JPS635131B2 - - Google Patents
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- JPS635131B2 JPS635131B2 JP59121122A JP12112284A JPS635131B2 JP S635131 B2 JPS635131 B2 JP S635131B2 JP 59121122 A JP59121122 A JP 59121122A JP 12112284 A JP12112284 A JP 12112284A JP S635131 B2 JPS635131 B2 JP S635131B2
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- plasma
- exhaust port
- processing apparatus
- plasma processing
- storage chamber
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
- B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
- B05B13/0221—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work characterised by the means for moving or conveying the objects or other work, e.g. conveyor belts
- B05B13/0242—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work characterised by the means for moving or conveying the objects or other work, e.g. conveyor belts the objects being individually presented to the spray heads by a rotating element, e.g. turntable
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/16—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed
- B05B7/22—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc
- B05B7/222—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/137—Spraying in vacuum or in an inert atmosphere
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/30—Vehicles, e.g. ships or aircraft, or body parts thereof
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- Electromagnetism (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
（産業上の利用分野）
この発明はバンパーその他の合成樹脂製品の被
塗装面にプラズマ処理を施すためのプラズマ処理
装置に係り、詳しくはプラズマ照射中の供給ガス
の排気調整を行うための排気口に関するものであ
る。
塗装面にプラズマ処理を施すためのプラズマ処理
装置に係り、詳しくはプラズマ照射中の供給ガス
の排気調整を行うための排気口に関するものであ
る。
（従来の技術）
従来、この種のプラズマ処理装置としては、密
閉された収容室内にポリプロピレン等からなる自
動車部品の合成樹脂製バンパーを層状に並列配置
するとともに、プラズマ噴射管を収容し、バンパ
ー表面に塗料を付着し易くするために、その噴射
管から酸素等のプラズマガスをバンパー表面に噴
射してバンパー表面を活性化していた。
閉された収容室内にポリプロピレン等からなる自
動車部品の合成樹脂製バンパーを層状に並列配置
するとともに、プラズマ噴射管を収容し、バンパ
ー表面に塗料を付着し易くするために、その噴射
管から酸素等のプラズマガスをバンパー表面に噴
射してバンパー表面を活性化していた。
ところが、この従来の装置においては、収容室
内にバンパーが静置されるとともに、一対のプラ
ズマ噴射管が対角線上に対向配置されているた
め、各噴射管に接続されるプラズマ供給装置等の
制御及び保守点検が面倒であるばかりでなく、設
備費の高騰を招くという問題があつた。
内にバンパーが静置されるとともに、一対のプラ
ズマ噴射管が対角線上に対向配置されているた
め、各噴射管に接続されるプラズマ供給装置等の
制御及び保守点検が面倒であるばかりでなく、設
備費の高騰を招くという問題があつた。
近年、上述した問題点を解決するために本出願
人が先に出願した特願昭58―236546号に示す装置
が提案されている。すなわち、第９図に示す装置
であつて合成樹脂製バンパーＢ等の被塗装品を収
容する収容室５１と、その被塗装品の表面にプラ
ズマ処理を施すためにプラズマを噴射する１個の
プラズマ噴射管５２とを備えたプラズマ処理装置
であり、前記収容室５１内には一軸線の回りで回
転する一対の支持円盤５３ａ，５３ｂを設け、両
支持円盤５３ａ，５３ｂ間には被塗装品を載置す
るための複数の支持台５４を相対回動可能に支持
した構造を有している。
人が先に出願した特願昭58―236546号に示す装置
が提案されている。すなわち、第９図に示す装置
であつて合成樹脂製バンパーＢ等の被塗装品を収
容する収容室５１と、その被塗装品の表面にプラ
ズマ処理を施すためにプラズマを噴射する１個の
プラズマ噴射管５２とを備えたプラズマ処理装置
であり、前記収容室５１内には一軸線の回りで回
転する一対の支持円盤５３ａ，５３ｂを設け、両
支持円盤５３ａ，５３ｂ間には被塗装品を載置す
るための複数の支持台５４を相対回動可能に支持
した構造を有している。
また、前記収容室５１に設けられたプラズマ噴
射管５２の上方には一箇所排気口５５が形成され
ている。同排気口５５は前記収容室１内を所定の
圧力に減圧する場合と、減圧後に照射されるプラ
ズマガスによつて生ずる収容室１内の圧力上昇を
防ぎ、所定圧に保つためにプラズマガスを排出す
る場合との２つの用途に用いられている。
射管５２の上方には一箇所排気口５５が形成され
ている。同排気口５５は前記収容室１内を所定の
圧力に減圧する場合と、減圧後に照射されるプラ
ズマガスによつて生ずる収容室１内の圧力上昇を
防ぎ、所定圧に保つためにプラズマガスを排出す
る場合との２つの用途に用いられている。
ところが、前記排気口５５が噴射管５２のすぐ
上方に設けられているためにプラズマガスが照射
されても、第１０図に示す波線のようになり、収
容室全体に広がらず一部が逆流し、前記排気口５
５に吸収されてしまい、プラズマガスが前記収容
室１内に充分にゆきわたらない虞れがある。した
がつて、収容室１内のプラズマガスの流れを考慮
すると非常に効率が悪かつた。
上方に設けられているためにプラズマガスが照射
されても、第１０図に示す波線のようになり、収
容室全体に広がらず一部が逆流し、前記排気口５
５に吸収されてしまい、プラズマガスが前記収容
室１内に充分にゆきわたらない虞れがある。した
がつて、収容室１内のプラズマガスの流れを考慮
すると非常に効率が悪かつた。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明はプラズマ処理効率が低く、処理時間も
長くかかるという問題点を解決するためのもので
ある。
長くかかるという問題点を解決するためのもので
ある。
発明の構成
（問題点を解決するための手段）
上記の問題点に鑑み本発明は合成樹脂製バンパ
ー等の被塗装品を収容する収容室と、その被塗装
品の表面にプラズマ処理を施すためにプラズマを
噴射するプラズマ噴射管と、前記収容室内を減圧
する排気口とを備えたプラズマ処理装置におい
て、前記収容室の噴射管と対向する位置にプラズ
マ照射中の供給ガスの排気調整をするための第２
の排気口を設けた構成を採つている。
ー等の被塗装品を収容する収容室と、その被塗装
品の表面にプラズマ処理を施すためにプラズマを
噴射するプラズマ噴射管と、前記収容室内を減圧
する排気口とを備えたプラズマ処理装置におい
て、前記収容室の噴射管と対向する位置にプラズ
マ照射中の供給ガスの排気調整をするための第２
の排気口を設けた構成を採つている。
（作 用）
本発明により噴射管より拡がつたプラズマガス
は反対側にある排気口へ流れながら収容室内全体
に充分に広がり、その後第２の排気口に収束し排
気される。
は反対側にある排気口へ流れながら収容室内全体
に充分に広がり、その後第２の排気口に収束し排
気される。
実施例
以下、この発明を具体化した一実施例を第１〜
７図に従つて説明する。
７図に従つて説明する。
プラズマ処理装置の気密状の収容室１は中空円
筒状に形成され、第１図においてその正面壁には
収容室１を開閉し得る扉（図示しない）が設けら
れている。また、右側壁中央部には前記収容室１
内を減圧するための専用となる第１の排気口２が
形成されており、バルブ２ａを有している。前記
第１の排気口２の下部には酸素等のプラズマガス
を噴射するための１個のステンレス製噴射管３が
設けられている。
筒状に形成され、第１図においてその正面壁には
収容室１を開閉し得る扉（図示しない）が設けら
れている。また、右側壁中央部には前記収容室１
内を減圧するための専用となる第１の排気口２が
形成されており、バルブ２ａを有している。前記
第１の排気口２の下部には酸素等のプラズマガス
を噴射するための１個のステンレス製噴射管３が
設けられている。
第３〜５図に示すように噴射管３のほぼ中央に
形成されたプラズマ導入口（図示しない）には導
入管４が接続され、その端部が収容室１外のプラ
ズマ供給装置（図示しない）に接続される。導入
口の両側にて噴射管３の外周には噴射管３の端部
側に向かつて配置間隔が漸減し、かつ内径が漸増
する多数の噴射管５が形成されている。そして、
各噴射口５は垂直面Ｓに対して前側へ所定角度θ1
（この実施例では30度）傾斜する方向に開口する
もの５ａと、後側へ所定角度θ2（この実施例では
30度）傾斜する方向へ開口するもの５ｂとから構
成されている。そして、前側へ傾斜する噴射口５
ａと後側へ傾斜する噴射口５ｂとが交互に配設さ
れている。また、導入管３より排気口２側、すな
わち右側の噴射口５の数は排気口２より左側の噴
射口５の数より15％だけ少なく設定されている。
形成されたプラズマ導入口（図示しない）には導
入管４が接続され、その端部が収容室１外のプラ
ズマ供給装置（図示しない）に接続される。導入
口の両側にて噴射管３の外周には噴射管３の端部
側に向かつて配置間隔が漸減し、かつ内径が漸増
する多数の噴射管５が形成されている。そして、
各噴射口５は垂直面Ｓに対して前側へ所定角度θ1
（この実施例では30度）傾斜する方向に開口する
もの５ａと、後側へ所定角度θ2（この実施例では
30度）傾斜する方向へ開口するもの５ｂとから構
成されている。そして、前側へ傾斜する噴射口５
ａと後側へ傾斜する噴射口５ｂとが交互に配設さ
れている。また、導入管３より排気口２側、すな
わち右側の噴射口５の数は排気口２より左側の噴
射口５の数より15％だけ少なく設定されている。
また、前記噴射管３と対向する位置には第２の
排気口６が設けられており、バルブ６ａを有して
いる。同排気口６はプラズマガス排気専用とし、
第１の排気口２よりも縮径され、プラズマガス供
給ガス量と排気スピードとのバランスがとれる径
としている。次に、本実施例におけるのプラズマ
噴射管３と第２の排気口６との位置関係を述べ
る。第１図において、前記収容室１の底面に対す
る垂直面Ｓ１から反時計回りに30゜だけ回転した
位置にプラズマ噴射管３が設けられており、第２
の排気口６は同垂直面Ｓ１から210゜だけ反時計回
りに回転した位置に設けられている。
排気口６が設けられており、バルブ６ａを有して
いる。同排気口６はプラズマガス排気専用とし、
第１の排気口２よりも縮径され、プラズマガス供
給ガス量と排気スピードとのバランスがとれる径
としている。次に、本実施例におけるのプラズマ
噴射管３と第２の排気口６との位置関係を述べ
る。第１図において、前記収容室１の底面に対す
る垂直面Ｓ１から反時計回りに30゜だけ回転した
位置にプラズマ噴射管３が設けられており、第２
の排気口６は同垂直面Ｓ１から210゜だけ反時計回
りに回転した位置に設けられている。
前記噴射管３の下部には基台１０が設けられて
おり、同基台１０の下部には後述する回転装置１
１が設けられている。同回転装置１１は四角枠状
のフレーム１２とその左右両片に互いに対向する
支柱１３により支持されている。両支柱１３の上
端部間には回転軸１４が回転可能に支持され、そ
の回転軸１４の両端には一対の支持円盤１５ａ，
１５ｂが一体回転可能に固着されている。前記両
支持円盤１５ａ，１５ｂの内面間には被塗装品、
例えば、ポリプロピレン等の合成樹脂からなるバ
ンパーＢを載置するための６個の支持台１６が所
定の角度間隔をおいて配設されている。
おり、同基台１０の下部には後述する回転装置１
１が設けられている。同回転装置１１は四角枠状
のフレーム１２とその左右両片に互いに対向する
支柱１３により支持されている。両支柱１３の上
端部間には回転軸１４が回転可能に支持され、そ
の回転軸１４の両端には一対の支持円盤１５ａ，
１５ｂが一体回転可能に固着されている。前記両
支持円盤１５ａ，１５ｂの内面間には被塗装品、
例えば、ポリプロピレン等の合成樹脂からなるバ
ンパーＢを載置するための６個の支持台１６が所
定の角度間隔をおいて配設されている。
第６図に示すように、各支持台１６は金属板に
て折曲形成された一対の支持片１７と、両支持片
１７間に架設された架設棒１８ａと、各架設棒１
８ａの各端部間を連結するように各支持片１７の
下面に配設された連結棒１８ｂとから構成され、
各支持片１７はその上端部において金具１９等に
より各支持円盤１５ａ，１５ｂに相対回転可能に
支持されている。従つて、前記回転軸１４及び支
持円盤１５ａ，１５ｂの回転時及び静止時におい
て各支持台１６は水平位置に保持される。また、
各支持片１７の中央切欠部にはプラズマガスの通
過を許容するためのネツト２０が調節されてい
る。
て折曲形成された一対の支持片１７と、両支持片
１７間に架設された架設棒１８ａと、各架設棒１
８ａの各端部間を連結するように各支持片１７の
下面に配設された連結棒１８ｂとから構成され、
各支持片１７はその上端部において金具１９等に
より各支持円盤１５ａ，１５ｂに相対回転可能に
支持されている。従つて、前記回転軸１４及び支
持円盤１５ａ，１５ｂの回転時及び静止時におい
て各支持台１６は水平位置に保持される。また、
各支持片１７の中央切欠部にはプラズマガスの通
過を許容するためのネツト２０が調節されてい
る。
また、第１図に示すように、前記回転軸１４の
正面端部には鎖車２１が挿嵌されるとともに、前
記フレーム１２上には一軸線の回りで回転する鎖
車２２及び伝達ギア２３が設けられ、両鎖車２
１，２２間にはチエーン２４が掛装されるととも
に、前記伝達ギア２３には図示しない駆動モータ
にて回転駆動される駆動ギア２５が噛合されてい
る。
正面端部には鎖車２１が挿嵌されるとともに、前
記フレーム１２上には一軸線の回りで回転する鎖
車２２及び伝達ギア２３が設けられ、両鎖車２
１，２２間にはチエーン２４が掛装されるととも
に、前記伝達ギア２３には図示しない駆動モータ
にて回転駆動される駆動ギア２５が噛合されてい
る。
そして、駆動ギア２５の回転に伴い、伝達ギア
２３、鎖車２２、チエーン２４及び鎖車２１を介
して回転軸１４とともに支持円盤１５ａ，１５ｂ
が回転される。
２３、鎖車２２、チエーン２４及び鎖車２１を介
して回転軸１４とともに支持円盤１５ａ，１５ｂ
が回転される。
次にその作用効果を説明する。
まず、前記収容室１を開閉し得る扉を開き各支
持台にプラズマ処理を施すバンパーＢを載置す
る。
持台にプラズマ処理を施すバンパーＢを載置す
る。
次に、収容室の扉を閉じ第１の排気口２のバル
ブ２ａを開き、収容室１内を所定圧に減圧する
（減圧装置は図示しない）。所定圧に達すると前記
バルブ２ａを閉じ回転装置１１の駆動モータを作
動させれば、駆動ギア２５、伝達ギア２３、鎖車
２２、チエーン２４及び鎖車２１を介して回転軸
１４及び支持円盤１５が回転され、かつバンパー
Ｂとともに各支持台１６がその上端部を中心とし
て各支持円盤１５に対し相対回動しながら、各支
持円盤１５の回転中においても各バンパーＢが水
平状態に保持される。
ブ２ａを開き、収容室１内を所定圧に減圧する
（減圧装置は図示しない）。所定圧に達すると前記
バルブ２ａを閉じ回転装置１１の駆動モータを作
動させれば、駆動ギア２５、伝達ギア２３、鎖車
２２、チエーン２４及び鎖車２１を介して回転軸
１４及び支持円盤１５が回転され、かつバンパー
Ｂとともに各支持台１６がその上端部を中心とし
て各支持円盤１５に対し相対回動しながら、各支
持円盤１５の回転中においても各バンパーＢが水
平状態に保持される。
前記回転装置１１の駆動と同時に、前記導入管
４を介して噴射管３に酸素等のプラズマガスを導
入すれば、各噴射口からプラズマガスが均一に噴
射される。また、プラズマガスの噴射とともに第
２の排気口６のバルブ６ａを開き、供給ガス量と
排気スピードとのバランスをとりながら前記収容
室１内の圧力を一定に保つている。
４を介して噴射管３に酸素等のプラズマガスを導
入すれば、各噴射口からプラズマガスが均一に噴
射される。また、プラズマガスの噴射とともに第
２の排気口６のバルブ６ａを開き、供給ガス量と
排気スピードとのバランスをとりながら前記収容
室１内の圧力を一定に保つている。
このとき、第２の排気口６がプラズマガス噴射
管３に対向する位置に設けられているため、噴射
口５よりシヤワー状に広がつたプラズマガスの流
れは、第７図に示す波線のような流れとなる。こ
れは、前記プラズマガスが前記収容室１内全体に
充分広がつた後、前記排気口６に収束し排気され
ることを示し、前記バンパーＢに効率よくプラズ
マガスが照射されバンパーＢ表面をくまなく均一
的に活性化することが可能となる。このため、プ
ラズマ処理効率が大幅に上がり処理時間を短縮す
ることが可能となる。
管３に対向する位置に設けられているため、噴射
口５よりシヤワー状に広がつたプラズマガスの流
れは、第７図に示す波線のような流れとなる。こ
れは、前記プラズマガスが前記収容室１内全体に
充分広がつた後、前記排気口６に収束し排気され
ることを示し、前記バンパーＢに効率よくプラズ
マガスが照射されバンパーＢ表面をくまなく均一
的に活性化することが可能となる。このため、プ
ラズマ処理効率が大幅に上がり処理時間を短縮す
ることが可能となる。
なお、本発明は前記実施例に限定されるもので
はなく例えば次のように具体化することも可能で
ある。
はなく例えば次のように具体化することも可能で
ある。
前記排気口６は、前記噴射管３の対向する位
置に限らず、シヤワー状のプラズマガスが効率
よく収容室１内に広がつた後に収束される所な
らば良く、例えば噴射管３と対向する位置から
上下各45度の範囲に設ければよい。
置に限らず、シヤワー状のプラズマガスが効率
よく収容室１内に広がつた後に収束される所な
らば良く、例えば噴射管３と対向する位置から
上下各45度の範囲に設ければよい。
第８図に示すように前記排気口６に前記噴射
管３と同様の構造を有する排気管２６を設ける
ことによつて、噴射管３から噴射されたプラズ
マガスが一つの穴から吸収排気されるよりも、
より均一的に吸収排気されることができる。
管３と同様の構造を有する排気管２６を設ける
ことによつて、噴射管３から噴射されたプラズ
マガスが一つの穴から吸収排気されるよりも、
より均一的に吸収排気されることができる。
発明の効果
以上詳述したように、本発明はプラズマガス中
にプラズマガスを排気調整するための第２の排気
口を噴射管と対向する位置に設けたことにより、
プラズマガスが収容室内に供給されると、同ガス
は収容室内全体に充分広がつた後に排気口に収束
し排気されるようになるためプラズマ処理効率が
上がり処理時間を短縮することができるという優
れた効果を奏する。
にプラズマガスを排気調整するための第２の排気
口を噴射管と対向する位置に設けたことにより、
プラズマガスが収容室内に供給されると、同ガス
は収容室内全体に充分広がつた後に排気口に収束
し排気されるようになるためプラズマ処理効率が
上がり処理時間を短縮することができるという優
れた効果を奏する。
第１，２図はこの発明を具体化したプラズマ処
理装置の断面図および斜視図、第３図は噴射管の
正面図、第４図は第３図におけるＡ―Ａ線断面
図、第５図は第３図におけるＢ―Ｂ線断面図、第
６図は支持台の一部を示す拡大斜視図、第７図は
本発明のプラズマ処理装置を用いたときのプラズ
マガスの流れを示す模式図、第８図は本発明の別
例を示す断面図、第９図は従来のプラズマ処理装
置を示す斜視図、第１０図は従来のプラズマ処理
装置を用いたときのプラズマガスの流れを示す模
式図である。 収容室…１、第１の排気口…２、噴射管…３、
第２の排気口…６。
理装置の断面図および斜視図、第３図は噴射管の
正面図、第４図は第３図におけるＡ―Ａ線断面
図、第５図は第３図におけるＢ―Ｂ線断面図、第
６図は支持台の一部を示す拡大斜視図、第７図は
本発明のプラズマ処理装置を用いたときのプラズ
マガスの流れを示す模式図、第８図は本発明の別
例を示す断面図、第９図は従来のプラズマ処理装
置を示す斜視図、第１０図は従来のプラズマ処理
装置を用いたときのプラズマガスの流れを示す模
式図である。 収容室…１、第１の排気口…２、噴射管…３、
第２の排気口…６。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂製バンパーＢ等の被塗装品を収容す
る収容室１と、その被塗装品の表面にプラズマ処
理を施すためにプラズマを噴射するプラズマ噴射
管３と、前記収容室１内を減圧する排気口２とを
備えたプラズマ処理装置において、前記収容室１
の噴射管と対向する位置にプラズマ照射中の供給
ガスの排気調整をするための第２の排気口６を設
けたことを特徴とするプラズマ処理装置。 ２ プラズマ噴射管３の外周に噴射管の端部側に
向つて配置間隔が漸減し、かつ内径が漸増する多
数の噴射口５が形成されていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のプラズマ処理装置。 ３ 前記第２の排気口６は供給ガス量と排気スピ
ードとのバランスがとれる径とすることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のプラズマ処理装
置。 ４ 前記第２の排気口６に単独で作動し、排気ス
ピードをコントロールするための補助バルブ６ａ
が設けられていることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59121122A JPS61439A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | プラズマ処理装置 |
| DE19853520924 DE3520924A1 (de) | 1984-06-12 | 1985-06-11 | Plasmaverfahrensanlage |
| KR1019850004094A KR870001171B1 (ko) | 1984-06-12 | 1985-06-11 | 플라즈마 처리장치 |
| CA000483614A CA1249926A (en) | 1984-06-12 | 1985-06-11 | Plasma processing apparatus |
| AU43492/85A AU565026B2 (en) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Plasma processing |
| US06/744,061 US4668479A (en) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Plasma processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59121122A JPS61439A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61439A JPS61439A (ja) | 1986-01-06 |
| JPS635131B2 true JPS635131B2 (ja) | 1988-02-02 |
Family
ID=14803424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59121122A Granted JPS61439A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61439A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6335793A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-16 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 衝撃密着性に優れた亜鉛―ニッケル合金電気めっき鋼板の製造方法 |
| JPH0211792A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-16 | Nippon Steel Corp | 耐チッピング性、溶接部の耐食性に優れたＺｎ−Ｎｉ系合金めっき鋼板の製造方法 |
-
1984
- 1984-06-12 JP JP59121122A patent/JPS61439A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61439A (ja) | 1986-01-06 |
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