JPH03134009A - プロピレンブロック共重合体の製造法 - Google Patents
プロピレンブロック共重合体の製造法Info
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- JPH03134009A JPH03134009A JP1272651A JP27265189A JPH03134009A JP H03134009 A JPH03134009 A JP H03134009A JP 1272651 A JP1272651 A JP 1272651A JP 27265189 A JP27265189 A JP 27265189A JP H03134009 A JPH03134009 A JP H03134009A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F297/00—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer
- C08F297/06—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the coordination type
- C08F297/08—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the coordination type polymerising mono-olefins
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の背景〕
く技術分野〉
本発明は、高剛性かつ高衝撃強度で流動性の良いプロピ
レンブロック共重合体を、実質的に溶媒を使用しない条
件下で、しかも高活性で重合する方法に関するものであ
る。
レンブロック共重合体を、実質的に溶媒を使用しない条
件下で、しかも高活性で重合する方法に関するものであ
る。
く先行技術〉
結晶性ポリプロピレンは、剛性および耐熱性に優れた特
性を有する反面、耐衝撃強度、特に低温における耐衝撃
強度が、弱いという問題があった。
性を有する反面、耐衝撃強度、特に低温における耐衝撃
強度が、弱いという問題があった。
この点を改良する方法として、プロピレンとエチレンま
たはその他のオレフィンを段階的に重合させてブロック
共重合体を生成させる方法はすでに公知である(特公昭
43−11230号、特公昭44−16668号、特公
昭44−20621号、特公昭49−24593号、特
公昭49−30264号、特開昭48−25781号、
特開昭50−115296号、特開昭53〜35789
号、特開昭54−110072号公報など)。
たはその他のオレフィンを段階的に重合させてブロック
共重合体を生成させる方法はすでに公知である(特公昭
43−11230号、特公昭44−16668号、特公
昭44−20621号、特公昭49−24593号、特
公昭49−30264号、特開昭48−25781号、
特開昭50−115296号、特開昭53〜35789
号、特開昭54−110072号公報など)。
しかしながら、プロピレンとエチレンを二段もしくは多
段で重合させた場合は、耐衝撃性が改良される反面、生
成物は共重合部分を含むため、低結晶性の重合体が大量
に副生ずるという問題が生ずる。特に、ブロック共重合
体の衝撃強度を向上させるためにゴム状共重合体の生成
割合を増加させるという一般的手法には、ゴム状共重合
体の生成に伴って重合体粒子の粘着性が増大する傾向が
ある。その結果、重合体粒子間の付着、装置内壁への付
着などを起こして、安定な長期連続運転が困難となるこ
とが多い。特に、溶媒を使用しない場合、たとえば気相
重合においては、重合体粒子粘着による流動性の悪化は
運転操作上きわめて大きな問題である。したがって、ゴ
ム状共重合体の生成割合を増加させたときの重合体粒子
粘着を防止して運転安定性を増加させることのできる技
術の開発が望まれている。
段で重合させた場合は、耐衝撃性が改良される反面、生
成物は共重合部分を含むため、低結晶性の重合体が大量
に副生ずるという問題が生ずる。特に、ブロック共重合
体の衝撃強度を向上させるためにゴム状共重合体の生成
割合を増加させるという一般的手法には、ゴム状共重合
体の生成に伴って重合体粒子の粘着性が増大する傾向が
ある。その結果、重合体粒子間の付着、装置内壁への付
着などを起こして、安定な長期連続運転が困難となるこ
とが多い。特に、溶媒を使用しない場合、たとえば気相
重合においては、重合体粒子粘着による流動性の悪化は
運転操作上きわめて大きな問題である。したがって、ゴ
ム状共重合体の生成割合を増加させたときの重合体粒子
粘着を防止して運転安定性を増加させることのできる技
術の開発が望まれている。
く要 旨〉
本発明者らは、前述の問題点を解決すべく鋭意研究の結
果、特定の触媒を使用することにより前述の問題点を解
決して本発明に到達した。
果、特定の触媒を使用することにより前述の問題点を解
決して本発明に到達した。
すなわち、本発明によるプロピレンブロック共重合体の
製造法は、下記の触媒成分(A)およびCB)の組合せ
からなる触媒を使用して、実質的に溶媒の不存在下の条
件で、下記の重合工程(1)および(2)を実施して、
プロピレンのゴム状共重合体(20℃キシレン可溶分)
の含量が10〜70重量パーセントであるプロピレンブ
ロック共重合体を得ること、を特徴とするものである。
製造法は、下記の触媒成分(A)およびCB)の組合せ
からなる触媒を使用して、実質的に溶媒の不存在下の条
件で、下記の重合工程(1)および(2)を実施して、
プロピレンのゴム状共重合体(20℃キシレン可溶分)
の含量が10〜70重量パーセントであるプロピレンブ
ロック共重合体を得ること、を特徴とするものである。
触媒
成分(A)
下記の成分(1) 、(ii)および(IN)の接触生
成物。
成物。
成分(I):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを必
須成分として含有するチーグラー型触媒用固体成分であ
って、少なくとも一度は機械的粉砕処理に付した成分、 成分(II)ニ 一般式 %式%(3) (ただし、Rは分岐鎖状炭化水素残基を、R2はR1と
同一かもしくは異なる炭化水素残基を、R3は炭化水素
残基を、nは1≦n≦3の数をそれぞれ示す)で表わさ
れるケイ素化合物、成分(lit) 二 周期律表第1〜■族金属の有機金属化合物、成分(ら) 有機アルミニウム化合物。
須成分として含有するチーグラー型触媒用固体成分であ
って、少なくとも一度は機械的粉砕処理に付した成分、 成分(II)ニ 一般式 %式%(3) (ただし、Rは分岐鎖状炭化水素残基を、R2はR1と
同一かもしくは異なる炭化水素残基を、R3は炭化水素
残基を、nは1≦n≦3の数をそれぞれ示す)で表わさ
れるケイ素化合物、成分(lit) 二 周期律表第1〜■族金属の有機金属化合物、成分(ら) 有機アルミニウム化合物。
重合工程
(1) プロピレンまたはプロピレン/エチレン混合
物を一段あるいは多段に重合させて、プロピレン単独重
合体またはエチレン含量7重量%以下のプロピレン・エ
チレン共重合体を形成させる工程(ただし、この工程で
の重合量は、全重合量の10〜90重量%に相当する量
である)。
物を一段あるいは多段に重合させて、プロピレン単独重
合体またはエチレン含量7重量%以下のプロピレン・エ
チレン共重合体を形成させる工程(ただし、この工程で
の重合量は、全重合量の10〜90重量%に相当する量
である)。
(2) プロピレン/エチレン混合物を一段あるいは
多段に重合させて、プロピレン/エチレンの重合比(重
量比)が90/10〜10/90の割合であるプロピレ
ン・エチレン共重合体を得る工程(ただし、この工程で
の重合量は、全重合量の90〜10重量%に相当する量
である)。
多段に重合させて、プロピレン/エチレンの重合比(重
量比)が90/10〜10/90の割合であるプロピレ
ン・エチレン共重合体を得る工程(ただし、この工程で
の重合量は、全重合量の90〜10重量%に相当する量
である)。
く効 果〉
本発明による触媒で実質的に溶媒を使用しない方法でプ
ロピレンブロック共重合体を製造することにより、高活
性で、すなわち触媒当り高収率で、しかも高剛性、高衝
撃強度のプロピレンブロック共重合体を安定して製造す
ることができる。
ロピレンブロック共重合体を製造することにより、高活
性で、すなわち触媒当り高収率で、しかも高剛性、高衝
撃強度のプロピレンブロック共重合体を安定して製造す
ることができる。
また、本発明によれば、ゴム状共重合体の重量が多くな
った場合(たとえば60重量パーセント)にも、重合体
粒子の粘着性が少なく、従来問題とされていた運転操作
上のトラブルを解決することができる。
った場合(たとえば60重量パーセント)にも、重合体
粒子の粘着性が少なく、従来問題とされていた運転操作
上のトラブルを解決することができる。
さらにまた、本発明の触媒で重合を行なうと、ゴム成分
重合時(本発明では、重合工程(2))の触媒活性が高
いことがあげられる。
重合時(本発明では、重合工程(2))の触媒活性が高
いことがあげられる。
従来知られている多くの触媒系では、ゴム成分重合時に
触媒活性が低下することが多く開面になることが多いが
、本発明の触媒系では上記のような問題がなく、工業生
産上もきわめて有利である。
触媒活性が低下することが多く開面になることが多いが
、本発明の触媒系では上記のような問題がなく、工業生
産上もきわめて有利である。
さらに、本発明の触媒を使用した場合の効果として、ポ
リ、マー重合体の性状がよいことが挙げられる。例えば
ポリマー嵩比重について考えると、本発明では0.45
g/cc以上にすることも可能である。
リ、マー重合体の性状がよいことが挙げられる。例えば
ポリマー嵩比重について考えると、本発明では0.45
g/cc以上にすることも可能である。
(1)触媒
本発明による触媒は、下記の成分(A)および(B)の
組合せからなる。ここで「組合せからなる」ということ
は、挙示の成分(すなわち(A)および(B))のみの
組合せ物の外に、合口的的な補助成分との組合せ物をも
意味するものである。
組合せからなる。ここで「組合せからなる」ということ
は、挙示の成分(すなわち(A)および(B))のみの
組合せ物の外に、合口的的な補助成分との組合せ物をも
意味するものである。
成分(A)
本発明の成分(A)は、成分(1)〜成分(ii1)の
接触生成物である。ここで「接触生成物」ということは
、挙示の成分(すなわち、(1)〜(ii1) )のみ
の接触生成物の外に、合目的的な補助成分をも含んだ接
触による産物をも意味するものである。
接触生成物である。ここで「接触生成物」ということは
、挙示の成分(すなわち、(1)〜(ii1) )のみ
の接触生成物の外に、合目的的な補助成分をも含んだ接
触による産物をも意味するものである。
そのような補助成分としては、エチレン性不飽和化合物
がある(詳細後記)。
がある(詳細後記)。
成分(1)
成分(1)は、チタン、マグネシウムおよびハロゲンを
必須成分として含有するチーグラー型触媒用固体成分で
あって、少なくとも一度は機械的な粉砕処理に付した成
分である。ここで「必須成分として含有する」というこ
とは、挙示の三成分の外に合目的的な他元素を含んでい
てもよいこと、これらの元素はそれぞれ合目的的な任意
の化合物として存在してもよいこと、ならびにこれら元
素は相互に結合したものとして存在してもよいこと、を
示すものである。
必須成分として含有するチーグラー型触媒用固体成分で
あって、少なくとも一度は機械的な粉砕処理に付した成
分である。ここで「必須成分として含有する」というこ
とは、挙示の三成分の外に合目的的な他元素を含んでい
てもよいこと、これらの元素はそれぞれ合目的的な任意
の化合物として存在してもよいこと、ならびにこれら元
素は相互に結合したものとして存在してもよいこと、を
示すものである。
チタン、マグネシウムおよびハロゲンを含むチーグラー
触媒成分そのものは公知のものである。
触媒成分そのものは公知のものである。
本発明では、このような固体成分としては公知のものが
使用できる。例えば、本発明では、特開昭53−456
88号、同54−3894号、同54−31092号、
同54−39483号、同54−94591号、同54
−118484号、同54−131589号、同55−
75411号、同55−90510号、同55−905
11号、同55−127405号、同55−14750
7号、同55−155003号、同56−18609号
、同56−70005号、同56−72001号、同5
6−86905号、同56−90807号、同56−1
55206号、同57−3803号、同57−3410
3号、同57−92007号、同57−121003号
、同58−5309号、同58−5310号、同58−
5311号、同58−8706号、同58−27732
号、同58−32604号、同58−32605号、同
58−67703号、同58−117206号、同58
−127708号、同58−183708号、同58−
183709号、同59−149905号、同59−1
49905号各公報等に記載のものが使用される。
使用できる。例えば、本発明では、特開昭53−456
88号、同54−3894号、同54−31092号、
同54−39483号、同54−94591号、同54
−118484号、同54−131589号、同55−
75411号、同55−90510号、同55−905
11号、同55−127405号、同55−14750
7号、同55−155003号、同56−18609号
、同56−70005号、同56−72001号、同5
6−86905号、同56−90807号、同56−1
55206号、同57−3803号、同57−3410
3号、同57−92007号、同57−121003号
、同58−5309号、同58−5310号、同58−
5311号、同58−8706号、同58−27732
号、同58−32604号、同58−32605号、同
58−67703号、同58−117206号、同58
−127708号、同58−183708号、同58−
183709号、同59−149905号、同59−1
49905号各公報等に記載のものが使用される。
本発明において使用されるマグネシウム源となるマグネ
シウム化合物としては、マグネシウムノルライド、ジア
ルコキシマグネシウム、アルコキシマグネシウムハライ
ド、マグネシウムオキシハライド、ジアルキルマグネシ
ウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、マグネ
シウムのカルボン酸塩等があげられる。これらのマグネ
シウム化合物の中でもマグネシウムハライドが好ましい
。
シウム化合物としては、マグネシウムノルライド、ジア
ルコキシマグネシウム、アルコキシマグネシウムハライ
ド、マグネシウムオキシハライド、ジアルキルマグネシ
ウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、マグネ
シウムのカルボン酸塩等があげられる。これらのマグネ
シウム化合物の中でもマグネシウムハライドが好ましい
。
また、チタン源となるチタン化合物は、一般式Ti(O
R) X(ここでR4は炭化水−nn 素残基であり、好ましくは炭素数1〜10程度のもので
あり、Xはハロゲンを示し、nは0≦n≦4の数を示す
。)で表わされる化合物があげられる。具体例としては
、T1Cl TiBr4.4ゝ Ti (OC2H5)C13、 Ti (OC2H5)2C12、 Ti (OC2H5)3C11 Ti (0−1C3H7)C13、 T i (On C4H9) Cl 3、Ti (0
−nC4H9)2C12 T i(OC2Hc、 ) B r 3、Ti (OC
H)(OC4H9)2C115 ”ri (0−nC4H9) 3Ct。
R) X(ここでR4は炭化水−nn 素残基であり、好ましくは炭素数1〜10程度のもので
あり、Xはハロゲンを示し、nは0≦n≦4の数を示す
。)で表わされる化合物があげられる。具体例としては
、T1Cl TiBr4.4ゝ Ti (OC2H5)C13、 Ti (OC2H5)2C12、 Ti (OC2H5)3C11 Ti (0−1C3H7)C13、 T i (On C4H9) Cl 3、Ti (0
−nC4H9)2C12 T i(OC2Hc、 ) B r 3、Ti (OC
H)(OC4H9)2C115 ”ri (0−nC4H9) 3Ct。
Ti (0−C6H5)C13、
Ti (0−1C4H9)2C12、
Ti (OC5H11)C13、
Ti (OC6H13)C13、
Ti (OC2H5)4、
Ti (O−nC3H7)4、
Ti (0−nC4H9)4、
Ti(0−1C4H9)4、
T L (On C6H13) 4、
T i(On Cs H17) 4、
Ti〔OCHCH(C2H5)C4H9〕4等がある。
また、T t X’ 4 (ここで X J はハロゲ
ンを示す)に後述する電子供与体を反応させた分子化合
物を用いることもできる。そのような分子化合物の具体
例としては、 TiCl4争CH3COC2H5、 TiC1−CH5C02C2H5、 T I Cl 4・C6H5NO2、 T i C14’ CH3C0C1゜ TiCl4@C6H3COC11 TiC14#C6H5CO2C2H5、TiC1−CI
COC2H5、 TiCl4・C4H40等があげられる。
ンを示す)に後述する電子供与体を反応させた分子化合
物を用いることもできる。そのような分子化合物の具体
例としては、 TiCl4争CH3COC2H5、 TiC1−CH5C02C2H5、 T I Cl 4・C6H5NO2、 T i C14’ CH3C0C1゜ TiCl4@C6H3COC11 TiC14#C6H5CO2C2H5、TiC1−CI
COC2H5、 TiCl4・C4H40等があげられる。
これらのチタン化合物の中でも好ましいものは、T I
CI T i (OE t ) 4.4ゝ Ti (OBu) Ti (OBu)CI3等であ
4す る。
CI T i (OE t ) 4.4ゝ Ti (OBu) Ti (OBu)CI3等であ
4す る。
また、一般式Ti(OR) X(ここ−nn
で、R5は炭化水素残基、好ましくは炭素数1〜10程
度のもの、であり、Xはハロゲンを示し、nは0<n≦
3の数を示す)で表わされる化合物も用いることができ
る。そのような化合物の具体例としては、T i C1
3、TiBr3、 Ti(OCH)CI Ti (
C2H5)C12等3 2ゝ があげられる。
度のもの、であり、Xはハロゲンを示し、nは0<n≦
3の数を示す)で表わされる化合物も用いることができ
る。そのような化合物の具体例としては、T i C1
3、TiBr3、 Ti(OCH)CI Ti (
C2H5)C12等3 2ゝ があげられる。
さらに、ジシクロペンタジェニルジクロロチタニウム、
ジシクロペンタジェニルジメチルチタニウム、ビスイン
デニルジクロロチタニウム等のチタノセン化合物の使用
も可能である。
ジシクロペンタジェニルジメチルチタニウム、ビスイン
デニルジクロロチタニウム等のチタノセン化合物の使用
も可能である。
ハロゲン源としては、上述のマグネシウム及び(又は)
チタンのハロゲン化合物から供給されるのが普通である
が、他のハロゲン源、たとえばアルミニウムのハロゲン
化物やケイ素のハロゲン化物、リンのハロゲン化物とい
った公知のハロゲン化剤、から供給することもできる。
チタンのハロゲン化合物から供給されるのが普通である
が、他のハロゲン源、たとえばアルミニウムのハロゲン
化物やケイ素のハロゲン化物、リンのハロゲン化物とい
った公知のハロゲン化剤、から供給することもできる。
触媒成分中に含まれるハロゲンはフッ素、塩素、臭素、
ヨウ素又はこれらの混合物であってよく、特に塩素が好
ましい。
ヨウ素又はこれらの混合物であってよく、特に塩素が好
ましい。
本発明に用いる固体成分は、上記必須成分の他に5iC
I CH5iC13等のケイ素化合41 3 物、メチルハイドロジエンポリシロキサン等のポリマー
ケイ素化合物、AI (OLC3H7)3、AlCl
AlBr Al (OC2H5) 3.3ゝ
3ゝ Al (OCH3)2C1等のアルミニウム化合物およ
びB(OCR) B(OC2H5)3.3 3ゝ B (OC6H5) 3等のホウ素化合物等の他成分の
使用も可能であり、これらがケイ素、アルミニウム及び
ホウ素等の成分として固体成分中に残存することは差支
えない。
I CH5iC13等のケイ素化合41 3 物、メチルハイドロジエンポリシロキサン等のポリマー
ケイ素化合物、AI (OLC3H7)3、AlCl
AlBr Al (OC2H5) 3.3ゝ
3ゝ Al (OCH3)2C1等のアルミニウム化合物およ
びB(OCR) B(OC2H5)3.3 3ゝ B (OC6H5) 3等のホウ素化合物等の他成分の
使用も可能であり、これらがケイ素、アルミニウム及び
ホウ素等の成分として固体成分中に残存することは差支
えない。
更に、この固体成分を製造する場合に、電子供与体を内
部ドナーとして使用することもできる。
部ドナーとして使用することもできる。
この固体成分の製造に利用できる電子供与体(内部ドナ
ー)としては、アルコール類、フェノール類、ケトン類
、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸又は無機酸類の
エステル類、エーテル類、酸アミド類、酸無水物類のよ
うな含酸素電子供与体、アンモニア、アミン、ニトリル
、イソシアネートのような含窒素電子供与体などを例示
することができる。
ー)としては、アルコール類、フェノール類、ケトン類
、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸又は無機酸類の
エステル類、エーテル類、酸アミド類、酸無水物類のよ
うな含酸素電子供与体、アンモニア、アミン、ニトリル
、イソシアネートのような含窒素電子供与体などを例示
することができる。
より具体的には、(イ)メタノール、エタノール、プロ
パツール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタツール
、ドデカノール、オクタデシルアルコール、ベンジルア
ルコール、フェニルエチルアルコール、クミルアルコー
ル、イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1な
いし18のアルコール類、(ロ)フェノール、クレゾー
ル、キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノ
ール、クミルフェノール、ノニルフェノール、ナフトー
ルなどのアルキル基を有してよい炭素数6ないし25の
フェノール類、(ハ)アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェ
ノンなどの炭素数3ないし15のケトン類、(ニ)アセ
トアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、ナフトアル
デヒドなどの炭素数2ないし15のアルデヒド類、(ホ
)ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニル、
酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、酢
酸セロソルブ、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、吉草
酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メチル、ジ
クロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロトン酸エ
チル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチ
ル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチ
ル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシル、安息
香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸セロソルブ
、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トルイル酸ア
ミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチル、アニス
酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、フタル酸ジエチル
、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘブチル、γ−ブチロ
ラクトン、α−バレロラクトン、クマリン、フタリド、
炭酸エチレンなどの炭素数2ないし20の有機酸エステ
ル類、(へ)ケイ酸エチル、ケイ酸ブチル、フェニルト
リエトキシシランなどのケイ酸エステルのような無機酸
エステル類、(ト)アセチルクロリド、ベンゾイルクロ
リド、トルイル酸クロリド、アニス酸クロリド、塩化フ
タロイル、イソ酸化フタロイルなどの炭素数2ないし1
5の酸ハライド類、(チ)メチルエーテル、エチルエー
テル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、アミル
エーテル、テトラヒドロフラン、アニソール、ジフェニ
ルエーテルなどの炭素数2ないし20のエーテル類、(
す)酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイル酸アミドな
どの酸アミド類、(ヌ)メチルアミン、エチルアミン、
ジエチルアミン、トリブチルアミン、ピペリジン、トリ
ベンジルアミン、アニリン、ピリジン、ピコリン、テト
ラメチルエチレンジアミンなどのアミン類、(ル)アセ
トニトリル、ベンゾニトリル、トルニトリルなどのニト
リル類、などを挙げることができる。これら電子供与体
は、二種以上用いることができる。これらの中で好まし
いのは有機酸エステルおよび酸ハライドであり、特に好
ましいのはフタル酸エステル、酢酸セロソルブエステル
およびフタル酸ハライドである。
パツール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタツール
、ドデカノール、オクタデシルアルコール、ベンジルア
ルコール、フェニルエチルアルコール、クミルアルコー
ル、イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1な
いし18のアルコール類、(ロ)フェノール、クレゾー
ル、キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノ
ール、クミルフェノール、ノニルフェノール、ナフトー
ルなどのアルキル基を有してよい炭素数6ないし25の
フェノール類、(ハ)アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェ
ノンなどの炭素数3ないし15のケトン類、(ニ)アセ
トアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、ナフトアル
デヒドなどの炭素数2ないし15のアルデヒド類、(ホ
)ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニル、
酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、酢
酸セロソルブ、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、吉草
酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メチル、ジ
クロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロトン酸エ
チル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチ
ル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチ
ル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシル、安息
香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸セロソルブ
、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トルイル酸ア
ミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチル、アニス
酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、フタル酸ジエチル
、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘブチル、γ−ブチロ
ラクトン、α−バレロラクトン、クマリン、フタリド、
炭酸エチレンなどの炭素数2ないし20の有機酸エステ
ル類、(へ)ケイ酸エチル、ケイ酸ブチル、フェニルト
リエトキシシランなどのケイ酸エステルのような無機酸
エステル類、(ト)アセチルクロリド、ベンゾイルクロ
リド、トルイル酸クロリド、アニス酸クロリド、塩化フ
タロイル、イソ酸化フタロイルなどの炭素数2ないし1
5の酸ハライド類、(チ)メチルエーテル、エチルエー
テル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、アミル
エーテル、テトラヒドロフラン、アニソール、ジフェニ
ルエーテルなどの炭素数2ないし20のエーテル類、(
す)酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイル酸アミドな
どの酸アミド類、(ヌ)メチルアミン、エチルアミン、
ジエチルアミン、トリブチルアミン、ピペリジン、トリ
ベンジルアミン、アニリン、ピリジン、ピコリン、テト
ラメチルエチレンジアミンなどのアミン類、(ル)アセ
トニトリル、ベンゾニトリル、トルニトリルなどのニト
リル類、などを挙げることができる。これら電子供与体
は、二種以上用いることができる。これらの中で好まし
いのは有機酸エステルおよび酸ハライドであり、特に好
ましいのはフタル酸エステル、酢酸セロソルブエステル
およびフタル酸ハライドである。
上記各成分の使用量は、本発明の効果が認められるかぎ
り任意のものでありうるが、−膜内には、次の範囲内が
好ましい。
り任意のものでありうるが、−膜内には、次の範囲内が
好ましい。
チタン化合物の使用量は、使用するマグネシウム化合物
の使用量に対してモル比でlXl0−4〜1000の範
囲内がよく、好ましくは0.01〜10の範囲内である
。ハロゲン源としてそのための化合物を使用する場合は
、その使用量はチタン化合物および(または)マグネシ
ウム化合物がハロゲンを含む、含まないにかかわらず、
使用するマグネシウムの使用量に対してモル比でlXl
0−2〜1000の範囲内がよく、好ましくは0. 1
〜100の範囲内である。
の使用量に対してモル比でlXl0−4〜1000の範
囲内がよく、好ましくは0.01〜10の範囲内である
。ハロゲン源としてそのための化合物を使用する場合は
、その使用量はチタン化合物および(または)マグネシ
ウム化合物がハロゲンを含む、含まないにかかわらず、
使用するマグネシウムの使用量に対してモル比でlXl
0−2〜1000の範囲内がよく、好ましくは0. 1
〜100の範囲内である。
ケイ素、アルミニウムおよびホウ素の使用量は、上記の
マグネシウム化合物の使用量に対してモル比でlXl0
−3〜100の範囲内がよく、好ましくは0.01〜1
の範囲内である。
マグネシウム化合物の使用量に対してモル比でlXl0
−3〜100の範囲内がよく、好ましくは0.01〜1
の範囲内である。
電子供与性化合物の使用するときの量は、上記のマグネ
シウム化合物の使用量に対してモル比でlXl0 ”
〜10の範囲内がよく、好ましくは0.01〜5の範囲
内である。
シウム化合物の使用量に対してモル比でlXl0 ”
〜10の範囲内がよく、好ましくは0.01〜5の範囲
内である。
本発明で使用する成分(1)は、成分(1)を形成すべ
き録分の接触後あるいは接触前の任意の段階において、
その全部または一部に対して機械的な粉砕処理を加えた
ものである。ここでいう機械的な粉砕処理は、本発明の
効果が認められるかぎり任意のものでありうるが、−膜
内には、次の方法によるものが好ましい。粉砕方法とし
ては、回転ボールミル、振動ミル、ジェットミル、ロッ
ドミル等があげられる。−膜内には、不活性希釈剤の不
存在下に粉砕を行なうのが普通であるが、必要に応じて
脂肪族または芳香族の炭化水素の存在下に行なうことも
できる。粉砕条件も任意であるが、温度は一50℃〜1
00℃、時間は10分間から100時間程度が好ましい
。
き録分の接触後あるいは接触前の任意の段階において、
その全部または一部に対して機械的な粉砕処理を加えた
ものである。ここでいう機械的な粉砕処理は、本発明の
効果が認められるかぎり任意のものでありうるが、−膜
内には、次の方法によるものが好ましい。粉砕方法とし
ては、回転ボールミル、振動ミル、ジェットミル、ロッ
ドミル等があげられる。−膜内には、不活性希釈剤の不
存在下に粉砕を行なうのが普通であるが、必要に応じて
脂肪族または芳香族の炭化水素の存在下に行なうことも
できる。粉砕条件も任意であるが、温度は一50℃〜1
00℃、時間は10分間から100時間程度が好ましい
。
成分(1)は、上述のチタン源、マグネシウム源および
ハロゲン源、更には必要により電子供与体等の他成分を
用いて、例えば以下の様な製造法により製造される。
ハロゲン源、更には必要により電子供与体等の他成分を
用いて、例えば以下の様な製造法により製造される。
(イ) ハロゲン化マグネシウムと必要に応じて電子供
与体とチタン含有化合物とを接触させ、その後に粉砕す
る方法。
与体とチタン含有化合物とを接触させ、その後に粉砕す
る方法。
(ロ) アルミナまたはマグネシアをハロゲン化リン化
合物で処理し、それにl\ロゲン化マグネシウム、電子
供与体、チタンハロゲン含有化合物を接触させ、その後
に粉砕する方法。
合物で処理し、それにl\ロゲン化マグネシウム、電子
供与体、チタンハロゲン含有化合物を接触させ、その後
に粉砕する方法。
(ハ) ハロゲン化マグネシウムとチタンテトラアルコ
キシドおよび特定のポリマーケイ素化合物を接触させて
得られる固体成分に、チタンハロゲン化合物および(ま
たは)ケイ素の/\ロゲン化合物を接触させ、その後に
粉砕する方法。
キシドおよび特定のポリマーケイ素化合物を接触させて
得られる固体成分に、チタンハロゲン化合物および(ま
たは)ケイ素の/\ロゲン化合物を接触させ、その後に
粉砕する方法。
このポリマーケイ素化合物としては、下式で示されるも
のが適当である。
のが適当である。
一%−S i −0→−
(ここで、Rは炭素数1〜10b!度の炭化水素残基、
nはこのポリマーケイ素化合物の粘度が1〜100セン
チスト一クス程度となるような重合度を示す) これらのうちでは、メチルハイドロジエンポリシロキサ
ン、エチルハイドロジエンポリシロキサン、フェニルハ
イドロジ、エンポリシロキサン、シクロへキシルハイド
ロジエンポリシロキサン、1゜3.5,7テトラメチル
シクロテトラシロキサン、1.3,5,7.9ペンタメ
チルシクロペンタシロキサン、等が好ましい。
nはこのポリマーケイ素化合物の粘度が1〜100セン
チスト一クス程度となるような重合度を示す) これらのうちでは、メチルハイドロジエンポリシロキサ
ン、エチルハイドロジエンポリシロキサン、フェニルハ
イドロジ、エンポリシロキサン、シクロへキシルハイド
ロジエンポリシロキサン、1゜3.5,7テトラメチル
シクロテトラシロキサン、1.3,5,7.9ペンタメ
チルシクロペンタシロキサン、等が好ましい。
(ニ) マグネシウム化合物をチタンテトラアルコキシ
ドおよび電子供与体で溶解させて、ノ10ゲン化剤また
はチタンハロゲン化合物で析出させた固体成分を粉砕し
、これにチタン化合物を接触させる方法。
ドおよび電子供与体で溶解させて、ノ10ゲン化剤また
はチタンハロゲン化合物で析出させた固体成分を粉砕し
、これにチタン化合物を接触させる方法。
(ホ) グリニヤール試薬等の有機マグネシウム化合物
をハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、粉砕し、こ
れに必要に応じて電子供与体とチタン化合物とを接触さ
せる方法。
をハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、粉砕し、こ
れに必要に応じて電子供与体とチタン化合物とを接触さ
せる方法。
(へ) 粉砕したアルコキシマグネシウム化合物にハロ
ゲン化剤および(または)チタン化合物を電子供与体の
存在もしくは不存在下に接触させる方法。
ゲン化剤および(または)チタン化合物を電子供与体の
存在もしくは不存在下に接触させる方法。
このようにして、チタン、マグネシウムおよびハロゲン
を必須成分として含有するチーグラー触媒用固体成分(
1)が得られる。
を必須成分として含有するチーグラー触媒用固体成分(
1)が得られる。
成分(ii)
成分(A’)を製造するために使用する成分(ii)は
、一般式 %式%(3) (ただし、R1は分岐鎖状炭化水素残基を、R2はR1
と同一かもしくは異なる炭化水素残基を、R3は炭化水
素残基を、nは1≦n≦3の数をそれぞれ示す)で表わ
されるケイ素化合物である。
、一般式 %式%(3) (ただし、R1は分岐鎖状炭化水素残基を、R2はR1
と同一かもしくは異なる炭化水素残基を、R3は炭化水
素残基を、nは1≦n≦3の数をそれぞれ示す)で表わ
されるケイ素化合物である。
成分(ii)が本式の化合物の複数種の混合物であって
もよいことはいうまでもない。
もよいことはいうまでもない。
ここで、R1はケイ素原子に隣接する炭素原子から分岐
しているものが好ましい。その場合の分岐基は、アルキ
ル基、シクロアルキル基またはアリール基(たとえば、
フェニル基またはメチル置換フェニル基)であることが
好ましい。さらに好ましいR1は、ケイ素原子に隣接す
る炭素原子、すなわちα−位炭素原子、が2級または3
級の炭素原子であるものである。とりわけ、ケイ素原子
に結合している炭素原子が3級のものが好ましい。
しているものが好ましい。その場合の分岐基は、アルキ
ル基、シクロアルキル基またはアリール基(たとえば、
フェニル基またはメチル置換フェニル基)であることが
好ましい。さらに好ましいR1は、ケイ素原子に隣接す
る炭素原子、すなわちα−位炭素原子、が2級または3
級の炭素原子であるものである。とりわけ、ケイ素原子
に結合している炭素原子が3級のものが好ましい。
R1の炭素数は通常3〜20、好ましくは4〜10、で
ある。
ある。
R2は、炭素数1〜20、好ましくは1〜10、の分岐
または直鎖状の脂肪族炭化水素基であることがふつうで
ある。R3は脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数1〜
4の鎖状脂肪族炭化水素基、であることがふつうである
。
または直鎖状の脂肪族炭化水素基であることがふつうで
ある。R3は脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数1〜
4の鎖状脂肪族炭化水素基、であることがふつうである
。
成分(ii)のケイ素化合物の具体例は、下記の通りで
ある。
ある。
(CH3)3C8i(CH3)(OCH3)2、(CH
)C5i (CH(CH3) 2)(OCH3) 2、
3 (CH3)3C8l(CH3)(OC2H5)2、(C
H)C5i (CH3)(OCH3) 2、53 (CH3)(C2H5)CF3I(CH3)(OCH3
)2、((C1()CHCH)si (OCH3)2.
32 22 (CH) (CH) CSi (CH) (OCH3
) 2.25 32 3 (CH)(CH) C8i (CH3)(OC2H5
) 2.25 32 (CH)C3l (OCH3)3、 3 (CH)C8i(OC2H5)3、 3 (CH)C8i(OC2H5)3、 53 (CH)(CH)CF3I (OCH3) 3.3
25 (CH)(CH3)2C8i(OCH3)3、5 (CH)(CH)C5i (OC2H5) 3.25
32 これらの中で好ましいのは、R1のα位の炭素が2級又
は3級で炭素数3〜20の分岐鎖状炭化水素残基、特に
R1のα位の炭素が3級であって炭素数4〜10の分岐
鎖状炭化水素残基、を有するケイ素化合物である。
)C5i (CH(CH3) 2)(OCH3) 2、
3 (CH3)3C8l(CH3)(OC2H5)2、(C
H)C5i (CH3)(OCH3) 2、53 (CH3)(C2H5)CF3I(CH3)(OCH3
)2、((C1()CHCH)si (OCH3)2.
32 22 (CH) (CH) CSi (CH) (OCH3
) 2.25 32 3 (CH)(CH) C8i (CH3)(OC2H5
) 2.25 32 (CH)C3l (OCH3)3、 3 (CH)C8i(OC2H5)3、 3 (CH)C8i(OC2H5)3、 53 (CH)(CH)CF3I (OCH3) 3.3
25 (CH)(CH3)2C8i(OCH3)3、5 (CH)(CH)C5i (OC2H5) 3.25
32 これらの中で好ましいのは、R1のα位の炭素が2級又
は3級で炭素数3〜20の分岐鎖状炭化水素残基、特に
R1のα位の炭素が3級であって炭素数4〜10の分岐
鎖状炭化水素残基、を有するケイ素化合物である。
成分(Ili)
チーグラー型触媒用固体触媒成分を構成すべき成分(i
ii)は、周期律表第1〜m族金属の有機金属化合物で
ある。
ii)は、周期律表第1〜m族金属の有機金属化合物で
ある。
有機金属化合物であるからこの化合物は少なくとも一つ
の有機基−金属結合を持つ。その場合の有機基としては
、炭素数1〜10程度、好ましくは1〜6程度、のヒド
ロカルビル基が代表的である。
の有機基−金属結合を持つ。その場合の有機基としては
、炭素数1〜10程度、好ましくは1〜6程度、のヒド
ロカルビル基が代表的である。
原子価の少なくとも一つの有機基で充足されている有機
金属化合物の金属の残りの原子価(もしそれがあれば)
は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビルオキシ基
(ヒドロカルビル基は、炭素数1〜10程度、好ましく
は1〜6程度)、あるいは酸素原子を介した当該金属(
具体的には、 H3 その他で充足される。
金属化合物の金属の残りの原子価(もしそれがあれば)
は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビルオキシ基
(ヒドロカルビル基は、炭素数1〜10程度、好ましく
は1〜6程度)、あるいは酸素原子を介した当該金属(
具体的には、 H3 その他で充足される。
このような有機金属化合物の具体例を挙げれば、(イ)
メチルリチウム、n−ブチルリチウム、第三ブチルリチ
ウム等の有機リチウム化合物、(ロ)ブチルエチルマグ
ネシウム、ジブチルマグネシウム、ヘキシルエチルマグ
ネシウム、ブチルマグネシウムクロリド、第三ブチルマ
グネシウムプロミド等の有機マグネシウム化合物、(ハ
)ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛等の有機亜鉛化合物、(
ニ)トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム
、トリイソブチルアルミニウム、トリn−へキシルアル
ラミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチル
アルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミ
ニウムジクロリド、メチルアルミノキサン等の有機アル
ミニウム化合物があげられる。このうちでは、特に有機
アルミニウム化合物が好ましい。有機アルミニウム化合
物のさらなる具体例は、成分(B)として後記する有機
アルミニウム化合物の例示の中に見出すことができる。
メチルリチウム、n−ブチルリチウム、第三ブチルリチ
ウム等の有機リチウム化合物、(ロ)ブチルエチルマグ
ネシウム、ジブチルマグネシウム、ヘキシルエチルマグ
ネシウム、ブチルマグネシウムクロリド、第三ブチルマ
グネシウムプロミド等の有機マグネシウム化合物、(ハ
)ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛等の有機亜鉛化合物、(
ニ)トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム
、トリイソブチルアルミニウム、トリn−へキシルアル
ラミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチル
アルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミ
ニウムジクロリド、メチルアルミノキサン等の有機アル
ミニウム化合物があげられる。このうちでは、特に有機
アルミニウム化合物が好ましい。有機アルミニウム化合
物のさらなる具体例は、成分(B)として後記する有機
アルミニウム化合物の例示の中に見出すことができる。
固体触媒成分(A)の調製
成分(1)〜(ii1)の接触方法および使用量は効果
が認められる限り任意のものでありうるが、−膜内には
、次の条件が好ましい。
が認められる限り任意のものでありうるが、−膜内には
、次の条件が好ましい。
成分(1)と成分(ii)の量比は、成分(1)を構成
するチタン成分に対する成分(ii)のケイ素の原子比
(ケイ素/チタン)で0.01〜1000の範囲内がよ
く、好ましくは0.1〜100の範囲である。成分(i
i1)の成分(1)に対する量比は、有機金属化合物の
金属原子比(金属/チタン)で0.01〜100、好ま
しくは、0.1〜30、の範囲である。
するチタン成分に対する成分(ii)のケイ素の原子比
(ケイ素/チタン)で0.01〜1000の範囲内がよ
く、好ましくは0.1〜100の範囲である。成分(i
i1)の成分(1)に対する量比は、有機金属化合物の
金属原子比(金属/チタン)で0.01〜100、好ま
しくは、0.1〜30、の範囲である。
成分(1)〜(ill)の接触順序および接触回数は、
特に制限はないが、例えば次のような方法があげられる
。
特に制限はないが、例えば次のような方法があげられる
。
(イ) 成分(1)−成分(ii)−成分(ill)(
ロ) 成分(1)−成分(IN)−成分(ii)(ハ)
成分(1) −(成分(ti)生成分(tti) l
−(成分(ii)生成分(Ili) ) (ニ) (成分(ii)生成分(III) l呻成分
(+)(ホ) 成分(1) 、(II)および(ili
)を同時に接触させる方法 (へ) (イ)〜(ニ)の方法において、各工程の間
に洗浄工程を行なう方法 接触温度は、−50〜200℃程度、好ましくはO〜1
00℃程度、である。接触方法としては、回転ボールミ
ル、振動ミル、ジェットミル、媒体攪拌粉砕機などによ
る機械的な方法、不活性希釈剤の存在下に、攪拌により
接触させる方法などがあげられる。このとき使用する不
活性希釈剤としては、脂肪族または芳香族の炭化水素お
よびハロ炭化水素、ポリシロキサン等があげられる。こ
れらの接触に際し、本発明の効果を損なわない限りにお
いては、成分(i)〜(lit)以外のその他の成分、
たとえばメチルハイドロジエンポリシロキサン、ホウ酸
エチル、アルミニウムトリイソプロポキシド、三塩化ア
ルミニウム、四塩化ケイ素、四価のチタン化合物、三価
のチタン化合物等を共存させることも可能である。
ロ) 成分(1)−成分(IN)−成分(ii)(ハ)
成分(1) −(成分(ti)生成分(tti) l
−(成分(ii)生成分(Ili) ) (ニ) (成分(ii)生成分(III) l呻成分
(+)(ホ) 成分(1) 、(II)および(ili
)を同時に接触させる方法 (へ) (イ)〜(ニ)の方法において、各工程の間
に洗浄工程を行なう方法 接触温度は、−50〜200℃程度、好ましくはO〜1
00℃程度、である。接触方法としては、回転ボールミ
ル、振動ミル、ジェットミル、媒体攪拌粉砕機などによ
る機械的な方法、不活性希釈剤の存在下に、攪拌により
接触させる方法などがあげられる。このとき使用する不
活性希釈剤としては、脂肪族または芳香族の炭化水素お
よびハロ炭化水素、ポリシロキサン等があげられる。こ
れらの接触に際し、本発明の効果を損なわない限りにお
いては、成分(i)〜(lit)以外のその他の成分、
たとえばメチルハイドロジエンポリシロキサン、ホウ酸
エチル、アルミニウムトリイソプロポキシド、三塩化ア
ルミニウム、四塩化ケイ素、四価のチタン化合物、三価
のチタン化合物等を共存させることも可能である。
本発明の成分(A)の調製時には任意成分として、オレ
フィンやジエン化合物等のエチレン性不飽和化合物を使
用することも可能である。そのようなエチレン性不飽和
化合物の具体例としては、エチレン、プロピレン、1−
ブテン、2−ブテン、イソブチレン、1−ペンテン、2
−ペンテン、2−メチル−1−ブテン、3−メチル−1
−ブテン、1−ヘキセン、2−ヘキセン、3−ヘキセン
、2−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテ
ン、4−メチル−1−ペンテン、2−メチル−2−ペン
テン、3−メチル−2−ペンテン、4メチル−2−ペン
テン、2−エチル−1−ブテン、2.3−ジメチル−1
−ブテン、3,3−ジメチル−1−ブテン、2.3−ジ
メチル−2−ブテン、1−ヘプテン、1−オクテン、2
−オクテン、3−オクテン、4−オクテン、1−ノネン
、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデカン、1−ト
リデカン、1−テトラデカン、1−ペンタデカン、1−
ヘキサデカン、1−ヘプタデカン、1−オクタデカン、
1−ノナデカン、スチレン、α−メチル−スチレンジビ
ニルベンゼン、1,2−ブタジェン、イソプレン、ヘキ
サジエン、1,4−へキサジエン、1.5−ヘキサジエ
ン、1.3−ペンタジェン、1.4−ペンタジェン、2
,3−ペンタジェン、2,6−オクタジエン、 c 1s−2,tranS 4−へキサジエン、tra
ns 2゜LranS 4−ヘキサジエン、1,2−へ
ブタジェン、1.4−へブタジェン、1,5−へブタジ
ェン、1.6−へブタジェン、2,4−へブタジェン、
ジシクロペンタジェン、1,3−シクロへキサジエン、
1.4−シクロへキサジエン、シクロペンタジェン、1
,3−シクロへブタジェン、1.3−ブタジェン、4−
メチル−1,4−へキサジエン、5−メチル−1,4−
へキサジエン、1,9デカジエン、1.13−テトラデ
カジエン等があげられる。これらは、必要に応じて有機
アルミニウム化合物と共に成分(A)と接触させれば重
合することがふつうであり、従ってそのようにして製造
した成分(A)は所謂予備重合を終えたちのということ
になる。
フィンやジエン化合物等のエチレン性不飽和化合物を使
用することも可能である。そのようなエチレン性不飽和
化合物の具体例としては、エチレン、プロピレン、1−
ブテン、2−ブテン、イソブチレン、1−ペンテン、2
−ペンテン、2−メチル−1−ブテン、3−メチル−1
−ブテン、1−ヘキセン、2−ヘキセン、3−ヘキセン
、2−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテ
ン、4−メチル−1−ペンテン、2−メチル−2−ペン
テン、3−メチル−2−ペンテン、4メチル−2−ペン
テン、2−エチル−1−ブテン、2.3−ジメチル−1
−ブテン、3,3−ジメチル−1−ブテン、2.3−ジ
メチル−2−ブテン、1−ヘプテン、1−オクテン、2
−オクテン、3−オクテン、4−オクテン、1−ノネン
、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデカン、1−ト
リデカン、1−テトラデカン、1−ペンタデカン、1−
ヘキサデカン、1−ヘプタデカン、1−オクタデカン、
1−ノナデカン、スチレン、α−メチル−スチレンジビ
ニルベンゼン、1,2−ブタジェン、イソプレン、ヘキ
サジエン、1,4−へキサジエン、1.5−ヘキサジエ
ン、1.3−ペンタジェン、1.4−ペンタジェン、2
,3−ペンタジェン、2,6−オクタジエン、 c 1s−2,tranS 4−へキサジエン、tra
ns 2゜LranS 4−ヘキサジエン、1,2−へ
ブタジェン、1.4−へブタジェン、1,5−へブタジ
ェン、1.6−へブタジェン、2,4−へブタジェン、
ジシクロペンタジェン、1,3−シクロへキサジエン、
1.4−シクロへキサジエン、シクロペンタジェン、1
,3−シクロへブタジェン、1.3−ブタジェン、4−
メチル−1,4−へキサジエン、5−メチル−1,4−
へキサジエン、1,9デカジエン、1.13−テトラデ
カジエン等があげられる。これらは、必要に応じて有機
アルミニウム化合物と共に成分(A)と接触させれば重
合することがふつうであり、従ってそのようにして製造
した成分(A)は所謂予備重合を終えたちのということ
になる。
これらのエチレン性不飽和化合物は成分(A)調製時に
重合するものと考えられ、従ってその使用量は、これら
化合物の使用前の成分(A)に対し0.01〜100重
量倍、好ましくは0.1〜10重量倍、である。
重合するものと考えられ、従ってその使用量は、これら
化合物の使用前の成分(A)に対し0.01〜100重
量倍、好ましくは0.1〜10重量倍、である。
成分(B)
成分(B)は、有機アルミニウム化合物である。
具体例としては、RAIX または、−nn
R78
3−mAl (OR) (ここで、R6およびR7は
同一または異ってもよい炭素数1〜20程度の炭化水素
残基または水素原子、R8は炭素数1〜20程度の炭化
水素残基、Xはハロゲン、nおよびmはそれぞれOS
n≦3.0<m<3の数である。)で表されるものがあ
る。具体的には、(イ)トリメチルアルミニウム、トリ
エチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ト
リへキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、
トリデシルアルミニウム、などのトリアルキルアルミニ
ウム、(ロ)ジエチルアルミニウムモノクロライド、ジ
イソブチルアルミニウムモノクロライド、エチルアルミ
ニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロラ
イドなどのアルキルアルミニウムハライド、(ハ)ジエ
チルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニ
ウムハイドライドなどのアルキルアルミニウムハイドラ
イド、(ニ)ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチ
ルアルミニウムフェノキシドなどのアルミニウムアルコ
キシド、などがあげられる。
同一または異ってもよい炭素数1〜20程度の炭化水素
残基または水素原子、R8は炭素数1〜20程度の炭化
水素残基、Xはハロゲン、nおよびmはそれぞれOS
n≦3.0<m<3の数である。)で表されるものがあ
る。具体的には、(イ)トリメチルアルミニウム、トリ
エチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ト
リへキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、
トリデシルアルミニウム、などのトリアルキルアルミニ
ウム、(ロ)ジエチルアルミニウムモノクロライド、ジ
イソブチルアルミニウムモノクロライド、エチルアルミ
ニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロラ
イドなどのアルキルアルミニウムハライド、(ハ)ジエ
チルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニ
ウムハイドライドなどのアルキルアルミニウムハイドラ
イド、(ニ)ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチ
ルアルミニウムフェノキシドなどのアルミニウムアルコ
キシド、などがあげられる。
これら(イ)〜(ニ)の有機アルミニウム化合物に他の
有機金属化合物、たとえば (ここで、1≦a≦3 RおよびR10は、同−または
異なってもよい炭素数1〜20程度の炭化水素残基であ
る)で表わされるアルキルアルミニウムアルコキシドを
併用することもできる。たとえば、トリエチルアルミニ
ウムとジエチルアルミニウムエトキシドの併用、ジエチ
ルアルミニウムモノグロライドとジエチルアルミニウム
エトキシドの併用、エチルアルミニウムジクロライドと
エチルアルミニウムジェトキシドの併用、トリエチルア
ルミニウムとジエチルアルミニウムエトキシドとジエチ
ルアルミニウムクロライドの併用があげられる。
有機金属化合物、たとえば (ここで、1≦a≦3 RおよびR10は、同−または
異なってもよい炭素数1〜20程度の炭化水素残基であ
る)で表わされるアルキルアルミニウムアルコキシドを
併用することもできる。たとえば、トリエチルアルミニ
ウムとジエチルアルミニウムエトキシドの併用、ジエチ
ルアルミニウムモノグロライドとジエチルアルミニウム
エトキシドの併用、エチルアルミニウムジクロライドと
エチルアルミニウムジェトキシドの併用、トリエチルア
ルミニウムとジエチルアルミニウムエトキシドとジエチ
ルアルミニウムクロライドの併用があげられる。
成分(B)の使用量は、重量比で成分(B)/成分(A
)比が0.1〜1000、好ましくは1〜100、の範
囲である。
)比が0.1〜1000、好ましくは1〜100、の範
囲である。
第三成分く任意成分)
本発明で使用する触媒は、成分(A)および(B)の組
合せからなるものである。ここで、「組合せからなる」
ということは、半水の成分(すなわちAおよびB)の外
に合目的的な第三成分の共存を排除しないということを
示すことであることは前記した通りである。
合せからなるものである。ここで、「組合せからなる」
ということは、半水の成分(すなわちAおよびB)の外
に合目的的な第三成分の共存を排除しないということを
示すことであることは前記した通りである。
そのような合目的的な第三成分の代表例としては、ホウ
素アルコキシド化合物を挙げることができる。そのよう
なホウ素化合物の具体例としては、B(OCH) B
(OC2H5)3.33ゝ B(OCH) B(O1C3H7)3.3 7 3ゝ B(O−nCH) B(OC6H13)3.4 9
3ゝ B(QCH) B(QCH(CH3ン )6
5 3ゝ 6 4 B(QCH)CI、B(OCH3)2C115 (CH)B(OC2H5)2、 5 B (CH)(OCH3) 2、 5 B(OC4H9)C12など、があげられる。このホウ
素化合物の使用量は、成分(A)を構成するチタン成分
に対するモル比で0.1〜40の範囲内がよい。これら
のホウ素アルコキシド化合物は、重合時に添加すること
ができる。
素アルコキシド化合物を挙げることができる。そのよう
なホウ素化合物の具体例としては、B(OCH) B
(OC2H5)3.33ゝ B(OCH) B(O1C3H7)3.3 7 3ゝ B(O−nCH) B(OC6H13)3.4 9
3ゝ B(QCH) B(QCH(CH3ン )6
5 3ゝ 6 4 B(QCH)CI、B(OCH3)2C115 (CH)B(OC2H5)2、 5 B (CH)(OCH3) 2、 5 B(OC4H9)C12など、があげられる。このホウ
素化合物の使用量は、成分(A)を構成するチタン成分
に対するモル比で0.1〜40の範囲内がよい。これら
のホウ素アルコキシド化合物は、重合時に添加すること
ができる。
〔■〕重合工程
前記触媒成分の存在下に行なう本発明の重合工程は、少
な(とも工程(1)および工程(2)の二段階よりなる
。工程(1)および工程(2)はいずれを先に実施して
もよいが、この順序((1)→(2))で実施すること
が工業的に有利である。両工程は、実質的に溶媒の不存
在下に実施する。いずれにしても、両工程は、ブロック
共重合体製造の常法に従って、その前段工程の産物の少
なくとも一部の3ゝ 存在下に後段工程を実施する。
な(とも工程(1)および工程(2)の二段階よりなる
。工程(1)および工程(2)はいずれを先に実施して
もよいが、この順序((1)→(2))で実施すること
が工業的に有利である。両工程は、実質的に溶媒の不存
在下に実施する。いずれにしても、両工程は、ブロック
共重合体製造の常法に従って、その前段工程の産物の少
なくとも一部の3ゝ 存在下に後段工程を実施する。
触媒の形成
前記触媒成分(A)および(B)を、−時にあるいは段
階的に、重合系内であるいは重合系外で接触させること
によって、本発明での触媒が形成される。触媒は各工程
で追加してもよく、特に後段工程は成分CB)を追加し
て実施することができる。
階的に、重合系内であるいは重合系外で接触させること
によって、本発明での触媒が形成される。触媒は各工程
で追加してもよく、特に後段工程は成分CB)を追加し
て実施することができる。
重合工程(1)
重合工程(1)は、プロピレン単独あるいはプロピレン
/エチレン混合物を前記触媒成分(A)、(B)を有す
る重合系に供給して、−段あるいは多段に重合させて、
プロピレン単独重合体またはエチレン含量7重量%以下
、好ましくは0.5重量%以下、のプロピレン・エチレ
ン共重合体を、全重合量の10〜90重量%、好ましく
は20〜80重二%、重量当する量形成させる工程であ
る。
/エチレン混合物を前記触媒成分(A)、(B)を有す
る重合系に供給して、−段あるいは多段に重合させて、
プロピレン単独重合体またはエチレン含量7重量%以下
、好ましくは0.5重量%以下、のプロピレン・エチレ
ン共重合体を、全重合量の10〜90重量%、好ましく
は20〜80重二%、重量当する量形成させる工程であ
る。
重合工程(1)でプロピレン・エチレン共重合体中のエ
チレン含量が7重量%を越えると、最終共重合体の嵩密
度が低下し、低結晶性重合体ρ副生量が大幅に増大する
。また、重合割合が上記範囲の下限未満では、やはり低
結晶性重合体の副生量が増加する。
チレン含量が7重量%を越えると、最終共重合体の嵩密
度が低下し、低結晶性重合体ρ副生量が大幅に増大する
。また、重合割合が上記範囲の下限未満では、やはり低
結晶性重合体の副生量が増加する。
重合工程(1)での重合温度は30〜95°C1好まし
くは50〜85℃、程度であり、重合圧力は通常1〜5
0kg/cシGの範囲である。重合工程(1)において
は、水素などの分子量調節剤を用いてMFRを制御して
、最終共重合体の溶融時流動性を高めておくのが好まし
い。
くは50〜85℃、程度であり、重合圧力は通常1〜5
0kg/cシGの範囲である。重合工程(1)において
は、水素などの分子量調節剤を用いてMFRを制御して
、最終共重合体の溶融時流動性を高めておくのが好まし
い。
重合工程(2)
重合工程(2)は、プロピレン/エチレン混合物を一段
あるいは多段に重合させて、プロピレン/エチレンの重
合比(重量比)が90/10〜10/90、好ましくは
70/30〜30/70、の割合であるプロピレンのゴ
ム状共重合体を含むプロピlノン・エチレン共重合体を
得る工程(ただし、この工程での重合量は、全重合量の
90〜10重皿%、好ましくは80〜20重量%、に相
当する量である)である。
あるいは多段に重合させて、プロピレン/エチレンの重
合比(重量比)が90/10〜10/90、好ましくは
70/30〜30/70、の割合であるプロピレンのゴ
ム状共重合体を含むプロピlノン・エチレン共重合体を
得る工程(ただし、この工程での重合量は、全重合量の
90〜10重皿%、好ましくは80〜20重量%、に相
当する量である)である。
重合工程(2)では、他のコモノマーを共存させても良
い。例えば、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン
、4−メチル−ペンテン−1等のα−オレフィンを用い
ることができる。
い。例えば、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン
、4−メチル−ペンテン−1等のα−オレフィンを用い
ることができる。
重合工程(2)の重合温度は、30〜90℃、好ましく
は50〜80℃、程度である。重合圧力は、1〜50k
g/cdGの範囲が通常用いられる。
は50〜80℃、程度である。重合圧力は、1〜50k
g/cdGの範囲が通常用いられる。
重合工程(1)から重合工程(2)に移る際に、プロピ
レンガスまたはプロピレン/エチレン混合ガスと水素ガ
スをパージして次の工程に移ることが好ましい。
レンガスまたはプロピレン/エチレン混合ガスと水素ガ
スをパージして次の工程に移ることが好ましい。
重合工程(2)で分子量調節剤は、目的に応じて用いて
も用いなくても良い。
も用いなくても良い。
重合様式
本発明による共重合体の製造法は、回分式、連続式、半
回分式のいずれの方法によっても実施可能である。この
とき使用する単量体自身を媒質として重合を行なう方法
、媒質を使用せずにガス状の単量体中で重合を行なう方
法、さらにはこれらを組み合わせて重合を行なう方法な
どがある。
回分式のいずれの方法によっても実施可能である。この
とき使用する単量体自身を媒質として重合を行なう方法
、媒質を使用せずにガス状の単量体中で重合を行なう方
法、さらにはこれらを組み合わせて重合を行なう方法な
どがある。
好ましい重合様式は、媒質を使わずにガス状の単量体中
で重合を行なう方法、たとえば生成ポリマー粒子をモノ
マー気流で流動させて流動床を形成させる方式あるいは
生成ポリマー粒子を攪拌機により反応槽において攪拌す
る方式、である。
で重合を行なう方法、たとえば生成ポリマー粒子をモノ
マー気流で流動させて流動床を形成させる方式あるいは
生成ポリマー粒子を攪拌機により反応槽において攪拌す
る方式、である。
(III)生成プロピレンブロック共重合体本発明に従
って実質的に溶媒の不存在下に重合を行なって製造すべ
きプロピレン共重合体は、プロピレンのゴム状共重合体
の含量が10〜70重量%、好ましくは20〜70重量
%、特に好ましくは35〜60重量%、のちのである。
って実質的に溶媒の不存在下に重合を行なって製造すべ
きプロピレン共重合体は、プロピレンのゴム状共重合体
の含量が10〜70重量%、好ましくは20〜70重量
%、特に好ましくは35〜60重量%、のちのである。
ここで「プロピレンのゴム状重合体」とは、20℃での
キシレン可溶分のことである。
キシレン可溶分のことである。
本発明はプロピレンブロック共重合体の製造法である。
しかし、ここでいう「ブロック共重合体」は、必ずしも
理想的な姿のもの、すなわち工程(])で生成したブロ
ックと工程(2)で生成したブロックとが一つの分子鎖
上に存在するもの、のみを意味するものではなく、慣用
されているところに従って各工程で生成したポリマーの
物理的混合物およびこれと上記の理想的なブロック共重
合体との間の各種の形態のポリマーを包含するものであ
る。
理想的な姿のもの、すなわち工程(])で生成したブロ
ックと工程(2)で生成したブロックとが一つの分子鎖
上に存在するもの、のみを意味するものではなく、慣用
されているところに従って各工程で生成したポリマーの
物理的混合物およびこれと上記の理想的なブロック共重
合体との間の各種の形態のポリマーを包含するものであ
る。
[IV)実験例
実施例1
〔成分(A)の製造〕
充分に窒素置換したフラスコに脱水および脱酸素したロ
ーへブタン300ミリリツトルを導入し、次いでMgC
l2を0.2モル、 T i(On C4H9) 4を0.4モル導入し、9
5℃で2時間反応させた。反応終了後、40℃に温度を
下げ、次いでメチルヒドロポリシロキサン(20センチ
ストークスのもの)を30ミリリツトル導入し、3時間
反応させた。生成した固体成分をn−へブタンで洗浄し
た。
ーへブタン300ミリリツトルを導入し、次いでMgC
l2を0.2モル、 T i(On C4H9) 4を0.4モル導入し、9
5℃で2時間反応させた。反応終了後、40℃に温度を
下げ、次いでメチルヒドロポリシロキサン(20センチ
ストークスのもの)を30ミリリツトル導入し、3時間
反応させた。生成した固体成分をn−へブタンで洗浄し
た。
ついで、充分に窒素置換したフラスコに上記と同様に精
製したn−へブタンを100ミリリツトル導入し、上記
で合成した固体成分をtwig原子換算で0,1モル導
入した。ついでn−へブタン25ミリリツトルにS i
Cl 40.15モルを混合して30℃、30分間でフ
ラスコへ導入し、90℃で3時間反応させた。反応終了
後、n−へブタンで洗浄した。
製したn−へブタンを100ミリリツトル導入し、上記
で合成した固体成分をtwig原子換算で0,1モル導
入した。ついでn−へブタン25ミリリツトルにS i
Cl 40.15モルを混合して30℃、30分間でフ
ラスコへ導入し、90℃で3時間反応させた。反応終了
後、n−へブタンで洗浄した。
ついで、n−へブタン25ミリリツトルにフタル酸クロ
ライド、0.09モルを混合して、90℃、30分間で
フラスコ導入し、95℃で1時間反応させた。反応終了
後、n−へブタンで洗浄した。次いで、5iC1415
ミリリツトルおよびヘプタン80ミリリツトルを導入し
て、90℃で4時間反応させた。反応終了後、ローへブ
タンで充分に洗浄した。生成固体中のチタン含量は、1
.68重量パーセントであった。次いで内容積370m
1のステンレス鋼製ポットに15mmφのナイロン製ボ
ールを見掛は体積で35%充填し、上記で得た固体成分
を窒素ガス雰囲気下で導入し、回転ボールミルで8時間
粉砕した。粉砕終了後、ドライボックス内で粉砕物を取
り出し、成分(i)とした。
ライド、0.09モルを混合して、90℃、30分間で
フラスコ導入し、95℃で1時間反応させた。反応終了
後、n−へブタンで洗浄した。次いで、5iC1415
ミリリツトルおよびヘプタン80ミリリツトルを導入し
て、90℃で4時間反応させた。反応終了後、ローへブ
タンで充分に洗浄した。生成固体中のチタン含量は、1
.68重量パーセントであった。次いで内容積370m
1のステンレス鋼製ポットに15mmφのナイロン製ボ
ールを見掛は体積で35%充填し、上記で得た固体成分
を窒素ガス雰囲気下で導入し、回転ボールミルで8時間
粉砕した。粉砕終了後、ドライボックス内で粉砕物を取
り出し、成分(i)とした。
充分に窒素置換したフラスコに充分に精製したn−へプ
ランを50ミリリツトル導入し、次いで上記で得た成分
(+)を5グラム導入し、次いで成分(II)のケイ素
化合物として (CH) C3i(CH)(OCH3)2を3 3
3 1.2ミリリツトル導入し、次いで成分(ill)のト
リエチルアルミニウム3.0グラムを導入し、30℃で
2時間接触終了後、n−へブタンで充分に洗浄し、成分
(A)とした。
ランを50ミリリツトル導入し、次いで上記で得た成分
(+)を5グラム導入し、次いで成分(II)のケイ素
化合物として (CH) C3i(CH)(OCH3)2を3 3
3 1.2ミリリツトル導入し、次いで成分(ill)のト
リエチルアルミニウム3.0グラムを導入し、30℃で
2時間接触終了後、n−へブタンで充分に洗浄し、成分
(A)とした。
特公昭61−33721号公報に開示されている方法で
、内容積13リツトルの横型二軸気相重合槽を使用して
プロピレンの共重合を行なった。
、内容積13リツトルの横型二軸気相重合槽を使用して
プロピレンの共重合を行なった。
重合槽内を充分に精製した窒素で置換したあと、充分に
脱水および脱酸素したポリマー担体を400グラム添加
した。次いで成分(B)のトリエチルアルミニウム50
0ミリグラムおよび前記で合成した成分(A)を80ミ
リグラム導入した。
脱水および脱酸素したポリマー担体を400グラム添加
した。次いで成分(B)のトリエチルアルミニウム50
0ミリグラムおよび前記で合成した成分(A)を80ミ
リグラム導入した。
第一段目の重合工程(1)では、水素を1000ミリリ
ツトル導入した後、温度を75℃にして、プロピレンを
1.3グラム/分の定速で導入した。
ツトル導入した後、温度を75℃にして、プロピレンを
1.3グラム/分の定速で導入した。
なお、重合槽の攪拌回転数は、350 r、p、mであ
った。重合温度を75℃に維持し、3時間10分後、プ
ロピレンの導入を停止した。
った。重合温度を75℃に維持し、3時間10分後、プ
ロピレンの導入を停止した。
75℃で重合を継続し、重合圧力が1kg/cdGにな
った時点で重合サンプルを一部採取した。
った時点で重合サンプルを一部採取した。
その後、H2を500ミリリツトル添加して、重合工程
(2)を開始した。第二段重合は、プロピレンを0.5
9グラム/分、エチレンを0.40g/分のそれぞれ定
速で、70℃で2時間15分導入した。プロピレンおよ
びエチレンの導入を停止して、重合圧力が1kg/cd
Gになるまで残圧重合した。重合終了後、パージをして
ポリマーを取り出した。381グラムの重合体が得られ
た。生成ポリマーのMFRは7.1g/10分であり、
ポリマー嵩密度(B、D、 )は0.42 (g/cc
)であり、ポリマー落下速度は5.4秒であった。
(2)を開始した。第二段重合は、プロピレンを0.5
9グラム/分、エチレンを0.40g/分のそれぞれ定
速で、70℃で2時間15分導入した。プロピレンおよ
びエチレンの導入を停止して、重合圧力が1kg/cd
Gになるまで残圧重合した。重合終了後、パージをして
ポリマーを取り出した。381グラムの重合体が得られ
た。生成ポリマーのMFRは7.1g/10分であり、
ポリマー嵩密度(B、D、 )は0.42 (g/cc
)であり、ポリマー落下速度は5.4秒であった。
ゴム状共重合体の重量は、34.5重量パーセントであ
った。
った。
また、重合槽はポリマー付着が全くなく、中間サンプル
のVFRは17.1g/10分であった。
のVFRは17.1g/10分であった。
なお、ポリマー落下速度は、50グラムのポリマーが落
下するのに要する時間を意味する。
下するのに要する時間を意味する。
実施例2
〔成分(A)の製造〕
実施例1と全く同様にMgCl2とTi(O−nC4H
9)4およびメチルヒドロポリシロキサンの反応を行な
い、生成した固体成分をn−へブタンで洗浄した。
9)4およびメチルヒドロポリシロキサンの反応を行な
い、生成した固体成分をn−へブタンで洗浄した。
ついで、充分に窒素置換したフラスコに上記と同様に精
製したn−へブタンを50ミリリツトル導入し、上記で
合成した固体成分をMg原子換算で0.1モル導入した
。次いでn−へブタン50ミリリツトルに5IC143
9ミリリツトルを混合して30℃、30分間でフラスコ
へ導入し、90℃で1時間反応させた。反応終了後、ロ
ーへブタンで洗浄し、固体成分を得た。次いで、実施例
1と同様に前記固体成分を回転ボールミルに導入し、粉
砕時間を4時間に変更した以外は、全く同様に粉砕し、
成分(1)とした。
製したn−へブタンを50ミリリツトル導入し、上記で
合成した固体成分をMg原子換算で0.1モル導入した
。次いでn−へブタン50ミリリツトルに5IC143
9ミリリツトルを混合して30℃、30分間でフラスコ
へ導入し、90℃で1時間反応させた。反応終了後、ロ
ーへブタンで洗浄し、固体成分を得た。次いで、実施例
1と同様に前記固体成分を回転ボールミルに導入し、粉
砕時間を4時間に変更した以外は、全く同様に粉砕し、
成分(1)とした。
充分に窒素置換したフラスコに充分に精製したn−へブ
タンを50ミリリツトル導入し、次いで上記で得た固体
成分を5グラム導入し、次いで成分(it)のケイ素化
合物として (CH) C31(CH)(OCH3)2を33
3 2.4ミリリツトル導入し、次いで任意成分のS iC
14を5.8ミリリツトル、更に成分(III)のトリ
エチルアルミニウム6.0グラムをそれぞれ導入し、2
0℃で2時間接触させた。接触終了後、n−へブタンで
充分に洗浄し、成分(A)とした。
タンを50ミリリツトル導入し、次いで上記で得た固体
成分を5グラム導入し、次いで成分(it)のケイ素化
合物として (CH) C31(CH)(OCH3)2を33
3 2.4ミリリツトル導入し、次いで任意成分のS iC
14を5.8ミリリツトル、更に成分(III)のトリ
エチルアルミニウム6.0グラムをそれぞれ導入し、2
0℃で2時間接触させた。接触終了後、n−へブタンで
充分に洗浄し、成分(A)とした。
実施例1の重合条件において、重合工程(1)の重合時
間を2時間56分とし、重合工程(2)の重合時間を2
時間33分に変更した以外は、全く同様に重合を行なっ
た。384グラムのポリマーが得られ、MHR−6,3
g/10分、ポリマーB、 D、 −0,41(g/
cc)であり、ポリマー落下速度−6,6秒であった。
間を2時間56分とし、重合工程(2)の重合時間を2
時間33分に変更した以外は、全く同様に重合を行なっ
た。384グラムのポリマーが得られ、MHR−6,3
g/10分、ポリマーB、 D、 −0,41(g/
cc)であり、ポリマー落下速度−6,6秒であった。
ゴム状共重合体の重量は、39.6重量%であった。
実施例3
〔成分(A)の製造〕
実施例1と全く同様に成分(i)の製造を行ない、成分
(+)〜(Ill)の接触も全く同様に行なった。次い
で1.5−へキサジエン2.5ミリリツトルを添加して
、30℃で2時間反応させた。反応終了後、n−へブタ
ンで洗浄して、触媒成分(A)とした。
(+)〜(Ill)の接触も全く同様に行なった。次い
で1.5−へキサジエン2.5ミリリツトルを添加して
、30℃で2時間反応させた。反応終了後、n−へブタ
ンで洗浄して、触媒成分(A)とした。
実施例1の重合条件において、重合工程(1)の重合時
間を2時間14分、重合工程(2)の重合を3時間28
分に変更し、重合工程(2)の重合開始時にB(OCH
3)3を77ミリグラム添加した以外は、全く同様に重
合を行なった。
間を2時間14分、重合工程(2)の重合を3時間28
分に変更し、重合工程(2)の重合開始時にB(OCH
3)3を77ミリグラム添加した以外は、全く同様に重
合を行なった。
381グラムのポリマーが得られ、MFR−7,3に/
10分、ポリマーB、 D、 −0,40(g / c
c)であり、ポリマー落下速度−6,8秒であった。ゴ
ム状共重合体の重量は、5562重量%であった。
10分、ポリマーB、 D、 −0,40(g / c
c)であり、ポリマー落下速度−6,8秒であった。ゴ
ム状共重合体の重量は、5562重量%であった。
実施例4
〔成分(A)の製造〕
実施例2と同様に成分(1)の製造を行ない、成分(1
)〜(lil)の接触時、ジビニルベンゼン4.6ミリ
リツトルを添加した以外は、全く同様に接触を行ない、
反応終了後、n−へブタンで洗浄して、触媒成分(A)
とした。
)〜(lil)の接触時、ジビニルベンゼン4.6ミリ
リツトルを添加した以外は、全く同様に接触を行ない、
反応終了後、n−へブタンで洗浄して、触媒成分(A)
とした。
実施例1の重合条件において、重合工程(1)の重合時
間を1時間58分、重合工程(2)の重合時間を3時間
49分に変更し、重合工程(2)の重合開始時にB(O
C2H5)3を55ミリグラム添加した以外は、全く同
様に重合を行なった。
間を1時間58分、重合工程(2)の重合時間を3時間
49分に変更し、重合工程(2)の重合開始時にB(O
C2H5)3を55ミリグラム添加した以外は、全く同
様に重合を行なった。
381グラムのポリマーが得られ、MFR−6,3g/
10分、ポリマーB、 D、 −0,39(g/cc)
、ポリマー落下速度−6,9秒であった。ゴム状共重合
体の重量は、57.9重量%であった。
10分、ポリマーB、 D、 −0,39(g/cc)
、ポリマー落下速度−6,9秒であった。ゴム状共重合
体の重量は、57.9重量%であった。
比較例1
〔成分(A)の製造〕
実施例1の成分(A)の製造において、成分(1)をボ
ールミルで粉砕し、なかった以外は、全く同様に行なっ
た。
ールミルで粉砕し、なかった以外は、全く同様に行なっ
た。
実施例−1と全く同様の条件で重合を行なった。
377グラムの重合体が得られ、MFR−7,8g/1
0分、ポリマーB、 D、 −0,30(g/cc)、
ポリマー落下速度−測定不可(流れず)、ゴム状共重合
体の重量は、34,3重量パーセントであった。
0分、ポリマーB、 D、 −0,30(g/cc)、
ポリマー落下速度−測定不可(流れず)、ゴム状共重合
体の重量は、34,3重量パーセントであった。
第1図は、チーグラー触媒に関する本願発明の技術内容
の理解を助けるためのものである。
の理解を助けるためのものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記の触媒成分(A)および(B)の組合せからなる
触媒を使用して、実質的に溶媒の不存在下の条件で、下
記の重合工程(1)および(2)を実施して、プロピレ
ンのゴム状共重合体(20℃キシレン可溶分)の重量が
10〜70重量パーセントであるプロピレンブロック共
重合体を得ることを特徴とする、プロピレンブロック共
重合体の製造法。 ¥触媒¥ ¥成分(A)¥ 下記の成分(i)、(ii)および(iii)の接触生
成物。 ¥成分(i)¥:チタン、マグネシウムおよびハロゲン
を必須成分として含有するチーグラー型触媒用固体成分
であって、少なくとも一度は機械的粉砕処理に付した成
分、 ¥成分(ii)¥: 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、R^1は分岐鎖状炭化水素残基を、R^2は
R^1と同一かもしくは異なる炭化水素残基を、R^3
は炭化水素残基を、nは1≦n≦3の数をそれぞれ示す
)で表わされるケイ素化合物、¥成分(iii)¥: 周期律表第 I 〜III族金属の有機金属化合物、¥成分(
B)¥ 有機アルミニウム化合物。 ¥重合工程¥ (1)プロピレンまたはプロピレン/エチレン混合物を
一段あるいは多段に重合させて、プロピレン単独重合体
またはエチレン含量7重量%以下のプロピレン・チレン
共重合体を形成させる工程(ただし、この工程での重合
量は、全重合量の10〜90重量%に相当する量である
)。 (2)プロピレン/エチレン混合物を一段あるいは多段
に重合させて、プロピレン/エチレンの重合比(重量比
)が90/10〜10/90の割合であるプロピレン・
エチレン共重合体を得る工程(ただし、この工程での重
合量は、全重合量の90〜10重量%に相当する量であ
る)。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1272651A JP2834226B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | プロピレンブロック共重合体の製造法 |
| EP90311435A EP0424145B1 (en) | 1989-10-19 | 1990-10-18 | Process for producing propylene block copolymer |
| DE69020297T DE69020297T2 (de) | 1989-10-19 | 1990-10-18 | Verfahren zur Herstellung eines Blockcopolymers. |
| US07/975,985 US5324784A (en) | 1989-10-19 | 1992-11-13 | Process for producing propylene block copolymer |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP1272651A JP2834226B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | プロピレンブロック共重合体の製造法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH03134009A true JPH03134009A (ja) | 1991-06-07 |
| JP2834226B2 JP2834226B2 (ja) | 1998-12-09 |
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|---|---|---|---|
| JP1272651A Expired - Fee Related JP2834226B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | プロピレンブロック共重合体の製造法 |
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| JPS5941316A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-07 | Mitsui Toatsu Chem Inc | プロピレン−エチレンブロツク共重合体及びその製造法 |
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| JPS62138515A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-22 | Mitsui Toatsu Chem Inc | プロピレンのブロツク共重合体の製造方法 |
| EP0254234B1 (en) * | 1986-07-22 | 1996-03-13 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for producing an alpha-olefin block copolymer |
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- 1989-10-19 JP JP1272651A patent/JP2834226B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-10-18 EP EP90311435A patent/EP0424145B1/en not_active Expired - Lifetime
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-
1992
- 1992-11-13 US US07/975,985 patent/US5324784A/en not_active Expired - Fee Related
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| EP0424145B1 (en) | 1995-06-21 |
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