JPH028153U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH028153U JPH028153U JP8550288U JP8550288U JPH028153U JP H028153 U JPH028153 U JP H028153U JP 8550288 U JP8550288 U JP 8550288U JP 8550288 U JP8550288 U JP 8550288U JP H028153 U JPH028153 U JP H028153U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- semi
- semiconductor substrate
- insulating semiconductor
- dielectric layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Description
第1図及び第2図は本考案の第1及び第2の実
施例を説明するための半導体チツプの断面図、第
3図は従来の半導体装置を説明するための半導体
チツプの断面図である。 1……半絶縁性GaAs基板、2……酸化シリ
コン膜、3……窒化シリコン膜、4……電極、5
……酸化シリコン膜、6……開孔部、7……窒化
シリコン膜、8……開孔部、9……Au/Pt/
Ti層、10……Au層、11……開孔部、12
……Au/Pt/Ti層、13……窒化シリコン
層、14……Au/Pt/Ti層、15……Au
層。
施例を説明するための半導体チツプの断面図、第
3図は従来の半導体装置を説明するための半導体
チツプの断面図である。 1……半絶縁性GaAs基板、2……酸化シリ
コン膜、3……窒化シリコン膜、4……電極、5
……酸化シリコン膜、6……開孔部、7……窒化
シリコン膜、8……開孔部、9……Au/Pt/
Ti層、10……Au層、11……開孔部、12
……Au/Pt/Ti層、13……窒化シリコン
層、14……Au/Pt/Ti層、15……Au
層。
Claims (1)
- 半絶縁性半導体基板と、前記半絶縁性半導体基
板の上面に設けた番1の電極と、前記半絶縁性半
導体基板の下面に設けて前記第1の電極の下面を
露出させる開孔部と、前記開孔部内に設けて前記
第1の電極と接続する第2の電極と、前記第1の
電極の上面又は前記第2の電極の下面に設けた誘
電体層と、前記第1及び第2の電極を容量部の一
方の電極とし前記誘電体層を介して設けた容量部
の他方の電極とを有することを特徴とする半導体
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8550288U JPH028153U (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8550288U JPH028153U (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH028153U true JPH028153U (ja) | 1990-01-19 |
Family
ID=31310170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8550288U Pending JPH028153U (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH028153U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0399461A (ja) * | 1989-09-12 | 1991-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | Mimキャパシタを具備した半導体装置 |
-
1988
- 1988-06-27 JP JP8550288U patent/JPH028153U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0399461A (ja) * | 1989-09-12 | 1991-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | Mimキャパシタを具備した半導体装置 |