わし、そしてR
1、R宜、R3、R4及びXが上記lに示した意味を有
する場合、一般式(II)R@ 式中、R1、R2、R1、R4及びXは上記lに示した
意味を有し、そして zlはハロゲンを表わす、 のハロゲノ−(ヘテ0)アリール化合物を、適当ならば
酸受容体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在
下において、一般式1) のヒドロキシナフタレンスルホン酸またはその金属塩と
反応させ、適当ならば、次に生成物を強酸で処理するか
、 (b)mが数OS lまたは2を表わし、nが数0を表
わし、Zがハロゲンを表わし、そしてR1R2、R3、
R6及びXが上記lに示した意味を有する場合、一般式
(I)、但し、mは数0、lまたは2を表わし、nは数
1を表わし、Yは酸素を表わし、2は水素または金属当
量を表わし、モしてR’、R1、R3、R4及びXは上
記lに示した意味を有する、の化合物を、適当ならば触
媒またはハロゲンを補助剤の存在下において且つ適当な
らば希釈剤の存在下においてハロゲン化剤と反応させる
か、 (c)mが数0、lまたは2を表わし、nが数0を表わ
し、Zが水素または金属当量を表わし、そしてR1,R
2、R3、R4及びXが上記lに示した意味を有する場
合、一般式(I)、但し、mは数2を表わし、nは数0
を表わし、Zはハロゲンを表わし、そしてR11R1、
R1R4及びXは上記lに示した意味を有する、の化合
物を適当ならば還元補助剤の存在下において且つ適当な
らば希釈剤の存在下において還元剤と反応させるか、(
d)mが数0、lまたは2を表わし、nが数1を表わし
、そしてR11R2、R3、R4、X、 Y及び2が上
記lに示した意味を有する場合、式(り、但し、mは数
0.lまたは2を表わし、nは数0を表わし、Zはハロ
ゲンを表わし、そしてR1、R2、R3R4及びXは上
記lに示した意味を有する、の化合物を適当ならば酸受
容体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在下に
おいて一般式(rV) M−(Y)n−Z (IV )式中、n%Y
及びZは上記lに示した意味を有し、そして Mは水素または金属当量を表わす、 の求核的化合物と反応させるか、或いは(e)Zが、水
素及びハロゲンを途いて、上記lに示した意味を有し、
そしてm、n、R’、R”R3、R’、X及びYが上記
lに示した意味を有する場合、式(I)、但し、Yは酸
素またはNHを表わし、2は水素を表わし、そしてm、
n、R’R1、R3、R4及びXは上記lに示した意味
を有する、の化合物、適当ならば酸受容体の存在下にお
いてかつ適当ならば希釈剤の存在下において一般式(V
) Z’−(Y’)n −Z ” (V )式中、
nは数0または1を表わし、 YlはCOまたはSO,を表わし、 Z2はハロゲンを表わし、そして z3は、水素及びハロゲンを除いて、Zに対して上記l
に示した意味を有する、 の求核的化合物と反応させ、 そして適当ならば、上記方法によって製造した式(I)
の化合物から塩を製造する ことからなる上記lに記載の一般式(I)の硫黄を介し
て結合した置換基を有する(ヘテロ)アリールナフタレ
ンの製造方法。
5、少なくとも1種の上記lに記載の式(I)の化合物
を含有する除草剤。
を含有する除草剤。
6、上記1〜3に記載の式(I)の化合物を雑草及び/
またはその周囲に作用させるこ亡からなる雑草の防除方
法。
またはその周囲に作用させるこ亡からなる雑草の防除方
法。
7、雑草を防除するための上記lに記載の式(I)の化
合物の使用。
合物の使用。
8、上記1〜3に記載の式(I)の化合物を伸展剤及び
/または表面活性剤と混合することからなる除草剤の製
造方法。
/または表面活性剤と混合することからなる除草剤の製
造方法。
9、式
10、式
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、mは数0、1または2を表わし、 nは数0または1を表わし、 R^1は水素、ハロゲン、シアノまたはトリフルオロメ
チルを表わし、 R^2は水素またはハロゲンを表わし、 R^3はハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロ
メトキシ、トリフルオロメチルチオまたはトリフルオロ
メチルスルホニルを表わし、 R^4は水素またはハロゲンを表わし、 Xは窒素または基C−R^5を表わし、ここで、 R^5は水素またはハロゲンを表わし、 Yは酸素または基 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼ の1つを表わし、ここで、 R^6は水素、アルキル、−CO−Zまたは−SO_2
−Zを表わし、そして Zは水素、ハロゲンまたは一連のアルキル、シクロアル
キル、シクロアルキルアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アラルキル、アリール及びヘテロアリールからなる
随時置換されていてもよい基を表わす、 の硫黄を介して結合した置換基を有する(ヘテロ)アリ
ールオキシナフタレン及び該式( I )の化合物の塩。 2、(a)mが2を表わし、nが1を表わし、Yが酸素
を表わし、Zが水素または金属当量を表わし、そしてR
^1、R^2、R^3、R^4及びXが特許請求の範囲
第1項に示した意味を有する場合、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、R^1、R^2、R^3、R^4及びXは特許請
求の範囲第1項に示した意味を有し、そして Z^1はハロゲンを表わす、 のハロゲノ−(ヘテロ)アリール化合物を、適当ならば
酸受容体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在
下において、一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) のヒドロキシナフタレンスルホン酸またはその金属塩と
反応させ、適当ならば、次に生成物を強酸で処理するか
、 (b)mが数0、1または2を表わし、nが数0を表わ
し、Zがハロゲンを表わし、そしてR^1、R^2、R
^3、R^4及びXが特許請求の範囲第1項に示した意
味を有する場合、一般式( I )、但し、mは数0、1
または2を表わし、nは数1を表わし、Yは酸素を表わ
し、Zは水素または金属当量を表わし、そしてR^1、
R^2、R^3、R^4及びXは特許請求の範囲第1項
に示した意味を有する、の化合物を、適当ならば触媒ま
たはハロゲン化補助剤の存在下において且つ適当ならば
希釈剤の存在下においてハロゲン化剤と反応させるか、 (c)mが数0、1または2を表わし、nが数0を表わ
し、Zが水素または金属当量を表わし、そしてR^1、
R^2、R^3、R^4及びXが特許請求の範囲第1項
に示した意味を有する場合、一般式( I )、但し、m
は数2を表わし、nは数0を表わし、Zはハロゲンを表
わし、そしてR^1、R^2、R^3、R^4及びXは
特許請求の範囲第1項に示した意味を有する、の化合物
を適当ならば還元補助剤の存在下において且つ適当なら
ば希釈剤の存在下において還元剤と反応させるか、 (d)mが数0、1または2を表わし、nが数1を表わ
し、そしてR^1、R^2、R^3、R^4、X、Y及
びZが特許請求の範囲第1項に示した意味を有する場合
、式( I )、但し、mは数0、1または2を表わし、
nは数0を表わし、Zはハロゲンを表わし、そしてR^
1、R^2、R^3、R^4及びXは特許請求の範囲第
1項に示した意味を有する、の化合物を適当ならば酸受
容体の存在下において且つ適当ならば希釈剤の存在下に
おいて一般式(IV) M−(Y)n−Z(IV) 式中、n、Y及びZは特許請求の範囲第1項に示した意
味を有し、そして Mは水素または金属当量を表わす、 の求核的化合物と反応させるか、或いは (e)Zが、水素及びハロゲンを除いて、特許請求の範
囲第1項に示した意味を有し、そしてm、n、R^1、
R^2、R^3、R^4、X及びYが特許請求の範囲第
1項に示した意味を有する場合、式( I )、但し、Y
は酸素またはNHを表わし、Zは水素を表わし、そして
m、n、R^1、R^2、R^3、R^4及びXは特許
請求の範囲第1項に示した意味を有する、の化合物を、
適当ならば酸受容体の存在下において且つ適当ならば希
釈剤の存在下において一般式(V) Z^2(Y^1)n−Z^3(V) 式中、nは数0または1を表わし、 Y^1はCOまたはSO_2を表わし、 Z^2はハロゲンを表わし、そして Z^3は、水素及びハロゲンを除いて、Zに対して特許
請求の範囲第1項に示した意味を有する、 の求核的化合物と反応させ、 そして適当ならば、上記方法によつて製造した式( I
)の化合物から塩を製造する ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の一般式(
I )の硫黄を介して結合した置換基を有する(ヘテロ
)アリールナフタレンの製造方法。 3、少なくとも1種の特許請求の範囲第1項記載の式(
I )の化合物を含有する除草剤。 4、雑草を防除するための特許請求の範囲第1項記載の
式( I )の化合物の使用。 5、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。 6、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。
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