JPH0273041U - - Google Patents

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JPH0273041U
JPH0273041U JP15385988U JP15385988U JPH0273041U JP H0273041 U JPH0273041 U JP H0273041U JP 15385988 U JP15385988 U JP 15385988U JP 15385988 U JP15385988 U JP 15385988U JP H0273041 U JPH0273041 U JP H0273041U
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JP
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source chamber
plasma
ion source
ion
coaxial line
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例に係るイオン処理装置
の縦断面図。第2図は軸方向のモード数が1であ
るTE111モードの場合のアンテナの位置を示
す斜視図。第3図は軸方向のモード数が2である
TE112モードの場合のアンテナの位置を示す
斜視図。第4図は軸方向のモード数が3であるT
113モードの場合のアンテナの位置を示す斜
視図。第5図はH結合、E結合におけるTE11
モードの電気力線、磁力線の分布図。第6図は従
来例にかかるイオン処理装置の縦断面図。 1……真空チヤンバ、2……コイル、3……イ
オン源チヤンバ、4……導波管、5……マイクロ
波発振器、6……ガス導入系、7……ゲートバル
ブ、8……真空ポンプ、9……引出電極系、10
……磁力線、11……試料台、12……試料、1
3……駆動装置、14……同軸導波管変換器、1
5……同軸線、16……アンテナ、20……誘電
体窓。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. マイクロ波および磁界を用いてプラズマを発生
    させそのプラズマから引出されたイオンビーム又
    はプラズマ流により試料を処理するイオン処理装
    置であつて、真空に引くことができ両端の開いた
    筒形の容器でありガスを導入してこれをプラズマ
    にする空間を与えるイオン源チヤンバ3と、イオ
    ン源チヤンバ3の閉じた壁面の周囲に設けられイ
    オン源チヤンバ3の内部に軸方向の磁場を生ずる
    コイル2と、イオン源チヤンバ3の両端の開口に
    接続され真空に引くことのできる容器であるふた
    つの真空チヤンバ1,1と、真空チヤンバ1の中
    に設けられ試料12を支持する試料台11と、イ
    オン源チヤンバ3の両端の開口近傍に設けられプ
    ラズマからイオンビームを引出すための引出電極
    系9と、真空チヤンバ1を真空に引く真空排気装
    置と、マイクロ波発振器5と、マイクロ波発振器
    5で生じたマイクロ波を伝搬させる導波管4と導
    波管モードのマイクロ波を同軸線モードに変換す
    る同軸導波管変換器14と、同軸線モードのマイ
    クロ波をイオン源チヤンバ3にまで伝搬させる同
    軸線15と、同軸線15の終端にあつてイオン源
    チヤンバ3内にマイクロ波を導入するためのアン
    テナ16とよりなる事を特徴とするイオン処理装
    置。
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