JPH03165502A - 焼結体バリスタ素子の製造方法 - Google Patents
焼結体バリスタ素子の製造方法Info
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- JPH03165502A JPH03165502A JP1306287A JP30628789A JPH03165502A JP H03165502 A JPH03165502 A JP H03165502A JP 1306287 A JP1306287 A JP 1306287A JP 30628789 A JP30628789 A JP 30628789A JP H03165502 A JPH03165502 A JP H03165502A
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- Japan
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- sintered
- powder
- single crystal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、例えば2端子素子型の液晶表示装置(LCD
)の非線形素子として用いて好適な焼結体バリスタ素子
の製造方法に間する。
)の非線形素子として用いて好適な焼結体バリスタ素子
の製造方法に間する。
[従来の技術]
現在、例えば液晶テレビの画像表示装置には大別して単
純マトリックス方式とアクティブマトリックス方式とが
ある。
純マトリックス方式とアクティブマトリックス方式とが
ある。
単純マトリックス方式は直角を成して設けられた2組の
帯状電極群(行電極群と列電極群)の間に複数の液晶画
素を行列状に配して接続したものであり、これら帯状電
極間に駆動回路によって所定の電圧を印加して液晶画素
を作動させる。この方式は、構造が簡単なため低価格で
システムを実現できるという利点があるが、各液晶画素
でのクロストークが生じるため画像のコントラストが低
く、液晶テレビの画像表示を行う際、画質の低下は避け
られないものであった。
帯状電極群(行電極群と列電極群)の間に複数の液晶画
素を行列状に配して接続したものであり、これら帯状電
極間に駆動回路によって所定の電圧を印加して液晶画素
を作動させる。この方式は、構造が簡単なため低価格で
システムを実現できるという利点があるが、各液晶画素
でのクロストークが生じるため画像のコントラストが低
く、液晶テレビの画像表示を行う際、画質の低下は避け
られないものであった。
これに対し、アクティブマド、リックス方式は各液晶画
素毎にスイッチを設けて電圧を保持するものであり、液
晶表示装置を時分割駆動しても液晶画素が選択時の電圧
を維持することができるため、表示容量の増大が可能で
、コントラスト等の画質に間する特性が良く、液晶テレ
ビの高画質画像表示を実現できるものである。しかしな
がら、アクティブマトリックス方式にあっては構造が複
雑どなって製造コストが高くなってしまうという欠点が
あった。例えば、スイッチとしてフィルム状の電界効果
トランジスタを用いるTPT型では、その製造工程にお
いて5枚以上のフォトマスクを用いて5層以上の薄膜を
重ねるため、製品歩留りを上げることが困難である。
素毎にスイッチを設けて電圧を保持するものであり、液
晶表示装置を時分割駆動しても液晶画素が選択時の電圧
を維持することができるため、表示容量の増大が可能で
、コントラスト等の画質に間する特性が良く、液晶テレ
ビの高画質画像表示を実現できるものである。しかしな
がら、アクティブマトリックス方式にあっては構造が複
雑どなって製造コストが高くなってしまうという欠点が
あった。例えば、スイッチとしてフィルム状の電界効果
トランジスタを用いるTPT型では、その製造工程にお
いて5枚以上のフォトマスクを用いて5層以上の薄膜を
重ねるため、製品歩留りを上げることが困難である。
上記のような事情から、コントラスト等の画質に間する
特性が良く且つ構造簡単にして低コストな方式の液晶表
示装置の実現が望まれており、このような要求を実現す
る方式として焼結体バリスタ素子を用いた2端子素子型
液晶表示装置が注目されている。
特性が良く且つ構造簡単にして低コストな方式の液晶表
示装置の実現が望まれており、このような要求を実現す
る方式として焼結体バリスタ素子を用いた2端子素子型
液晶表示装置が注目されている。
2端子素子型の液晶表示装置−は単純マトリックス方式
に改良を加えて、第7図に示すように打電f51と列電
極2との間に液晶画素4と所定のしきい値電圧で導通す
る焼結体バリスタ索子3とを電気的に直列に配して接続
したものであり、第8図に示すような焼結体バリスタ素
子3の非線形な電流−電圧特性を利用したものである。
に改良を加えて、第7図に示すように打電f51と列電
極2との間に液晶画素4と所定のしきい値電圧で導通す
る焼結体バリスタ索子3とを電気的に直列に配して接続
したものであり、第8図に示すような焼結体バリスタ素
子3の非線形な電流−電圧特性を利用したものである。
すなわち、単純マトリックス方式における時分割駆動で
は、第9図に示すように液晶画素がオン(光透過率が9
0%)する電圧V90とオフ(光透過率が10%)する
電圧VIOとの比γ(= V90/ V lo= (V
10+ΔV )/ V 10)から、各液晶画素間の
クロストークを生ずることなく許容される最大の走査線
数N maxは、Nmax= ((r2+1)/r2−
1)) 2であり、γの値が小さい方が走査線数が大き
くなって液晶テレビ表示に有利である。これに対し、2
端子素子型では、焼結体バリスタ素子4によりそのしき
い値電圧■vを超えた分の電圧が液晶画素3に印加され
るようにして、焼結体バリスタ素子を設けない場合の液
晶画素の動作電圧(第10図(a)参照)を焼結体バリ
スタ素子を設けるこ−とによってそのしきい値電圧Vv
だけ高くしている(第10図(b)参照)。この結果、
前記γの値はV90/VIOから(VV+ v90)/
(VV+V10)に改善され、γ値の低下によって最大
走査線数N maxの増加が図られ、良質な液晶表示を
実現することができる。
は、第9図に示すように液晶画素がオン(光透過率が9
0%)する電圧V90とオフ(光透過率が10%)する
電圧VIOとの比γ(= V90/ V lo= (V
10+ΔV )/ V 10)から、各液晶画素間の
クロストークを生ずることなく許容される最大の走査線
数N maxは、Nmax= ((r2+1)/r2−
1)) 2であり、γの値が小さい方が走査線数が大き
くなって液晶テレビ表示に有利である。これに対し、2
端子素子型では、焼結体バリスタ素子4によりそのしき
い値電圧■vを超えた分の電圧が液晶画素3に印加され
るようにして、焼結体バリスタ素子を設けない場合の液
晶画素の動作電圧(第10図(a)参照)を焼結体バリ
スタ素子を設けるこ−とによってそのしきい値電圧Vv
だけ高くしている(第10図(b)参照)。この結果、
前記γの値はV90/VIOから(VV+ v90)/
(VV+V10)に改善され、γ値の低下によって最大
走査線数N maxの増加が図られ、良質な液晶表示を
実現することができる。
第2図〜第6図には一般的なの2端子素子型の液晶表示
装置を示す。
装置を示す。
第2図に示すように、行電極11それぞれに対して多数
の画素電極12が一定の間隔dをもって設けられ、行電
極11と画素電極12とは各焼結体バリスタ素子13で
一定のしきい値電圧■■をもって接続されている。
の画素電極12が一定の間隔dをもって設けられ、行電
極11と画素電極12とは各焼結体バリスタ素子13で
一定のしきい値電圧■■をもって接続されている。
液晶画素の1つについてみると、第3図及び第4図に示
すように、下側ガラス基板10上に行電極11と画素電
極12とを所定の間隔dを隔てて設け、これら行電極1
1と画素電極12とを酸化亜鉛(ZnO)から成る焼結
体バリスタ素子13て接続しである。そして、これらの
上部を液晶14て満たし、更に、列電極15、カラーフ
ィルタ16、上側ガラス基板17を設けである。
すように、下側ガラス基板10上に行電極11と画素電
極12とを所定の間隔dを隔てて設け、これら行電極1
1と画素電極12とを酸化亜鉛(ZnO)から成る焼結
体バリスタ素子13て接続しである。そして、これらの
上部を液晶14て満たし、更に、列電極15、カラーフ
ィルタ16、上側ガラス基板17を設けである。
焼結体バリスタ素子13は、第6図に詳示するように、
所定粒径のZnO粒子】31の表面をMn、Co酸化物
絶縁膜132で被覆したバリスタ粒子13aから成り、
第5図に詳示するように、これらバリスタ粒子13aを
ガラスフリット13bて焼結したものである。このよう
な焼結体バリスタ素子13においては、粒径約5μmの
バリスタ粒子1個当り約3Vのしきい値電圧が得られる
。
所定粒径のZnO粒子】31の表面をMn、Co酸化物
絶縁膜132で被覆したバリスタ粒子13aから成り、
第5図に詳示するように、これらバリスタ粒子13aを
ガラスフリット13bて焼結したものである。このよう
な焼結体バリスタ素子13においては、粒径約5μmの
バリスタ粒子1個当り約3Vのしきい値電圧が得られる
。
従って、行電極11と画素電極12との間隔dを25μ
mに設定すれば、この間隔d内に存在する実質的に直列
5個のバリスタ粒13aを介して行電極11と画素電極
12とが接続され、これら電極11.12間には5個X
3V=15V(Dしきい値電圧が得られる。
mに設定すれば、この間隔d内に存在する実質的に直列
5個のバリスタ粒13aを介して行電極11と画素電極
12とが接続され、これら電極11.12間には5個X
3V=15V(Dしきい値電圧が得られる。
[発明が解決しようとする課題]
特に、画質の良好な2端子素子型液晶表示装置を実現す
るためには、焼結体バリスタ素子13が高性能を有し且
つその性能が素子間で一定している必要がある。このた
めには、−焼結体バリスタ素子13に含まれるバリスタ
粒子13aが5μm〜10μm程度で一定していること
が望まれる。すなわち、液晶表示装置の大画面化に伴っ
て焼結体バリスタ素子の微細化が要求されるためこれを
実現するためにバリスタ粒子も小径化する必要がある一
方、バリスタ粒子があまり小径化すぎると所要のバリス
タ性能が得られず、実用上5μm〜10μm程度の粒径
が最も好適とされている。
るためには、焼結体バリスタ素子13が高性能を有し且
つその性能が素子間で一定している必要がある。このた
めには、−焼結体バリスタ素子13に含まれるバリスタ
粒子13aが5μm〜10μm程度で一定していること
が望まれる。すなわち、液晶表示装置の大画面化に伴っ
て焼結体バリスタ素子の微細化が要求されるためこれを
実現するためにバリスタ粒子も小径化する必要がある一
方、バリスタ粒子があまり小径化すぎると所要のバリス
タ性能が得られず、実用上5μm〜10μm程度の粒径
が最も好適とされている。
従来より焼結体バリスタ素子は、酸化亜鉛の微粉末を加
熱してvE結させて多結晶化した後、当該焼結体を粉砕
1分級して酸化亜鉛単結晶粒子粉末を得、当該酸化亜鉛
単結晶粒子の表面をrvrn、co酸化物絶縁膜等の無
機質絶縁膜で被覆してバリスタ粒子粉末を形成し、当該
バリスタ粒子粉末にガラスフリットと有機バインダを加
えてペースト化し、当該ペーストを絶縁基板上に印刷塗
布した後に焼成して得ていた。
熱してvE結させて多結晶化した後、当該焼結体を粉砕
1分級して酸化亜鉛単結晶粒子粉末を得、当該酸化亜鉛
単結晶粒子の表面をrvrn、co酸化物絶縁膜等の無
機質絶縁膜で被覆してバリスタ粒子粉末を形成し、当該
バリスタ粒子粉末にガラスフリットと有機バインダを加
えてペースト化し、当該ペーストを絶縁基板上に印刷塗
布した後に焼成して得ていた。
しかしながら、従来ては、このような粒径のバリスタ粒
子を収率よく製造することができず、液晶表示装置の低
コスト化や性能向上が困難であるという問題があった。
子を収率よく製造することができず、液晶表示装置の低
コスト化や性能向上が困難であるという問題があった。
本発明は上記従来の事情に鑑みなされたもので、5μm
〜10μm程度で一定したバリスタ粒子を効率よく製造
でき、高性能且つその性能が素子間で一定した焼結体バ
リスタ素子を容易に量産することができる焼結体バリス
タ素子の製造方法を提供することを目的とする。
〜10μm程度で一定したバリスタ粒子を効率よく製造
でき、高性能且つその性能が素子間で一定した焼結体バ
リスタ素子を容易に量産することができる焼結体バリス
タ素子の製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る焼結体バリスタ素子の製造方法は、酸化亜
鉛の微粉末を1150℃〜1250℃で2時間以上加熱
して焼結させた後、当該焼結体を粉砕1分級して粒径5
μm〜10μmの酸化亜鉛単結晶粒子粉末を得、当該酸
化亜鉛単結晶粒子の表面を無機質絶縁膜で被覆してバリ
スタ粒子粉末を形成し、当該バリスタ粒子粉末にガラス
フリットと有機バインダを加えてペースト化し、当該ペ
ーストを絶縁基板上に印刷塗布した後に焼成して焼結体
バリスタ素子を得ることを特徴とする。
鉛の微粉末を1150℃〜1250℃で2時間以上加熱
して焼結させた後、当該焼結体を粉砕1分級して粒径5
μm〜10μmの酸化亜鉛単結晶粒子粉末を得、当該酸
化亜鉛単結晶粒子の表面を無機質絶縁膜で被覆してバリ
スタ粒子粉末を形成し、当該バリスタ粒子粉末にガラス
フリットと有機バインダを加えてペースト化し、当該ペ
ーストを絶縁基板上に印刷塗布した後に焼成して焼結体
バリスタ素子を得ることを特徴とする。
[作用コ
本発明では、酸化亜鉛の微粉末を1150℃〜1250
℃で2時間以上加熱して焼結させた後、当該焼結体を粉
砕9分級して、粒径51tm〜10μmの酸化亜鉛単結
晶粒子粉末を収率よく製造し、これによって、5μm−
10μm程度で一定したバリスタ粒子を効率よく製造し
て、高性能且つその性能が素子間で一定した焼結体バリ
スタ素子の量産を容易化している。
℃で2時間以上加熱して焼結させた後、当該焼結体を粉
砕9分級して、粒径51tm〜10μmの酸化亜鉛単結
晶粒子粉末を収率よく製造し、これによって、5μm−
10μm程度で一定したバリスタ粒子を効率よく製造し
て、高性能且つその性能が素子間で一定した焼結体バリ
スタ素子の量産を容易化している。
[実施例]
本発明に係る焼結体バリスタ素子の製造方法を実施例に
基づいて具体的に説明する。
基づいて具体的に説明する。
第1図は本発明の一実施例に係る製造方法の工程図であ
る。
る。
まず、造粒工程101において原料である市販の酸化亜
鉛(Z n O)の微粉末(粒径0.5μm程度)を造
粒する。
鉛(Z n O)の微粉末(粒径0.5μm程度)を造
粒する。
次いで、焼結工程102において、このZnO微粉末を
1150℃〜1250℃で2時間以上加熱して焼結させ
、平均粒径が7μm〜8μmの単結晶粒を含んだ多結晶
体に結晶化させる。
1150℃〜1250℃で2時間以上加熱して焼結させ
、平均粒径が7μm〜8μmの単結晶粒を含んだ多結晶
体に結晶化させる。
ここで、後述する粉砕2分級て5μm−toμIの単結
晶粒を得て最終的に特性に優れた5μm〜10μmのバ
リスタ粒子を得るためには、焼結工程102て多結晶体
に含まれる単結晶体を平均粒径が7μm〜8μmとする
必要がある。このために、本発明では焼結条件を115
0℃〜1250℃で2時間以上としている。すなわち、
下表に示すように、粒径は焼結時間よりも焼結温度に大
きく依存し、焼結温度が1150℃〜1250℃で焼結
時間が2時間以上であれば、多結晶体に含まれる単結晶
体を平均粒径が7μm〜8μmのものとすることができ
、これを外れる範囲では所望の粒径を得ることが困難で
ある。
晶粒を得て最終的に特性に優れた5μm〜10μmのバ
リスタ粒子を得るためには、焼結工程102て多結晶体
に含まれる単結晶体を平均粒径が7μm〜8μmとする
必要がある。このために、本発明では焼結条件を115
0℃〜1250℃で2時間以上としている。すなわち、
下表に示すように、粒径は焼結時間よりも焼結温度に大
きく依存し、焼結温度が1150℃〜1250℃で焼結
時間が2時間以上であれば、多結晶体に含まれる単結晶
体を平均粒径が7μm〜8μmのものとすることができ
、これを外れる範囲では所望の粒径を得ることが困難で
ある。
(以下、余白)
次いで、粉砕工程I03において、多結晶体を粉砕して
ZnO単結晶粉末とする。
ZnO単結晶粉末とする。
次いで、分級工程104において、ZnO単結晶粒を粒
径が5μm〜10μmの範囲で補数する。
径が5μm〜10μmの範囲で補数する。
次いで、角取り焼成工程105において、約1000℃
で1時間程度加熱して、ZnO単結晶粒に表面部分だけ
を溶融させ、ZnO単結晶粒の角を取って球状化させる
。このように球状化させるのは、製造されたバリスタ粒
子を球状のものとし、最終的に製造された焼結体バリス
タ素子において各バリスタ粒子が最小且つ一定した面積
で接触して所期のバリスタ特性を安定して得るためであ
る。
で1時間程度加熱して、ZnO単結晶粒に表面部分だけ
を溶融させ、ZnO単結晶粒の角を取って球状化させる
。このように球状化させるのは、製造されたバリスタ粒
子を球状のものとし、最終的に製造された焼結体バリス
タ素子において各バリスタ粒子が最小且つ一定した面積
で接触して所期のバリスタ特性を安定して得るためであ
る。
次いて、金属酸化物添加・焼成工程106において、Z
nO単結晶粉体に、Mn酸化物とCo酸化物、あるいは
Nb酸化物とSr酸化物、あるいはM n llj化物
とGe酸化物とCo酸化物等といった金属酸化物の組を
添加し、1200℃程度で約1時間焼成する。これによ
って、第6図に示したように、ZnO単結晶粒子131
0表面を無機質絶縁膜132て被覆したバリスタ粒子1
3aを形成する。尚、焼成によってバリスタ粒子同士が
多少接合してしまうので、粉取り工程107においてこ
れを解してバリスタ粒子粉末とする。
nO単結晶粉体に、Mn酸化物とCo酸化物、あるいは
Nb酸化物とSr酸化物、あるいはM n llj化物
とGe酸化物とCo酸化物等といった金属酸化物の組を
添加し、1200℃程度で約1時間焼成する。これによ
って、第6図に示したように、ZnO単結晶粒子131
0表面を無機質絶縁膜132て被覆したバリスタ粒子1
3aを形成する。尚、焼成によってバリスタ粒子同士が
多少接合してしまうので、粉取り工程107においてこ
れを解してバリスタ粒子粉末とする。
次いて、インキ化工程108において、バリスタ粒子粉
末40重量%〜20M量%に対して、ガラスフリット1
0重量%〜15重量%、有機バインダ10重量%〜20
重量%、溶剤40重量%〜20重量%を加えてペースト
化する。
末40重量%〜20M量%に対して、ガラスフリット1
0重量%〜15重量%、有機バインダ10重量%〜20
重量%、溶剤40重量%〜20重量%を加えてペースト
化する。
次いて、印刷工程109において、ペースト化したバリ
スタ粒子粉末をガラス基板等の絶縁基板上にシルクスク
リーン印刷法等で所要の形状に印刷塗布する。
スタ粒子粉末をガラス基板等の絶縁基板上にシルクスク
リーン印刷法等で所要の形状に印刷塗布する。
次いて、焼成工程110において、480℃程度で約2
0分間焼成して有機バインダ及び溶剤を除去し、第5図
に示したように、互いに接触したバリスタ粒子13aを
ガラスフリット13bて固めた焼結体バリスタ素子13
を得る。
0分間焼成して有機バインダ及び溶剤を除去し、第5図
に示したように、互いに接触したバリスタ粒子13aを
ガラスフリット13bて固めた焼結体バリスタ素子13
を得る。
以下に、液晶表示装置の焼結体バリスタ素子を製造する
ための更に具体的な実施例を示す。
ための更に具体的な実施例を示す。
まず、粒径が1μm以下のZnO微粉末を1200℃で
2時間焼結し、平均粒径8μmの単結晶粒子を含む多結
晶体を形成した。そして、この多結晶体をボールミルで
粉砕して分級し、5μm〜10μmの粒径のZnO単結
晶粒子を収率21%で得た。
2時間焼結し、平均粒径8μmの単結晶粒子を含む多結
晶体を形成した。そして、この多結晶体をボールミルで
粉砕して分級し、5μm〜10μmの粒径のZnO単結
晶粒子を収率21%で得た。
そして、角取りを施した後に、このZnO単結晶粒粉末
にCo202を0.25モル%〜0.5モル%及びM
n CO3を0.25モル%〜0.5モル%の範囲で添
加し、1000℃〜1200℃で焼成してZnO粒子の
表面を無機質絶縁膜で被覆してバリスタ粒子とした。そ
して、このバリスタ粒子の粉末を乳鉢等で軽く解し、ガ
ラスフリットを50重量%、有機バインダとしてエチル
セルロース(粘度50cps)を10重量%、有機溶剤
として少量のカルピトールを加えてインキ化した。そし
て、第4図に示したように酸化インジウム(ITo)か
ら成る行電極11及び画素電極12が予め設けられてい
るガラス基板10上に、このインキを250メツシユの
スクリーン印刷版を用いて所定形状に印刷塗布し、これ
を空気中で480℃で20分加熱して乾燥固化させ、焼
結体バリスタ素子13を得た。
にCo202を0.25モル%〜0.5モル%及びM
n CO3を0.25モル%〜0.5モル%の範囲で添
加し、1000℃〜1200℃で焼成してZnO粒子の
表面を無機質絶縁膜で被覆してバリスタ粒子とした。そ
して、このバリスタ粒子の粉末を乳鉢等で軽く解し、ガ
ラスフリットを50重量%、有機バインダとしてエチル
セルロース(粘度50cps)を10重量%、有機溶剤
として少量のカルピトールを加えてインキ化した。そし
て、第4図に示したように酸化インジウム(ITo)か
ら成る行電極11及び画素電極12が予め設けられてい
るガラス基板10上に、このインキを250メツシユの
スクリーン印刷版を用いて所定形状に印刷塗布し、これ
を空気中で480℃で20分加熱して乾燥固化させ、焼
結体バリスタ素子13を得た。
尚、本発明は液晶表示装置用の焼結体バリスタ素子のみ
ならず、−船釣に用いられる焼結体バリスタ素子の製造
にも勿論適用す−ることかできる。
ならず、−船釣に用いられる焼結体バリスタ素子の製造
にも勿論適用す−ることかできる。
〔効果]
本発明によれば、焼結体バリスタ素子の原料となる酸化
亜鉛の微粉末を1150℃〜1250℃で2時間以上加
熱することにより焼結させて結晶化させるようにしたた
め、当該焼結体の粉砕2分級により粒径5μm〜10μ
mの酸化亜鉛単結晶粒子粉末を収率よく製造することが
でき、これによって、5μm〜10μm程度で一定した
バリスタ粒子を効率よく製造して、高性能且つその性能
が素子間で一定した焼結体バリスタ素子の量産を容易に
実現することができる。従って、むらのない鮮明な画像
表示を達成する大画面の液晶表示装置を実現することが
できる。
亜鉛の微粉末を1150℃〜1250℃で2時間以上加
熱することにより焼結させて結晶化させるようにしたた
め、当該焼結体の粉砕2分級により粒径5μm〜10μ
mの酸化亜鉛単結晶粒子粉末を収率よく製造することが
でき、これによって、5μm〜10μm程度で一定した
バリスタ粒子を効率よく製造して、高性能且つその性能
が素子間で一定した焼結体バリスタ素子の量産を容易に
実現することができる。従って、むらのない鮮明な画像
表示を達成する大画面の液晶表示装置を実現することが
できる。
第1図は本発明の一実施例に係る焼結体バリスタ素子の
製造工程図、第2図は一般的な液晶表示装置の構成図、
第3図は一般的な液晶表示装置の平面図、第4図は第3
図中の■・−■矢視断面図、第5図は第4図中の要部の
拡大図、第6図はバリスタ粒子の断面図、第7図は2端
子素子型液晶表示装置の概略構成図、第8図は焼結体バ
リスタ素子の電圧−電流特性図、第9図は液晶画素の動
作特性図、第10図(a)、 (b)は焼結体バリスタ
素子の作用を説明する液晶画素の動作特性図である。 11は行電極、 12は画素電極、 13は焼結体バリスタ素子、 13aはバリスタ粒子、 14は液晶、 15は列電極、 131はZnO単結晶粒子、 132は無機質絶縁膜である。
製造工程図、第2図は一般的な液晶表示装置の構成図、
第3図は一般的な液晶表示装置の平面図、第4図は第3
図中の■・−■矢視断面図、第5図は第4図中の要部の
拡大図、第6図はバリスタ粒子の断面図、第7図は2端
子素子型液晶表示装置の概略構成図、第8図は焼結体バ
リスタ素子の電圧−電流特性図、第9図は液晶画素の動
作特性図、第10図(a)、 (b)は焼結体バリスタ
素子の作用を説明する液晶画素の動作特性図である。 11は行電極、 12は画素電極、 13は焼結体バリスタ素子、 13aはバリスタ粒子、 14は液晶、 15は列電極、 131はZnO単結晶粒子、 132は無機質絶縁膜である。
Claims (1)
- 酸化亜鉛の微粉末を1150℃〜1250℃で2時間
以上加熱して焼結させた後、当該焼結体を粉砕,分級し
て粒径5μm〜10μmの酸化亜鉛単結晶粒子粉末を得
、当該酸化亜鉛単結晶粒子の表面を無機質絶縁膜で被覆
してバリスタ粒子粉末を形成し、当該バリスタ粒子粉末
にガラスフリットと有機バインダを加えてペースト化し
、当該ペーストを絶縁基板上に印刷塗布した後に焼成し
て焼結体バリスタ素子を得ることを特徴とする焼結体バ
リスタ素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1306287A JPH03165502A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 焼結体バリスタ素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1306287A JPH03165502A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 焼結体バリスタ素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03165502A true JPH03165502A (ja) | 1991-07-17 |
Family
ID=17955278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1306287A Pending JPH03165502A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 焼結体バリスタ素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03165502A (ja) |
-
1989
- 1989-11-24 JP JP1306287A patent/JPH03165502A/ja active Pending
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