JPH0318608B2 - - Google Patents
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- JPH0318608B2 JPH0318608B2 JP11456382A JP11456382A JPH0318608B2 JP H0318608 B2 JPH0318608 B2 JP H0318608B2 JP 11456382 A JP11456382 A JP 11456382A JP 11456382 A JP11456382 A JP 11456382A JP H0318608 B2 JPH0318608 B2 JP H0318608B2
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
(式中、R1は高級アルキル又はアルケニル基
であり、R2は低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子
又は前記した置換基により置換されていてもよい
アリール基であり、nは0〜5の整数である) で表わされるN−高級アルキル又はアルケニルカ
ルバモイルベンゼン及びその核置換体の製造方法
に関するものである。
であり、R2は低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子
又は前記した置換基により置換されていてもよい
アリール基であり、nは0〜5の整数である) で表わされるN−高級アルキル又はアルケニルカ
ルバモイルベンゼン及びその核置換体の製造方法
に関するものである。
従来、前記したような構造のN−高級アルキル
又はアルケニルカルバモイルベンゼン及びその核
置換体を製造するには、N−高級アルキル又はア
ルケニルアミンをトルエン等の有機溶媒に溶解
し、ハロゲン化ベンゾイル又はその核置換体を滴
下し、加熱することにより、脱ハロゲン化水素縮
合反応を生起させることにより行われてきた。し
かしながら、この方法では、縮合生成物に着色が
見られ、再結晶を繰返しても脱色しにくいという
問題がある上、縮合生成物は強い酸性を示すこと
から、中和工程を必要とする。さらに、反応中ハ
ロゲン化水素が放出されるので、その処理装置も
必要になる。一方、この反応系中にハロゲン化水
素中和用の塩基性物質を存在させる方法も知られ
ているが、この場合、反応終了後、塩基性物質の
ハロゲン化水素中和塩を溶解するために縮合生成
物を水洗すると、縮合生成物のゲル化や収率低下
等が生じて実用的ではない。例えば、反応溶媒と
して芳香族炭化水素を用いると、水洗に際して縮
合生成物にゲル化が生じ、目的物の分離回収に著
しい困難が伴なう。
又はアルケニルカルバモイルベンゼン及びその核
置換体を製造するには、N−高級アルキル又はア
ルケニルアミンをトルエン等の有機溶媒に溶解
し、ハロゲン化ベンゾイル又はその核置換体を滴
下し、加熱することにより、脱ハロゲン化水素縮
合反応を生起させることにより行われてきた。し
かしながら、この方法では、縮合生成物に着色が
見られ、再結晶を繰返しても脱色しにくいという
問題がある上、縮合生成物は強い酸性を示すこと
から、中和工程を必要とする。さらに、反応中ハ
ロゲン化水素が放出されるので、その処理装置も
必要になる。一方、この反応系中にハロゲン化水
素中和用の塩基性物質を存在させる方法も知られ
ているが、この場合、反応終了後、塩基性物質の
ハロゲン化水素中和塩を溶解するために縮合生成
物を水洗すると、縮合生成物のゲル化や収率低下
等が生じて実用的ではない。例えば、反応溶媒と
して芳香族炭化水素を用いると、水洗に際して縮
合生成物にゲル化が生じ、目的物の分離回収に著
しい困難が伴なう。
本発明者は、従来法における前記欠点を克服す
べく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに
到つた。
べく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに
到つた。
即ち、本発明によれば、一般式
R1−NH2
(式中、R1は高級アルキル又はアルケニル基
である) で表わされるN−高級アルキル又はアルケニルア
ミンと、一般式 (式中、Xはハロゲン原子、R2は低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、ハロゲン原子又は前記のような置換基に
より核置換されていてもよいアリール基であり、
nは0〜5の整数である) で表わされるハロゲン化ベンゾイル又はその核置
換体とを脱ハロゲン化水素縮合する方法におい
て、前記N−高級アルキル又はアルケニルアミン
をあらかじめ塩素化合物系溶媒中に溶解した溶液
に対し、塩基性物質の存在下、前記ハロゲン化ベ
ンゾイル又はその核置換体を液状又は固体状で
徐々に加えて縮合反応を行い、反応終了後、水又
は温水を加えて生成した中和塩を溶解除去するこ
とを特徴とする、一般式 (式中、R1,R2及びnは前記と同じ意味を有
する) で表わされるN−高級アルキル又はアルケニルカ
ルバモイルベンゼン及びその核置換体の製造方法
が提供される。
である) で表わされるN−高級アルキル又はアルケニルア
ミンと、一般式 (式中、Xはハロゲン原子、R2は低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、ハロゲン原子又は前記のような置換基に
より核置換されていてもよいアリール基であり、
nは0〜5の整数である) で表わされるハロゲン化ベンゾイル又はその核置
換体とを脱ハロゲン化水素縮合する方法におい
て、前記N−高級アルキル又はアルケニルアミン
をあらかじめ塩素化合物系溶媒中に溶解した溶液
に対し、塩基性物質の存在下、前記ハロゲン化ベ
ンゾイル又はその核置換体を液状又は固体状で
徐々に加えて縮合反応を行い、反応終了後、水又
は温水を加えて生成した中和塩を溶解除去するこ
とを特徴とする、一般式 (式中、R1,R2及びnは前記と同じ意味を有
する) で表わされるN−高級アルキル又はアルケニルカ
ルバモイルベンゼン及びその核置換体の製造方法
が提供される。
本発明で用いるN−高級アルキル又はアルケニ
ルアミンは次の一般式で表わされる。
ルアミンは次の一般式で表わされる。
R1−NH2 ()
式中、R1は高級アルキル又はアルケニル基で
あり、その炭素数は一般には10〜30、好ましくは
8〜22である。
あり、その炭素数は一般には10〜30、好ましくは
8〜22である。
本発明で用いるハロゲン化ベンゾイル又はその
核置換体は次の一般式で表わされる。
核置換体は次の一般式で表わされる。
式中、Xは塩素、臭素などのハロゲン原子であ
り、R2は低級アルキル基、例えば、メチル、エ
チル、プロピル、ヘキシルなどの炭素数1〜6の
アルキル基、低級アルコキシ基、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ヘキシロキシなどの
炭素数1〜6のアルコキシ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ヘキシ
ロキシカルボニルなどの炭素数1〜6のアルコキ
シ基を有するアルコキシカルボニル基、塩素、臭
素などのハロゲン原子又は前記の置換基で置換さ
れていてもよいアリール基、例えばフエニル、ト
リルなどを表わす。nは0〜5の整数であり、n
が2〜5の場合、2〜5個の置換基R2は同一又
は異つたものであることができる。
り、R2は低級アルキル基、例えば、メチル、エ
チル、プロピル、ヘキシルなどの炭素数1〜6の
アルキル基、低級アルコキシ基、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ヘキシロキシなどの
炭素数1〜6のアルコキシ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ヘキシ
ロキシカルボニルなどの炭素数1〜6のアルコキ
シ基を有するアルコキシカルボニル基、塩素、臭
素などのハロゲン原子又は前記の置換基で置換さ
れていてもよいアリール基、例えばフエニル、ト
リルなどを表わす。nは0〜5の整数であり、n
が2〜5の場合、2〜5個の置換基R2は同一又
は異つたものであることができる。
本発明においては、溶媒として、塩素化合物系
の溶媒を用いる。このような溶媒としては、例え
ば、テトラクロロエチレン、クロロホルム、1,
2−ジクロロエタン、トリクロロエチレン等があ
る。この溶媒の使用量は、目的生成物の溶解度と
の関連で規定するのがよく、一般には、反応温度
において、目的生成物を完全に溶解する理論量以
上、通常その理論量の1〜2倍量用いられる。ハ
ロゲン化ベンゾイルの使用割合は、N−高級アル
キル又はアルケニルアミン1モルに対し、1〜
1.5モル、好ましくは1〜1.1モルの割合である。
またハロゲン化ベンゾイルの滴下割合は、N−高
級アルキル又はアルケニルアミン1モルに対し、
毎秒0.00001〜0.003モル、好ましくは0.00008〜
0.0004モルの割合である。また、本発明の反応は
塩基性物質の存在下で行われるが、その量は、反
応系をPH7〜10、好ましくはPH7.5〜9を保持す
るような量であり、通常、この塩基性物質は水溶
液の形で滴下される。この塩基性物質の具体例と
しては、例えば、水酸化ナトリウムや、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属の水酸化物などを適用
することもできる。反応系に滴下する場合の塩基
性物質の水溶液中濃度は、通常5〜60重量%、好
ましくは10〜40重量%である。反応温度は、一般
には30〜90℃、好ましくは40〜70℃である。
の溶媒を用いる。このような溶媒としては、例え
ば、テトラクロロエチレン、クロロホルム、1,
2−ジクロロエタン、トリクロロエチレン等があ
る。この溶媒の使用量は、目的生成物の溶解度と
の関連で規定するのがよく、一般には、反応温度
において、目的生成物を完全に溶解する理論量以
上、通常その理論量の1〜2倍量用いられる。ハ
ロゲン化ベンゾイルの使用割合は、N−高級アル
キル又はアルケニルアミン1モルに対し、1〜
1.5モル、好ましくは1〜1.1モルの割合である。
またハロゲン化ベンゾイルの滴下割合は、N−高
級アルキル又はアルケニルアミン1モルに対し、
毎秒0.00001〜0.003モル、好ましくは0.00008〜
0.0004モルの割合である。また、本発明の反応は
塩基性物質の存在下で行われるが、その量は、反
応系をPH7〜10、好ましくはPH7.5〜9を保持す
るような量であり、通常、この塩基性物質は水溶
液の形で滴下される。この塩基性物質の具体例と
しては、例えば、水酸化ナトリウムや、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属の水酸化物などを適用
することもできる。反応系に滴下する場合の塩基
性物質の水溶液中濃度は、通常5〜60重量%、好
ましくは10〜40重量%である。反応温度は、一般
には30〜90℃、好ましくは40〜70℃である。
本発明においては、反応が実質的に終了後、反
応系の温度を、反応温度よりも3〜20℃、好まし
くは5〜10℃程度上げ、5〜40分間、好ましくは
10〜30分間この温度に保つて反応を完結させる。
その後、得られた反応生成物に対し、水又は温水
を、反応生成物に対し10〜50%(容量)、好まし
くは10〜30%程度添加混合し、塩基性物質とハロ
ゲン化水素との中和塩を水中に溶出させる。この
操作を1〜3回行うことより高純度の生成物が得
られる。この場合、操作温度は40〜70℃の範囲の
温度に保つ。次に、反応生成物は温度25〜15℃程
度に撹拌冷却し、目的物を晶析させる。このよう
にして目的物の結晶(10〜45重量%)と溶媒(35
〜85重量%)と水(10〜55重量%)とのスラリー
状混合物が得られるが、この混合物は、水を含む
ためにその結晶が反応槽壁に付着しにくく、反応
槽からの抜出しを円滑に行うことができる。この
スラリー状混合物は、ロ過や遠心分離等の固液分
離手段により固液分離し、得られた固形物を乾燥
し、製品とする。
応系の温度を、反応温度よりも3〜20℃、好まし
くは5〜10℃程度上げ、5〜40分間、好ましくは
10〜30分間この温度に保つて反応を完結させる。
その後、得られた反応生成物に対し、水又は温水
を、反応生成物に対し10〜50%(容量)、好まし
くは10〜30%程度添加混合し、塩基性物質とハロ
ゲン化水素との中和塩を水中に溶出させる。この
操作を1〜3回行うことより高純度の生成物が得
られる。この場合、操作温度は40〜70℃の範囲の
温度に保つ。次に、反応生成物は温度25〜15℃程
度に撹拌冷却し、目的物を晶析させる。このよう
にして目的物の結晶(10〜45重量%)と溶媒(35
〜85重量%)と水(10〜55重量%)とのスラリー
状混合物が得られるが、この混合物は、水を含む
ためにその結晶が反応槽壁に付着しにくく、反応
槽からの抜出しを円滑に行うことができる。この
スラリー状混合物は、ロ過や遠心分離等の固液分
離手段により固液分離し、得られた固形物を乾燥
し、製品とする。
本発明の方法によれば、塩基性物質の共在下、
溶媒として塩素化合物系のものを用いたことによ
り、従来法に見られたような製品の着色等の問題
はない上、反応生成物を水洗する場合に、ゲル化
を生じるようなこともなく、目的物を高収率でか
つ容易に得ることができる。
溶媒として塩素化合物系のものを用いたことによ
り、従来法に見られたような製品の着色等の問題
はない上、反応生成物を水洗する場合に、ゲル化
を生じるようなこともなく、目的物を高収率でか
つ容易に得ることができる。
次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る 実施例 N−オクタデシルアミン134.75gを温度計、撹
拌装置、塩化ベンゾイル滴下装置、25%苛性ソー
ダ水溶液滴下装置及び開放弁の備えた容器にテト
ラクロルエチレン375c.c.と共に入れ、ウオーター
バスで55℃に加熱溶解した。完全に溶解させ、ウ
オーターバス温度設定を53℃にして次いで撹拌を
開始し、同時に25%苛性ソーダ水溶液90gを滴下
開始する。25%苛性ソーダ水溶液を5〜6滴滴下
してから塩化ベンゾイル72.67%gを滴下開始す
る。滴下速度は25%苛性ソーダ水溶液が毎分0.5
g程度塩化ベンゾイル毎分0.4g程度の速度で滴
下する。滴下直後反応槽内に塩酸ガスが見られる
が、反応槽内にこもる程度である。約3時間で滴
下終了、反応温度は54〜62℃であつた。反応終了
後、60〜65℃で15分加熱し反応を完結させた後、
50℃の温水150c.c.を加えて塩化ナトリウムを溶解
した。溶解後室温で撹拌しながら冷却晶析を行な
つた。水道水で17℃迄冷却して吸引ロ過して室温
放置で乾燥させ、融点87〜88℃の白色リン片結晶
181.24gを得た。収率は97%であつた。
る 実施例 N−オクタデシルアミン134.75gを温度計、撹
拌装置、塩化ベンゾイル滴下装置、25%苛性ソー
ダ水溶液滴下装置及び開放弁の備えた容器にテト
ラクロルエチレン375c.c.と共に入れ、ウオーター
バスで55℃に加熱溶解した。完全に溶解させ、ウ
オーターバス温度設定を53℃にして次いで撹拌を
開始し、同時に25%苛性ソーダ水溶液90gを滴下
開始する。25%苛性ソーダ水溶液を5〜6滴滴下
してから塩化ベンゾイル72.67%gを滴下開始す
る。滴下速度は25%苛性ソーダ水溶液が毎分0.5
g程度塩化ベンゾイル毎分0.4g程度の速度で滴
下する。滴下直後反応槽内に塩酸ガスが見られる
が、反応槽内にこもる程度である。約3時間で滴
下終了、反応温度は54〜62℃であつた。反応終了
後、60〜65℃で15分加熱し反応を完結させた後、
50℃の温水150c.c.を加えて塩化ナトリウムを溶解
した。溶解後室温で撹拌しながら冷却晶析を行な
つた。水道水で17℃迄冷却して吸引ロ過して室温
放置で乾燥させ、融点87〜88℃の白色リン片結晶
181.24gを得た。収率は97%であつた。
また前記N−オクタデシルアミンに代えてN−
ラウリルアミンを用いて同様の実験を行なうこと
により、融点68〜69℃の白色リン片状結晶とし
て、収率93%でN−ラウリルカルバモイルベンゼ
ンの核置換体を得た。同様にして前記塩化ベンゾ
イルに代えて4−メトキシカルボニル−塩化ベン
ゾイルを用いることにより、融点117〜118℃白色
リン片状の結晶として、収率96%でその塩化ベン
ゾイルの核置換体に対応するN−オクタデシルカ
ルバモイルベンゼンの核置換体を得ることができ
た。同様に前記塩化ベンゾイルに代えて、4−メ
チル−塩化ベンゾイル、4−メトキシ−塩化ベン
ゾイル、4−クロル塩化ベンゾイル及び4−フエ
ニル−塩化ベンゾイルを用いても同様の実験を行
なうことにより、それらの塩化ベンゾイルの核置
換体に対応するN−オクタデシルカルバモイルベ
ンゼンの核置換体を得ることが出来た。
ラウリルアミンを用いて同様の実験を行なうこと
により、融点68〜69℃の白色リン片状結晶とし
て、収率93%でN−ラウリルカルバモイルベンゼ
ンの核置換体を得た。同様にして前記塩化ベンゾ
イルに代えて4−メトキシカルボニル−塩化ベン
ゾイルを用いることにより、融点117〜118℃白色
リン片状の結晶として、収率96%でその塩化ベン
ゾイルの核置換体に対応するN−オクタデシルカ
ルバモイルベンゼンの核置換体を得ることができ
た。同様に前記塩化ベンゾイルに代えて、4−メ
チル−塩化ベンゾイル、4−メトキシ−塩化ベン
ゾイル、4−クロル塩化ベンゾイル及び4−フエ
ニル−塩化ベンゾイルを用いても同様の実験を行
なうことにより、それらの塩化ベンゾイルの核置
換体に対応するN−オクタデシルカルバモイルベ
ンゼンの核置換体を得ることが出来た。
なお、比較のために、前記塩素化合物系溶媒の
代りに、トルエン、エタノールを用いた以外は同
様にして実験を行つたところ、トルエンを用いた
場合、中和塩溶解用温水を加えたところゲル化し
た。また、エタノールを用いた場合、縮合生成物
に着色が見られ、再結晶を2回繰返したが脱色で
きなかつた。又、収率も塩素化合物系溶媒を使用
した場合に比べ、収率が5〜10%ダウンした。
代りに、トルエン、エタノールを用いた以外は同
様にして実験を行つたところ、トルエンを用いた
場合、中和塩溶解用温水を加えたところゲル化し
た。また、エタノールを用いた場合、縮合生成物
に着色が見られ、再結晶を2回繰返したが脱色で
きなかつた。又、収率も塩素化合物系溶媒を使用
した場合に比べ、収率が5〜10%ダウンした。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 R1−NH2 (式中、R1は高級アルキル又はアルケニル基
である) で表わされるN−高級アルキル又はアルケニルア
ミンと、一般式 (式中、Xはハロゲン原子、R2は低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、ハロゲン原子又は前記のような置換基に
より核置換されていてもよいアリール基であり、
nは0〜5の整数である) で表わされるハロゲン化ベンゾイル又はその核置
換体とを脱ハロゲン化水素縮合する方法におい
て、前記N−高級アルキル又はアルケニルアミン
をあらかじめ塩素化合物系溶媒中に溶解した溶液
に対し、塩基性物質の存在下、前記ハロゲン化ベ
ンゾイル又はその核置換体を液状又は固体状で
徐々に加えて縮合反応を行い、反応終了後、水又
は温水を加えて生成した中和塩を溶解除去するこ
とを特徴とする、一般式 (式中、R1,R2及びnは前記と同じ意味を有
する) で表わされるN−高級アルキル又はアルケニルカ
ルバモイルベンゼン及びその核置換体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11456382A JPS595151A (ja) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | N−置換カルバモイルベンゼン及びその核置換体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11456382A JPS595151A (ja) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | N−置換カルバモイルベンゼン及びその核置換体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS595151A JPS595151A (ja) | 1984-01-12 |
| JPH0318608B2 true JPH0318608B2 (ja) | 1991-03-13 |
Family
ID=14640940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11456382A Granted JPS595151A (ja) | 1982-07-01 | 1982-07-01 | N−置換カルバモイルベンゼン及びその核置換体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS595151A (ja) |
-
1982
- 1982-07-01 JP JP11456382A patent/JPS595151A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS595151A (ja) | 1984-01-12 |
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