JPH0273058A - アニリン誘導体およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙはハ
ロゲン原子を表し、Ｚは一般式−ＯＣＨ，ＣＯＯＲ１、
−５ＣＨ，ＣＯＯ島または一８ｌもで示される基を表し
くここで、Ｒ１は低級アルケニル基、低級アルキニル基
または低級シクロアルキル基を表し、島は低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級シ
クロアルキル基を表し、Ｒ３は低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基ま
たは低級アルコキシアルキル基を表す。）、Ｗは酸素原
子またはメチレン基を表す。〕 で示されるアニリン誌導体Ｃ以下、本発明化合物と記す
。）、その製造法、それを有効成分として含有すること
を特徴とする除草剤、本発明化合物の中間体およびその
中間体の製造法に関するものである。

本発明老らは優れた除草剤を開発すべく鋭意検討した結
果、上記一般式〔幻で示される本発明化合物が優れた除
草活性を示し、かつ、作物・雑草間に優れた選択性を示
すことを見い出し、本発明に至った。

本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理において
、問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズラ、サナエ
タデ、スペリヒュ、ハコベ、シロザ、アオゲイトウ、ダ
イコン、ノハラガラシ、アメリカツノクサネム、エビス
グサ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィールドパンジ
−ヤエムグラ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、セ
イヨウヒルガオ、シロバナチ１ウセンアサガオ、イヌホ
オズキ、オオイヌノフグリ、オナモミ、ヒマワリ、イヌ
カミツレ、コーンマリーゴールド、トウダイグサ等の広
葉雑草、ヒエ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、ス
ズメノカタビラ、ノスズメノテッポウ、エンバク、カラ
スムギ、セイバンモロコシ、シバムギ、ウマノチャヒキ
、ギョウギシバ、オオクサキビ等のイネ科雑草およびツ
ユクサ等のツユクサ科雑草、コゴメガヤツリ等のカヤツ
リグサ科雑草等に対して除草効力を有し、しかも本発明
化合物はトウモロコシ、コムギ、オオムギ、イネ、ダイ
ズ、落花生、ワタ、ツルガム等の主要作物に対して問題
となるような薬害を示さない。

また、本発明化合物は水田の湛水処理において問題とな
る種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草、ア
ゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑草、タマガヤ
ツリ、マツバイ等のカヤツリグサ科雑草、コナギ、ウリ
カワ等に対して除草効力を有し、しかもイネに対して問
があげられる。

＼ ＼ 次に本発明化合物の製造法Ｉこついて説明する。

〔製法（ａ）〕

本発明化合物のうち、Ｗが酸素原子である化〔式中、Ｘ
ＳＹおよびＺは前記と同一の意味を表し、民は低級アル
キル基を表す２．〕で示されるカーバメート、８５導体
（以下、カーバメート誘導体〔川と記す。）を、溶媒中
、塩基の存在下で環化させることＩζより製造すること
ができる。

上記反応において用いられるｍ煤としては、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジオキサン
、エチレングリコ−）５ジメチルエーテル等のエーテル
類、蟻酸、酢酸等の脂肪酸類、水等あるいは、それらの
混合物があげられる。

上記反応において用いられる塩基としては、炭酸カリウ
ム、ナトリウムメチラート等があげられ、これらを触媒
量用いれば良い。

上記反応における反応温度は約０〜２００ｃであり、反
応時間は約１〜２４時間である。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通
常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することにより、目的の本
発明化合物を得ることができる。

〔製法（ト）〕

本発明化合物のうち、Ｗがメチレン基である化合物は、
一般式 〔式中、Ｘ、Ｙ、およびＺは前記と同一の意味を表わす
。〕 で示されるアニリン誘導体と、テラコン酸または無水テ
ラコン酸とを縮合させること（こより製造することがで
きる。

上記反応における試剤の量は、一般式（資）で示される
アニリン誘導体１当量に対して、テラコン酸または無水
テラコン酸１〜１．２当量である。

上記反応は無触媒または炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミン
、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基を
触媒とし、無溶媒または酢酸、トルエン、０−ジクロロ
ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の溶媒中で行われる。

上記反応における反応温度は約１００〜２００℃であり
、反応時間は約１〜２４時間である。

反応終了後の後処理は製法（ａ）の場合と同様にして行
うことができる。

〔製法（Ｃ）〕

本発明化合物のうち、Ｚが一軟式−ｏＣＨ２Ｃ００Ｒ。

（ここで、Ｒ１は前記と同一の意味を表す。）で示され
る基である化合物は、−軟式 〔式中、Ｘ％ＹおよびＷは前記と同一の意味を表し、鳥
は低級アルキル基を表す。〕で示されるアニリン訊導体
と、−軟式 ％式％ ｃ式中、Ｒ８は前記と同一の意味を表す。〕で示される
アルコール誘導体とを反応させることにより製造するこ
とができる。

上記反応における試剤の量は、−軟式ｔ＋Ｖ＋で示され
るアニリン誘導体１当量に対して一軟式凹で示されるア
ルコール誘導体は１当量以上である。

上記反応は、無触媒または塩酸、硫酸等の無機酸、酢酸
、ｐ−）ルエンスルホン酸等の有機酸を触媒とし、無溶
媒または酢酸、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラ
ン等の溶媒中で行われる。

上記反応は室温から溶媒還流温度で行われ、約１〜２４
時間で終了する。

反応終了後の後処理は製法（ａ）の場合と同様にして行
うことが出来るっ 〔製法（ｄ）〕 本発明化合物のうち、Ｚが一般式−５ＣＨ，Ｃ００Ｒ４
（ここでＲ２は前記と同一の意味を表す。）で示される
基である化合物は、−軟式 〔式中、Ｘ、ＹおよびＷは前記と同一の意味を表し、鳥
は低級アルキル基を表す。〕で示されるアニリン誘導体
と、−軟式 ％式％（５） 〔式中、Ｒ８は前記と同一の意味を表す。〕で示される
アルコール誘導体とを反応させることにより製造するこ
とができる。

上記反応における試剤の量は、−軟式（資）で示される
アニリン誘導体１当量に対して、−軟式閲で示されるア
ルコール誘導体は１当量以上である。その他の反応条件
等は製法（Ｃ）と同様である。

次Ｉζ本発明化合物の製造例を示す。

製造例１ ■−メトキシカルボニルー２−メチルアリルＮ−（４−
クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルチオフェニル
）カーバメート４．２２およびナトリウムメチラート０
．２ｆをベンゼン１００ｍＪに加え、８時間加熱還流し
た。放冷後、反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。有機層をカラムクロマトグラフィーで精製し、８
−（４−１０ロー２−フルオロ−５−イソプロピルチオ
フェニル）−６−イツブロビリデンー１．８−オキサゾ
リジン−２，４−ジオン２．９２を得た。

ｍｐ　　　１８５〜１４０℃ 製造例２ 製造例１と同様にして、１−メトキシカルボニル−２−
メチルアリル　Ｎ−（４−クロロ−２−フルオロ−５−
メトキシカルボニルメチルチオフェニル）カーバメート
から、８−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシ
カルボニルメチルチオフェニル）−６−イツブロビリデ
ンー１，８−オキサゾリジン−２，４−ジオンを得た。

ＮＭＲδ〔溶媒：ＣＤＣ４，、内部標準：ＴＭＳ）７．
７５（ｄ、ＩＨ）　　７．６０（ｄ、ｘＨ）　８．９２
（ｓ、２Ｈ）　８．６０（ｓ、８）ｆ）　　２．２１（
ｓ、８Ｈ）２．００（ｓ。

８Ｈ） 製造例８ ４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルチオアニ
リン８．ＯＦおよび無水テラコン酸２．１２を酢酸１０
０ｍｌに加え３時間加熱還流した。

放冷後、反応混合物を水にあけ酢酸エチルで抽出した。

有機層をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサ
ンー酢酸エチル混合液）で精製し、Ｎ−（４−クロロ−
２−フルオロ−５−イソプロピルチオフェニル）テラコ
ン酸イミド８２２を得た。

ＮＭＲδ〔溶媒：ＣＤＣ／３．内部標準：ＴＭＳ、］７
．８１（ｓ、ＩＨ）　　７．２０（ｓ、１ｆ（）　　８
．１５〜８．６０（ｒｎ、８Ｈ）　　２．８８（Ｓ、８
Ｅ（）　　１．９５（３，８Ｈ）１．３０　（（ｌ　、
　６Ｈ） 製造例４ ８−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシカルボ
ニルメトキシフェニル）−５−イソプロピリデン−１，
８−オキサゾリジン−２゜４−ジオン１．０２、シクロ
ペンタノール２０ｍｌおよびｐ−１ルエンスルホン酸０
．１Ｆの混合物を８時間加熱還流した。放冷後、反応混
合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層をカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、８−（４−クロロ−２
−フルオロ−５−シクロペンチルオキシカルボニルメト
キシフェニル）−５−イソプロピリデン−１，８−オキ
サゾリジン−２゜４−ジオン０．８Ｆを得た。

ＮＭＲδ〔溶媒：ＣＤＣｊｓ＊内部標準：ＴＭＳ〕７．
８０（ｄ、ＩＨ）　　６．８２（ｄ、ＩＨ）　　５．１
０〜５，４０（ｂｒ、ＩＨ）　　４．６０（ｓ、２Ｈ）
　２．２５（ｓ、８Ｈ）２．０２（ｓ、８Ｈ）　　１．
４０〜１．９５（ｂｒ、８Ｈ）製造例５ 製造例４と同様にして、８−（４−クロロ−２−フルオ
ロ−５−メトキシカルボニルメトキシフェニル）−５−
イソプロピリデン−１，８−オキサゾリジン−２，４−
ジオンから８−（４−クロロ−２−フルオロ−５−アリ
ルオキシカルボニルメトキシフェニル）−５−イソプロ
ピリデン−１，８−オキサゾリジン−２，４−ジオンを
得た。

ＮＭＲδ〔溶媒：ＣＤＣｌ５．内部標準：ＴＭＳ、１７
．８０（ｄ、ＬＨ）　　６．８５（ｄ、ＩＨ）　５．０
０〜６．４０（ｍ、８Ｈ）　４．６５（Ｓ、２Ｈ）　４
．００（２Ｈ）　２．２５（Ｓ、８Ｈ）　　２．０２（
Ｓ、８Ｈ）製造例６ 製造例４と同様にして、８−（４−クロロ−２−フルオ
ロ−５−メトキシカルボニルメトキシフェニル）−５−
イソプロピリデン−１，８−オキサゾリジン−２，４−
ジオンから８−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロ
パルギルオキシカルボニルメトキシフェニル）−５−イ
ソプロピリデン−１，８−オキサゾリジン−２゜４−ジ
オンを得た。

ＮＭＲδ〔溶媒：ＣＤＣ４５、内部標準：ＴＭＳ］７．
２５（ｄ、ＩＨ）　　６．８５（ｄ、ＩＨ）　　４．７
５（ｄ、２Ｈ）４．６６（ｓ、２Ｈ）２．５０（ｔ、Ｌ
Ｈ）２．２５（Ｓｅ　８８）　　２．０５　（Ｓ　ｇ　
８Ｈ）製造例７ 製造例４と同様にして、ａ−（４−クロロ−２−フルオ
ロ−５−メトキシカルボニルメチルチオフェニル）−５
−イソプロピリデン−１゜８−オキサゾリジン−２，４
−ジオンから８−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ア
リルオキシカルボニルメチルチオフェニル）−５−イソ
プロピリデン−１，８−オキサゾリジン−２゜４−ジオ
ンを得た。

ＮＭＲδ〔溶媒：ＣＤＣｌ３　、内部標準：ＴＭＳ）７
．４０（ｄ、ＩＨ）　７．２８（ｄ、ＩＨ）　　５．０
０〜６．８０（ｍ、８Ｈ）　４．０５（ｄ、２Ｈ）　４
．００（ｓ、２Ｈ）２．８０（ｓ、８Ｈ）　　２．０５
（ｓ、８Ｈ）次に本発明化合物の中間体であるカーバメ
ート誘導体（３）について説明する。

カーバメート誘導体〔川としては、例えば下記第２表の
化合物があげられる。

上記カーバメート誘導体（９）は、本発明化合物の中間
体であるばかりでなく、除草剤としても使用され得るこ
とから有用な化合物である。

次にカーバメート誘導体（４）の製造法について説明す
る。

〔製法（ｄ）〕

カーバメート誘導体（５）は、一般式 〔式中、Ｘ１ＹおよびＺは前記と同一の意味を表す。〕 で示されるフェニルイソシアネート誘導体と、一般式 ％式％ 〔式中、艮は前記と同一の意味を表す。〕で示されるア
ルコール誘導体とを縮合させて製造することができる。

上記反応における試剤の量・は、一般式（４）で示され
るフェニルイソシアネート誘導体１当量に対して、一般
式■で示されるアルコール誘導体１〜１．２当量である
。

上記反応は無触媒またはトリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルアニリン、１，４−ジアザビシクロ（２，２，２
）オクタン等を触媒として、無溶媒またはベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ク
ロロホルム、四塩化炭素等の有機溶媒中で行うことがで
きる。

反応は必要に応じて冷却または加熱（０〜５０℃）する
仁とにより、瞬時から１０時間で完結し、目的物を得る
ことができる。

なお、一般式（４）で示されるフェニルイソシアネート
誘導体は、一般式（２）で示されるアニリン誘導体とホ
スゲンとを反応させることにより得ることができる。

上記反応における試剤の量は、一般式（４）で示される
アニリン誘導体１当量に対してホスゲンは８〜１０当量
である。

上記反応はベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル
等の有機溶媒またはその混合物中で行われる。反応は必
要に応じて５０℃から還流温度に加熱することにより、
瞬時より１０時間で完結し、収率よく目的物を得ること
ができる。

また、−軟式図で示されるアルコール誘導体は、例えば
文献（Ｊ　、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　、　９５５
５８（１９７８）　’）記載の方法で合成することがで
きる。

次に製造例をあげてカーバメート誘導休園の製造方法を
詳細に説明する。

製造例８ ４−クロロ−２−フルオロ−６−イツブロビルチオフエ
ニルイソシアネート２．５ｆおよび２−ヒドロキシ−８
−メチル−８−ブテン酸メチル１．８２をベンゼン５０
ｍＪに溶解した。室温下でトリエチルアミン０．５２を
加え、徐々に加熱し１時間還流した。反応終了後、反応
液を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去
し、得られた残渣をトルエンと酢酸エチルの混合溶媒に
よるシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、１
−メトキシカルボニル−２−メチルアリル　Ｎ−（４−
クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルチオフェニル
）カーバメート８．１　Ｆ　＋得た。

ＮＭＲδ〔溶媒：ＣＤＣＪ、、内部標準：ＴＭＳ）７．
８０（ｄ、１）Ｉ）　　７．２２（ｄ、ＬＨ）　　５．
８５（ｓ、ＩＨ）　４．９０〜５．１０（２Ｈ）　　８
．８０（ｓ、８Ｈ）１．７０（Ｓ、８Ｉ（）　　１．４
０（ｄ、６Ｈ）本発明化合物を除草剤の有効成分として
用いる場合は、通常固体担体、液体担体、界面活性剤そ
の他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤
、粒剤等に製剤する。

これらの製剤は有効成分として本発明化合物を、重濯比
で約０．０５〜９０％、好ましくは約０．１〜８０％含
有する。

固体担体としては、カオリンクレー　アッタバルジャイ
トクレー　ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト
、タルク、珪藻土、方解石、クルミ殻粉、氷系、硫酸ア
ンモニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状
物があげられ、液体担体としては、キシレン、メチルナ
フタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロパツール、エ
チレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセ
トン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大
豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水等があ
げられる。

乳化、分散、湿炭等のために用いられる界面活性剤とし
ては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスル
ホン′ｍ塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等
の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル
、ポリオキシエチレンポリオキシブロビレンブロックコ
ポリマー　ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤
等があげられる。製剤用補助剤としては、リグニンスル
ホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール。

アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）
、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）等があげられる。

次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第１表の化合
物番号で示す。部は重量部を示す。

製剤例１ 化合物（８）　、　（４）　、　（５）　、　（６）ま
たは（７）、各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウ
ム８部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水酸
化珪素４５部をよく粉砕混合して各々水和剤を得る。

製剤例２ 化合物（１２）または（１９＞各々５部、ポリオキシエ
チレンスチリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベン
ゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン８０部および
シクロへキサノン４５部をよく混合して各々乳剤を得る
。

製剤例８ 化合物（３）、（４）、（５）または（６）、各々２部
、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウ
ム２部、ベントナイト３０部およびカオリンクレー６５
部をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合せた後、０
粒乾燥して各々粒剤を得る。

製剤例４ 化合物（７）、（１２）または（１９）、各々２５部、
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート８部、Ｃ
ＭＣ８部、水６９部を混合し、粒度が５ミクロン以下に
なるまで湿式粉砕して各々懸濁剤を得る。

製剤例５ 化合物（ａ）、（４）、（５）、（６）、（７）、（１
２）または（１９）、各々５部、ポリオキシエチレンス
チリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスル
ホン酸カルシウム６部、キシレン８０部およびＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド４５部をよく混合して各々乳
剤を得る。

このようにして製剤された本発明化合物は、雑草の出芽
前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理す
る。土塀処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があ
り、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作
物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等が
ある。

また、他の除草剤と混合して用いることにより、除草効
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる。

なお、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地、
芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草剤の有効成分と
して用いることができる。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、場
所、対象雑草、対象作物等によっても異なるが、通常１
アールあたり約０．０２ｆ〜１００　ｙ、好ましくは、
約０．０５ｆ〜５０２であり、乳剤、水和剤、懸濁剤等
は、通常その所定量を１アールあたり約１リツトル〜１
０リツトルの（必要ならば、展着剤等の補助剤を添加し
た）水で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら希釈す
ることなくそのまま処理する。

展着剤としては、前記の界面活性剤のほか、ポリオキシ
エチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、
アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パ
ラフィン等があげられる。

次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第１表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第８表
の化合物記号で示す。

第８表 また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽および生育
阻害の程度を肉眼観察し、化合物を供試していない場合
と全くないしほとんど違いがないものを「０」とし、供
試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されているものを
「５」として、０〜５の６段階に評価し、０．１．２．
８．４．６で示す。

試験例１　畑地土壌処理試験 直径１０個、深さ１０ｊｌｌの円筒型プラスチックポッ
トに畑地土壌を詰め、ヒエ、マルバアサガオ、イチビを
播種し、覆土した。製剤例２または５に準じて供試化合
物を乳剤にし、その所定量を１アールあたり１０リツト
ル相当の水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に処理した
。処理後２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した
。その結果を第４表に示す。

第４表 試験例２　畑地草葉処理試験 直径１０ｃＩＲ，深さ１０Ｇの円筒型プラスチックピッ
トに畑地土壌を詰め、マルバアサガオ、イチビを播回し
、温室内で１０日間育成した。

その後、製剤例２または５に準じて供試化合物を乳剤に
し、その所定量を、１アールあたり１０リツトル相当の
展着剤を含む水で希釈し、小型噴霧器で植物体の上方か
ら茎葉処理した。処理後２０日間温室内で育成し、除草
効力を調査した。その結果を＠５′表に示す。

笛 表 第 表 試験例３　畑地茎葉処理試験 直径１０備、深さ１０ｃｎｔの円筒型プラスチックポッ
トに畑地土壌を詰め、ダイコンを播種し、温室内で１０
日間育成した。その後、製剤例２または５に準じて供試
化合物を乳剤にし、その所定量を、１アールあたり１０
リツトル相当の展着剤を含む水で希釈し、小型噴霧器で
植物体の上方から茎葉処理した。処理後２０日ｒ！！Ｊ
温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を第６
表に示す。

試験例４　水田湛水処理試験 直径８ｃ！ＩＭ１深さ１２ｃ１１１の円筒型プラスチッ
クポットに水田土壌を詰め、タイヌビエナの種子を１〜
２０の深さに混ぜ込んだ。黒水して水田状態にした後、
ウリカワの塊茎を１〜２閏の深さに埋め込み温室内で育
成した。６日後（各雑草の発生初期）に製剤例２または
５に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を５ミリ
リツトルの水で希釈し、水面に処理した。処理後２０日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を第
７表に示す。

＠７表 であうた。処理１７日後に除草効力および薬害を調査し
た。その結果を第８表に示す。なお、本試験は、全期間
を通して温室内で行った。

試験例５　畑地茎葉処理試験 面積２６ｘ１８ａｊｔ深さ８αのバットに畑地土壌を詰
め、ダイズ、マルバアサガオ、オナモミ、イヌホオズキ
を播種し、１６日間育成した。

その後、製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その
所定量を、展着剤を含む１アールあたり５リツトル相当
の水で希釈し、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉部全
面に均一に処理した。

このとき雑草および作物の生育状況は草種により異なる
が、１〜４葉期で、草丈は２〜１２０＼ ＼ ＼＼ ゝ＼ ＼、 ＼

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙはハ
   ロゲン原子を表し、Ｚは一般式 −ＯＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿１、−ＳＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿２
   または−ＳＲ＿３で示される基を表し（ここで、Ｒ＿１
   は低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級シク
   ロアルキル基を表し、Ｒ＿２は低級アルキル基、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基または低級シクロアルキ
   ル基を表し、Ｒ＿３は低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基または低級
   アルコキシアルキル基を表す。）、Ｗは酸素原子または
   メチレン基を表す。〕 で示されるアニリン誘導体。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙはハ
   ロゲン原子を表し、Ｚは一般式 −ＯＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿１、−ＳＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿２
   または−ＳＲ＿３で示される基を表し（ここで、Ｒ＿１
   は低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級シク
   ロアルキル基を表し、Ｒ＿２は低級アルキル基、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基または低級シクロアルキ
   ル基を表し、Ｒ＿３は低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基または低級
   アルコキシアルキル基を表す。）Ｒ＿４は低級アルキル
   基を表す。〕 で示されるカーバメート誘導体を、塩基の存在下で環化
   させることを特徴とする、一般式▲数式、化学式、表等
   があります▼ 〔式中、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同一の意味を表す。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙはハ
   ロゲン原子を表し、Ｚは一般式 −ＯＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿１、−ＳＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿２
   または−ＳＲ＿３で示される基を表す（ここで、Ｒ＿１
   は低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級シク
   ロアルキル基を表し、Ｒ＿２は低級アルキル基、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基または低級シクロアルキ
   ル基を表し、Ｒ＿３は低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基または低級
   アルコキシアルキル基を表す。）。〕 で示されるアニリン誘導体と、テラコン酸または無水テ
   ラコン酸とを反応させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同一の意味を表す。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。
4. （４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙはハ
   ロゲン原子を表し、Ｗは酸素原子またはメチレン基を表
   し、Ｒ＿５は低級アルキル基を表す。〕 で示されるアニリン誘導体と、一般式 Ｒ＿１−ＯＨ 〔式中、Ｒ＿１は低級アルケニル基、低級アルキニル基
   または低級シクロアルキル基を表す。〕で示されるアル
   コール誘導体とを反応させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ、Ｙ、ＷおよびＲ＿１は前記と同一の意味を
   表す。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。
5. （５）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙはハ
   ロゲン原子を表し、Ｗは酸素原子またはメチレン基を表
   し、Ｒ＿５は低級アルキル基を表す。〕 で示されるアニリン誘導体と一般式 Ｒ＿２−ＯＨ 〔式中、Ｒ＿２は低級アルキル基、低級アルケニル基、
   低級アルキニル基または低級シクロアルキル基を表す。 〕 で示されるアルコール誘導体とを反応させることを特徴
   とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ、Ｙ、ＷおよびＲ＿２は前記と同一の意味を
   表す。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。
6. （６）請求項１記載のアニリン誘導体を有効成分として
   含有することを特徴とする除草剤。
7. （７）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙはハ
   ロゲン原子を表し、Ｚは一般式 −ＯＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿１、−ＳＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿２
   または−ＳＲ＿３で示される基を表し（ここで、Ｒ＿１
   は低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級シク
   ロアルキル基を表し、Ｒ＿２は低級アルキル基、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基または低級シクロアルキ
   ル基を表し、Ｒ＿３は低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基または低級
   アルコキシアルキル基を表す。）、Ｒ＿４は低級アルキ
   ル基を表す。〕 で示されるカーバメート誘導体。
8. （８）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙはハ
   ロゲン原子を表し、Ｚは一般式 −ＯＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿１、−ＳＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿２
   または−ＳＲ＿３で示される基を表す（ここで、Ｒ＿１
   は低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級シク
   ロアルキル基を表し、Ｒ＿２は低級アルキル基、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基または低級シクロアルキ
   ル基を表し、Ｒ＿３は低級アルキル基、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基または低級
   アルコキシアルキル基を表す。）。〕 で示されるフェニルイソシアネート誘導体と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿４は低級アルキル基を表す。〕で示される
   アルコール誘導体とを反応させることを特徴とする請求
   項７記載のカーバメート誘導体の製造法。