JPH0318632B2 - - Google Patents
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- JPH0318632B2 JPH0318632B2 JP20870682A JP20870682A JPH0318632B2 JP H0318632 B2 JPH0318632 B2 JP H0318632B2 JP 20870682 A JP20870682 A JP 20870682A JP 20870682 A JP20870682 A JP 20870682A JP H0318632 B2 JPH0318632 B2 JP H0318632B2
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- Furan Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式:
(式中、ZはR1C6H4CO基を表わし、ここにお
いてR1は水素、メチル、フエニル又はニトロ基
を表わす) で表わされるヘキサヒドロ−5−ヒドロキシ−4
−ヒドロキシメチル−2H−シクロペンタ〔b〕
フラン−2−オン誘導体の製造方法に関する。
いてR1は水素、メチル、フエニル又はニトロ基
を表わす) で表わされるヘキサヒドロ−5−ヒドロキシ−4
−ヒドロキシメチル−2H−シクロペンタ〔b〕
フラン−2−オン誘導体の製造方法に関する。
通常、文献中コレイ(Corey′s)のラクトンと
称されるいる、式で表わされる表題化合物は、
プロスタグランジン、プロスタン酸から誘導され
る多くの側面を有する生物学的作用を有する化合
物の製造に対する重要な中間体である。このタイ
プの化合物に対し多くの製造方法が今日まで開示
されており、それ等の製法の内、ノルボルナジエ
ンから出発する合成方法が主要な地位を占めてい
る。この合成方法は幾つかの変法を有しておりこ
れ等は全て特許によつて保護されている。幾つか
のこれ等の変法による通常の中間体は、式a{式
中Aは塩素、臭素又はヨウ素原子を表わす(下記
に示される式参照)}で表わされる7−ヒドロ
キシ−メチル−5−ハロゲンビシクロ(2,2,
1)ヘプタン−2−オンであり、これは、式b
(式中Aは先に定義した意味を有し、そしてRは
テトラヒドロピラニル、ベンジル、メチル、トリ
フエニルメチル又はトリアルキルシリル基を表わ
す)で表わされる化合物(米国特許第3943151、
ドイツ公開公報2704029、東ドイツ特許122817参
照)を得る為に、ヒドロキシ基をまずアセタール
或いはシリルエーテルの形で保護し、一般式で
表わされる所望のラクトンに公知の方法により変
換される。式bの化合物は次いで有機ペルオクソ
酸を用いて酸化することにより式cで表わされる
δ−ラクトンに変換され、ここでA及びRは先に
定義した意味を有する。
称されるいる、式で表わされる表題化合物は、
プロスタグランジン、プロスタン酸から誘導され
る多くの側面を有する生物学的作用を有する化合
物の製造に対する重要な中間体である。このタイ
プの化合物に対し多くの製造方法が今日まで開示
されており、それ等の製法の内、ノルボルナジエ
ンから出発する合成方法が主要な地位を占めてい
る。この合成方法は幾つかの変法を有しておりこ
れ等は全て特許によつて保護されている。幾つか
のこれ等の変法による通常の中間体は、式a{式
中Aは塩素、臭素又はヨウ素原子を表わす(下記
に示される式参照)}で表わされる7−ヒドロ
キシ−メチル−5−ハロゲンビシクロ(2,2,
1)ヘプタン−2−オンであり、これは、式b
(式中Aは先に定義した意味を有し、そしてRは
テトラヒドロピラニル、ベンジル、メチル、トリ
フエニルメチル又はトリアルキルシリル基を表わ
す)で表わされる化合物(米国特許第3943151、
ドイツ公開公報2704029、東ドイツ特許122817参
照)を得る為に、ヒドロキシ基をまずアセタール
或いはシリルエーテルの形で保護し、一般式で
表わされる所望のラクトンに公知の方法により変
換される。式bの化合物は次いで有機ペルオクソ
酸を用いて酸化することにより式cで表わされる
δ−ラクトンに変換され、ここでA及びRは先に
定義した意味を有する。
一般式で表わされる所望のγ−ラクトンは、
アルカリ金属水酸化物もしくは鉱酸の溶液の作用
により、式cのδ−ラクトンに変換することによ
つて得られ、所望により、必要なγ−ラクトンd
は、式e(式中Z及びRは先に定義した意味を有
する)で表わされるZ誘導体の形でヒドロキシ官
能基を保護した後、次いで保護基Rを除去した
後、得られる。上記プロセスの欠点は次の事実に
ある:即ち大部分の中間体が油状又は密状のコン
システンスイ状にありそしてこれ等の精製の為に
クロマトグラフイー処理を用いなければならない
ことである。幾つかの反応工程、主にバイヤー−
ビリガー酸化並びにδ−ラクトンのγ−ラクトン
への変換は明確に生起せず、これは低収率の原因
である。これ等の反応は希釈溶液中で行われなけ
ればならず、このことは可燃性溶剤の相当な消費
をもたらし、このことは工業的装置に対し操作の
安全性及び衛生の確保を要求せしめる。ある場合
には、保護基A例えば、ベンジル基は接触水素添
加により更に除去することが困難である。従つて
これ等の事実は上記の公知の方法によつて一般式
で表わされる化合物を製造する経済的利益を少
なくしている。
アルカリ金属水酸化物もしくは鉱酸の溶液の作用
により、式cのδ−ラクトンに変換することによ
つて得られ、所望により、必要なγ−ラクトンd
は、式e(式中Z及びRは先に定義した意味を有
する)で表わされるZ誘導体の形でヒドロキシ官
能基を保護した後、次いで保護基Rを除去した
後、得られる。上記プロセスの欠点は次の事実に
ある:即ち大部分の中間体が油状又は密状のコン
システンスイ状にありそしてこれ等の精製の為に
クロマトグラフイー処理を用いなければならない
ことである。幾つかの反応工程、主にバイヤー−
ビリガー酸化並びにδ−ラクトンのγ−ラクトン
への変換は明確に生起せず、これは低収率の原因
である。これ等の反応は希釈溶液中で行われなけ
ればならず、このことは可燃性溶剤の相当な消費
をもたらし、このことは工業的装置に対し操作の
安全性及び衛生の確保を要求せしめる。ある場合
には、保護基A例えば、ベンジル基は接触水素添
加により更に除去することが困難である。従つて
これ等の事実は上記の公知の方法によつて一般式
で表わされる化合物を製造する経済的利益を少
なくしている。
本発明に係る製造方法は、積極的意味において
これ等の公知方法を結合させ、今日までの公知の
方法の欠点を除去せんとするものである。
これ等の公知方法を結合させ、今日までの公知の
方法の欠点を除去せんとするものである。
本発明に係る方法の主要は事項は、式:
(式中Xは塩素、臭素又はヨウ素を表わす)で
表わされるハロゲノヒドロキシケトンを式
R2COY(式中R2はC1〜C3アルキルを表わし、Y
は塩素、臭素又はR2COO基を表わす)で表わさ
れるアシル化剤を用い、第三アミン例えばピリジ
ン又はトリエチルアミンの存在下、式: (式中R2及びXは先に定義した意味を有する) で表わされるアシル誘導体を得る為にアシル化す
ることにある。
表わされるハロゲノヒドロキシケトンを式
R2COY(式中R2はC1〜C3アルキルを表わし、Y
は塩素、臭素又はR2COO基を表わす)で表わさ
れるアシル化剤を用い、第三アミン例えばピリジ
ン又はトリエチルアミンの存在下、式: (式中R2及びXは先に定義した意味を有する) で表わされるアシル誘導体を得る為にアシル化す
ることにある。
結晶生成物は、反応混合物を炭酸水素ナトリウ
ム溶液で洗浄し次いで溶剤を蒸発させることによ
り通常得られ、この生成物は更に精製することな
く酢酸若しくは塩素化炭化水素溶液中で3〜5モ
ル過剰の酸化剤の有機ペルオクソ酸の作用により
0〜100℃の温度で酸化出来る。過剰の酸化剤は、
反応終了後、水及び亜硫酸ナトリウムにより又は
反応混合物を数時間煮沸することにより分解され
る。反応生成物を有機溶剤により抽出し次いでそ
の該溶剤を蒸発後、一般式: (式中R2及びXは先に定義した意味を有する) で表わされる粗結晶δ−ラクトンを得る。
ム溶液で洗浄し次いで溶剤を蒸発させることによ
り通常得られ、この生成物は更に精製することな
く酢酸若しくは塩素化炭化水素溶液中で3〜5モ
ル過剰の酸化剤の有機ペルオクソ酸の作用により
0〜100℃の温度で酸化出来る。過剰の酸化剤は、
反応終了後、水及び亜硫酸ナトリウムにより又は
反応混合物を数時間煮沸することにより分解され
る。反応生成物を有機溶剤により抽出し次いでそ
の該溶剤を蒸発後、一般式: (式中R2及びXは先に定義した意味を有する) で表わされる粗結晶δ−ラクトンを得る。
式の化合物は、更に次の反応工程に移行する
前にシクロヘキサン−ジクロロエタン混合物から
再結晶することが出来るし、或いは又該化合物は
純粋な状態で直接使用用することも出来る。式
で表わされるδ−ラクトンの式: (式中R2は先に定義した意味を有する)で表
わされるδ−ラクトンへの変換は30±30℃の温度
で等モル量のアルカリ金属水酸化物の水溶液の作
用により行われ、このアルカリ金属水酸化物を、
例えばテトラヒドロフラン対過酸化水素が、1:
0.5〜2の用量比にある水と混和し得る有機溶剤
と過酸化水素との混合物に溶解した式で表わさ
れるδ−ラクトンの溶液に添加する。反応終了
後、混合物を水で希釈し、酢酸でPH5〜6に酸性
化し次いで固体亜硫酸ナトリウムにより還元して
除去する。反応応生成物を有機溶剤を用いて連続
抽出することにより単離し、抽出物を硫酸マグネ
シウムで乾燥し次いで減圧下で溶剤を蒸発させ
る。式で表わされる粗製生成物は更に精製する
ことなくトリエチルアミン又はピリジンの存在下
で処理することが出来、所望により、式R1−
C6H4−COCl(式中、R1は先に定義した意味を有
する)で表わされるアシルクロリドの1.1〜1.5モ
ル過剰と共に不活性の溶剤で希釈し、反応混合物
を反応が終了するまで40±20℃の温度で放置し、
過剰の試剤は少量の水を添加して分解し、過剰の
塩基は真空下で蒸発するか又は反応混合物を希塩
酸で洗浄することにより除去する。蒸発残留物を
塩化メチレン中に溶解し、炭酸水素ナトリウムの
溶液で繰り返し洗浄し次いで硫酸マグネシウムで
乾燥後芳香族酸の残留物を酸化アルミナカラムを
用いて濾過することにより除去する。真空下で溶
剤を蒸発せしめた後、粗製生成物を水性エタノー
ルから再結晶するか、又はそれを次の処理に直接
使用する。式で表わされる所期の生成物が式
: (式中、R2及びZは先に定義した意味を有す
る)で表わされる生成化合物から炭素数1〜3個
を有するアルコール、例えばメタノール若しくは
エタノールの作用により、酸性触媒、例えば鉱
酸、硫酸若しくはH(+)サイクル中の強酸性イオン
交換体の存在下50±30℃の温度で脂肪族エステル
官能基の選択的エステル交換反応を行うことによ
つて得られ、この生成物は結晶化して精製され
る。
前にシクロヘキサン−ジクロロエタン混合物から
再結晶することが出来るし、或いは又該化合物は
純粋な状態で直接使用用することも出来る。式
で表わされるδ−ラクトンの式: (式中R2は先に定義した意味を有する)で表
わされるδ−ラクトンへの変換は30±30℃の温度
で等モル量のアルカリ金属水酸化物の水溶液の作
用により行われ、このアルカリ金属水酸化物を、
例えばテトラヒドロフラン対過酸化水素が、1:
0.5〜2の用量比にある水と混和し得る有機溶剤
と過酸化水素との混合物に溶解した式で表わさ
れるδ−ラクトンの溶液に添加する。反応終了
後、混合物を水で希釈し、酢酸でPH5〜6に酸性
化し次いで固体亜硫酸ナトリウムにより還元して
除去する。反応応生成物を有機溶剤を用いて連続
抽出することにより単離し、抽出物を硫酸マグネ
シウムで乾燥し次いで減圧下で溶剤を蒸発させ
る。式で表わされる粗製生成物は更に精製する
ことなくトリエチルアミン又はピリジンの存在下
で処理することが出来、所望により、式R1−
C6H4−COCl(式中、R1は先に定義した意味を有
する)で表わされるアシルクロリドの1.1〜1.5モ
ル過剰と共に不活性の溶剤で希釈し、反応混合物
を反応が終了するまで40±20℃の温度で放置し、
過剰の試剤は少量の水を添加して分解し、過剰の
塩基は真空下で蒸発するか又は反応混合物を希塩
酸で洗浄することにより除去する。蒸発残留物を
塩化メチレン中に溶解し、炭酸水素ナトリウムの
溶液で繰り返し洗浄し次いで硫酸マグネシウムで
乾燥後芳香族酸の残留物を酸化アルミナカラムを
用いて濾過することにより除去する。真空下で溶
剤を蒸発せしめた後、粗製生成物を水性エタノー
ルから再結晶するか、又はそれを次の処理に直接
使用する。式で表わされる所期の生成物が式
: (式中、R2及びZは先に定義した意味を有す
る)で表わされる生成化合物から炭素数1〜3個
を有するアルコール、例えばメタノール若しくは
エタノールの作用により、酸性触媒、例えば鉱
酸、硫酸若しくはH(+)サイクル中の強酸性イオン
交換体の存在下50±30℃の温度で脂肪族エステル
官能基の選択的エステル交換反応を行うことによ
つて得られ、この生成物は結晶化して精製され
る。
本発明に係る製造方法の特に有利な点は以下の
事実にある。即ち中間体の主要部分が固体化合物
であり、この化合物は結晶化により容易に精製す
ることが出来、通常の入手出来る大抵の塩素化不
燃性溶剤中で、合成の全ての反応工程において高
い選択性及び優れた収率を確保する様な試剤の比
較的濃厚な溶液を用いて行われる、という点にあ
る。
事実にある。即ち中間体の主要部分が固体化合物
であり、この化合物は結晶化により容易に精製す
ることが出来、通常の入手出来る大抵の塩素化不
燃性溶剤中で、合成の全ての反応工程において高
い選択性及び優れた収率を確保する様な試剤の比
較的濃厚な溶液を用いて行われる、という点にあ
る。
本発明を更に以下の例により非制限的に説明す
る。
る。
例 1
新たに調製したアセトアンヒドリド
(acetanhydride)1.84g及び乾燥ピリジン1.43g
を式(式中Xは塩素である)で表わされるヒド
ロキシケトン2.62gに添加した。出発化合物を均
質混合物に同時に溶解しながら混合物はそれ自身
を自発的に加熱し、この混合物を一昼夜室温で放
置した。反応混合物をジクロロエタン20mlで希釈
し、希塩酸(1:5)10mlで洗浄し、次いで炭酸
水素ナトリウムの飽和液10mlで洗し、更に硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶剤を真空下で蒸発した
後、無色の油状物3.23g(理論値の99%)を得た
がこれは速やかに結晶化した。式(式中Xは塩
素であり、R2はメチルである)で表わされる純
粋なアセチル誘導体を、シクロヘキサン−ジクロ
ロエタン混合物から再結晶することにより得、こ
の誘導体は融点70〜72℃を有する。
(acetanhydride)1.84g及び乾燥ピリジン1.43g
を式(式中Xは塩素である)で表わされるヒド
ロキシケトン2.62gに添加した。出発化合物を均
質混合物に同時に溶解しながら混合物はそれ自身
を自発的に加熱し、この混合物を一昼夜室温で放
置した。反応混合物をジクロロエタン20mlで希釈
し、希塩酸(1:5)10mlで洗浄し、次いで炭酸
水素ナトリウムの飽和液10mlで洗し、更に硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶剤を真空下で蒸発した
後、無色の油状物3.23g(理論値の99%)を得た
がこれは速やかに結晶化した。式(式中Xは塩
素であり、R2はメチルである)で表わされる純
粋なアセチル誘導体を、シクロヘキサン−ジクロ
ロエタン混合物から再結晶することにより得、こ
の誘導体は融点70〜72℃を有する。
例 2
式(式中Xは臭素であり、R2はCH3CH2−
である)で表わされるプロピオニル誘導体を、式
(式中Xは臭素である)で表わされるヒドロキ
シケトンから例1で述べたと同様の方法で塩化プ
ロピオニル及びピリジンの作用により得た。
である)で表わされるプロピオニル誘導体を、式
(式中Xは臭素である)で表わされるヒドロキ
シケトンから例1で述べたと同様の方法で塩化プ
ロピオニル及びピリジンの作用により得た。
例 3
過酸(Persteril)の40%溶液15mlを、酢酸30
mlに溶解した式(式中、Xは塩素であり、R2
はCH3−である)のアセチル誘導体3.04gの溶液
に添加した。混合物を室温で8時間撹拌し、次い
で一昼夜放置した。氷水100mlを用いて内容物を
希釈した後、固体亜硫酸ナトリウムを添加するこ
とにより過酸化物を分解し、有機留分をジクロロ
エタン(8×25ml)で抽出し、抽出物を炭酸水素
ナトリウムの飽和溶液で洗浄し、次いで硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶液を真空下で蒸発後、式
(式中Xは塩素であり、R2はCH3−である)
の結晶性δ−ラクトン2.41g(理論値の75%)を
得る。融点102〜104℃。
mlに溶解した式(式中、Xは塩素であり、R2
はCH3−である)のアセチル誘導体3.04gの溶液
に添加した。混合物を室温で8時間撹拌し、次い
で一昼夜放置した。氷水100mlを用いて内容物を
希釈した後、固体亜硫酸ナトリウムを添加するこ
とにより過酸化物を分解し、有機留分をジクロロ
エタン(8×25ml)で抽出し、抽出物を炭酸水素
ナトリウムの飽和溶液で洗浄し、次いで硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶液を真空下で蒸発後、式
(式中Xは塩素であり、R2はCH3−である)
の結晶性δ−ラクトン2.41g(理論値の75%)を
得る。融点102〜104℃。
例 4
水酸化リチウム2N溶液10mlを、テトラヒドロ
フラン100ml及び30%過酸化水素50mlの混合物に
溶解したδ−ラクトン(式中、Xは塩素であ
り、R2はCH3−である)の4.6gの溶液に、室温
で且つ撹拌し乍ら速やかに添加し、反応混合物を
2時間後酢酸10mlで酸性にし、次いで一昼夜放置
した。水100mlで混合物を希釈した後、過剰の過
酸化水素を、撹拌しながら且つ温度が30℃を超え
ない様に外部冷却し乍ら固体亜硫酸ナトリウムを
添加することにより分解した。真空下でテトラヒ
ドロフランを蒸発せしめた後、水溶液を酢酸エチ
ル(5×50ml)で抽出し、抽出物を炭酸水素ナト
リウムの飽和溶液で洗浄し次いで硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。式(式中、R2はCH3−である)
の密状γ−ラクトン3.85gを溶剤の蒸発後得、こ
のラクトンを精製することなく更に処理する為用
いた。
フラン100ml及び30%過酸化水素50mlの混合物に
溶解したδ−ラクトン(式中、Xは塩素であ
り、R2はCH3−である)の4.6gの溶液に、室温
で且つ撹拌し乍ら速やかに添加し、反応混合物を
2時間後酢酸10mlで酸性にし、次いで一昼夜放置
した。水100mlで混合物を希釈した後、過剰の過
酸化水素を、撹拌しながら且つ温度が30℃を超え
ない様に外部冷却し乍ら固体亜硫酸ナトリウムを
添加することにより分解した。真空下でテトラヒ
ドロフランを蒸発せしめた後、水溶液を酢酸エチ
ル(5×50ml)で抽出し、抽出物を炭酸水素ナト
リウムの飽和溶液で洗浄し次いで硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。式(式中、R2はCH3−である)
の密状γ−ラクトン3.85gを溶剤の蒸発後得、こ
のラクトンを精製することなく更に処理する為用
いた。
例 5
p−フエニルベンゾイルクロリド5.50g及び乾
燥トエチルアミン4mlを、ジクロロエタン50mlに
溶解した式(式中、R2はCH3−である)のγ
−ラクトン3.80gの溶液に添加した。自然の発熱
する反応混合物を一昼夜室温で放置し次いで過剰
の試剤を水1mlを添加することにより分解した。
1時間後混合物を炭酸水素ナトリウム(2×50
ml)の飽和溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、次いで酸化アルミナ100gのカラムを用い
て濾過し、ジクロロエタン250mlで洗浄した。真
空下で溶剤を、蒸発せしめた後、式(R2は
CH3−、Zはp−C6H5−C6H4−CO−である)
の粗エステル6.90gを得た。水性エタノールから
再結晶後、融点90〜92℃を有する生成物を得た。
燥トエチルアミン4mlを、ジクロロエタン50mlに
溶解した式(式中、R2はCH3−である)のγ
−ラクトン3.80gの溶液に添加した。自然の発熱
する反応混合物を一昼夜室温で放置し次いで過剰
の試剤を水1mlを添加することにより分解した。
1時間後混合物を炭酸水素ナトリウム(2×50
ml)の飽和溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、次いで酸化アルミナ100gのカラムを用い
て濾過し、ジクロロエタン250mlで洗浄した。真
空下で溶剤を、蒸発せしめた後、式(R2は
CH3−、Zはp−C6H5−C6H4−CO−である)
の粗エステル6.90gを得た。水性エタノールから
再結晶後、融点90〜92℃を有する生成物を得た。
例 6
H+サイクルでのイオン交換樹脂(Amberlite
IR−120)4.0gを、メタノール100mlに溶解した
式(式中、R2はCH3−であり、Zはp−C6H5
−C6H4−COである)で表わされるエステル3.94
gの溶液に添加し、次いで混合物を撹拌し乍ら10
時間煮沸した。次いでメタノールを留去し、残留
物をジクロロエタン50mlと混合し、イオン交換樹
脂を濾別し、ジクロロエタン20mlで洗浄し次いで
一緒にした濾液を真空下で蒸発させた。融点150
〜151℃を有する生成物が式(式中、Zはp−
C6H5−C6H4−CO−である)で表わされる粗製
ラクトン3.7gをジクロロメタン−シクロヘキサ
ン混合物から再結晶することにより得られた。
IR−120)4.0gを、メタノール100mlに溶解した
式(式中、R2はCH3−であり、Zはp−C6H5
−C6H4−COである)で表わされるエステル3.94
gの溶液に添加し、次いで混合物を撹拌し乍ら10
時間煮沸した。次いでメタノールを留去し、残留
物をジクロロエタン50mlと混合し、イオン交換樹
脂を濾別し、ジクロロエタン20mlで洗浄し次いで
一緒にした濾液を真空下で蒸発させた。融点150
〜151℃を有する生成物が式(式中、Zはp−
C6H5−C6H4−CO−である)で表わされる粗製
ラクトン3.7gをジクロロメタン−シクロヘキサ
ン混合物から再結晶することにより得られた。
例 7
p−トルエン−スルホン酸0.1gを、エタノー
ル50mlに溶解した式(式中、R2はCH3CH2−
であり、ZはC6H5−CO−である)のエステル
1.72gの溶液に添加し、次いで溶液を4時間煮沸
した。エタノールを減圧下で蒸発させ、残留物を
ジクロロエタン20mlに溶解し、溶液を炭酸水素ナ
トリウム飽和液10mlで洗浄し、次いで硫酸マグネ
シウムで乾燥した。クロマトグラフイー的に実質
的に均一である式(式中、ZはC6H5−CO−で
ある)の生成物1.34gを、溶剤を留去した後得
た。
ル50mlに溶解した式(式中、R2はCH3CH2−
であり、ZはC6H5−CO−である)のエステル
1.72gの溶液に添加し、次いで溶液を4時間煮沸
した。エタノールを減圧下で蒸発させ、残留物を
ジクロロエタン20mlに溶解し、溶液を炭酸水素ナ
トリウム飽和液10mlで洗浄し、次いで硫酸マグネ
シウムで乾燥した。クロマトグラフイー的に実質
的に均一である式(式中、ZはC6H5−CO−で
ある)の生成物1.34gを、溶剤を留去した後得
た。
例 8
p−トルイルクロリド4.9g及び乾燥トリエチ
ルアミン4mlをジクロロメタン50mlに溶解した式
(式中、R2はCH3−である)のγ−ラクトン
3.80gの溶液に添加した。式(R2はCH3−であ
り、Zはp−CH3−C6H4−CO−である)の粗製
ジエステル5.2gを、例5における如き反応混合
物の同様の処理により得た。
ルアミン4mlをジクロロメタン50mlに溶解した式
(式中、R2はCH3−である)のγ−ラクトン
3.80gの溶液に添加した。式(R2はCH3−であ
り、Zはp−CH3−C6H4−CO−である)の粗製
ジエステル5.2gを、例5における如き反応混合
物の同様の処理により得た。
例 9
メタノール50mlに溶解した式(式中、R2は
CH3−であり、Zはo−NO2−C6H4−CO−であ
る)のエステル2.10g及びp−トルエン−スルホ
ン酸0.1gの溶液を、8時間煮沸した。加熱し乍
らトリエチルアミンを添加して溶液を酸性化し次
いで溶液の全量が10mlになるまでメタノールを蒸
発させた後、クロマトグラフイー的に実質的に純
粋である式(式中、Zはo−NO2−C6H4−CO
−である)で表わされる結晶性生成物1.26gを冷
却後得た。
CH3−であり、Zはo−NO2−C6H4−CO−であ
る)のエステル2.10g及びp−トルエン−スルホ
ン酸0.1gの溶液を、8時間煮沸した。加熱し乍
らトリエチルアミンを添加して溶液を酸性化し次
いで溶液の全量が10mlになるまでメタノールを蒸
発させた後、クロマトグラフイー的に実質的に純
粋である式(式中、Zはo−NO2−C6H4−CO
−である)で表わされる結晶性生成物1.26gを冷
却後得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式: (式中、ZはR1−C6H4CO−基を表わし、ここ
でR1は水素、メチル、フエニル又はニトロ基か
ら選ばれた基を表わす) で表わされるヘキサヒドロ−5−ヒドロキシ−4
−ヒドロキシメチル−2H−シクロペンタ〔b〕
フラン−2−オンの製造方法であつて、一般式
: (式中、Xは塩素、臭素又はヨウ素を表わす) で表わされるハロゲノヒドロキシケトンを式 R2COY (式中、R2はC1〜C3アルキルを表わし、Yは
塩素、臭素、又はR2COO−基を表わす) で表わされるアシル化剤を用い、第三アミン例え
ば、ピリジンもしくはトリエチルアミンの存在
下、不活性溶剤例えば、必要により、ジクロロメ
タンもしくはジクロロエタン中でアシル化を行う
ことにより、一般式: (式中、RおよびXは先に定義した意味を有す
る) で表わされるアシル誘導体を得、これを酢酸、ジ
クロロメタンもしくはジクロロエタン中、0〜
100℃の温度で有機ペルオクソ酸、例えば、40%
過酢酸の作用により酸化し、一般式: (式中、R2およびXは先に定義した意味を有
する) で表わされる相当するδ−ラクトンを得、過剰の
酸化剤は亜硫酸ナトリウムを用い又は溶液を煮沸
することにより分解し、次いで式で表わされる
化合物を、30±30℃の温度で、容量比1対0.5〜
2にあると水と混和し得る有機溶剤対過酸化水素
系中のアルカリ金属水酸化物の作用により、一般
式: (式中、R2は先に定義した意味を有する) で表わされる相当するγ−ラクトンに変換し、次
いでこのラクトン中の5位のヒドロキシを先に定
義した意味を有するZ基により保護し、一般式
: (式中、R2およびZは先に定義した意味を有
する) で表わされるジエステルを得、次いで酸性触媒の
存在下、炭素原子1〜3個を有する脂肪族アルコ
ールを用い選択的エステル交換反応により該ジエ
ステルから脂肪族エステル官能基を除去し、一般
式で表わされるラクトンが脱離されることを特
徴とする、前記方法。 2 反応終了後亜硫酸ナトリウムによる還元で除
去される30〜40%の過酸化水素の存在下、水酸化
リチウムもしくは水酸化ナトリウムの0.5〜2モ
ル溶液の作用により前記δ−ラクトンを、対応す
るγ−ラクトンに変換し、次いで酢酸エチルの如
き有機溶剤による反復抽出により反応生成物を単
離する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 前記式で表わされる化合物の5位の水酸基
が、不活性溶剤例えば、ジクロロメタンもしくは
ジクロロエタンに溶解した1.5〜1.8モル過剰のト
リエチルアミンの存在下、又はピリジン溶液中、
式中R1−C6H4−COCl(式中R1は先に定義した意
味である)で表わされるアシルクロリドの1.1〜
1.5モル過剰の作用により、温度40±20℃で保護
される、特許請求の範囲第1項記載の方法。 4 前記エステル変換反応が、硫酸の如き鉱酸又
はp−トルエン−スルホン酸の如き芳香族スルホ
ン酸又はH+サイクルの強酸性イオン交換体の存
在下、メタノールもしくはエタノールにより50±
30℃の温度で行なわれる、特許請求の範囲第1項
記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20870682A JPS59101479A (ja) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | ヘキサヒドロ−5−ヒドロキシ−4−ヒドロキシメチル−2H−シクロペンタ〔b〕フラン−2−オン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20870682A JPS59101479A (ja) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | ヘキサヒドロ−5−ヒドロキシ−4−ヒドロキシメチル−2H−シクロペンタ〔b〕フラン−2−オン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59101479A JPS59101479A (ja) | 1984-06-12 |
| JPH0318632B2 true JPH0318632B2 (ja) | 1991-03-13 |
Family
ID=16560725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20870682A Granted JPS59101479A (ja) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | ヘキサヒドロ−5−ヒドロキシ−4−ヒドロキシメチル−2H−シクロペンタ〔b〕フラン−2−オン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59101479A (ja) |
-
1982
- 1982-11-30 JP JP20870682A patent/JPS59101479A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59101479A (ja) | 1984-06-12 |
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