JPH027056A - 凸版印版の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光重合により橋かけさせた凸版印版の製法であ
って、層の橋かけしていない部分を洗い去るため特定の
現像溶媒を用いるものに関する。

（従来の技術） 光重合性又は光橋かけ性の凸版形成層を化学線をもって
画像どおりに露光させて層の露光部分を橋かけさせ、引
続いて層の橋かけしていない部分を現像溶媒で洗い去る
ことによる印版及びホトレジストの製造は公知である。

その際通常は現像溶媒として塩素化炭化水素たとえばト
リクロルエチレン、テトラクロルエチレン、芳香族炭化
水素、ペンゾール、ドルオールなど、飽和の環式又は非
環式炭化水素、ヘキサン、シクロヘキサンなど、不飽和
環式炭化水素たとえばテルペノイド化合物、リモネン、
ピネンなど、低級脂肪族ケトン、アセトン、メチルエチ
ルケトンなどを場合によってはアルコール（たとえば約
２０容積％の割合のブタノール）と混合して用いる。

市場で多く用いられるテトラクロルエチレン約８０容積
部と０−ブタノール又はトリクロルエタン約２０容積部
とからなるフレキソ印版及びホトレジスト用の洗浄溶液
は、それらの毒性から洗浄装置運転の際に問題を生じる
。それで正常運転のためには吸出が必要であり、才だ排
気は放出の前に塩素化炭化水素を除去しなくてはならな
い。使用後の洗浄溶液の処理も問題となる。別の問題は
露光ずみの層が洗浄作業中に蒙むる高度の膨潤から生じ
る。層の高度の膨潤は光重合ずみの構造に損傷（破損、
細かい要素の分離など）ならびに過度洗浄に対する低い
抵抗力を引き起こす。

芳香族及び脂肪族炭化水素など代案の洗浄液の使用には
可燃性の問題が妨げとなる。これらの溶媒は引火点が２
１℃より低く、従って耐爆設備内で作業しなくてはなら
なくなる。このことはまたケトン類の低分子溶媒にもあ
てはまる。

テルペノイド炭化水素たとえばリモネンなどは確かに引
火点が高い；それらの洗浄溶液としての使用はそれらの
臭気が強く、しばしば刺激性であるだめに制限される。

（発明の目的） 本発明の課題はそれゆえ、引火点が明かに室温より高＜
、印版及びホトレジストの洗出しに短時間のみで足り、
印版に膨潤を引き起こすのが僅かにすぎず、毒性が低く
、臭気が少ない乃至香りがよい洗浄液を見出だすことで
ある。

意外なことに、これらの諸行性が特定の水素添加した石
油留分を炭化水素溶媒として含んでいる洗浄液をもって
満たされ得ることが見出だされた。

（発明の構成） 本発明の対象は、光重合により橋かけ可能の層を化学線
をもって画像どおりに露光させ層の露光ずみ部分を橋か
けさせ、層の橋かけしていない部分を炭化水素溶媒又は
炭化水素溶媒とアルコールとの混合物をもって洗い去る
ことによって光重合により橋かけされる凸版印版の製法
であって、炭化水素溶媒として引火点〉４５℃、沸点範
囲１６０乃至２２０℃の水素添加した石油留分な用いる
ことを特徴とするものである。

水素添加した石油留分は一般に、ＤＩＮ　５１３７８に
よる芳香族含有量は１％未満である。優先されるのはこ
の種の水素添加石油留分であって、そのす７テン系の割
合が、同じ＜　ＤＩＮ　５１３７８に従って測定して０
．５乃至５０％のものである。

本発明による洗浄液は香改良剤及び／又は界面活性剤が
添加してあってもよい。

芳香族含有の炭化水素溶媒（芳香族の割合が）１０％）
は確かに印版乃至レジスト用洗浄液として同じく適して
いるが明かに０ＥＬ−値が低（不快臭がある。

純パラフィン系溶媒たとえば合成インパラフィンなどは
これに反して印版及びレジストの洗浄にはまず適しない
。同じことが高沸点のｎ−パラフィン混合物にもあては
まる。

芳香族を除去した炭化水素溶媒であって沸点範囲が２３
０℃を超えるものは洗去時間が過大で同じく印版乃至レ
ジスト用洗浄液として不適当である。

本発明により優先される水素添加石油留分はと＜Ｋ１％
未満の芳香族含有量及び４５℃を超える引火点のほかに
沸点範囲が１７０乃至２２０℃、とくに１８０乃至２１
０℃でありかつナフテン系炭化水素の割合が０．５乃至
５０％とくに１０乃至４０％（ＤＩＮ　５１３７８によ
る）のものである。

適切な水素添加石油留分の例はシェル社の５ｈｅｌｌ−
ｓｏ１■０６０及びエッソ社のＥｘｘｓｏｌ■０６０で
あり、これらは沸点範囲がほぼ１８０乃至２１０℃、引
火点的６０℃、芳香族含有量０．５％、ナフテン系炭化
水素含有量的３０％である。これらの製品はそのうえほ
ぼ完全に無臭であり、０ＥＬ−値が高い（ＯＥＬ−職務
上曝露限界）。

フレキソ印版は一般に多層構成（厚さ約３０００μｍの
印版層上にし７ばしば厚さ約５μｍの薄いポリアミド表
層がある）であるので、本発明により使用する水素添加
石油留分にアルコール成分を添加するのが好都合なこと
がある。

このために適切と判明（−たのは炭素原子数４乃至８の
アルコール（たとえばｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノー
ル、インブタノール、ヘキサノールなど）である。ポリ
アミド表層の十分な溶解度を保証するためアルコール成
分の割合は少な（とも５容積％、望ましくは２０容積％
とすべきである。

アルフールの存在により、純炭化水素溶媒より引火点が
１０乃至２０℃だけ低くなる。そのときは処方された洗
浄液の引火点は約４０℃である。従って洗浄液は耐爆保
護のない設備において取扱いできる。

すでに上述したとおり洗浄溶液は、未露光材料の溶解を
加速する界面活性剤及び若干の香改良剤も含むことがで
きる。

界面活性剤としてはたとえばアクリルスルホナート及び
その塩、アルキルアンモニウム塩又はエトキシ化した脂
肪酸、脂肪族アルコールエーテル硫酸塩及びその塩なら
びに脂肪族アルコール燐酸エステル及びその塩が問題と
なる。界面活性成分は洗浄溶液に通常Ｏ乃至２重量％の
量で添加できる。

香改良用添加物としては天然のテルペノイド化合物、リ
モネン、ピネン、シトロネロールなどが問題となる。こ
れらは所望の芳香の強さに応じて０乃至最大１０重量％
の割合で洗浄溶液へ添加できる。

画像どおりに露光させたホトポリマー層の現像及び洗浄
は通常の方法で２０乃至５０℃の温度において公知の吹
きつけ−　ブラシー、び摩擦−洗浄機内で行なわれる。

その際に、本発明による洗浄溶液の場合は特定の洗去深
さに必要な洗去時間が通用の洗浄溶液の場合よりも僅か
だけ長くなるにすぎないが印版層の露光ずみ部分の溶媒
吸収は本発明による洗浄溶液の場合きわだって低減する
ことが見られる。それによって、画像どおりの露光によ
り作られた構造の過度洗浄耐性は全く著しく改善される
すなわち特定の深さの印版に必要な洗浄時間を超過する
ときも欠陥のない構造が得られる。このことはホトレジ
スト分野において、しかもまた高品質のスクリーン・フ
レキソ印刷（Ｒａｓｔｅｒｆｌｅｘｏｄｒｕｃｋ　）に
おいても１すまず、用いられている薄層（厚さ０．７１
ｎ未満）の場合にとりわけ重要である。

画像どおりの露光により作られた構造の破裂耐性も本発
明による上記の水素添加石油留分の使用によって著しく
改善される。これはたとえば厚紙及び段ボール印刷に用
いられる彫の深い（約３日）軟質弾性の厚い印版の場合
と（に重要である。

本発明により用いられる洗浄溶液の別の意外な利点は画
像どおりに露光され洗浄された層の表面品質に関する。

とくに通用のフレキソ溶媒でフレキソ印版を洗浄する場
合にはしばしばしぼの形の望１しくない表面構造（いわ
ゆる柚子肌）となるが本発明による溶媒で洗浄する場合
はこれが観察されず、本発明により作られた凸版印版は
均等に滑かな表面となる。

本発明により用いられる洗浄溶液の別の意外な利点は、
話頭の水素添加石油留分の沸点範囲がテトラクロルエチ
レン使用の洗浄溶液に比べて高いに拘わらず洗浄後の乾
燥に長時間を必要とＩ、ないという事実である。

さらに、本発明による洗浄液が耐爆保護のない設備で使
用できることも有利である。本発明により用いられる水
素添加石油留分の固有の臭気が少ないので洗浄設備から
の排気が著しく低減できる。

製作完了後の印版は無臭である。

さらにまた本発明による洗浄溶液が多数の光重合により
橋かけ可能の公知の層に成功裡に使用できるという事実
も有利である。

それでたとえば短かい洗浄時間が、結合剤としてピニル
アロマート／アルカジエンブロンクコホリマ−（スチレ
ン−イソプレン−スチレン、スチレン−ブタジェン−ス
チレン、スチレン−イソプレン−スチレン／ブタジェン
など）を含んでいる光重合性層ならびに結合剤としてア
ルカジエン／アクリロニトリルコポリマ−（ブタジェン
／アクリロニトリル）、弗素ゴム（塩化ビニリデン−へ
キサフルオルプロピレンフボリマー）、天然ゴム、シリ
コーンコポリマー及びポリスルフィドゴムを含んでいる
層において達成される。短かい洗浄時間はさらに結合剤
としてエチレンープロピレンージエンーターボリマーを
含んでいる記録材料においても達成される。

本発明によるフレキソ印版用洗浄液の利点を下記の実施
例及び比較例において説明する。

用いられた原料層は下記の組成のものであった（単位二
重量％） １、版型式１（単層板） スチレン−イソプレン−スチレン−ブタジェンからなる
３−ブロックゴム（ＥＰ−Ａ　２７６１２実施例第２に
記載のもの）　　　　　　　　　　８７．５９２％パラ
フィン油　　　　　　　　　　　　　　５％ヘキサンジ
オールシアクリラード　　　　５％ベンジルジメチルケ
タール　　　　　　　１．２％２．６−ジｔｅｒｔ−ブ
チ／ｌｚ−ｐ−クレゾール　　　　　１．２％染料ソル
ベント・ブラック（Ｃ，Ｉ　、　２６１５０）　　　０
．００８％ポリウレタン接着ラッカを塗布した厚さが１
２５μｍのポリエチレン−テレフタラート・フィルム上
の層厚２７００μｍ ｚ仮型式２（多層板） 版型式１の３−ブロックゴム　　　　　９３．５９６％
ヘキサンジオールシアクリラード　　　　５％ベンジル
ジメチル’ｒタール　　　　　　　０．４％２．６−シ
ーｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール　　　　１．０％
染料ソルベント・ブラック（Ｃ，１，２６１５０）　　
０．００４％ポリウレタン接着ラッカを塗布した厚さが
１２５μｍのポリエチレンテレフタラート・フィルム上
の層厚７００μｍ０担体層として同じくニジストマー結
合剤を基質とする光橋かけ性層（厚さは２０００μｍ）
を用いた。

３、版型式３ ％式％ −ターボリマー（エチレン５０％；炭素原子１０００個
あたり二重結合８個）７８％ ジオクチルアジパート１０％ ジヒドロシクロペンタジェンアクリラート　　６％イン
ボルニルアクリラート　　　　　　４％ベンジルジメチ
ルケタール　　　　　　２％ポリウレタン接着ラッカを
塗布した厚さが１２５μｍのポリエチレンテレフタラー
ト・フィルム上の層厚２７００μｍ （実施例） 以下に実施例により本発明をさらに具体的に詳述する。

実施例１ 通常の方法でフレキソ印版（版型式１）を製作した。

そのフレキソ印版をまず６５秒間裏側から管冨光機で全
面に予備露光させ引き絖いて上に載せた陰画を通して段
階的に画像どおりに露光させ（陰画使用ごとの露光時間
６乃至２０分間）室温において耐爆保護のないブラシ洗
浄機で僅かに空気吸出を行ないながら（約１０　ｍ７ｈ
　）洗浄した。洗浄機は水素添加石油留分（ナフテン含
有量３５％、沸点範囲１８６乃至２１７℃）８５容積％
及びｎ−ブタノール２０容積％からなる洗浄溶液を収容
していた。

所望の彫の深さ７００μｍには最適洗浄時間が６分間で
あった。

すでに６分間の露光時間で得られたフレキソ印版のすべ
ての試験要素が完全かつ正確に形成されていた。

フレキソ印版を２時間６５℃で乾燥させ、１５時間室温
に静置し、臭素水溶液を用いて通常の仕上げ処理を施こ
し改め℃乾燥させた。

完成後の印版は均等に滑かな表面であった。柚子肌は観
察できなかった。製作後には無臭であった。

仕上げ処理したフレキソ印版はフレキソ印刷機の印刷ロ
ール忙取付けられて、陰画の原画に比べて何ら情報欠落
のないすぐれた印刷結果をもたらした。

実施例２ 実施例第１と同様に作業した、ただ洗浄溶液にアルコー
ル成分としてｎ−ブタノールの代りにｎ−ペンタノール
（２０容積部の割合）を添加した。

洗浄実験はここでもまた耐爆保護のないブラシ洗浄機内
で僅かに排気（約１０ｍγｈ）Ｌながら実施した。

最適洗浄時間は６分間であった。すべての試験要素が露
光時間６分間ですでに完全かつ正確に形成された。

仕上げ処理後に印版はここでもまた均等に滑かな表面と
良好な印刷緒特性とを示し、無臭であった。

比軟例１ 実施例第１と同様に作業した、ただ洗浄溶液としてはテ
トラクロルエチレン８０容積部とｎ−ブタノール２０容
積部との混合物を用いた。

洗浄実験は＃燗保護のない、ただし強力な排風装置（約
１００　ｒｙｔｌｈ　）のあるブラシ洗浄機で実施した
。

最適洗浄時間は５分間であった。試験要素は１２分を超
える露光時間後に始めて欠陥なしに形成された。露光時
間が短かくなると試験要素に、とくに格子−及びスクリ
ーン域において、破損が確認された。

乾・操及び仕上げ処理後には印版は不均等の構成された
表面（柚子肌）を示した。

比較例２ 実施例第１と同様に作業した、ただ洗浄溶液として石油
スピリット（芳香族含有量２５％、沸点範囲１８７乃至
２１６℃）８０容積部及びｎ−ブタノール２０容積部の
混合物を用いた。洗浄試験は耐爆保護のない強力な排気
装置（約１００　ｒｙｔｌｈ　）のある洗浄機内で実施
した。

最適の洗浄時間は５分間であった。印版はその完成後に
不快臭があった。

比較例３ 実施例第１と同様に作業した、ただ洗浄溶液として石油
スピリット（芳香族含有量２５％、沸点範囲１５５乃至
１８５℃）８０容積部及びｎ−ブタノール２０容積部の
混合物を用いた。強力な排気装置（約１００　ｍｌｈ　
）を備えた耐爆保護のある洗浄機内で実施した。

７００μｍの凸版に最適の洗浄時間は６分間であった。

印版はその完成後に不快臭があった。

比較例４ 実施例第１と同様に作業した、ただ洗浄液として水添石
油留分（沸点範囲２２０乃至２５５℃、ナフテン系の割
合約３０％）８０容積部及びｎ−ブタノール２０容積部
の混合物を用いた。実験は耐爆保護のない、僅かな排気
（約１０ｒｎ７／ｈ）を行なうブラシ洗浄機内で実施し
た。

厚さ７００μｍの凸版の洗浄時間は１７分間であった。

実施例３ 実施例第２と同様に作業した、ただ版型式１の代りに多
層の版型式２で確定した凸版の深さ７００μｍのものを
用いた。実験は僅かな排気（約１゜ｒｙｔｌｈ　）を行
なう耐爆保護のない洗浄機内で実施した。

最適洗浄時間は６分間であった。１００％過洗浄すなわ
ち全洗浄時間１２分間では凸版構造の損傷すなわち試験
要素欠落は観察できなかった。印版は無臭であった。

比較例５ 実施例第３と同様に作業した、ただ今回はテトラクロル
エチレン８０容積部及びｎ−ブタノール２０容積部から
なる洗浄溶液を用いた。実験は耐爆保護のない、強力な
排気装置（約１００　ｍｌｂ　）のある洗浄機内で実施
した。

最適洗浄時間は５分間であった。１００％過洗浄が今回
は決定的な試験要素（独立の点及び線）の欠落及びスク
リーン域（Ｒａ５ｔｅｒ　ｆｅｌｃｅｅｒｎ　）と格子
との破損となって現われた。

実施例４ 実施例第１と同様にして作られた版型式１の印版につい
て６５℃の空気循環乾燥器内での時間に依存した乾燥経
過を求めた。

洗浄直後の膨潤増量は２％であった。６５℃での２時間
の乾燥持続後には膨潤増量は初期重量の−０，１％に後
退した。２４時間の乾燥持続後に求めた抽出の割合は初
期重量に対して０．３％であった。

比較例６ 実施例第４と同様に作業した、ただ洗浄溶媒としてテト
ラクロルエチレン８０容積部及びｎ−ブタノール２０容
積部の混合物を用いた。

洗浄直後の膨潤増量は８％であった。２時間の乾燥持続
後には膨潤増量は確かに同じ＜−０，１％へ後退したが
抽出の割合は初期重量に対して１，７％であった。

実施例５ フレキソ印版用に版型式３を用いた。裏側の予備露光後
に印版を表側から試験陰画により画像どおりに露光させ
た（露光時間２０分）、引続いてブラシ洗浄機内で現像
して印版とした。洗浄溶液として水素添加石油留分（ナ
フテン含有量３５％、パラフィン含有量６５％、沸点範
囲１８６乃至２１７℃、ＤＩＮ　５１３７８による芳香
族含有量〈１％）８０容積部及びｎ−ブタノール２０容
積部の混合物を用いた。

７００μｍの凸版の深さだ最適の洗浄時間は１２分間で
あった。試験要素全部が申し分な（かつ正確に形成され
た。仕上げ処理後に均等に滑かな表面の凸版が得られた
。

比較例７ 実施側番５と同様に作業した。ただ洗浄液としてテトラ
クロルエチレン８０容積部及びｎ−ブタノール２０容積
部の混合物を用いた。

凸版の深さ７００μｍＶＣ最適の洗浄時間はここでもま
た１２分間であった。縁及びスクリーン域では破損が確
認された。仕上げ処理後に表面の不均等かつ損なわれた
凸版が得られた。

実施例６ 実施例第１と同様に作業した、ただ洗浄溶液として水素
添加石油留分（沸点範囲１６０乃至１９５℃、ナフテン
含有量３５％）７５容積部、ｎ−ブタノール２０容積部
及びリモネン５容積部の混合物を用いた。

洗浄実験は耐爆保護のない、僅かな排気（約１０ｍ７′
ｈ　）を行なうブラシ洗浄機内で行なった。７００μｍ
凸版に最適の洗浄時間は５分間であった。凸版はオレン
ジ様の芳香がした。

代理人　弁理士　　１）代　蒸　治

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）光重合により橋かけ可能の層を化学線をもって画
   像どおりに露光させて層の露光した部分を橋かけさせ、
   層の橋かけしていない部分を炭化水素溶媒又は炭化水素
   溶媒とアルコールとの混合物をもって洗い去ることによ
   る光重合により橋かけした凸版印版の製法において、炭
   化水素溶媒として引火点＞４５℃、沸点範囲１６０乃至
   ２２０℃の水素添加した石油留分を用いることを特徴と
   する方法。
2. （２）水素添加した石油留分はＤＩＮ　５１３７８によ
   る芳香族含有量が１％未満である請求項１記載の方法。
3. （３）水素添加した石油留分はＤＩＮ　５１３７８によ
   るナフテン系部分が０．５乃至５０％である請求項１又
   は２記載の方法。
4. （４）水素添加した石油留分には香改良剤が添加してあ
   る請求項１、２又は３記載の方法。
5. （５）水素添加した石油留分には界面活性剤が添加して
   ある請求項１、２、３又は４記載の方法。